JPS6115970A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6115970A JPS6115970A JP13507884A JP13507884A JPS6115970A JP S6115970 A JPS6115970 A JP S6115970A JP 13507884 A JP13507884 A JP 13507884A JP 13507884 A JP13507884 A JP 13507884A JP S6115970 A JPS6115970 A JP S6115970A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- evaporation rate
- vapor deposition
- source
- deposition apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/548—Controlling the composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は薄膜形成などの蒸着装置に関し、とシわけ蒸発
速度の異なる複数の蒸発源を用いて、薄膜中の各成分の
相対濃度を均一にするための蒸着装置に関する。
速度の異なる複数の蒸発源を用いて、薄膜中の各成分の
相対濃度を均一にするための蒸着装置に関する。
（従来例の構成とその問題点）
第２図に示したのは従来の蒸着装置の一例であシ、説明
の簡略化のために二源系蒸着について述べる。たとえば
蒸発材料としてＡとＢとを用い、形成した薄膜において
ＡとＢの比を一定にしようとする場合は通常以下のよう
な方法で第２図に示した蒸着装置で蒸着形成される。
の簡略化のために二源系蒸着について述べる。たとえば
蒸発材料としてＡとＢとを用い、形成した薄膜において
ＡとＢの比を一定にしようとする場合は通常以下のよう
な方法で第２図に示した蒸着装置で蒸着形成される。
真空容器１内の基板ホルダー２上にガラス基板３を設置
し、排気したのち蒸発材料体）４および蒸発材料＠）５
を入れた蒸発用ｚ−）６．７に蒸発電源８，９よシミ力
を供給し蒸発用ｇ−）６．７を加熱するととにより蒸発
材料（Ａ）４、蒸発材料ω）５とを蒸発させ、ガラス基
板３上にＡとＢとが一定の比で交じりあった膜が形成さ
れる。したがって形成された膜内のＡとＢとの比を一定
に保つためには蒸発材料（Ａ）４．（Ｂ）５の蒸発速度
をそれぞれ一定に保つ必要がアシ、簡単にはたとえば、
両蒸着用ｙｔ”−）６．７に供給する電力を一定に保つ
ようにすればよいが、供給電力を一定に保っていても蒸
着速度は変動する場合が多く、シたがって実際は蒸着速
度を計測し、その変動に応じて供給電力を制御するのが
効果的である。
し、排気したのち蒸発材料体）４および蒸発材料＠）５
を入れた蒸発用ｚ−）６．７に蒸発電源８，９よシミ力
を供給し蒸発用ｇ−）６．７を加熱するととにより蒸発
材料（Ａ）４、蒸発材料ω）５とを蒸発させ、ガラス基
板３上にＡとＢとが一定の比で交じりあった膜が形成さ
れる。したがって形成された膜内のＡとＢとの比を一定
に保つためには蒸発材料（Ａ）４．（Ｂ）５の蒸発速度
をそれぞれ一定に保つ必要がアシ、簡単にはたとえば、
両蒸着用ｙｔ”−）６．７に供給する電力を一定に保つ
ようにすればよいが、供給電力を一定に保っていても蒸
着速度は変動する場合が多く、シたがって実際は蒸着速
度を計測し、その変動に応じて供給電力を制御するのが
効果的である。
従来この目的のためにそれぞれの蒸着速度を計測するよ
うに水晶振動子１０．１１をそれぞれの蒸発源に向けて
設置し、蒸発速度計１２ 、、１３にて蒸着速度を計測
する。その計測結果によって蒸着速度が一定になるよう
にそれぞれに対応する蒸着源の蒸着電源制御回路１４．
１５に信号を供給し、蒸着用ｙｔ’ −トロ ＊ ７に
供給する電力を制御する。このような蒸発速度の制御は
、蒸発速度が大きい程制御しやすく、シたがってＡとＢ
の蒸発速度がともに大きければ形成された薄膜中のＡと
Ｂの比は一定になシ易い。しかし、ＡとＢのうち少なく
ともどちらかが蒸発速度が小さい場合はこのような装置
でＡとＢの比が一定の薄膜を形成することは困難となっ
てくる。たとえばＡとしてＺｎＳ 。
うに水晶振動子１０．１１をそれぞれの蒸発源に向けて
設置し、蒸発速度計１２ 、、１３にて蒸着速度を計測
する。その計測結果によって蒸着速度が一定になるよう
にそれぞれに対応する蒸着源の蒸着電源制御回路１４．
１５に信号を供給し、蒸着用ｙｔ’ −トロ ＊ ７に
供給する電力を制御する。このような蒸発速度の制御は
、蒸発速度が大きい程制御しやすく、シたがってＡとＢ
の蒸発速度がともに大きければ形成された薄膜中のＡと
Ｂの比は一定になシ易い。しかし、ＡとＢのうち少なく
ともどちらかが蒸発速度が小さい場合はこのような装置
でＡとＢの比が一定の薄膜を形成することは困難となっ
てくる。たとえばＡとしてＺｎＳ 。
ＢとしてＭｎを用いた場合、通常ＥＬ素子の発光体層と
して使用されるＺｎＳ ： Ｎｎ膜中のＭｎの比は１重
量−前後であシ、すなわち蒸発速度もその程度の比にな
ってくる。
して使用されるＺｎＳ ： Ｎｎ膜中のＭｎの比は１重
量−前後であシ、すなわち蒸発速度もその程度の比にな
ってくる。
このように片方の材料の蒸発速度が他方に比べて極端に
小さい場合、形成される薄膜中の両者の比は蒸発速度の
小さい方の材料の蒸発速度に太きく左右されやすく、ま
た蒸着時間が数分間にわたる長時間の蒸着には蒸発速度
の小さい蒸発材料の蒸発速度をこのような装置で安定に
制御するのはきわめて困難であった。
小さい場合、形成される薄膜中の両者の比は蒸発速度の
小さい方の材料の蒸発速度に太きく左右されやすく、ま
た蒸着時間が数分間にわたる長時間の蒸着には蒸発速度
の小さい蒸発材料の蒸発速度をこのような装置で安定に
制御するのはきわめて困難であった。
（発明の目的）
本発明は、上記のように蒸発速度の異なる複数の蒸発材
料を蒸発させ、これら複数の蒸発材料の、形成された薄
膜中の比が常に一定となるような蒸着装置を提供するこ
とを目的とする。
料を蒸発させ、これら複数の蒸発材料の、形成された薄
膜中の比が常に一定となるような蒸着装置を提供するこ
とを目的とする。
（発明の構成）
本発明は上記の目的を達成するために、以下のような構
成で、蒸着によシ薄膜を形成することを特徴とする。
成で、蒸着によシ薄膜を形成することを特徴とする。
複数の蒸発源を有する蒸着装置において、前記蒸発源の
うち特定の蒸発源の蒸着速度を計測する手段を有し、か
つ前記特定の蒸発源の蒸着速度の計測結果によって、前
記特定の蒸発源以外の蒸発源へ供給する電力を制御する
手段とを有する蒸着装置を用いることによ多組成比が一
定な薄膜を安定に形成する。
うち特定の蒸発源の蒸着速度を計測する手段を有し、か
つ前記特定の蒸発源の蒸着速度の計測結果によって、前
記特定の蒸発源以外の蒸発源へ供給する電力を制御する
手段とを有する蒸着装置を用いることによ多組成比が一
定な薄膜を安定に形成する。
（実施例の説明）
図面を用いて本発明にかかる蒸着装置の一実施例につい
て説明する。第１図に示したのは本発明にかかる蒸着装
置の一実施例である。蒸発材料としてはＭｎ ２０とＺ
ｎＳ ２１とを用い、それぞれ蒸発用ボー）２２．２３
にセットする。蒸発用テート２２．２３にはそれぞれ蒸
着用電源２４．２５が接続され電力を供給するよ゛うに
なっている。いま真空容器２６内を適当な高真空に排気
したのち、蒸着用電源２４によシ蒸発用、Ｎ −） ２
２に、あらかじめ所望のＭｎの蒸発速度が得られる電力
を供給する。このときのＭｎ ２０の蒸発速度を水晶振
動子２７および蒸発速度計２８を用いて計測し、計測結
果に比例した電圧を出力する。
て説明する。第１図に示したのは本発明にかかる蒸着装
置の一実施例である。蒸発材料としてはＭｎ ２０とＺ
ｎＳ ２１とを用い、それぞれ蒸発用ボー）２２．２３
にセットする。蒸発用テート２２．２３にはそれぞれ蒸
着用電源２４．２５が接続され電力を供給するよ゛うに
なっている。いま真空容器２６内を適当な高真空に排気
したのち、蒸着用電源２４によシ蒸発用、Ｎ −） ２
２に、あらかじめ所望のＭｎの蒸発速度が得られる電力
を供給する。このときのＭｎ ２０の蒸発速度を水晶振
動子２７および蒸発速度計２８を用いて計測し、計測結
果に比例した電圧を出力する。
一方、ＺｎＳ２１の蒸発速度は水晶振動子２９および蒸
発速度計３０によシ計測され、計測結果に比例した電圧
出力を電圧比較器３１に入力する。
発速度計３０によシ計測され、計測結果に比例した電圧
出力を電圧比較器３１に入力する。
このとき蒸発速度計２８の出力と蒸発速度計３０の出力
との差が電圧比較器３１よ多制御電圧と・して出力され
、蒸着用電源２５に供給されてＺｎＳ２１の蒸発速度を
制御する。
との差が電圧比較器３１よ多制御電圧と・して出力され
、蒸着用電源２５に供給されてＺｎＳ２１の蒸発速度を
制御する。
本実施例の蒸着装置では、Ｍｎ２０の蒸発速度を４ Ｘ
／／ｓｅｃ ＊ ＺｎＳ ２１の蒸発速度を２００ Ｘ
／ｓｅｅとしたときに真空容器２６内の基板ホルダ３２
に設置したガラス基板３３上に形成されるＺｎＳ：Ｍｎ
膜中のＭｎの含有率が０５重量％になった。したがって
Ｍｎの含有率が０．５重量俤のＺｎＳ ： Ｍｎ膜を形
成するためには上述の蒸発速度比でＭｎおよびＺｎＳの
蒸着を行なえばよい。
／／ｓｅｃ ＊ ＺｎＳ ２１の蒸発速度を２００ Ｘ
／ｓｅｅとしたときに真空容器２６内の基板ホルダ３２
に設置したガラス基板３３上に形成されるＺｎＳ：Ｍｎ
膜中のＭｎの含有率が０５重量％になった。したがって
Ｍｎの含有率が０．５重量俤のＺｎＳ ： Ｍｎ膜を形
成するためには上述の蒸発速度比でＭｎおよびＺｎＳの
蒸着を行なえばよい。
すなわちＭｎ ２０の蒸発速度が４ Ｘ／ｓｅｃ 、
ＺｎＳ ２１の蒸発速度が２００Ｘ／／ｓｅｃのときに
電圧比較器３工の出力がゼロとなるようにしておけば、
Ｍｎ ２０の蒸発速度の変動に応じてＺｎＳ ２１の蒸
発速度が制御され、常に両者の比を一定とすることがで
きる。
ＺｎＳ ２１の蒸発速度が２００Ｘ／／ｓｅｃのときに
電圧比較器３工の出力がゼロとなるようにしておけば、
Ｍｎ ２０の蒸発速度の変動に応じてＺｎＳ ２１の蒸
発速度が制御され、常に両者の比を一定とすることがで
きる。
蒸着用電源２５の供給電力は電圧比較器３】からの入力
がない限シ、現在の設定電力を保持するようになってい
る。
がない限シ、現在の設定電力を保持するようになってい
る。
本実施例では、薄膜を形成するのに抵抗加熱法を用いた
が、本発明の主旨を損なわない限シ他の方法を用いても
かまわないことは言うまでもなくたとえば電子ビーム蒸
着法でも同様でし、それらの組合せでもかまわない。
が、本発明の主旨を損なわない限シ他の方法を用いても
かまわないことは言うまでもなくたとえば電子ビーム蒸
着法でも同様でし、それらの組合せでもかまわない。
また各材料の蒸着速度の計測には水晶振動子を用いたが
これも他の方法でも全く同様であシ限定されるものでは
ない。
これも他の方法でも全く同様であシ限定されるものでは
ない。
ＺｎＳの蒸発速度の計測にも水晶振動子を用いたが、ｚ
ｎＳは蒸発速度が大きく、比較的安定であるため、場合
によっては蒸発速度を計測しなくても多少効果は落ちる
が、その全構成が簡単で済むという利点もある。さらに
供給電力を制御される蒸発源の蒸発速度は大きい程制御
しやすいため、蒸発速度を計測し、他の蒸発源の供給電
力を制御する蒸発源の蒸発速度は、供給電力を制御され
る蒸発源の蒸発速度よシ小さいことが望ましく、小さい
和本発明の効果は大きい。
ｎＳは蒸発速度が大きく、比較的安定であるため、場合
によっては蒸発速度を計測しなくても多少効果は落ちる
が、その全構成が簡単で済むという利点もある。さらに
供給電力を制御される蒸発源の蒸発速度は大きい程制御
しやすいため、蒸発速度を計測し、他の蒸発源の供給電
力を制御する蒸発源の蒸発速度は、供給電力を制御され
る蒸発源の蒸発速度よシ小さいことが望ましく、小さい
和本発明の効果は大きい。
（発明の効果）
上述のように、本発明によれば複数の蒸発源を有する蒸
着装置において、蒸発速度の極めて小さい材料の蒸発速
度の計測結果によって他の蒸発源の蒸発速度を制御する
ことによシ、常に一定の組成比の薄膜を再現よく製造す
る蒸着装置を提供することができ、その実用的価値は大
である。
着装置において、蒸発速度の極めて小さい材料の蒸発速
度の計測結果によって他の蒸発源の蒸発速度を制御する
ことによシ、常に一定の組成比の薄膜を再現よく製造す
る蒸着装置を提供することができ、その実用的価値は大
である。
第１図は本発明による蒸着装置の一実施例の構成を示す
図、第２図は従来の蒸着装置の一例構成を示す図である
。 ２２．２３・・・蒸発用ボート、２４．２５・・・蒸発
用電源、２７．２９・・・水晶振動子、２８．３０・・
・蒸発速度計、３１・・・電圧比較器。 第１図 第２図
図、第２図は従来の蒸着装置の一例構成を示す図である
。 ２２．２３・・・蒸発用ボート、２４．２５・・・蒸発
用電源、２７．２９・・・水晶振動子、２８．３０・・
・蒸発速度計、３１・・・電圧比較器。 第１図 第２図
Claims (1)
- 複数の蒸発源を有する蒸着装置において、前記蒸発源の
うちの特定の蒸発源の蒸発速度を計測する手段を有し、
かつ前記特定の蒸発源の蒸発速度の計測結果によって前
記特定の蒸発源以外の蒸発源への供給電力を制御する手
段を有することを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13507884A JPS6115970A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13507884A JPS6115970A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115970A true JPS6115970A (ja) | 1986-01-24 |
Family
ID=15143320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13507884A Pending JPS6115970A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115970A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5943875A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 蒸発源及びその使用方法 |
-
1984
- 1984-07-02 JP JP13507884A patent/JPS6115970A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5943875A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 蒸発源及びその使用方法 |
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