JPS6115921A - 薄状物の表裏同時熱処理装置 - Google Patents
薄状物の表裏同時熱処理装置Info
- Publication number
- JPS6115921A JPS6115921A JP13485184A JP13485184A JPS6115921A JP S6115921 A JPS6115921 A JP S6115921A JP 13485184 A JP13485184 A JP 13485184A JP 13485184 A JP13485184 A JP 13485184A JP S6115921 A JPS6115921 A JP S6115921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- thin material
- optical system
- heat
- washer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
この発明は、たとえばワッシャなどの薄状物をレーザ光
によって表裏面から同時に熱処理する薄状物の表裏同時
熱処理装置に関する。
によって表裏面から同時に熱処理する薄状物の表裏同時
熱処理装置に関する。
機械加工によって得られた薄状物、たとえばワッシャな
どを熱処理する場合には従来からレーザ光による熱処理
が多く用いられている。すなわち、ワッシャの表面にレ
ーザ光を照射して熱処理したのち、つぎに裏面にレーデ
光を照射し、2工程でワッシャの両面を熱処理している
。
どを熱処理する場合には従来からレーザ光による熱処理
が多く用いられている。すなわち、ワッシャの表面にレ
ーザ光を照射して熱処理したのち、つぎに裏面にレーデ
光を照射し、2工程でワッシャの両面を熱処理している
。
しかしながら、前述のようにワッシャを片面づつ熱処理
すると、一方の面を熱処理したときワッシャに歪みが生
じ、他方の面を熱処理しても前記歪みが残り、この歪み
が永久的に解消されないという欠点がある。第4図はワ
ッシャの熱処理による歪みの状態を示すもので、(A>
は熱処理前、(B)は熱処理後である。
すると、一方の面を熱処理したときワッシャに歪みが生
じ、他方の面を熱処理しても前記歪みが残り、この歪み
が永久的に解消されないという欠点がある。第4図はワ
ッシャの熱処理による歪みの状態を示すもので、(A>
は熱処理前、(B)は熱処理後である。
この発明は前記事情に着目してなされたもので、その目
的とするところは、ワッシャのように薄状物であっても
熱処理によって歪み、変形が生じることはなく品質の高
い薄状物を得ることができる薄状物の表裏同時熱処理装
置を提供しようとするものである。
的とするところは、ワッシャのように薄状物であっても
熱処理によって歪み、変形が生じることはなく品質の高
い薄状物を得ることができる薄状物の表裏同時熱処理装
置を提供しようとするものである。
この発明は、前記目的を達成するために、レーザ発振器
から発振されたレーザ光を分割光学系によって2分割し
、さらに分割されたレーザ光を一対の反射光学系によっ
て折返し対向させて薄状物の表裏面から同時に照射する
ことにより熱処理することにある。
から発振されたレーザ光を分割光学系によって2分割し
、さらに分割されたレーザ光を一対の反射光学系によっ
て折返し対向させて薄状物の表裏面から同時に照射する
ことにより熱処理することにある。
以下、この発明を図面に示す一実施例にもとずいて説明
する。
する。
第1図中1はレーザ発振器であり、しは発振されたレー
ザ光である。このレーザ光りの光路には凸レンズからな
る集光光学系2が設けられている。
ザ光である。このレーザ光りの光路には凸レンズからな
る集光光学系2が設けられている。
また、3は後述する各種光学系を保持する本体で、その
上部3aと両脚部3b、3cとによってほぼ口字状に構
成されている。この本体3の上部3aの中央部には光通
路を構成する筒体4が設けられ、前記集光光学系2の集
光途中のレーザ光りが透過するようになっている。そし
て、前記筒体4と対向する前記本体3には2分割ミラー
からなる分割光学系5が設置され、集光途中のレーザ光
りを左右に2分割するようになっている。さらに、本体
3の上部3aの両端部には前記分割光学系5の左右反射
面に対向して第1の反射ミラー6.6が設けられている
。さらに、この第1の反射ミラー6.6と対向する前記
両脚部3b、3cの下部には第2の反射ミラー7.7が
設けられ、これら第1、第2の反射ミラー6.7によっ
てレーザ光しを折返し反射させて対向させる一対の反射
光学系8.8を構成している。なお、前記第1、第2の
反射ミラー6.7にはその反射角を調整する調整ねじ9
・・・が設けられている。また、前記両脚部3b13c
llには被処理物である薄状物、たとえばワッシャ10
を保持する保持具11が設けられている。
上部3aと両脚部3b、3cとによってほぼ口字状に構
成されている。この本体3の上部3aの中央部には光通
路を構成する筒体4が設けられ、前記集光光学系2の集
光途中のレーザ光りが透過するようになっている。そし
て、前記筒体4と対向する前記本体3には2分割ミラー
からなる分割光学系5が設置され、集光途中のレーザ光
りを左右に2分割するようになっている。さらに、本体
3の上部3aの両端部には前記分割光学系5の左右反射
面に対向して第1の反射ミラー6.6が設けられている
。さらに、この第1の反射ミラー6.6と対向する前記
両脚部3b、3cの下部には第2の反射ミラー7.7が
設けられ、これら第1、第2の反射ミラー6.7によっ
てレーザ光しを折返し反射させて対向させる一対の反射
光学系8.8を構成している。なお、前記第1、第2の
反射ミラー6.7にはその反射角を調整する調整ねじ9
・・・が設けられている。また、前記両脚部3b13c
llには被処理物である薄状物、たとえばワッシャ10
を保持する保持具11が設けられている。
この保持具11は第2図で示すように熱伝導率の優れた
同材料などの保持リングによって構成され、その内周面
でワッシャ10を保持している。さらに、この保持具1
1は一対の回転ロール12.12によって支持され、回
転ロール12.12の回転によって回転するようになっ
ている。
同材料などの保持リングによって構成され、その内周面
でワッシャ10を保持している。さらに、この保持具1
1は一対の回転ロール12.12によって支持され、回
転ロール12.12の回転によって回転するようになっ
ている。
しかして、レーザ発振器1から発振したレーザ光りは集
光光学系2によって集光される。集光途中のレーザ光り
は分割光学系5によって左右に2分割され、それぞれ一
対の反射光学系9.9に導かれる。すなわち、まず、第
1の反射ミラー6.6によって下方へ反射され、さらに
第2の反射ミラー7.7によって反射される。したがっ
て、レーザ光り、しは折返されてワッシャ10の一部の
表裏面に同時に照射される。このとき、ワッシャ10は
レーザ光り、Lの焦点から外れた位置に設置され、しか
もワッシャ10の熱i層幅に応じて距離が設定されてい
るため、ワッシャ10に対する照射スポット面積は表裏
同一となる。一方、回転ロール12.12の回転によっ
て保持具11は回転しているため、ワッシャ10も一体
的に回転する。したがって、レーザ光りの照射点、は逐
次変化し、ワッシャ10が一回転すると全周が熱処理さ
れることになる。
光光学系2によって集光される。集光途中のレーザ光り
は分割光学系5によって左右に2分割され、それぞれ一
対の反射光学系9.9に導かれる。すなわち、まず、第
1の反射ミラー6.6によって下方へ反射され、さらに
第2の反射ミラー7.7によって反射される。したがっ
て、レーザ光り、しは折返されてワッシャ10の一部の
表裏面に同時に照射される。このとき、ワッシャ10は
レーザ光り、Lの焦点から外れた位置に設置され、しか
もワッシャ10の熱i層幅に応じて距離が設定されてい
るため、ワッシャ10に対する照射スポット面積は表裏
同一となる。一方、回転ロール12.12の回転によっ
て保持具11は回転しているため、ワッシャ10も一体
的に回転する。したがって、レーザ光りの照射点、は逐
次変化し、ワッシャ10が一回転すると全周が熱処理さ
れることになる。
なお、レーザ発振器1から発振されたレーザ光りのパタ
ーンは円形であるが、分割光学系5によって2分割され
る。したがって、レーザ光りのパターンは半円形となり
、この半円形のレーザ光パターンが一対の反射光学系8
.8によってワッシャ10の両側から照射されることに
なり、ワッシャ10に対する照射パターンは第3図で示
すようになる。
ーンは円形であるが、分割光学系5によって2分割され
る。したがって、レーザ光りのパターンは半円形となり
、この半円形のレーザ光パターンが一対の反射光学系8
.8によってワッシャ10の両側から照射されることに
なり、ワッシャ10に対する照射パターンは第3図で示
すようになる。
以上説明したように、この発明によれば、ワッシャのよ
うに薄状物であっても、その表裏面から同時にレーザ光
を照射して熱処理するために薄状物に歪み、変形が生じ
ることはなく、均一に熱処理することができる。
うに薄状物であっても、その表裏面から同時にレーザ光
を照射して熱処理するために薄状物に歪み、変形が生じ
ることはなく、均一に熱処理することができる。
第1図はこの発明の一実施例を示す全体の正面図、第2
図は同じく保持具の斜視図、第3図は同じくワッシャに
対する照射パターンを示す斜視図、第4図は従来の熱処
理によって変形したワッシャを示す斜摩図である。 1・・・レーザ発振器、2・・・集光光学系、5・・・
分割光学系、8・・・反射光学系、10・・・ワッシャ
(薄状物)11・・・保持具。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 (A) 第3図 第4図 (B)
図は同じく保持具の斜視図、第3図は同じくワッシャに
対する照射パターンを示す斜視図、第4図は従来の熱処
理によって変形したワッシャを示す斜摩図である。 1・・・レーザ発振器、2・・・集光光学系、5・・・
分割光学系、8・・・反射光学系、10・・・ワッシャ
(薄状物)11・・・保持具。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 (A) 第3図 第4図 (B)
Claims (3)
- (1)レーザ発振器と、このレーザ発振器から発振され
たレーザ光を集光する集光光学系と、この集光光学系の
集光途中のレーザ光を2分割する分割光学系と、この分
割光学系によって分割されたレーザ光を折返し反射し互
いに対向して薄状物の表裏に照射し同時に熱処理する一
対の反射光学系と、この薄状物を保持しながら回転させ
る保持具とを具備したことを特徴とする薄状物の表裏同
時熱処理装置。 - (2)一対の反射光学系は、その一方に反転光学系を有
し薄状物に対し同一スポットパターンにしたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の薄状物の表裏同時熱
処理装置。 - (3)保持具は、熱伝導率の優れた材料からなることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の薄状物の表裏同
時熱処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13485184A JPS6115921A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薄状物の表裏同時熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13485184A JPS6115921A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薄状物の表裏同時熱処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6115921A true JPS6115921A (ja) | 1986-01-24 |
JPH0116892B2 JPH0116892B2 (ja) | 1989-03-28 |
Family
ID=15137951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13485184A Granted JPS6115921A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薄状物の表裏同時熱処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6115921A (ja) |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13485184A patent/JPS6115921A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0116892B2 (ja) | 1989-03-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4662708A (en) | Optical scanning system for laser treatment of electrical steel and the like | |
US4315130A (en) | Method of treating object by laser beam and apparatus therefor | |
JPS6045247B2 (ja) | 高エネルギ−ビ−ムによる鋼製品表面の熱処理方法 | |
JPS6237350A (ja) | 表面熱処理装置 | |
JP2588281Y2 (ja) | レーザマーキング装置 | |
JPH02175090A (ja) | レーザビーム成形装置 | |
US5285320A (en) | Mirror for changing the geometrical form of a light beam | |
JPS6293095A (ja) | レ−ザ加工装置 | |
JPH02137687A (ja) | レーザ集光装置 | |
JPH0436794B2 (ja) | ||
JPS6115921A (ja) | 薄状物の表裏同時熱処理装置 | |
CA2226825A1 (en) | Cross direction web processor | |
JPH02263590A (ja) | レーザ加工機 | |
JPH0417989A (ja) | レーザ電線被覆剥離装置 | |
WO1997006462A1 (en) | Rotating optical system for laser machining apparatus | |
JPS6368288A (ja) | 線状ビ−ム取出装置 | |
JPH02299791A (ja) | 加工物へのレーザ照射法 | |
JPS60236483A (ja) | レ−ザ加熱装置 | |
JPS60236482A (ja) | レ−ザ加熱装置 | |
JPH02284782A (ja) | 波長の異なるレーザの集光方法 | |
JPH04284994A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH04143092A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH0639575A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH08265931A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPS63299881A (ja) | レ−ザ光集光装置 |