JPS6115732U - フオトマスクのパターン検査装置 - Google Patents

フオトマスクのパターン検査装置

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JPS6115732U
JPS6115732U JP1985092181U JP9218185U JPS6115732U JP S6115732 U JPS6115732 U JP S6115732U JP 1985092181 U JP1985092181 U JP 1985092181U JP 9218185 U JP9218185 U JP 9218185U JP S6115732 U JPS6115732 U JP S6115732U
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JP
Japan
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pattern
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photomask
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JP1985092181U
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JPS6125245Y2 (ja
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喜久夫 三田
正幸 尾山
卓 吉田
雅人 中島
勝美 藤原
唯男 中久喜
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富士通株式会社
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Publication date
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の装置を説明するためのプリント板パタ
ーンの一例を示す図、第２図は本考案の全体構成図、第
３図は本考案に係るパターン検査装置の実施例の構成図
、第４図は本考案に係るパターン検査装置により作成さ
れた欠陥マップの一例を示す図、第５図は本考案のパタ
ーン検査装置を煕明するためのフォトマスクのパターン
の欠陥ブロック部分の概略的拡大図である。 １・・・リード部、２・・・ランド部、３・・・レーザ
光源、４・・・ガルバノミラー、５・・・走査レンズ、
６・・・被検善試料、７・・・ステージ、８・・・集光
レンズ、９・・・春検出器、１０・・・角度検出用光検
出器、１１・・・パターン角度検出回路、１２・・・パ
ターン縁信号メモリ回路、１３， １４． １５，
Ｎ５・・・パターン幅測長回路、１７．１Ｂ，１９
．２０・・・欠陥情報メモリ、２１・・・出力制御装置
、２２・・・ＸＹレコーダ、５０・・・欠陥ブロック、
５１．５２・・・欠陥部分。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. フォトマスクのパターンエッジの角度成分を分離し、該
    分離した角度成分毎にパターン幅め測長検査を行なって
    、パターンの欠陥♀有無を検査する検査部と、各測長方
    向毎で、且つ該７オトマスクのパターン面を複数個に分
    割した各ブ冶ツク毎に、該欠陥の有無を記憶する記憶部
    と、該各ブロック毎の欠陥の有無を出力する出力部と、
    該記憶内容に基づいて各測長方向毎に夫々異なる態様で
    前記欠陥の有無を出力するよう該出力部を制御する出力
    制御部とを具備して成るフォトマスクのパターン検査装
    置。
JP1985092181U 1985-06-20 1985-06-20 フオトマスクのパターン検査装置 Granted JPS6115732U (ja)

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JPS6115732U true JPS6115732U (ja) 1986-01-29
JPS6125245Y2 JPS6125245Y2 (ja) 1986-07-29

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