JPS61154829A - フイルム状体の熱処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明はフィルム状体、例えば磁気記録媒体用の磁性層
付きフィルムの熱処理方法に関するものである。

口、従来技術 磁気テープ、特に蒸着テープの製造において、基板フィ
ルムの一方の面に磁性材料を蒸着するが、この際にカッ
ピングと称される不均一な変形がフィルムに生じること
が多い。

カッピングを起こした磁気テープをビデオテープに使用
した場合、ビデオデツキ上における走行安定性に欠けた
り、リールに巻かれる時に巻乱れが起こったりする。　
これらは、テープの縁が折れるいわゆるエツジ折れを起
こし易いとともに、ビデオ画像の記録や再生上のトラブ
ルの原因となる。　それのみならず、テープのカーリン
グが生じると、テープの全面がヘッドと良く接触しない
ため、テープとヘッドとの接触の良好な部分の出力に対
する、ヘッドの切換え時などの接触の悪い部分の出力の
割合が低下し、ヱンベロープ形状が悪くなり、その他の
各種Ｓ／Ｎ等の電磁変換特性も悪くなる。　上記のよう
な悪影響は、テープのうねりやシワが生じた場合にも起
こり、これらの程度がひどい場合にはテープとしての使
用に全く耐えない場合も起こる。又、亀裂が生じると、
Ｓ／Ｎ等の電磁変換特性が悪くなり、程度のひどい場合
には大きなドロップアウトとして検出されることもある
。

カッピングを防ぐためにこれまで、所定温度に加熱され
たヒートロールにフィルムを接触させて走行せしめなが
ら熱処理している。　しかし、従来一般に用いられてい
るヒートロールは、そのまま蒸着テープに用いると、熱
処理時にフィルムが枝打りたり、あるいは長手方向に平
行のシワが入ったり、磁性層に亀裂が入ったりした。カ
ッピングの除去の度合いも巾方向にバラツキがあった。

ハ、発明の目的 本発明の目的は、カッピングが中方向に均一に除去でき
、かつ磁性１閂等に亀裂を生じることもなく、フィルム
状体かうねりたり、シワが入ったりすることがないよう
に熱処理を施すことができる方法を提供することにある
。

二、発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、フィルム状体を加熱部材の表面に接触
させて走行せしめながら熱処理するに際し、前記フィル
ム状体と前記加熱部材との間の動摩擦係数が前記フィル
ム状体の走行方向に直交する幅方向において０．５以下
でかつほぼ均一となるようにするフィルム状体の熱処理
方法に係るものである。

本発明によれば、加熱部材（例えばヒートロール）によ
るフィルム状体（例えば磁性層付きのフィルム）の熱処
理時に、その幅方向で動摩擦係数が０．５以下でほぼ均
一となる（どの位置においても０．５以下で均一となる
のが望ましい）ようにしているので、カッピングを充二
分にしかも均一に除去でき、亀裂やシワ、うねり等が生
じることもない。　フィルム長手方向と直角の方向（巾
方向）にヒートロール等の加熱部材とのフィルムの［触
面の状態が均一であり、又、この方向の加熱部材表面が
均一でないと、磁性層等に亀裂が生じたり、巾方向でカ
ッピングの除去の度合いが異なりてくる。動摩擦係数が
Ｏ，Ｓよりも大きくなると、熱処理時に亀裂が入ったり
、シワやうねりを生じたり、中方向のカッピングの除去
の度合いが不均一になる。　うねりやシワが全く生ずる
ことなく熱処理するには、動摩擦係数が０．２以下とな
るようにすることが好ましい。

また、本発明において、加熱部材の最大表面粗さＲｍａ
ｘ、が０．１μ溝よりも大きい場合、その表面の凹凸の
転写によって、電磁変換特性に影響を及ぼすので、　Ｒ
ｍａｘ、≦０．１μ諷とするのがよい。　特に加熱部材
との接触面が磁性面である場合はＲｍａｘ。

は０．０５μ霞以下が好ましい。

本発明において、動摩擦係数は次の様に決定できる。

即ち、動摩擦係数の測定は、回転ドラム型表面性測定機
を用いて行なう。　但し、この回転ドラムとしては熱ド
ラムを用い、表面温度が設定できるようにする。　実際
の測定は、熱ドラムの表面温度を熱処理を行なう温度に
設定し、摩擦係数を算出する。

本発明において「はぼ均一」とは、各点の動摩擦係数の
平均値から、溶点の値が０．５を越えない範囲で、平均
値より０．１よりは多くずれないことをいう。

二、実施例 以下、本発明を実施例について詳細に説明する。

熱処理を施す蒸着フィルムとしては、次のようなものを
用いた。　厚さ１２．１１１１Ｎ、幅１６０ｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上にＣｏ　−Ｎｌ磁性膜
を厚さが０．１，１ｌｓＩとなるように斜一方蒸着した
。

この際、蒸発源としてはＣｏ　：　８０重量％、Ｎｉ：
２０重ｔ％のものを用い、蒸着の際Ｏ，ガスを導入しな
がら反応蒸着を行なった。　このようにして磁性薄膜を
蒸着したフィルムを第１図に示すような装置を用いて熱
処理した。　この装置は、フィルム供給ロール１と同巻
取ロール１２との間で、ヒーター内蔵のヒートロール６
（又は熱ドラム）によって蒸着フィルムＦを接触走行さ
せて熱処理するものである。　図中、８は冷却ロール（
チルロールχ７は押圧ロール、２．３．４．５．９．１
０．１１はガイドローラ（ａ、１Ｏはダンサ−ローラ）
である。

この熱処理に際し、１５０℃の表面温度のヒートロール
６に、張力５００　ｆ　／ｍ”で１秒間フィルムＦを接
触させて微速させながら熱処理を行なった。

（１）、ヒートロール表面と磁性面側が接触する場合。

上記の蒸着条件で、１６０■幅のベースの中央１４０Ｗ
部分にだけ蒸着を行ない、ベースフィルム両端１０ｍず
つ蒸着層を設けない部分をもったフィルムを作成し、こ
れをサンプル（１）とする。　同様の蒸着条件で１６０
　ｗｍ巾全中に均一に蒸着膜を製膜したフィルムを作成
し、これをサンプル（２）とする。

使用したベースフィルムの磁性面側の表面粗さＲｍａｘ
は両サンプルとも０．０３μ襲であった。　第２図のよ
うに、これらの２つのサンプルの磁性層１３の面側かヒ
ートロール６の表面に接触するようにして、上記のよう
な熱処理をほどこし、熱処理中にヒートロール上でシワ
が発生するかどうか、又、熱処理後のフィルムの巾方向
の平坦度、亀裂の有無を調べた。さらにこのフィルムを
ｈインチ巾にスリットして磁気テープとし、カッピング
の度合いをみた。　但し、熱ドラムの表面粗さＲｍａｘ
、は０．１μ鴫で、表面は硬質クロムメッキのヒートロ
ールを用いた。　この結果を下記表−１に示す。

ｌ！−１ 次に、表面粗さＲｍａｘ、が０．０１ｍのベース上に同
様の蒸着条件下で蒸着を行ない、このサンプルをサンプ
ル（３）とした。　表面粗さＲｍａｘ、が０．１ａｍの
硬質クロムメッキのヒートロールと、サンプル（２）、
（３）とのそれぞれの動摩擦係数を測定し、かつ、これ
らの２つのサンプルの磁性面側がヒートロール表面に接
触するようにして先に述べたような熱処理をほどこし、
熱処理中にヒートロール上でシワが発生するかどうか、
又、熱処理後フィルムの巾方向の平坦度、亀裂の有無を
調べた。　さらに、このフィルムを超インチ巾にスリッ
トして磁気テープとし、カッピングの度合いをみた。　
この結果を下記表−２に示す。　動摩擦係数μｋをＯ，
Ｓ以下、特に０．２以下とすべきであることが分る。

表−２ 次に、サンプル（２）を表面粗さＲｍａｘ、の異なるヒ
トロールに接触させて熱処理を行なった。　すなわち、
Ｒｍａｘ、がＱ、３７Ｈ＋ｓ、０．１４ｓ、Ｏ，Ｏｌｌ
ｇａ、０．０３μ鴫の研磨度の異なるヒートロールをそ
れぞれ用いて熱処理を行ない、それぞれのサンプルをサ
ンプル（２）−ａ　、　（２）−ｂ　、　（２）−ｅ　
％　（２）−ｄとした。　ヒートロールの表面はすべて
硬質クロムメッキである。　これらのサンプルをそれぞ
れ号インチ幅にスリットして磁気テープを作成し、カッ
ピングの度合い、ＲＦエンベロープ形状、ドロップアウ
トを測定した。　なお、ＲＦエンベロープの形状として
は、１つのビディオヘッドの１フイールドのＲＦ小出力
中程を拡大して（数百マイクロセカンド）、そのうちの
１００マイクロセカンド分をとり出し、その部分で最大
の出力を示す部分の振幅なＡ、最小の出力を示す部分の
振幅をＢとしたとき％×１００（イ）で示されている（
第３図参照）。

又、ドロップアク）（１１０，）はそれぞれのサンプル
テープをＶＨＳフォーマットカセットにセットして１０
０％白レベル信号を記録し、その再生時のビディオへラ
ドアップ出力の減衰量が１６ｄＢ、継続時間が５　ＡＩ
ｌ＠ｅ、以上のドロップアウトを１０分間ドロップアウ
トカクンタで測定し、１分間あたりの平均値として求め
た。　これらの測定結果を表−３に示す。

Ｉ！−３ （２）、ヒートロール表面とベース面側が接触する場合
。

磁性面側のベース表面の表面粗さＲｍａｘ、がｏ、ｏｉ
μ震、裏面の表面粗さＲｍａｘ、が０．０５β−のペー
スの磁性面側に、前記と同じ蒸着条件で全幅に蒸着を行
ない、蒸着フィルムを作成した。　このフィルムを第１
図に示すような装置を用いて１５０℃の表面温度の熱ド
ラム６に張力５００　ｆ／ｖｍ　で１秒間磁性面の裏面
、即ちベースフィルム１４の面が接触するように搬送さ
せながら熱処理を行なった。

熱ドラム表面として、表面粗さＲｍａｘ、が０．１−鳳
の硬質クロムメッキの熱ドラムを用いて熱処理を行なり
たサンプルをサンプル（４）、表面粗さＲｍａｘ。

が０，１μ欝のアルミナセラミックコーティングの熱ド
ラムを用いて熱処理を行なりたサンプルをサンプル（５
）とした。　各々のサンプルの熱ドラムとの動摩擦係数
、亀裂の有無、熱ドラム上でのシワの発生の様子、カッ
ピング１．を測定し、この結果を表−４に示した。

表−４ サンプル（４）は実際にはテープとしての使用に耐えな
かった。

以上の結果より、熱処理時１ニヒートロールと接触する
フィルム表面とヒートロールとの摩擦係数がフィルムの
長手方向と直角の方向（幅方向）のどの位置；；おいて
も０．５以下で均一、好ましくは０．２以下で均一とな
るようにして熱処理を施すことζ：より、亀裂やシワが
なく、カッピングも均一に除去されて平坦なテープがで
き、かつ、テープの表面性も確保されて、エンベロープ
形状が良好でり、　０．の少ないテープが作成できるこ
とが明らかである。　この場合、熱処理を施すためのヒ
ートロールの表面粗さＲｍａｘ、は０．１μ需以下、好
ましくは０．０５μ−以下であるのがよい。

以上に述べたプロセスは、上記に限らず、例えば熱ドラ
ムを２本以上組合せた装置あるいはドラム表面をアルミ
ナ以外のセラミクスやシリコン、テフロン等で形成する
ことも可能であり、上記のような条件を満たしていれば
どのような組合せでもよい。　また、加熱部材は上述の
ヒートロール、熱ドラム以外のもの、例えば加熱板であ
ってもよい。　熱処理されるべきフィルム状体は磁気記
録媒体用のものに限らないし、またその形状も通常のフ
ィルムをはじめ、テープ状、シート状等をも含むものと
する。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであって。 第１図は熱処理装置の概略図、 第２図はヒートロールとフィルムとの接触状態を示す断
面図、 第３図はＲＦエンベロープ形状を示す図である。 なお、図面に示した符号において、 ６・・・・・・・・・・・・ヒートロール１３・・・・
・・・・・・・・磁性層 １４・・・・・・・・・・・・ベースフィルムＦ・・・
・・・・・・・・・フィルム である。 代理人　弁理士　逢　坂　　　宏 第１図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、フィルム状体を加熱部材の表面に接触させて走行せ
   しめながら熱処理するに際し、前記フィルム状体と前記
   加熱部材との間の動摩擦係数が前記フィルム状体の走行
   方向に直交する幅方向において０．５以下でかつほぼ均
   一となるようにするフィルム状体の熱処理方法。