JPS61153414A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JPS61153414A JPS61153414A JP28027684A JP28027684A JPS61153414A JP S61153414 A JPS61153414 A JP S61153414A JP 28027684 A JP28027684 A JP 28027684A JP 28027684 A JP28027684 A JP 28027684A JP S61153414 A JPS61153414 A JP S61153414A
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- JP
- Japan
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- heating
- heating chamber
- heating element
- heater
- chamber wall
- Prior art date
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/20—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
- H05B3/22—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible
- H05B3/28—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor embedded in insulating material
- H05B3/283—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor embedded in insulating material the insulating material being an inorganic material, e.g. ceramic
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
- Electric Stoves And Ranges (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、いわゆるオープン電子レンジと呼ばれる電熱
加熱機能付高周波加熱装置に関するものである。
加熱機能付高周波加熱装置に関するものである。
従来の技術
一般にオープン電子レンジには、ヒーターによる加熱方
式により、第７図に示すように主に熱の輻射と自然対流
を利用し加熱室内の天面及び底面にシーズヒーターを配
設した上下ヒータ一式と、第８図に示す加熱室外でヒー
ターにより発生させた熱をファンと加熱室内との間で強
制循環させて食品を加熱する熱風循環式とに大別出来る
。前者は、概して電気オープンとしての性能も良く安価
に出来るので主流を成している。第７図に示す様に加熱
室１の天面２と底面３にはそれぞれシーズヒーター４，
５が配設されている。シーズヒーター４，５は加熱室後
壁６を貫通し、電子レンジ本体７内で電気エネルギーを
得る為配線されている。
式により、第７図に示すように主に熱の輻射と自然対流
を利用し加熱室内の天面及び底面にシーズヒーターを配
設した上下ヒータ一式と、第８図に示す加熱室外でヒー
ターにより発生させた熱をファンと加熱室内との間で強
制循環させて食品を加熱する熱風循環式とに大別出来る
。前者は、概して電気オープンとしての性能も良く安価
に出来るので主流を成している。第７図に示す様に加熱
室１の天面２と底面３にはそれぞれシーズヒーター４，
５が配設されている。シーズヒーター４，５は加熱室後
壁６を貫通し、電子レンジ本体７内で電気エネルギーを
得る為配線されている。
この状態で加熱室１内へ高周波エネルギーを照射すると
ヒーター４．５に電流が流れ、前記加熱室壁の穴を通り
加熱室外へ高周波エネルギーは漏洩する。これを防止す
る為にチョーク８．９が壁面に設けられている。特に底
面３のシーズヒーター５は、食品や煮汁等をこぼした場
合など、底面３の掃除を容易にする為脱着可能な構造と
している為、シーズヒーター５の接続部の構造は若干複
雑になっている。
ヒーター４．５に電流が流れ、前記加熱室壁の穴を通り
加熱室外へ高周波エネルギーは漏洩する。これを防止す
る為にチョーク８．９が壁面に設けられている。特に底
面３のシーズヒーター５は、食品や煮汁等をこぼした場
合など、底面３の掃除を容易にする為脱着可能な構造と
している為、シーズヒーター５の接続部の構造は若干複
雑になっている。
発明が解決しようとする問題点
特に上側のヒーターは、保持部１０を設はチッーク部８
と共に固定しているので脱着がしにくい。
と共に固定しているので脱着がしにくい。
そこで、調理時に飛散した油汚れがついてもある温度以
上になるとこれを水や炭酸ガスへと分解する触媒機能を
持ったセルフクリーニングホーロ一層１１を設ける事で
ヒーター４の脱着を不要にすべく対処しているが、多量
の油には効果が完全でないこと、又、コストが高いこと
に問題があった。
上になるとこれを水や炭酸ガスへと分解する触媒機能を
持ったセルフクリーニングホーロ一層１１を設ける事で
ヒーター４の脱着を不要にすべく対処しているが、多量
の油には効果が完全でないこと、又、コストが高いこと
に問題があった。
調理性能の面では、シーズヒーターの場合、パイプ状の
金属が外被となっているので最小曲げＲも一限定され比
較的単純な形状にせざるを得ない。加熱時、ヒーター４
．５の表面温度は極めて高く、ヒーター４．５を含む平
面内でもヒーター間の雰囲気温度は比較的低いので、均
一加熱がむづかしく、ヒーター４．５と食品との距離を
大きく保つ必要があった。これを解消する為にシーズヒ
ーターを鋳鉄ブロック内に埋め込んだり、金属板を密着
して取シ付けたシする方法もあるが半熱性、均一加熱性
の両者を満たすには不十分であった。又、高周波加熱時
シーズヒーターター４．５から加熱室内の高周波エネル
ギーが外部へ漏洩する事を防止する為に設けているチョ
ーク８．９は、発振周波数いい換えれば波長によシ寸法
が限定され第７図のように後壁に４けた場合は奥行き方
向の全体寸法Ａは大きくせざるを得なかった。又、下ヒ
ータ−５は脱着可能としているが、案外手間がかかると
、ヒーター５自身も丸洗いされる事も考えられ絶縁性、
耐久性の面からも好ましくない上、何より加熱室にヒー
ター４．５が張り出している姿は掃除がしにくいばかり
でなく美観の点でも好ましくないという問題があった。
金属が外被となっているので最小曲げＲも一限定され比
較的単純な形状にせざるを得ない。加熱時、ヒーター４
．５の表面温度は極めて高く、ヒーター４．５を含む平
面内でもヒーター間の雰囲気温度は比較的低いので、均
一加熱がむづかしく、ヒーター４．５と食品との距離を
大きく保つ必要があった。これを解消する為にシーズヒ
ーターを鋳鉄ブロック内に埋め込んだり、金属板を密着
して取シ付けたシする方法もあるが半熱性、均一加熱性
の両者を満たすには不十分であった。又、高周波加熱時
シーズヒーターター４．５から加熱室内の高周波エネル
ギーが外部へ漏洩する事を防止する為に設けているチョ
ーク８．９は、発振周波数いい換えれば波長によシ寸法
が限定され第７図のように後壁に４けた場合は奥行き方
向の全体寸法Ａは大きくせざるを得なかった。又、下ヒ
ータ−５は脱着可能としているが、案外手間がかかると
、ヒーター５自身も丸洗いされる事も考えられ絶縁性、
耐久性の面からも好ましくない上、何より加熱室にヒー
ター４．５が張り出している姿は掃除がしにくいばかり
でなく美観の点でも好ましくないという問題があった。
本発明はこのような従来の問題点を解消するものであり
、ヒーターが突出していない為、掃除が容易で美観に優
れ、加熱室の有効寸法を大きく出来る上、半熱性、均一
加熱性に優れたヒータの付いた高周波加熱装置を提供す
るものである。
、ヒーターが突出していない為、掃除が容易で美観に優
れ、加熱室の有効寸法を大きく出来る上、半熱性、均一
加熱性に優れたヒータの付いた高周波加熱装置を提供す
るものである。
問題点を解決するための手段
本発明の高周波加熱装置は、金属から成る基板と、金属
やセラミック等から成る発熱体と、前記発熱体及び基板
を被覆すると共に発熱体を前記基板と隔離して基板に結
合したホーロ層とを有する面状発熱体を有し、食品を加
熱する加熱室と前記面状発熱体とは前記ホーロ層にて絶
縁されたものである。
やセラミック等から成る発熱体と、前記発熱体及び基板
を被覆すると共に発熱体を前記基板と隔離して基板に結
合したホーロ層とを有する面状発熱体を有し、食品を加
熱する加熱室と前記面状発熱体とは前記ホーロ層にて絶
縁されたものである。
作 用
本発明の高周波加熱装置は、電熱加熱時の熱源である面
状発熱体を加熱室壁面と面状発熱体取付板（断熱板）に
てほぼ全周を挾み込む形で保持するので、面状発熱体の
発熱体と金属基板との間のホーロ層が発熱体の温度上昇
により絶縁性が劣化しても、熱源である発熱体より比較
的離れた位置すなわち温度の低い箇所を保持しているの
で金属基板と加熱室壁および面状発熱体取付板との間に
存在するホーロ層の絶縁性は確保されているので感電す
る心配はない。また、面状発熱体を使っているので半熱
性、均一加熱性に優れ、加熱室内にヒーターやヒーター
引き出し部のチョーク、ヒーター保持具などの突出物が
なくなるので掃除もしやすく、加熱室ヒーター面の有効
寸法も大きく出来る。又、外観的にも優れ、ホーロー面
は光沢も出せると掃除も容易に出来るものである。
状発熱体を加熱室壁面と面状発熱体取付板（断熱板）に
てほぼ全周を挾み込む形で保持するので、面状発熱体の
発熱体と金属基板との間のホーロ層が発熱体の温度上昇
により絶縁性が劣化しても、熱源である発熱体より比較
的離れた位置すなわち温度の低い箇所を保持しているの
で金属基板と加熱室壁および面状発熱体取付板との間に
存在するホーロ層の絶縁性は確保されているので感電す
る心配はない。また、面状発熱体を使っているので半熱
性、均一加熱性に優れ、加熱室内にヒーターやヒーター
引き出し部のチョーク、ヒーター保持具などの突出物が
なくなるので掃除もしやすく、加熱室ヒーター面の有効
寸法も大きく出来る。又、外観的にも優れ、ホーロー面
は光沢も出せると掃除も容易に出来るものである。
実施例。
以下本発明の一実施例の高周波加熱装置を図面を参照し
て説明する。第１図に示すように、加熱室側壁１２には
、電熱加熱時使用の皿用棚１ａが一体に形成され、底面
用面状ヒーター１４は面状ヒーターの取付板を兼ねてい
る断熱板１５が加熱室壁１２とＢ部にて溶接（全周）さ
れ両者に挾み込まれる形で保持されている。面状発熱体
１４の端面１７は、加熱室壁１２及び断熱板１５ともに
接触を避けるための逃げ部１８を熱時の膨張分も見込ま
れた寸法で構成することで、常時非接触となっている。
て説明する。第１図に示すように、加熱室側壁１２には
、電熱加熱時使用の皿用棚１ａが一体に形成され、底面
用面状ヒーター１４は面状ヒーターの取付板を兼ねてい
る断熱板１５が加熱室壁１２とＢ部にて溶接（全周）さ
れ両者に挾み込まれる形で保持されている。面状発熱体
１４の端面１７は、加熱室壁１２及び断熱板１５ともに
接触を避けるための逃げ部１８を熱時の膨張分も見込ま
れた寸法で構成することで、常時非接触となっている。
第２図は、面状発熱体１４の加熱室保持部附近の拡大断
面構成図である。金属基板１９は全体をホーロ層２０で
被覆されている。外底面のホーロ層２０内には、発熱体
１６が埋設されている。本発明の場合、ホーロ層２ｏの
厚さは表裏面：ａ寸法＝ ５０〜５００ μｍ 、端面
肉厚部：Ｂ寸法＝０〜１５０μｍ程度となり、金属基板
１９の打抜加工時発生したバリ２１のある場合、端面の
角部２２には、ホーロ層は殆んど形成されていない。
面構成図である。金属基板１９は全体をホーロ層２０で
被覆されている。外底面のホーロ層２０内には、発熱体
１６が埋設されている。本発明の場合、ホーロ層２ｏの
厚さは表裏面：ａ寸法＝ ５０〜５００ μｍ 、端面
肉厚部：Ｂ寸法＝０〜１５０μｍ程度となり、金属基板
１９の打抜加工時発生したバリ２１のある場合、端面の
角部２２には、ホーロ層は殆んど形成されていない。
第３図、面状ヒーター試作品から得た、金属基板と、発
熱体間の絶縁抵抗一温度特性図である。
熱体間の絶縁抵抗一温度特性図である。
３００℃を超える温度域では１ＭΩ以下となって来てお
シ、試作品による調理実験では輻射熱を利用したグＩＪ
／し料理時には、ヒーター表面温度３５０〜４００℃
程度が必要とされたことから、第２図における金属基板
１９と発熱体１６間に介在するホーロ層の絶縁性は、高
温時には著しく劣化していることがわかる。第４図は、
断熱板１５を加熱室壁１２に０部（全周）にて溶接した
取付板２３を介して複数のビス２４により面状発熱体１
４を保持しているものである。ビス２４を取り除けば面
状発熱体１４を取り外すことが出来る構成である。
シ、試作品による調理実験では輻射熱を利用したグＩＪ
／し料理時には、ヒーター表面温度３５０〜４００℃
程度が必要とされたことから、第２図における金属基板
１９と発熱体１６間に介在するホーロ層の絶縁性は、高
温時には著しく劣化していることがわかる。第４図は、
断熱板１５を加熱室壁１２に０部（全周）にて溶接した
取付板２３を介して複数のビス２４により面状発熱体１
４を保持しているものである。ビス２４を取り除けば面
状発熱体１４を取り外すことが出来る構成である。
又、本図において面状発熱体１４の端面は、周辺金属と
接触しにくいカール状端面２５としている。この様にす
れば、前述したように端面部にホーロ層が形成されにく
くても周囲の本体部とは接触しない構成が実現出来る。
接触しにくいカール状端面２５としている。この様にす
れば、前述したように端面部にホーロ層が形成されにく
くても周囲の本体部とは接触しない構成が実現出来る。
第５図は面状ヒーター１４の外観斜視図である。本例は
加熱室底面用を示し、加熱室外底面側に金属発熱体１６
は広範囲に埋設されている。第１図、第２図及び第４図
、第５図かられかるように、加熱時、発熱体１６が熱源
となり、発熱体１６近傍は３５０〜４００ ’Ｃまで温
度上昇する。しかし第１図のＤ部、っまシ全周の保持部
は、熱源から離れていることや加熱室壁１２などの熱容
量の大きなものと接触していることから、１００〜１５
０℃低くすることが可能なことが試作実験で判明出来た
。
加熱室底面用を示し、加熱室外底面側に金属発熱体１６
は広範囲に埋設されている。第１図、第２図及び第４図
、第５図かられかるように、加熱時、発熱体１６が熱源
となり、発熱体１６近傍は３５０〜４００ ’Ｃまで温
度上昇する。しかし第１図のＤ部、っまシ全周の保持部
は、熱源から離れていることや加熱室壁１２などの熱容
量の大きなものと接触していることから、１００〜１５
０℃低くすることが可能なことが試作実験で判明出来た
。
このようにすれば、面状ヒーターを３５０ ’Ｃ〜４０
０℃というホーローの絶縁性が著しく劣化し感電の危険
の可能性のある領域にまで加熱して使用しても、ホーロ
の絶縁性が保障されている温度にしかなっていない周辺
部をホーロ層２０を介して支持しているので、発熱体１
６と加熱室壁１２すなわち電子レンジ本体との絶縁は確
保出来る。
０℃というホーローの絶縁性が著しく劣化し感電の危険
の可能性のある領域にまで加熱して使用しても、ホーロ
の絶縁性が保障されている温度にしかなっていない周辺
部をホーロ層２０を介して支持しているので、発熱体１
６と加熱室壁１２すなわち電子レンジ本体との絶縁は確
保出来る。
この時、面状ヒーター１４の金属基板１９の端面１７に
はホーロ層２０が形成されにくいが、周辺に１９の絶縁
空間を設けているので地絡する心配はない。
はホーロ層２０が形成されにくいが、周辺に１９の絶縁
空間を設けているので地絡する心配はない。
第６図は加熱室壁１２ａ、１２ｂに直接発熱体１６ａ、
１６ｂを配設したもので、加熱室側（底）壁１２ａと上
壁１２ｂはＥ部にて全周溶接されている。本例の場合、
溶接部Ｅは、ホーロ層が形成されていると溶接出来ない
ので、加熱°室壁のホーロー焼成時は、マスキングして
金属素地の露出を確保する必要がめシ、ホーロ一層を２
層、３層に形成する場合は、それぞれの焼成工程ごとに
行う必要があシ手間のかかるものであるが、本発明によ
る実施例では全くその必要はない。又、何らかの原因で
発熱体が断線して、面状ヒーターを交換しなくてはなら
ない場合でも、第３図に示す構成とすれば面状ヒーター
１４だけの交換で済み、加熱室全てを交換する必要もな
く簡単にかつ安価に出来る。第１図及び第３図に示す構
成の場合、加熱室内の高周波エネルギーがＤ部すなわち
、加熱室壁１２と金属基板１９との間のホーロ層及び、
金属基板１９と断熱板１５との間のホーロ層の２つのホ
ーロ層の間を通過して外部へ漏洩することが懸念される
が、試作実験において、加熱室内に高周波エネルギー６
００Ｗ投入し負荷として、食品載置用受皿（セラミック
製）と水負荷（５００ｃｃビーカー）２７５ｃｃを入れ
た場合、０．２〜０．５ｍＷ／ａｍ２、食品載置用皿の
みの場合、０．７〜０．９ｍＷ／ａｍ２というレベルで
あり、断熱板により漏洩した高周波を更に封じ込める構
成に出来ることからも全く問題ないことがわかった。
１６ｂを配設したもので、加熱室側（底）壁１２ａと上
壁１２ｂはＥ部にて全周溶接されている。本例の場合、
溶接部Ｅは、ホーロ層が形成されていると溶接出来ない
ので、加熱°室壁のホーロー焼成時は、マスキングして
金属素地の露出を確保する必要がめシ、ホーロ一層を２
層、３層に形成する場合は、それぞれの焼成工程ごとに
行う必要があシ手間のかかるものであるが、本発明によ
る実施例では全くその必要はない。又、何らかの原因で
発熱体が断線して、面状ヒーターを交換しなくてはなら
ない場合でも、第３図に示す構成とすれば面状ヒーター
１４だけの交換で済み、加熱室全てを交換する必要もな
く簡単にかつ安価に出来る。第１図及び第３図に示す構
成の場合、加熱室内の高周波エネルギーがＤ部すなわち
、加熱室壁１２と金属基板１９との間のホーロ層及び、
金属基板１９と断熱板１５との間のホーロ層の２つのホ
ーロ層の間を通過して外部へ漏洩することが懸念される
が、試作実験において、加熱室内に高周波エネルギー６
００Ｗ投入し負荷として、食品載置用受皿（セラミック
製）と水負荷（５００ｃｃビーカー）２７５ｃｃを入れ
た場合、０．２〜０．５ｍＷ／ａｍ２、食品載置用皿の
みの場合、０．７〜０．９ｍＷ／ａｍ２というレベルで
あり、断熱板により漏洩した高周波を更に封じ込める構
成に出来ることからも全く問題ないことがわかった。
なお、面状ヒーターの外周保持部は、熱源である発熱体
埋設部よシ温度が低く３ｏＯ℃以下が望ましい。更に発
熱体部に温度過昇防止装置が設けられておれば安全性は
一段と自重する。
埋設部よシ温度が低く３ｏＯ℃以下が望ましい。更に発
熱体部に温度過昇防止装置が設けられておれば安全性は
一段と自重する。
又、第１図において発熱体１６を埋設させた面状発熱体
１６から放射される熱エネルギーの約半分は図における
断熱板１６の方向に発せられる。
１６から放射される熱エネルギーの約半分は図における
断熱板１６の方向に発せられる。
そこで前記断熱板を熱反射率の高い材料にて構成すれば
、更に速熱性、熱効率の良い加熱装置が実現出来る。
、更に速熱性、熱効率の良い加熱装置が実現出来る。
発明の効果
以上のように本発明の高周波加熱装置は、金属基板上の
ホーロ層に金属発熱体を埋設した面状発熱体の金属基板
と加熱室壁は前記ホーロ層にて電気的に絶縁が確保され
ているものであり、このことにより生ずる特有の効果は
、 （１）面状ヒータを焦げ目付機能いわゆるグリル機能を
持たせる為に高温化させた時、埋設した金属発熱体と金
属基板との間のホーロ層が熱により絶縁劣化し金属基板
が充電部と化しても、面状ヒーターの保持部では、面状
ヒーターの一部を構成するホーロ層は絶縁が確保出来る
温度域にあるので、金属基板と加熱室壁すなわち装置本
体との電気絶縁は確保されているので安全である。この
ような構成にすることで、加熱室内に凸起物がない土、
表面が滑らかで光沢のあるホーロ層を有する加熱室壁で
あるから、掃除の都度ヒーターを外す必要もなく簡単に
かつ従来よりもきれいに保つことが出来る。もちろん、
必要に応じて油汚れを、水と炭酸ガスに分解する触媒機
能を持ったセルフ・クリーニングホーロ層も表面に形成
することもできる。
ホーロ層に金属発熱体を埋設した面状発熱体の金属基板
と加熱室壁は前記ホーロ層にて電気的に絶縁が確保され
ているものであり、このことにより生ずる特有の効果は
、 （１）面状ヒータを焦げ目付機能いわゆるグリル機能を
持たせる為に高温化させた時、埋設した金属発熱体と金
属基板との間のホーロ層が熱により絶縁劣化し金属基板
が充電部と化しても、面状ヒーターの保持部では、面状
ヒーターの一部を構成するホーロ層は絶縁が確保出来る
温度域にあるので、金属基板と加熱室壁すなわち装置本
体との電気絶縁は確保されているので安全である。この
ような構成にすることで、加熱室内に凸起物がない土、
表面が滑らかで光沢のあるホーロ層を有する加熱室壁で
あるから、掃除の都度ヒーターを外す必要もなく簡単に
かつ従来よりもきれいに保つことが出来る。もちろん、
必要に応じて油汚れを、水と炭酸ガスに分解する触媒機
能を持ったセルフ・クリーニングホーロ層も表面に形成
することもできる。
（匈 面状ヒータを採用することによシ、シーズヒータ
ーの場合、ヒーターを含む平面の熱分布は均一に出来な
いのに対して、細かく広い熱分布も任意に得られるので
、焦げにくかった角の部分も改善され均−加熱性に優れ
、金属基板とのホーロ層に金属薄帯などから成る発熱体
を埋設しているだけなので熱容量が小さく早熟性に優れ
、又、コスト面でも、従来はステンレス等の加熱室壁に
複雑なチゴーク購造を設け、シーズヒータを設置してい
たのに対して、安価な鉄板を基板とする面状ヒーターを
前者にも必要である断熱板と加熱室壁にてはさみ込むだ
けで構成出来るので大きなメリットが生み出せる。均−
加熱性に優れているので、ヒーター面と食品との距離を
小さくする事が出来実質的に加熱室の有効寸法を大きく
する事、いい換えれば加熱室のコンパクト化が実現出来
る。
ーの場合、ヒーターを含む平面の熱分布は均一に出来な
いのに対して、細かく広い熱分布も任意に得られるので
、焦げにくかった角の部分も改善され均−加熱性に優れ
、金属基板とのホーロ層に金属薄帯などから成る発熱体
を埋設しているだけなので熱容量が小さく早熟性に優れ
、又、コスト面でも、従来はステンレス等の加熱室壁に
複雑なチゴーク購造を設け、シーズヒータを設置してい
たのに対して、安価な鉄板を基板とする面状ヒーターを
前者にも必要である断熱板と加熱室壁にてはさみ込むだ
けで構成出来るので大きなメリットが生み出せる。均−
加熱性に優れているので、ヒーター面と食品との距離を
小さくする事が出来実質的に加熱室の有効寸法を大きく
する事、いい換えれば加熱室のコンパクト化が実現出来
る。
（３）面状ヒータの段部及び端面と、周囲の加熱室壁及
び断熱板とは、発熱体通電時、高温化と共に面状ヒータ
が熱膨張しても、端面及び段部は寸法変化で位置規制さ
れることはなく、面状ヒータが突張ることなく自由に伸
縮出来るので、ホーロ層、 に無理がかかシにくくハ
クリ、割れの心配がない。
び断熱板とは、発熱体通電時、高温化と共に面状ヒータ
が熱膨張しても、端面及び段部は寸法変化で位置規制さ
れることはなく、面状ヒータが突張ることなく自由に伸
縮出来るので、ホーロ層、 に無理がかかシにくくハ
クリ、割れの心配がない。
又、面状ヒータは周囲をはさみ込むだけで取付けられて
いるので、溶接の為に金属基板素地を露出させる為の焼
成時のマスキングも不要であり手間が要らない。ホーロ
層の絶縁性確保、ピンホール対策などで２重、３重にホ
ーロ層を形成しなくてａ％Ｉ、ｌｙ層温春糾 卆め部廖
マスシンゲ卆１ｈごてはならないので、品質・コスト面
で有利である。
いるので、溶接の為に金属基板素地を露出させる為の焼
成時のマスキングも不要であり手間が要らない。ホーロ
層の絶縁性確保、ピンホール対策などで２重、３重にホ
ーロ層を形成しなくてａ％Ｉ、ｌｙ層温春糾 卆め部廖
マスシンゲ卆１ｈごてはならないので、品質・コスト面
で有利である。
鴎 高周波のシールに複雑かつ高価なチッーク構造を設
けなくてもその効果は十分であり、取付板兼断熱板を着
脱自在な構成にすれば、万一の故障の場合でもヒータユ
ニットのみを交換出来るので、加熱室全体を交換しなく
ても済むので保守性に優れている。
けなくてもその効果は十分であり、取付板兼断熱板を着
脱自在な構成にすれば、万一の故障の場合でもヒータユ
ニットのみを交換出来るので、加熱室全体を交換しなく
ても済むので保守性に優れている。
など数々の特長を持つ極めて実用価値の高いものである
。
。
第１図及び第４図は、それぞれ本発明の一実施例による
高周波加熱装置の加熱室壁の部分断面図、第２図は、同
面状ヒーターの開成断面図、第３図は同面状ヒータの絶
縁抵抗一温度特性図、第６図は同面状ヒータの外観斜視
図、第６図は、加熱室壁への面状ヒータ配設の一実施例
、第７図及び第８図は、それぞれ従来の高周波加熱装置
の全体断面構成図である。 １・・・・・・加熱室、２６・・・・・・高周波発生装
置、４．６・・・・・・電熱加熱装置、１９・・・・・
・金属基板、２０・・・・・・ホーロ層、１６・・・・
・・金属発熱体、１４・・・・・・面状発熱体、１８・
・・・・・絶縁空間、１５・・・・・・断熱板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ／、５−−−１！牛然扱 第２図 １６−発熱体 １９−−−全４甚」反 ２０−−−ホーロノー 第３図 Ｑ ｆＱＱ ’１００
３００ ４００温涜じＣ〕 第４図 第５図 第６図 １６（Ｌ 第７図 （ａ−）
高周波加熱装置の加熱室壁の部分断面図、第２図は、同
面状ヒーターの開成断面図、第３図は同面状ヒータの絶
縁抵抗一温度特性図、第６図は同面状ヒータの外観斜視
図、第６図は、加熱室壁への面状ヒータ配設の一実施例
、第７図及び第８図は、それぞれ従来の高周波加熱装置
の全体断面構成図である。 １・・・・・・加熱室、２６・・・・・・高周波発生装
置、４．６・・・・・・電熱加熱装置、１９・・・・・
・金属基板、２０・・・・・・ホーロ層、１６・・・・
・・金属発熱体、１４・・・・・・面状発熱体、１８・
・・・・・絶縁空間、１５・・・・・・断熱板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ／、５−−−１！牛然扱 第２図 １６−発熱体 １９−−−全４甚」反 ２０−−−ホーロノー 第３図 Ｑ ｆＱＱ ’１００
３００ ４００温涜じＣ〕 第４図 第５図 第６図 １６（Ｌ 第７図 （ａ−）
Claims (4)
- （１）本体内に食品を収納して加熱する加熱室と前記加
熱室に高周波を放射する高周波発生装置と前記加熱室内
の温度を上昇させる電熱加熱装置とを備え、前記電熱加
熱装置の少なくとも一つは金属基板上のホーロ層に発熱
体を埋設した面状発熱体であり、前記面状発熱体の金属
基板は加熱室壁に、前記ホーロ層を介して支持される構
成とした高周波加熱装置。 - （２）面状発熱体の周縁部は、加熱室壁および加熱室壁
に機械的に取付けられた断熱板とによって略全周を挾ま
れる構成とした特許請求の範囲第１項記載の高周波加熱
装置。 - （３）断熱板は、加熱室壁よりも熱エネルギーの反射効
率の高い材質で構成した特許請求の範囲第１項記載の高
周波加熱装置。 - （４）面状発熱体の端面と加熱室壁とは、絶縁空間を有
する構成とした特許請求の範囲第１項記載の高周波加熱
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28027684A JPS61153414A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28027684A JPS61153414A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61153414A true JPS61153414A (ja) | 1986-07-12 |
Family
ID=17622730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28027684A Pending JPS61153414A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61153414A (ja) |
-
1984
- 1984-12-27 JP JP28027684A patent/JPS61153414A/ja active Pending
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