JPS61151203A - スチレン系重合体への前駆物質の製造法 - Google Patents
スチレン系重合体への前駆物質の製造法Info
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- JPS61151203A JPS61151203A JP59273120A JP27312084A JPS61151203A JP S61151203 A JPS61151203 A JP S61151203A JP 59273120 A JP59273120 A JP 59273120A JP 27312084 A JP27312084 A JP 27312084A JP S61151203 A JPS61151203 A JP S61151203A
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- Japan
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- polymer
- precursor
- methylstyrene
- substituent
- organolithium compound
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、スチレン系重合体への前駆物質への製造法に
関し、よシ詳しくは、置換基を有するP−メチルスチレ
ン重合体への前駆物質の製造法に関する。
関し、よシ詳しくは、置換基を有するP−メチルスチレ
ン重合体への前駆物質の製造法に関する。
置換基、特に官能基を有するスチレン系重合体は、機能
性高分子として有用である。従来、官能基を有するスチ
レン系重合体は、スチレン類を官能基を有する不飽和モ
ノマーと共重合する方法、スチレン系重合体を官能基を
有する飽和化合物や不協和化合物と反応させる方法等に
よって多く製造されている。例えば、スチレン系重合体
をハロメチルエーテル等と反応させ、スチレン系重合体
の芳香環にハロメチル基を導入し、更にこれを他の官能
基を有する化合物と反応させて、目的の官能基を導入す
る方法等が高分子イオン、高分子キレート材料等の製造
に採用されている□。
性高分子として有用である。従来、官能基を有するスチ
レン系重合体は、スチレン類を官能基を有する不飽和モ
ノマーと共重合する方法、スチレン系重合体を官能基を
有する飽和化合物や不協和化合物と反応させる方法等に
よって多く製造されている。例えば、スチレン系重合体
をハロメチルエーテル等と反応させ、スチレン系重合体
の芳香環にハロメチル基を導入し、更にこれを他の官能
基を有する化合物と反応させて、目的の官能基を導入す
る方法等が高分子イオン、高分子キレート材料等の製造
に採用されている□。
しかし、これらの方法は、スチレン系重合体に官能基を
付与する目的においては有効であるが、官能基を、スチ
レン系重合体の芳香環の特定の位置に、選択的に導入す
るには困難があり、又付与できる官能基の種類にも制限
がある。
付与する目的においては有効であるが、官能基を、スチ
レン系重合体の芳香環の特定の位置に、選択的に導入す
るには困難があり、又付与できる官能基の種類にも制限
がある。
架橋ポリスチレンをn−ブチルリチウムによジリチオ化
し、次いで、種々の試薬を反応させて、芳香環に置換基
を導入する方法が知られている(ジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー、41巻、24号、5877
頁、 (1976))が、リチオ化は芳香環のメタ位と
パラ位の両方に起り、その比m−″/P−は2/1であ
ると記載されているが、この場合、反応は加熱を必要と
し、リチオ化の効富も23X程度迄しか進行しない。
し、次いで、種々の試薬を反応させて、芳香環に置換基
を導入する方法が知られている(ジャーナル・オブ・オ
ーガニック・ケミストリー、41巻、24号、5877
頁、 (1976))が、リチオ化は芳香環のメタ位と
パラ位の両方に起り、その比m−″/P−は2/1であ
ると記載されているが、この場合、反応は加熱を必要と
し、リチオ化の効富も23X程度迄しか進行しない。
又、同報文には、架橋ポリスチレンをタリウム(II)
塩の存在下、臭素化した後、上記と同様にしてn−ブチ
ルリチウムと反応させ、次いで、上記と同様にして試薬
を反応させて、芳香環のパラ位に置換基を導入する方法
が記載されている。
塩の存在下、臭素化した後、上記と同様にしてn−ブチ
ルリチウムと反応させ、次いで、上記と同様にして試薬
を反応させて、芳香環のパラ位に置換基を導入する方法
が記載されている。
このように、従来の方法では、ポリスチレンの芳香環の
特定の位置、特にパラ位に置換基を選択的にしかも効率
よく導入するととは難しく、又複雑な工程を必要とした
。
特定の位置、特にパラ位に置換基を選択的にしかも効率
よく導入するととは難しく、又複雑な工程を必要とした
。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、芳香環のパラ位に置換基を有するスチレン系
重合体に誘導するための前駆物質を容易に提供すること
を目的とする。
重合体に誘導するための前駆物質を容易に提供すること
を目的とする。
本発明者らは、P−メチルスチレン重合体に有機リチウ
ム化合物を反応させると、選択的にパラ位のメチル基が
リチオ化された、置換基を有するスチレン系重合体への
前駆物質が得られることを見出して本発明を完成した。
ム化合物を反応させると、選択的にパラ位のメチル基が
リチオ化された、置換基を有するスチレン系重合体への
前駆物質が得られることを見出して本発明を完成した。
すなわち、本発明の要旨は、P−メチルスチレン骨核の
繰り返し単位を持つP−メチルスチレン重合体を、有機
リチウム化合物と反応せしめることからなるスチレン系
重合体、特に下記一般式で表わされる繰り返し単位を持
つスチレン系重合体への前駆物質の製造法にある。
繰り返し単位を持つP−メチルスチレン重合体を、有機
リチウム化合物と反応せしめることからなるスチレン系
重合体、特に下記一般式で表わされる繰り返し単位を持
つスチレン系重合体への前駆物質の製造法にある。
〔但し、2は置換基を示す。〕
本発明で用いられるP−メチルスチレン重合体は、P−
メチルスチレン(以下、 PMSという。)骨核の繰り
返し単位を持つ重合体であシ、代表的にはポリPMS
である。
メチルスチレン(以下、 PMSという。)骨核の繰り
返し単位を持つ重合体であシ、代表的にはポリPMS
である。
ポリ FMSは、PMS又はPM8含有量95%以上、
望ましくは97%以上のメチルスチレン混合物を、ベン
ゼン、トルエン等の不活性炭化水素溶媒中で行う溶液重
合、リン酸カルシウム、ポリビニルアルコール、ヒドロ
キシエチルセルローズ等の沈澱防止剤を含む溶液中で行
う懸濁重合、適当な界面活性剤を添加した水性媒体中で
行う乳化重合等の方法で重合することによって得られる
。重合は、フリーラジカル型1、アニオン型或いはカチ
オン型の重合触媒の存在下で行ってもよく、又熱的重合
で行ってもよい。本発明においては、重量平均分子量が
数千〜数百万のものが使用できる。これらボIJ FM
S は架橋したものも使用し得る。
望ましくは97%以上のメチルスチレン混合物を、ベン
ゼン、トルエン等の不活性炭化水素溶媒中で行う溶液重
合、リン酸カルシウム、ポリビニルアルコール、ヒドロ
キシエチルセルローズ等の沈澱防止剤を含む溶液中で行
う懸濁重合、適当な界面活性剤を添加した水性媒体中で
行う乳化重合等の方法で重合することによって得られる
。重合は、フリーラジカル型1、アニオン型或いはカチ
オン型の重合触媒の存在下で行ってもよく、又熱的重合
で行ってもよい。本発明においては、重量平均分子量が
数千〜数百万のものが使用できる。これらボIJ FM
S は架橋したものも使用し得る。
又、本発明においては、ポリPM8 の他に、2M8
トオレフイン類、スチレン、シロキサン等の本発明で
用いられる有機リチウム化合物に対して不活性なモノマ
ーとのランダム或いはブロック共重合体も使用し得る。
トオレフイン類、スチレン、シロキサン等の本発明で
用いられる有機リチウム化合物に対して不活性なモノマ
ーとのランダム或いはブロック共重合体も使用し得る。
有機り、チウム化、合−物
有機リチウム化合物は、一般式RLIで表わされる。具
体的には、Rが炭素数1〜12個のアルキル基の・化合
物が挙げられ、代表的な化合物としては、メチルリチウ
ム、エチルリチウムn−ブチルリチウム、 5ea−ブ
チルリチウム。
体的には、Rが炭素数1〜12個のアルキル基の・化合
物が挙げられ、代表的な化合物としては、メチルリチウ
ム、エチルリチウムn−ブチルリチウム、 5ea−ブ
チルリチウム。
tert−ブチルリチウム、n−ペンチルリチウム。
tart−ペンチルリチウム、ヘキシリリチウム。
オクチルリチウム、ドデシルリチウム等であるが、特に
ブチルリチウムが望ましい。
ブチルリチウムが望ましい。
2M8 !合体と有mIJチウム化合物との反応は、有
mIJチウム化合物に対して不活性な溶媒中で行うこと
ができる。用い得る溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン
、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、シフチルx
−f ル。
mIJチウム化合物に対して不活性な溶媒中で行うこと
ができる。用い得る溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン
、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、シフチルx
−f ル。
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類が挙げ
られる。反応は、これらの溶媒にpMs重合体を溶解若
しくは溶媒で膨潤させ、有機リチウム化合物を作用させ
る。この際、有機リチラム化合物の反応性を高めるよう
な成分、例えばアミン類を用いることができる。用い得
るアミンとしては、N、N、N’、N’−テトラメチル
エチレンジアミンが望ましい。
られる。反応は、これらの溶媒にpMs重合体を溶解若
しくは溶媒で膨潤させ、有機リチウム化合物を作用させ
る。この際、有機リチラム化合物の反応性を高めるよう
な成分、例えばアミン類を用いることができる。用い得
るアミンとしては、N、N、N’、N’−テトラメチル
エチレンジアミンが望ましい。
反応温度は、−70℃から各溶媒の沸点温度迄自由に設
定することができるが、高いリチオ化率を効率よく達成
するためには、室温以上の温度が望ましい。又、有機リ
チウム化合物の使用量は、存在するパラメチルスチレン
骨核単位に対し任意に設定することができ、リチオ化率
を任意に調節できる。アミン類は有機リチウム化合物と
当量用いればよいが、過剰量用いてもよい。反応時間は
、反応温度によっても真上るが、通常α1〜100時間
であり、反応時間を長くすることによって、リチオ化率
を高めることができる。
定することができるが、高いリチオ化率を効率よく達成
するためには、室温以上の温度が望ましい。又、有機リ
チウム化合物の使用量は、存在するパラメチルスチレン
骨核単位に対し任意に設定することができ、リチオ化率
を任意に調節できる。アミン類は有機リチウム化合物と
当量用いればよいが、過剰量用いてもよい。反応時間は
、反応温度によっても真上るが、通常α1〜100時間
であり、反応時間を長くすることによって、リチオ化率
を高めることができる。
このようにして、調製された本発明に係る前駆物質であ
るリチオ化P M ’8 重合体は、反応性が高く、
空気中の水分とも反応してし、まうため、単一して、直
接生成していることの確認は困難であるが、リチオ化物
の生成を確認する方法としてよく知られている、二酸化
炭素、トリメチルクロロシラン等との反応によりその生
成は確認できる。
るリチオ化P M ’8 重合体は、反応性が高く、
空気中の水分とも反応してし、まうため、単一して、直
接生成していることの確認は困難であるが、リチオ化物
の生成を確認する方法としてよく知られている、二酸化
炭素、トリメチルクロロシラン等との反応によりその生
成は確認できる。
上記の方法によシ、前記一般式で示されるパラ位に置換
基を有するスチレン系重合体への前駆物質とすることが
できる。この前駆物質は、種々の試薬と反応させること
によシ、容易に該スチレン系重合体にすることができる
。
基を有するスチレン系重合体への前駆物質とすることが
できる。この前駆物質は、種々の試薬と反応させること
によシ、容易に該スチレン系重合体にすることができる
。
前記一般式において、2は置換基を示す。具体的には水
素原子、炭化水素基、カルボニル基を含む置換基、水酸
基を含む置換基、イオウ。
素原子、炭化水素基、カルボニル基を含む置換基、水酸
基を含む置換基、イオウ。
リン若しくは珪−素を含む置換基を示す。よシ詳しくは
、炭素数1〜20個のアルキル、アルケニル、シクロア
ルキル、アリール、アルアルキル等の炭化水素基a ”
−000H* −OHO# −00Re−0,QN)(
R等のカルボニル基を含む置換基(但し、Rは上記の炭
化水素基と同じ)、−0(R”) (R”)OHe−O
Hz OH(OH) R等の水酸基を含む置換基(但し
、R’、 R,!、 Rは前記の炭化水素基と同じでR
1、Hzは同じでも異ってもよい。)、−B (OH)
1等のホウ素を含む置換基、−8H,−8R,−som
a等のイオウを含む置換基(但し、Rは前記の炭化水素
基と同じ)、−PR1%のリンを含む置換基(但し、R
は前記の炭化水素基と同じ)、 −81R。
、炭素数1〜20個のアルキル、アルケニル、シクロア
ルキル、アリール、アルアルキル等の炭化水素基a ”
−000H* −OHO# −00Re−0,QN)(
R等のカルボニル基を含む置換基(但し、Rは上記の炭
化水素基と同じ)、−0(R”) (R”)OHe−O
Hz OH(OH) R等の水酸基を含む置換基(但し
、R’、 R,!、 Rは前記の炭化水素基と同じでR
1、Hzは同じでも異ってもよい。)、−B (OH)
1等のホウ素を含む置換基、−8H,−8R,−som
a等のイオウを含む置換基(但し、Rは前記の炭化水素
基と同じ)、−PR1%のリンを含む置換基(但し、R
は前記の炭化水素基と同じ)、 −81R。
、−8iR,¥等の珪素を含む置換基(但し、Rは前記
の炭化水素基と同じ、Xはハロゲン原子を示す)等が挙
げられる。
の炭化水素基と同じ、Xはハロゲン原子を示す)等が挙
げられる。
上記の置換基を有するスチレン系重合体は、本発明の方
法で得られた前駆体に下記の脱リチウム試薬を反応させ
ることにより製造することができる。
法で得られた前駆体に下記の脱リチウム試薬を反応させ
ることにより製造することができる。
すなわち、置換基が水素原子の場合:H,O。
炭化水素基の場合;RX(但し、Xはハロゲン原子)、
−cooaの場合; C0! 、次いでプロトンを与え
るもの(例えば、水、酸、アルプール)、−cHoの場
合; R,N0HO’ (但し、Rは低級アルキル基)
、−CORの場合; RON 、−0ONHRO場−B
(oH)、の場合; B(oR)、、次いでプロ″ト
ンを与えるもの(但し、Rは前記と同じ炭化水素基)、
−8Hの場合:イオウ(S廖)、−8Rの場合; RB
8R,−8o、E(の場合;sQ、とHOli −PR
。
−cooaの場合; C0! 、次いでプロトンを与え
るもの(例えば、水、酸、アルプール)、−cHoの場
合; R,N0HO’ (但し、Rは低級アルキル基)
、−CORの場合; RON 、−0ONHRO場−B
(oH)、の場合; B(oR)、、次いでプロ″ト
ンを与えるもの(但し、Rは前記と同じ炭化水素基)、
−8Hの場合:イオウ(S廖)、−8Rの場合; RB
8R,−8o、E(の場合;sQ、とHOli −PR
。
の場合; R,POt、 −8IR,C7)場合: R
,SiX (但し、又はハロゲン原子)、−8IR,X
ノ場合: R,8iX。
,SiX (但し、又はハロゲン原子)、−8IR,X
ノ場合: R,8iX。
である。
該前駆物質と前記の脱リチウム試薬との反応は、不活性
媒体の存在下又は不存在下に、両者を接触させる仁とに
よってなされる。不活性媒体としては、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプ・タン。
媒体の存在下又は不存在下に、両者を接触させる仁とに
よってなされる。不活性媒体としては、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプ・タン。
オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等が
使用し得る。
レン等の炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等が
使用し得る。
該前駆物質と前記の脱リチウム試薬との反応条件は、用
いる試薬、更には媒体の種類により変化し、−概に特定
することができないが、通常−70℃〜+150℃の反
応温度、1〜10・0時間の反応温度が採用される。又
、置換基の付4率は、反応条件を任意に選択することに
より適宜調節することができる。
いる試薬、更には媒体の種類により変化し、−概に特定
することができないが、通常−70℃〜+150℃の反
応温度、1〜10・0時間の反応温度が採用される。又
、置換基の付4率は、反応条件を任意に選択することに
より適宜調節することができる。
発明の効果
本発明の方法を採用することによシ、前記一般式で示さ
れるパラ位に置換基を持つスチレン系重合体への前駆物
質或いは中間体を選択的に製造することができ、これら
スチレン系重合体は、特に官能基を持つ場合、機能性高
分子として有用である。
れるパラ位に置換基を持つスチレン系重合体への前駆物
質或いは中間体を選択的に製造することができ、これら
スチレン系重合体は、特に官能基を持つ場合、機能性高
分子として有用である。
実施例
以下、本発明を実施例によシ詳細に説明する。
なお、生成物の同定は下記の機器にて行った。
工R:日本分光社A−3型赤外分光光度計を用い、フィ
ルム法又はKBr法で測 定 1HNMR:試料をCD013の20重量%溶液とし、
Var i an 社製KMB60A型(60MHz)
で測定。測定条件;20℃ 110 NMR:試料をCD0L、O20重量%溶液と
し、Varlan 社製XL−200型、フーリエ変換
型NMRスペクトルメーターで測 定。測定条件;温度60℃、60°パ ルス、パルス間隔30秒、積算900 回 実施例1 窒素置換したフラスコに、My 260,000のポリ
PMS (PPM8) 1.0 g (パラメチルス
チレン骨格単位として、枚5ユニットミリモル)とシク
ロヘキサン20−を入れ、攪拌し溶液とした。
ルム法又はKBr法で測 定 1HNMR:試料をCD013の20重量%溶液とし、
Var i an 社製KMB60A型(60MHz)
で測定。測定条件;20℃ 110 NMR:試料をCD0L、O20重量%溶液と
し、Varlan 社製XL−200型、フーリエ変換
型NMRスペクトルメーターで測 定。測定条件;温度60℃、60°パ ルス、パルス間隔30秒、積算900 回 実施例1 窒素置換したフラスコに、My 260,000のポリ
PMS (PPM8) 1.0 g (パラメチルス
チレン骨格単位として、枚5ユニットミリモル)とシク
ロヘキサン20−を入れ、攪拌し溶液とした。
との溶液に、n−ブチルリチウムの1.5Mヘキサン溶
液5.771/ (FL 5ミリモル)とテトラメチル
エチレンジアミ/ (’I’MKDA ) 1.3d
(a7ミリモル)の混合液を加え、室温で200時間反
応せたところ本発明に係る前駆物質である析出物が認め
られた。上澄液を除去し、テトラヒドロフラン(THF
)20dを加えて析出物を溶解した。この溶液に二酸化
炭素ガスを吹き込み、5分間反応させた後、反応溶液を
1ON塩酸水溶液で洗浄し、更にメタノール中に滴下し
て沈澱物を生成せしめた。この沈澱物を80℃で真空乾
燥した後、工R測定したところカルボキシル基の存在が
確認された。〔工R吸収スペクトル: S、600−2
,800cIR−” (−OR)、1,750a+−”
(’0=O)) 実施例2〜6 窒素置換したフラスコ中に、 PPM81. Ojl
とシクロヘキサン20−を入れ、攪拌し溶液とした。こ
れに第1表に示すn−ブチルリチウムとTMInDA
の等モル混合溶液を加え、室温で200時間反応せた
。本発明に係る前駆物質である析出物を含む反応液に、
(CHs)1810tを、用いたn−ブチルリチウムの
2倍モル量加え、1時間反応させた。この反応液を、1
0X塩酸水溶液で洗浄した後、メタノール中に滴下して
、沈澱を析出せしめた。得られた沈澱を80℃で真空乾
燥した後、工R、NMR分析を行った。IR分析から(
OHs)ssl−基の存在を確認し IHlllMR分
析による積分比から(CHs)ssl−基の導入率を算
出した(第1表)。又、IIONMR分析から構造骨核
を確認した。
液5.771/ (FL 5ミリモル)とテトラメチル
エチレンジアミ/ (’I’MKDA ) 1.3d
(a7ミリモル)の混合液を加え、室温で200時間反
応せたところ本発明に係る前駆物質である析出物が認め
られた。上澄液を除去し、テトラヒドロフラン(THF
)20dを加えて析出物を溶解した。この溶液に二酸化
炭素ガスを吹き込み、5分間反応させた後、反応溶液を
1ON塩酸水溶液で洗浄し、更にメタノール中に滴下し
て沈澱物を生成せしめた。この沈澱物を80℃で真空乾
燥した後、工R測定したところカルボキシル基の存在が
確認された。〔工R吸収スペクトル: S、600−2
,800cIR−” (−OR)、1,750a+−”
(’0=O)) 実施例2〜6 窒素置換したフラスコ中に、 PPM81. Ojl
とシクロヘキサン20−を入れ、攪拌し溶液とした。こ
れに第1表に示すn−ブチルリチウムとTMInDA
の等モル混合溶液を加え、室温で200時間反応せた
。本発明に係る前駆物質である析出物を含む反応液に、
(CHs)1810tを、用いたn−ブチルリチウムの
2倍モル量加え、1時間反応させた。この反応液を、1
0X塩酸水溶液で洗浄した後、メタノール中に滴下して
、沈澱を析出せしめた。得られた沈澱を80℃で真空乾
燥した後、工R、NMR分析を行った。IR分析から(
OHs)ssl−基の存在を確認し IHlllMR分
析による積分比から(CHs)ssl−基の導入率を算
出した(第1表)。又、IIONMR分析から構造骨核
を確認した。
工R: 1.2 5 0cm−11,850tYn−
1((OHm)mEIl−’)xHnMR(:δ(1)
pm) ) : 7.02〜6.10 (芳香*
>、−αos(−st−cHs) 錦ONMR: cH。
1((OHm)mEIl−’)xHnMR(:δ(1)
pm) ) : 7.02〜6.10 (芳香*
>、−αos(−st−cHs) 錦ONMR: cH。
!0
1 4112 B 127.51
15 156.902 4193〜
42.68 9 2α90 16
12&395 142.57 10
4α12 17 127.514 127
.51 11 4495〜42.68
18 26.40第 1 表 2 a5 2−1 2.1 14.03# 4,2
4.2 3五5 4 # 6.S &3 36y15 # 1
5 a5 4(11 1、# 25,4 25.4 47.2反応時間を第
2表の通シにした以外は、実施例5と同様にしてPPM
Sとn−ブチルリチウム及びTMEDA を反応させて
本発明に係る前駆物質である析出物を得た。次いで、実
施例2〜6と同様にして(aH,)ssiczと反応さ
せ、その結果を第2表に示した。
15 156.902 4193〜
42.68 9 2α90 16
12&395 142.57 10
4α12 17 127.514 127
.51 11 4495〜42.68
18 26.40第 1 表 2 a5 2−1 2.1 14.03# 4,2
4.2 3五5 4 # 6.S &3 36y15 # 1
5 a5 4(11 1、# 25,4 25.4 47.2反応時間を第
2表の通シにした以外は、実施例5と同様にしてPPM
Sとn−ブチルリチウム及びTMEDA を反応させて
本発明に係る前駆物質である析出物を得た。次いで、実
施例2〜6と同様にして(aH,)ssiczと反応さ
せ、その結果を第2表に示した。
第2表
7 [L5 6.1
8 1、0 9.6
9 2.0 14,
610 5.0 ’30
.211 7.5 3
3.512 15
38.65 20 4
0、115 25 4
1.5実施例5と同様にして、 PPMSとn−ブチル
リチウム及びTMEDAを反応させて、本発明に係る前
駆物質士ある析出物を得た。次いで、アリルジメチルク
ロロシラン1α0ミリモルを用いて、1時間反応せしめ
、実施例2〜6と同様にして析出物を回収し、IHNM
R分析した結果、アリルジメチルシリル基の存在が確認
され、その積分比からアリルジメチルシリル基の導入率
は4五9ユニットモル%であった。
8 1、0 9.6
9 2.0 14,
610 5.0 ’30
.211 7.5 3
3.512 15
38.65 20 4
0、115 25 4
1.5実施例5と同様にして、 PPMSとn−ブチル
リチウム及びTMEDAを反応させて、本発明に係る前
駆物質士ある析出物を得た。次いで、アリルジメチルク
ロロシラン1α0ミリモルを用いて、1時間反応せしめ
、実施例2〜6と同様にして析出物を回収し、IHNM
R分析した結果、アリルジメチルシリル基の存在が確認
され、その積分比からアリルジメチルシリル基の導入率
は4五9ユニットモル%であった。
Claims (1)
- P−メチルスチレン骨核の繰り返し単位を持つP−メチ
ルスチレン重合体を、有機リチウム化合物と反応せしめ
ることからなるスチレン系重合体への前駆物質の製造法
。
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
JP59273120A JPS61151203A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | スチレン系重合体への前駆物質の製造法 |
EP85309383A EP0189672B1 (en) | 1984-12-26 | 1985-12-20 | Process for producing a modified styrene polymer |
DE8585309383T DE3587040T2 (de) | 1984-12-26 | 1985-12-20 | Verfahren zur herstellung von modifizierten styrolpolymerisaten. |
CA000498516A CA1313723C (en) | 1984-12-26 | 1985-12-23 | Process for producing a modified styrene polymer |
AU51668/85A AU598451B2 (en) | 1984-12-26 | 1985-12-24 | Process for producing precursor for styrene polymer |
US07/288,981 US4912170A (en) | 1984-12-26 | 1988-12-22 | Process for producing a modified styrene polymer |
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---|---|---|---|
JP59273120A JPS61151203A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | スチレン系重合体への前駆物質の製造法 |
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JPH0579089B2 JPH0579089B2 (ja) | 1993-11-01 |
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- 1984-12-26 JP JP59273120A patent/JPS61151203A/ja active Granted
-
1985
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- 1985-12-20 DE DE8585309383T patent/DE3587040T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-12-23 CA CA000498516A patent/CA1313723C/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-12-24 AU AU51668/85A patent/AU598451B2/en not_active Ceased
-
1988
- 1988-12-22 US US07/288,981 patent/US4912170A/en not_active Expired - Fee Related
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