JPS6115102A - 塩化カリウム用反射防止膜 - Google Patents
塩化カリウム用反射防止膜Info
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- JPS6115102A JPS6115102A JP59135312A JP13531284A JPS6115102A JP S6115102 A JPS6115102 A JP S6115102A JP 59135312 A JP59135312 A JP 59135312A JP 13531284 A JP13531284 A JP 13531284A JP S6115102 A JPS6115102 A JP S6115102A
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- potassium chloride
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は炭酸ガスレーサをはじめとする赤外光学機器（
（使用される光学部品（ウィンドウ、レンウム用の反射
防止膜に関するものである。
（使用される光学部品（ウィンドウ、レンウム用の反射
防止膜に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来、大パワーの炭酸ガスレーザ用の窓、レンズ、ビー
ムスブリ、夕等の透明光学部品の基板Ｈ料としては、Ｚ
ｎ５ｅ ＋ ＧａＡｓ等が挙げられる３、Ｚｎ５ｅにあ
、ては波長１０．６μｍと０．６３２８７１ｍ にお
いて透明であυ耐水性に優れかつ大型の結晶が得られる
という利点の反面、欠点としては、高４ｔｌｉであり、
大パワー照射により生ずる光学歪が人きく、又結晶育成
時に有毒なＲ２Ｓｅガスを使ったり、結晶表面研麿加工
工程において有毒な七ン／糸カスているという利点の反
面直径約８ｃｒｎ以上の犬べさのものが入手出来ない、
可視光重畳用の波長０．６３２８μｍのＨｅ −Ｎ ｅ
レーザ光を透過しないこと、高価であること、光学歪が
大きい事、さらにはヒ素（Ａｓ ）という有、害元素を
その構成要素に含むため、育成、加工時の安全対策が必
要であるという多くの欠点を有している。
ムスブリ、夕等の透明光学部品の基板Ｈ料としては、Ｚ
ｎ５ｅ ＋ ＧａＡｓ等が挙げられる３、Ｚｎ５ｅにあ
、ては波長１０．６μｍと０．６３２８７１ｍ にお
いて透明であυ耐水性に優れかつ大型の結晶が得られる
という利点の反面、欠点としては、高４ｔｌｉであり、
大パワー照射により生ずる光学歪が人きく、又結晶育成
時に有毒なＲ２Ｓｅガスを使ったり、結晶表面研麿加工
工程において有毒な七ン／糸カスているという利点の反
面直径約８ｃｒｎ以上の犬べさのものが入手出来ない、
可視光重畳用の波長０．６３２８μｍのＨｅ −Ｎ ｅ
レーザ光を透過しないこと、高価であること、光学歪が
大きい事、さらにはヒ素（Ａｓ ）という有、害元素を
その構成要素に含むため、育成、加工時の安全対策が必
要であるという多くの欠点を有している。
一方、波長１０６μｍ 、 ０．６３２８μｍにおいて
透明で、光学歪が小さく、毒性がなく、安価であるとい
う多くの利点を持つＫＣｌが実用透明光学部品の基板と
して使用されない最大の理由は潮解性があり水に溶ける
ため、湿度の多い環境での長時間使用に耐えられないと
いうことである。この場合、ＫＣＩの基板の表面に附加
する反射防止膜が反射率が零に近く、波長０．６３２８
μｍに対して透明であるという光学的特性はもちろんの
こと、耐水性をもかねそなえることが出来るならば、Ｋ
Ｃｌの水に対して弱い欠点は克服されるので、上記の多
くの利点を有したＫＣＩの窓、レンズが実現出来る事に
なる。しかし、現在光学特性、耐水性、耐摩耗性を同時
に満足した長寿命な反射防止膜が存在しない状況にある
。
透明で、光学歪が小さく、毒性がなく、安価であるとい
う多くの利点を持つＫＣｌが実用透明光学部品の基板と
して使用されない最大の理由は潮解性があり水に溶ける
ため、湿度の多い環境での長時間使用に耐えられないと
いうことである。この場合、ＫＣＩの基板の表面に附加
する反射防止膜が反射率が零に近く、波長０．６３２８
μｍに対して透明であるという光学的特性はもちろんの
こと、耐水性をもかねそなえることが出来るならば、Ｋ
Ｃｌの水に対して弱い欠点は克服されるので、上記の多
くの利点を有したＫＣＩの窓、レンズが実現出来る事に
なる。しかし、現在光学特性、耐水性、耐摩耗性を同時
に満足した長寿命な反射防止膜が存在しない状況にある
。
ＫＣｌ窓、レンズ用の反射防止膜として最も簡単な構造
のものはＮａＦ単層膜が知られている。。
のものはＮａＦ単層膜が知られている。。
ろ約０．４％、吸収率は約０．３ ％と光学特性上は１
分実用に耐えるものであることが判明したが、温度４５
℃、相対湿度９５％の環境試験において、 ６時間後に
ＮａＦ膜の剥離が明確に観測された３、それ故に耐水性
という点では満足なものではなく実用性が無いと判断せ
ざるを得ない。
分実用に耐えるものであることが判明したが、温度４５
℃、相対湿度９５％の環境試験において、 ６時間後に
ＮａＦ膜の剥離が明確に観測された３、それ故に耐水性
という点では満足なものではなく実用性が無いと判断せ
ざるを得ない。
単層で反射防止膜の条件を満足するものはＮａＦ以外に
は無いので、二層、三層構造の反射防止膜が検討されて
いる。反射防止膜の材料として７１４ Ｊｌ＝しなけれ
ばならない条件としては、水に溶けにくく、波長１０６
μｍ 、 ０．６３２８μｍで透明で、基板との密着性
が良く、さらに薄膜状になりた時にピンホールの出来に
くいアモルファス状態を示す物質が選ばれなければなら
ない。そこで有望な材料として三硫化ヒ素（ＡＳ２Ｓ３
） 、三硫化セレン（Ａ８２Ｓｅ３）を代表とするカル
コゲナイドガラスや四弗化トリウム（ＴｈＦ４）が挙げ
られる。
は無いので、二層、三層構造の反射防止膜が検討されて
いる。反射防止膜の材料として７１４ Ｊｌ＝しなけれ
ばならない条件としては、水に溶けにくく、波長１０６
μｍ 、 ０．６３２８μｍで透明で、基板との密着性
が良く、さらに薄膜状になりた時にピンホールの出来に
くいアモルファス状態を示す物質が選ばれなければなら
ない。そこで有望な材料として三硫化ヒ素（ＡＳ２Ｓ３
） 、三硫化セレン（Ａ８２Ｓｅ３）を代表とするカル
コゲナイドガラスや四弗化トリウム（ＴｈＦ４）が挙げ
られる。
二層反射防止膜の構造については以下の様なものが考え
られる。
られる。
イ） ＫＣ１／ＧＡＴＳ／ＡＳ２Ｓ３−ｆ−、、、ｊ
Ｏ） ＫＣ１ｚＡ３ｚＳａ／ＴｈＦ＜”’：ｙｔ）の構
造のものはいずれもカルコゲナイドガるがＧＡＴＳは波
長０．６３２８μｍ光を透過しないという欠点を有す。
Ｏ） ＫＣ１ｚＡ３ｚＳａ／ＴｈＦ＜”’：ｙｔ）の構
造のものはいずれもカルコゲナイドガるがＧＡＴＳは波
長０．６３２８μｍ光を透過しないという欠点を有す。
口）はいずれもアモルファス状態を示しかつＴｈＦ’
４の機械的強度が強いという利点があるが、ＴｈＦ４は
放射性を持っていて使用しにくくかつ吸収の少ない高純
度の材料を入手する事が困難であるという欠点を有す。
４の機械的強度が強いという利点があるが、ＴｈＦ４は
放射性を持っていて使用しにくくかつ吸収の少ない高純
度の材料を入手する事が困難であるという欠点を有す。
以−トの欠点を解決すべく三層構造の反射防止膜が検討
された。低屈折率物質のＴｈＦ４が使用出来ないので吸
収の小さなＮａＦ 、 ＫＣＩ 、 ＰｂＦｚを使った
以下の様な三層反射防止膜が検討された。
された。低屈折率物質のＴｈＦ４が使用出来ないので吸
収の小さなＮａＦ 、 ＫＣＩ 、 ＰｂＦｚを使った
以下の様な三層反射防止膜が検討された。
イ） ＫＣ■／ＡＳ２Ｓｅ３／ＮａＦ／Ａ３２Ｓｅ３
０） ＫＣＩ／ＡＳ２Ｓ３／’ＫＣＩ／Ａ３２Ｓ３ハ
） ＫＣＩ／Ａ３２Ｓ３／ＰｂＦ２／Ａｓ２５ａこれ
らの共通の利点は三層構造にすることにより、単層構造
、二層構造の反射防止膜より吸収率を小さく出来るため
、大パワー用として使用出来ることにある。
０） ＫＣＩ／ＡＳ２Ｓ３／’ＫＣＩ／Ａ３２Ｓ３ハ
） ＫＣＩ／Ａ３２Ｓ３／ＰｂＦ２／Ａｓ２５ａこれ
らの共通の利点は三層構造にすることにより、単層構造
、二層構造の反射防止膜より吸収率を小さく出来るため
、大パワー用として使用出来ることにある。
これらは、水に弱い欠点を持つＮａＦ 、 ＫＣｌ。
Ｐ ｂ Ｆ２をピンホールの出来にくいＡ Ｓ ２ Ｓ
３ではさみて密着性が良く、かつ湿度に対する保護膜
として作用し、さらにその上に光吸収の少ないＮａＦ
。
３ではさみて密着性が良く、かつ湿度に対する保護膜
として作用し、さらにその上に光吸収の少ないＮａＦ
。
ＫＣＩ 、 ＰｂＦ２ を附加しその欠点である水に弱
い点をさらにＡｓ＋Ｓｅ３やＡ Ｓ ２ Ｓ ３で保護
し、かつ反射イ４零という反射防止膜の条件を満たすと
同時に波長０．６３２８μｍ光にも透明であ６る犬パワ
ー用反射防止膜を実現した。
い点をさらにＡｓ＋Ｓｅ３やＡ Ｓ ２ Ｓ ３で保護
し、かつ反射イ４零という反射防止膜の条件を満たすと
同時に波長０．６３２８μｍ光にも透明であ６る犬パワ
ー用反射防止膜を実現した。
しかしながら以上のイ×ロｘノ・）の３例を詳細に比較
すると総合的にノ・）の構造のものが一番良いとされる
。すなわち、大パワーに使用出来るため吸収率が小さい
物質が良いという観点からするとＫＣＩ（吸収係数１ｃ
ｒｎ−’以下）、ＰｂＦ２（吸収係数１〜２ ａｎ−’
）、ＮａＦ Ｃ吸収係数６ｚ−’）の順となり、ＫＣ
ｌを使用した口）の構造のものが一番良い。
すると総合的にノ・）の構造のものが一番良いとされる
。すなわち、大パワーに使用出来るため吸収率が小さい
物質が良いという観点からするとＫＣＩ（吸収係数１ｃ
ｒｎ−’以下）、ＰｂＦ２（吸収係数１〜２ ａｎ−’
）、ＮａＦ Ｃ吸収係数６ｚ−’）の順となり、ＫＣ
ｌを使用した口）の構造のものが一番良い。
しかし、耐湿性を有するという点で水に対する溶解度が
小さい物質が良いという観点からすると、ＰｂＦ２（１
００７の水に対する溶解量０．０６４ ｒ ） 。
小さい物質が良いという観点からすると、ＰｂＦ２（１
００７の水に対する溶解量０．０６４ ｒ ） 。
ＮａＦ （１００Ｓ’の水に対する溶解量４．２２Ｆ）
、ＫＣＩ（１００Ｆの水に対する溶解量３４．７１の順
でありＰ ｂ’ Ｆ２を使ったｌ・）の構造のものが一
番良く、ＫＣｌ性を第１表にまとめた。
、ＫＣＩ（１００Ｆの水に対する溶解量３４．７１の順
でありＰ ｂ’ Ｆ２を使ったｌ・）の構造のものが一
番良く、ＫＣｌ性を第１表にまとめた。
第１表
ＸＸ・・・ 非常に悪い、× 悪い、△ まあまあ
良い、○ 凡い。
良い、○ 凡い。
◎ ・・非常に良い
この表から判る様に、Ａ Ｓ ２ Ｓ ３／ Ｐ ｂ
Ｆ２ ／Ａ Ｓ ２ Ｓ ３ の三層構造のものが一
番バランスが取れており、実際に２０ ＫＷ用のＫＣｌ
窓に使用され耐光力の点で実績が有ると同時に、耐湿性
の点でも表面に結露させないかぎり充分に実用性の有る
ことが判明し名Ｏ 以上の様に三層構造の反射防止膜は多くのすぐれた点を
持ってはいるが、表面のＡ Ｓ ２ Ｓ ３膜が長時１
空気中で高温にさらされると酸化され吸収が増加すると
いう欠点と機械的にやＸｌやわらかいためクリーニング
時に表面にきすがつきやすいという欠点があシ、長寿命
化という点でまだ問題があし ＋七 発明の目的 本発明は従来例のＡｓ２Ｓ３／ＰｂＦｚ／ＡｓｚＳ３
なるＫＣＩ用三層反射防止膜の持つ多くの利点、すなわ
ち、１０６μｍ波長の炭酸ガスレーザ光に対して、低吸
収で耐湿性に優れており、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光に対して
透明である、等の利点をそこなうことなく、その欠点で
ある酸化性、表面の機械的弱さを解決し総合的に優れた
長寿命の反射防止膜を提供することにある。
Ｆ２ ／Ａ Ｓ ２ Ｓ ３ の三層構造のものが一
番バランスが取れており、実際に２０ ＫＷ用のＫＣｌ
窓に使用され耐光力の点で実績が有ると同時に、耐湿性
の点でも表面に結露させないかぎり充分に実用性の有る
ことが判明し名Ｏ 以上の様に三層構造の反射防止膜は多くのすぐれた点を
持ってはいるが、表面のＡ Ｓ ２ Ｓ ３膜が長時１
空気中で高温にさらされると酸化され吸収が増加すると
いう欠点と機械的にやＸｌやわらかいためクリーニング
時に表面にきすがつきやすいという欠点があシ、長寿命
化という点でまだ問題があし ＋七 発明の目的 本発明は従来例のＡｓ２Ｓ３／ＰｂＦｚ／ＡｓｚＳ３
なるＫＣＩ用三層反射防止膜の持つ多くの利点、すなわ
ち、１０６μｍ波長の炭酸ガスレーザ光に対して、低吸
収で耐湿性に優れており、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光に対して
透明である、等の利点をそこなうことなく、その欠点で
ある酸化性、表面の機械的弱さを解決し総合的に優れた
長寿命の反射防止膜を提供することにある。
発明の構成
本発明のＫＣＩ用反射防止膜はＡＳ２Ｓ３であられされ
るカルコゲナイドガラス層を、ＫＣ１基板上に形成し、
その上にＰｂＦｚ層を形成し、さらに最外層として、硫
化亜鉛（ＺｎＳ ）を設けた三層構造のＫＣＩ用反射防
止膜である。
るカルコゲナイドガラス層を、ＫＣ１基板上に形成し、
その上にＰｂＦｚ層を形成し、さらに最外層として、硫
化亜鉛（ＺｎＳ ）を設けた三層構造のＫＣＩ用反射防
止膜である。
実施例の説明
以下本発明の実施例について図面とともに詳細に説明す
る。第１図はＫＣＩ基板上の本発明による三層反射防止
膜の構造図である。図中４は両面が超精密に光学研麿さ
れた屈折率が１４５なるＫＣｌ１．３０２３．ｃ＋ｍで
ある１１．３は屈折率＋１３が２４なるＺｎＳ膜であり
光学的厚みｎ３ｄ３ ＝ １．１５３２μｍである以下
に代表的な蒸着条件を述べる。
る。第１図はＫＣＩ基板上の本発明による三層反射防止
膜の構造図である。図中４は両面が超精密に光学研麿さ
れた屈折率が１４５なるＫＣｌ１．３０２３．ｃ＋ｍで
ある１１．３は屈折率＋１３が２４なるＺｎＳ膜であり
光学的厚みｎ３ｄ３ ＝ １．１５３２μｍである以下
に代表的な蒸着条件を述べる。
ＡＳ２Ｓ３用蒸着ルツボはモリブチ／（Ｍｏ）製のとっ
ぷつ防止用の穴開のふたを使用し基板温度７０℃、作業
圧力１．５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１２
Ａ／ｓｅｃで蒸着した。ＰｂＦ２は白金ボート（Ｐｔ）
を使用し基板温度１１８℃、作業圧力３Ｘ１０ Ｔｏ
ｒｒ、蒸着速度１２Ａ／ｓｅｃで蒸着した。
ぷつ防止用の穴開のふたを使用し基板温度７０℃、作業
圧力１．５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１２
Ａ／ｓｅｃで蒸着した。ＰｂＦ２は白金ボート（Ｐｔ）
を使用し基板温度１１８℃、作業圧力３Ｘ１０ Ｔｏ
ｒｒ、蒸着速度１２Ａ／ｓｅｃで蒸着した。
ＺｎＳはＣＶＤ法で作った多結晶を蒸着源とし、電子ビ
ーム蒸着法で蒸着し、基板温度１２０℃、作業圧力２
Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ 、蒸着速度５Ａ／ｓｅｅで蒸着
した。
ーム蒸着法で蒸着し、基板温度１２０℃、作業圧力２
Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ 、蒸着速度５Ａ／ｓｅｅで蒸着
した。
蒸着中基板は自公転運動し、膜厚の均一化を計。
た。蒸着速度は水晶振動子を使りて制御し、蒸着膜片は
波長１５０５μｍの赤外光を使用した透過型光学膜厚制
御装置にて制御した。、 １・゛この様にしてＫＣＩ平面基板の両面に反射防止膜
を形成してなるＫＣｌ窓の透過率スペクトルは第２１図
の様になり、波長１０．６μｍにおいて反射率が零にな
ることが示される。
波長１５０５μｍの赤外光を使用した透過型光学膜厚制
御装置にて制御した。、 １・゛この様にしてＫＣＩ平面基板の両面に反射防止膜
を形成してなるＫＣｌ窓の透過率スペクトルは第２１図
の様になり、波長１０．６μｍにおいて反射率が零にな
ることが示される。
を考慮すると全吸収（βｄ）Ｔｏｔａｌは各層の吸収（
β１ｄｉ）の総和の約２分の１と近似出来・る。ここで
ｄｌは各層の吸収係数、ｄｌは各層の厚みである。
β１ｄｉ）の総和の約２分の１と近似出来・る。ここで
ｄｌは各層の吸収係数、ｄｌは各層の厚みである。
本実施例の場合、第１層のＡ ８２ Ｓ ３膜の吸収β
１ｄｌは１ ｃｍ−’ Ｘ １．１５ Ｘ １０−’ｃ
ｍ中１．２Ｘ１０−’、すなわち約０．０１２ ％であ
る。第２層のＰ ｂ Ｆ２膜の吸収β２ｄ２は１ｃｒｎ
−’ Ｘ Ｏ，６８Ｘ １０−’ｃｒｎ＝ ０．６８
Ｘ １０−’、すなわち約０．００７％である。第３層
のＺｎＳ膜の吸収β３ｄ３は０．５ｃｒｎＸ０．５２Ｘ
１０ ｃｍ ＝ ０．２６ｘｌＯ、すなわち約０．０
．０３％である。憚って三層膜の全吸収は約０．０１％
となる。この反射防止膜に２０ＫＷという大パワーの炭
酸ガスレーザ光が入射した場合には２０ＫＷの入射パワ
ーの００１％が熱として発生する。すなわち２Ｗの熱発
生源として作用するがこの程度の熱発生は実用上の冷却
方法で十分対処出来、光学部品の破壊の原因とはならな
いなおこの反射防止膜でのＨｅ−Ｎｅン−ザ光に７膜強
虐の強いＺｎＳで保護しているため、クリーゴーノ夛時
にもきすがつきにくく長寿命である。
１ｄｌは１ ｃｍ−’ Ｘ １．１５ Ｘ １０−’ｃ
ｍ中１．２Ｘ１０−’、すなわち約０．０１２ ％であ
る。第２層のＰ ｂ Ｆ２膜の吸収β２ｄ２は１ｃｒｎ
−’ Ｘ Ｏ，６８Ｘ １０−’ｃｒｎ＝ ０．６８
Ｘ １０−’、すなわち約０．００７％である。第３層
のＺｎＳ膜の吸収β３ｄ３は０．５ｃｒｎＸ０．５２Ｘ
１０ ｃｍ ＝ ０．２６ｘｌＯ、すなわち約０．０
．０３％である。憚って三層膜の全吸収は約０．０１％
となる。この反射防止膜に２０ＫＷという大パワーの炭
酸ガスレーザ光が入射した場合には２０ＫＷの入射パワ
ーの００１％が熱として発生する。すなわち２Ｗの熱発
生源として作用するがこの程度の熱発生は実用上の冷却
方法で十分対処出来、光学部品の破壊の原因とはならな
いなおこの反射防止膜でのＨｅ−Ｎｅン−ザ光に７膜強
虐の強いＺｎＳで保護しているため、クリーゴーノ夛時
にもきすがつきにくく長寿命である。
１１「に
：二語誌以上実施例に示した各層の膜厚は理想的な場合
で１０６μｍ波長で反射率が零になる。実際には膜厚制
御能力の問題により完全に反射率を零にすることは困難
である。
で１０６μｍ波長で反射率が零になる。実際には膜厚制
御能力の問題により完全に反射率を零にすることは困難
である。
一方、実際に使用する立場からは反射防止膜−面当りの
反射率が０５％以下であれば実用上問題はない。
反射率が０５％以下であれば実用上問題はない。
第３図は第１層のＡＳ２Ｓ３膜の光学的膜厚ｎＩｄ４だ
けを設定値２．６５０μｍの３．７％増減した場合の反
射率スペクトルでいずれの場合も１０６μｍ波長で反射
率０．１％以下に出来実用的であることを示す。
けを設定値２．６５０μｍの３．７％増減した場合の反
射率スペクトルでいずれの場合も１０６μｍ波長で反射
率０．１％以下に出来実用的であることを示す。
実際の膜厚制御時に±３％精度を出すことは可能である
。
。
第４図は第２層のＰｂＦ２膜の光学的膜厚ｎ２ｄ２だけ
を設定値１．１４３２μｍの３．７％増減した場合の反
射率スペクトルで、いずれの場合も反射率０．０５％以
下に出来実用的であることを示す。
を設定値１．１４３２μｍの３．７％増減した場合の反
射率スペクトルで、いずれの場合も反射率０．０５％以
下に出来実用的であることを示す。
第６図は第１層のＡ Ｓ ２ Ｓ ３膜、第２層のＰｂ
Ｆ２膜、第３層のＺｎ５ｅ膜のそれぞれの光学的膜厚を
同時にそれぞれの設定値の３７係増減した場合の反射率
スペクトルでいずれの場合も反射率０．５ ％以上→蝿
来実用的であることを示す。
Ｆ２膜、第３層のＺｎ５ｅ膜のそれぞれの光学的膜厚を
同時にそれぞれの設定値の３７係増減した場合の反射率
スペクトルでいずれの場合も反射率０．５ ％以上→蝿
来実用的であることを示す。
に接する第１層に密着性が良くピノホールの出来にくい
水に溶けないＡＳ２Ｓ３なるカルコゲナイドガラスを光
学的膜厚ｎ１ｄｌとして２．５５２／１ｍ 〜２．７４
８μｍの範囲で形成し、次いで第２層として吸収の少な
い低屈折率物質であるＰ ｂ Ｆ２ を光学的膜１すｎ
２ｄ２として１．１０１０μｍ −１，１８５５１ｍの
範囲で形成し、さらに第３層として水に溶けず、化学的
に友定で、機械的強度のすぐれたＺｎ５ｅを光学的膜１
ツｎ３ｄ３として１．１１０５μｍ −１１９６０μｍ
の範囲で形成することによシ波長１０．６μｍの炭酸ガ
スレーザ尤に対して反射率が０５チ以下、吸収率が０．
０１％の低反射率、低吸収の反射防止膜が実現出来、１
−Ｉｅ−Ｎｅレーザ光に対して透過性も良く、耐湿性に
すぐれ、表面がＺｎ５ｅ膜で硬いためクリーニング時に
おいてもきすがつきにりく、耐摩耗性、耐薬品性などの
耐環境性にもすぐれ、 ２０ＫＷという大パワーにも耐
えかつ長寿命な特性を示すため、ＫＣＩを基板とした、
大パワー用窓、レンズ、ビームスプリ、夕等を実現可能
にするものである。
水に溶けないＡＳ２Ｓ３なるカルコゲナイドガラスを光
学的膜厚ｎ１ｄｌとして２．５５２／１ｍ 〜２．７４
８μｍの範囲で形成し、次いで第２層として吸収の少な
い低屈折率物質であるＰ ｂ Ｆ２ を光学的膜１すｎ
２ｄ２として１．１０１０μｍ −１，１８５５１ｍの
範囲で形成し、さらに第３層として水に溶けず、化学的
に友定で、機械的強度のすぐれたＺｎ５ｅを光学的膜１
ツｎ３ｄ３として１．１１０５μｍ −１１９６０μｍ
の範囲で形成することによシ波長１０．６μｍの炭酸ガ
スレーザ尤に対して反射率が０５チ以下、吸収率が０．
０１％の低反射率、低吸収の反射防止膜が実現出来、１
−Ｉｅ−Ｎｅレーザ光に対して透過性も良く、耐湿性に
すぐれ、表面がＺｎ５ｅ膜で硬いためクリーニング時に
おいてもきすがつきにりく、耐摩耗性、耐薬品性などの
耐環境性にもすぐれ、 ２０ＫＷという大パワーにも耐
えかつ長寿命な特性を示すため、ＫＣＩを基板とした、
大パワー用窓、レンズ、ビームスプリ、夕等を実現可能
にするものである。
一’）第１図は本発明による塩化カリウム用反射防止Ｋ
ＣＩ窓の透過率スペクトル特性図、第３図乃至第６図は
条々本発明による塩化カリウム用反射防止膜の実施例に
おける反射率特性図である。 １ ・ＡＳ２Ｓ３膜 ２・・・・・・ ＰｂＦｚ膜 ３・・ ＺｎＳ膜 ４ ・・・・・・ ＫＣＩ基板 特許出願人 工業技術院長 川 １）裕 部第 １ 図 ＠四丼２ ５Ｐ１．侵入 欠ｍ） 第３図 ９．５ １０．０ １０．５ １１
．０ １１．５波長人史ｍ１ ７蚤入Ｃ）ｉｍ）
ＣＩ窓の透過率スペクトル特性図、第３図乃至第６図は
条々本発明による塩化カリウム用反射防止膜の実施例に
おける反射率特性図である。 １ ・ＡＳ２Ｓ３膜 ２・・・・・・ ＰｂＦｚ膜 ３・・ ＺｎＳ膜 ４ ・・・・・・ ＫＣＩ基板 特許出願人 工業技術院長 川 １）裕 部第 １ 図 ＠四丼２ ５Ｐ１．侵入 欠ｍ） 第３図 ９．５ １０．０ １０．５ １１
．０ １１．５波長人史ｍ１ ７蚤入Ｃ）ｉｍ）
Claims (2)
- （１）塩化カリウム基板の少なくとも一表面上に、基板
に接する第１層として三硫化砒素膜、第２層として弗化
鉛膜、第３層として硫化亜鉛膜を順次形成したことを特
徴とする塩化カリウム用反射防止膜。 - （２）第１層の三硫化砒素膜、第２層の弗化鉛および第
３層の硫化亜鉛膜の光学的膜厚の値を、それぞれ２．５
５２０μｍ〜２．７４８０μｍ、１．１０１０μｍ〜１
．１８５５μｍおよび１．１１０５μｍ〜１．１９６０
μｍに選定した特許請求の範囲第１項記載の塩化カリウ
ム用反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59135312A JPS6115102A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 塩化カリウム用反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59135312A JPS6115102A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 塩化カリウム用反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115102A true JPS6115102A (ja) | 1986-01-23 |
| JPS6259281B2 JPS6259281B2 (ja) | 1987-12-10 |
Family
ID=15148787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59135312A Granted JPS6115102A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 塩化カリウム用反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115102A (ja) |
-
1984
- 1984-07-02 JP JP59135312A patent/JPS6115102A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6259281B2 (ja) | 1987-12-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |