JPS6114861Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6114861Y2 JPS6114861Y2 JP15867481U JP15867481U JPS6114861Y2 JP S6114861 Y2 JPS6114861 Y2 JP S6114861Y2 JP 15867481 U JP15867481 U JP 15867481U JP 15867481 U JP15867481 U JP 15867481U JP S6114861 Y2 JPS6114861 Y2 JP S6114861Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- bathtub
- drain
- sewage treatment
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000010865 sewage Substances 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010797 grey water Substances 0.000 description 2
- 239000010800 human waste Substances 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Sink And Installation For Waste Water (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は浴槽、プール、水槽等（以下、浴槽等
という）、特にその排水処理構造に関するもの
で、排水処理設備の縮小化、排水処理のための運
転コストの低減を目的とするものである。
という）、特にその排水処理構造に関するもの
で、排水処理設備の縮小化、排水処理のための運
転コストの低減を目的とするものである。
浴槽を例にとれば、従来の浴槽は排水穴が一つ
しかなく、ホテル、宿舎等の排水機構において排
水を合併処理するとき浴槽内の残り湯はすべて汚
水扱いとされていた。従つて、汚水処理設備には
排水量が多くなり、特に浴槽の排水時に一時的に
多量の排水がなされるため、設備を大きくする必
要があつた。またし尿や雑排水の汚水処理には一
般に活性汚泥法が用いられているが、汚水が残り
湯で希釈されるとバクテリヤによる汚水浄化能力
が却つて低下するという問題があつた。また、汚
水処理される排水が多いと処理設備、その運転装
置等も大型化する必要があつて運転コストも高く
なる。
しかなく、ホテル、宿舎等の排水機構において排
水を合併処理するとき浴槽内の残り湯はすべて汚
水扱いとされていた。従つて、汚水処理設備には
排水量が多くなり、特に浴槽の排水時に一時的に
多量の排水がなされるため、設備を大きくする必
要があつた。またし尿や雑排水の汚水処理には一
般に活性汚泥法が用いられているが、汚水が残り
湯で希釈されるとバクテリヤによる汚水浄化能力
が却つて低下するという問題があつた。また、汚
水処理される排水が多いと処理設備、その運転装
置等も大型化する必要があつて運転コストも高く
なる。
浴槽等で入浴に供した残り湯は放流口での規制
水質を充分に下まわる水質である。しかしながら
残り湯等を全部放流系へ排出したのでは槽内壁の
湯あか等を洗剤で掃除した汚水も放流系へ排出さ
れる不都合が生じる。
水質を充分に下まわる水質である。しかしながら
残り湯等を全部放流系へ排出したのでは槽内壁の
湯あか等を洗剤で掃除した汚水も放流系へ排出さ
れる不都合が生じる。
そこで本考案は浴槽等の底面に段差を形成して
高い底面部には放流系へ連なる第１の排水穴を設
け、低い底面部には汚水処理系へ連なる第２の排
水穴を設けたことを特徴とするものである。本考
案によれば、浴槽等を使用後第１の排水穴の栓を
とつて開口することにより水質のよい残り湯等は
放流系へ排出される。そして底面の低い部分には
掃除に必要な残り湯等が残留し、掃除に供した汚
水は第２の排水穴から汚水処理系へ排出される。
また本考案では、たとえ誤つて先ず第２の排水穴
を開いても槽内の排水は汚水処理系へ流れるので
放流水域が汚染されることはない。
高い底面部には放流系へ連なる第１の排水穴を設
け、低い底面部には汚水処理系へ連なる第２の排
水穴を設けたことを特徴とするものである。本考
案によれば、浴槽等を使用後第１の排水穴の栓を
とつて開口することにより水質のよい残り湯等は
放流系へ排出される。そして底面の低い部分には
掃除に必要な残り湯等が残留し、掃除に供した汚
水は第２の排水穴から汚水処理系へ排出される。
また本考案では、たとえ誤つて先ず第２の排水穴
を開いても槽内の排水は汚水処理系へ流れるので
放流水域が汚染されることはない。
以下、本考案を図示の実施例により説明する。
第１図および第２図において、浴槽１にはその
底面に段差が形成され、高い底面部１１には第１
の排水穴２が、低い底面部１２には第２の排水穴
３が設けてある。
底面に段差が形成され、高い底面部１１には第１
の排水穴２が、低い底面部１２には第２の排水穴
３が設けてある。
第３図は浴室および排水系の一例を示すもの
で、男子用浴室Ａおよび女子用浴室Ｂにはそれぞ
れ浴槽１、水槽４、サウナ室５が設けてある。各
浴槽１および水槽４の底面には第１図および第２
図に示すように段差が形成してあつて、高い底面
部には第１の排水穴２が、低い底面部には第２の
排水穴３が設けてある。
で、男子用浴室Ａおよび女子用浴室Ｂにはそれぞ
れ浴槽１、水槽４、サウナ室５が設けてある。各
浴槽１および水槽４の底面には第１図および第２
図に示すように段差が形成してあつて、高い底面
部には第１の排水穴２が、低い底面部には第２の
排水穴３が設けてある。
浴槽１Ｂ、水槽４Ａおよび水槽４Ｂの各第１の
排水穴２に連なる排水管２ａ，２ｂ，２ｃは合流
して排水管２ｄに至り、浴槽１Ａの第１の排水穴
２に連なる排水管２ｅは排水管２ｄと合流し、排
水路２ｆにより放流口２ｇへ至る。この排水路２
ｆには雨水等も合流する。そしてこれ等の経路が
放流系を構成する。
排水穴２に連なる排水管２ａ，２ｂ，２ｃは合流
して排水管２ｄに至り、浴槽１Ａの第１の排水穴
２に連なる排水管２ｅは排水管２ｄと合流し、排
水路２ｆにより放流口２ｇへ至る。この排水路２
ｆには雨水等も合流する。そしてこれ等の経路が
放流系を構成する。
一方、浴槽１Ｂおよび水槽４Ｂの各第２の排水
穴３に連なる排水管３ａ，３ｂは合流して排水管
３ｃに至り、排水管３ｃは水槽４Ａの第２の排水
穴３に連なる排水管３ｄおよび浴槽１Ａの第２の
排水穴３に連なる排水管３ｅに連結した排水管３
ｆと合流し、更に排水管３ｇから中継槽３ｈ、ポ
ンプ３ｊを経て排水管３ｋから汚水処理場３ｎへ
至る。この汚水処理場へはし尿その他の雑排水も
供給される。そしてこれ等の経路が汚水処理系を
構成する。
穴３に連なる排水管３ａ，３ｂは合流して排水管
３ｃに至り、排水管３ｃは水槽４Ａの第２の排水
穴３に連なる排水管３ｄおよび浴槽１Ａの第２の
排水穴３に連なる排水管３ｅに連結した排水管３
ｆと合流し、更に排水管３ｇから中継槽３ｈ、ポ
ンプ３ｊを経て排水管３ｋから汚水処理場３ｎへ
至る。この汚水処理場へはし尿その他の雑排水も
供給される。そしてこれ等の経路が汚水処理系を
構成する。
しかして、上記各浴槽１Ａ，１Ｂおよび水槽４
Ａ，４Ｂを使用し、これ等の全部または一部の第
１の排水穴２を開くと汚れが少なく水質のよい残
り湯や水が排出され、放流系へ流れる。排水が終
ると、浴槽１Ａ，１Ｂおよび水槽４Ａ，４Ｂの底
面部には第１の排水穴２より低い水面で湯または
水が残される。そしてこれにより浴槽および水槽
を掃除し、第２の排水穴３を開けば、汚水は汚水
処理系へ流れる。
Ａ，４Ｂを使用し、これ等の全部または一部の第
１の排水穴２を開くと汚れが少なく水質のよい残
り湯や水が排出され、放流系へ流れる。排水が終
ると、浴槽１Ａ，１Ｂおよび水槽４Ａ，４Ｂの底
面部には第１の排水穴２より低い水面で湯または
水が残される。そしてこれにより浴槽および水槽
を掃除し、第２の排水穴３を開けば、汚水は汚水
処理系へ流れる。
従つて、汚水処理系へ流れる汚水量は著しく少
量となり、中継槽３ｈや処理場３ｎの負担が小さ
くなり、装置の縮小化および運転コストの低減が
可能となる。また放流系へ排出される排水は水質
的に放流水域を汚染するものではない。また本考
案では放流系の第１の排水穴を上位に汚水処理系
の第２の排水穴を低位に設けたので、第１の排水
穴を開けば何等監視することなく放置しても掃除
用の湯または水が槽内底部に残される。また、た
とえ誤まつて先ず第２の排水穴を開いたとしても
槽内の排水は汚水処理系へ流れるので放流水域の
汚染の問題は起らない。
量となり、中継槽３ｈや処理場３ｎの負担が小さ
くなり、装置の縮小化および運転コストの低減が
可能となる。また放流系へ排出される排水は水質
的に放流水域を汚染するものではない。また本考
案では放流系の第１の排水穴を上位に汚水処理系
の第２の排水穴を低位に設けたので、第１の排水
穴を開けば何等監視することなく放置しても掃除
用の湯または水が槽内底部に残される。また、た
とえ誤まつて先ず第２の排水穴を開いたとしても
槽内の排水は汚水処理系へ流れるので放流水域の
汚染の問題は起らない。
第１図は本考案による浴槽の平面図、第２図は
第１図のＡ−Ａ線に沿う断面図、第３図は本考案
による浴槽を設置した浴室の排水系を示す図であ
る。 １，１Ａ，１Ｂ……浴槽、４Ａ，４Ｂ……水
槽、２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ，２ｇ
……放流系、３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３
ｆ，３ｇ，３ｈ，３ｉ，３ｊ，３ｋ，３ｎ……汚
水処理系。
第１図のＡ−Ａ線に沿う断面図、第３図は本考案
による浴槽を設置した浴室の排水系を示す図であ
る。 １，１Ａ，１Ｂ……浴槽、４Ａ，４Ｂ……水
槽、２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ，２ｇ
……放流系、３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３
ｆ，３ｇ，３ｈ，３ｉ，３ｊ，３ｋ，３ｎ……汚
水処理系。
Claims (1)
- 浴槽底面に段差を形成し、高い底面部には放流
系に連なる排水穴を設け、低い底面部には汚水処
理系に連なる排水穴を設けたことを特徴とする二
穴式浴槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15867481U JPS5862986U (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 二穴式浴槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15867481U JPS5862986U (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 二穴式浴槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5862986U JPS5862986U (ja) | 1983-04-27 |
| JPS6114861Y2 true JPS6114861Y2 (ja) | 1986-05-09 |
Family
ID=29951163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15867481U Granted JPS5862986U (ja) | 1981-10-23 | 1981-10-23 | 二穴式浴槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5862986U (ja) |
-
1981
- 1981-10-23 JP JP15867481U patent/JPS5862986U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5862986U (ja) | 1983-04-27 |
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