JPS61141894A - β−ラクタム化合物の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は３−アセチル−２−アゼチジノン誘導体を微生
物還元して光学活性な３−（１−ヒドロキシエチル）−
２−アゼチジノン誘導体へ導く製法に関するものである
。

本発明によって得られる３−（１−ヒドロキシエチル）
−２−アゼチジノン誘導体はカルバペネムおよびベネム
誘導体へ導く重要中間体である。

光学活性な３−（１−ヒドロキシエチル）−２−アゼチ
ジノン誘導体の製法に関しては種々知られているが、い
ずれも工程数が多く反応操作が煩雑である本発明者等は
、容易に得られるｄｔ３−アセチル−２−アゼチジノン
を微生物還元することにより光学活性な３−（１−ヒド
ロキシエチル）−２−アゼチジノン誘導体よく得られる
ことを見い出し本発明を完成した。

一般式 におけるＲ１は、置換基を有してもよいアルキル基〔た
とえばメチル、エチル、プロピル、もしくはブチル基で
あって以下に示す同一もしくは異なる置換基を１〜３個
有してもよい。その置換基は、アルキル基（たとえばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、もし
くはｔ−ブチルなど）、Ｃｏ２Ｒ基（式中Ｒ３は、水素
原子、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピ
ル、もしくはｔ−ブチル、置換基を有してもよいフェニ
ル基（その置換基は、メチル、エチル、プロピル、メト
キシ、メチルメルカプト、ニトロ、シアノ、アセトアミ
ド、弗素、塩素もしくは臭素など）などである。）、置
換基を有してもよいベンジル基（その置換基は、メトキ
シ、メチルメルカプト、メチル、エチル、プロピル、ニ
トロ、シアノ、アセトアミド、弗素、塩素もしくは臭素
など）、ノ・ロゲン原子（たとえば、弗素、塩素、もし
くは臭素など）などである）　、−Ｃｏ８Ｒ’基（式中
、Ｒ４は、メチル、エチル、プロピル、置換基を有して
もよいフェニル基（その置換基は、先に述べたＲか置換
基を有してもよいフェニル基の置換基と同意義を示す。

）、置換基を有してもよいベンジル基（その置換基は、
先に述べたＲか置換基を有してもよいベンジル基の置換
基と同意義を示す。）などでおる）、−８Ｒ’（式中、
Ｒ３は前述したものと同意義を示す。）、−〇〇ＮＲＲ
（式中、Ｒ５およびＲ６は、同一もしくは異なる水素原
子、アルキル基（たとえばメチル、エチル、プロピル、
ブチル、もしくはｔ−ブチルなど）、シクロヘキシル、
もしくはベンジルなどである。）、−ＯＲ’基（式中、
Ｒ４、水素原子、アルキル基（たとえばメチル、エチル
、もしくはプロピルなど）もしくはアフル基（たとえば
アセチル、プロピオニル、ブチリル、もしくはベンゾイ
ルなど）などである）、もしくは−〇〇Ｒ８基（式中、
Ｒ８はメチル、エチル、もしくはフェニルなどである）
などである〕、置換基を有してもよいアルケニル基〔た
とえばビニル、アリル、もしくはブテニルであって以下
に示す同一もしくは異なる置換基を１〜３個有してもよ
い。その置換基は、アルキル基（たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソプロピル、もしくはｔ−ブ
チルなと）　、　−Ｃｏ、Ｒ３基（式中Ｒ３は前述した
ものと同意義を示す）、−Ｃｏ８Ｒ’基（式中Ｒ４は、
前述したものと同意義を示す）、−８Ｒ’基（式中Ｒ３
は、前述したものと同意義を示す。）、−ＯＲ基（式中
Ｒ′は、前述し九ものと同意義を示す。）、もしくは置
換基を有してもよいフェニル基（その置換基は、先に述
べたＲか置換基を有してもよいフェニル基の置換基と同
意義を示す）などである〕、置換基を有してもよいアル
キニル基〔たとえばエチニル、もしくはプロパルギル基
であって以下に示す同一もしくは異なる置換基を１〜３
個有してもよい。その置換基はアルキル基（たとえばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、もし
くはｔ−ブチルなど）、−Ｃｏ２Ｒ’基（式中Ｒ３は、
前述したＲ３と同意義を示す）、−ｃｏｓＲ’基（式中
ｎ’ｔｉ、ｊＩＪ述ＬりＲ’、！：　同意義を示す。）
　、−８Ｒ’基（式中Ｒｓは、前述したＲ５と同意義を
示す。）、−ＯＲ基（式中Ｒは、前述したＲと同意義を
示す。）、もしくは置換基を有してもよいフェニル基（
その置換基は、先に述べたＲｓが置換基を有してもよい
フェニル基の置換基と同意義を示す）などである〕、置
換基を有してもよいフェニル基（以下に示す同一もしく
は異なるｆ換基を１〜３個有してもよい。

その置換基は、アルキル基（たとえばメチル、エチル、
プロピル、もしくはイソプロピルなど入アルコキシ基（
たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、
もしくはｔ−ブトキシなど）、ハロゲン（たとえば弗素
、塩素、もしくは臭素など）、ニトロ、シアノ、アセチ
ル、アセトキシ、もしくは水酸基などである）、アルキ
ルチオ基−８Ｒ（式中Ｒ８は、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、インプロピル、もしくはｔ−ブチルなど）
、アルキルスルホニルｇ　−８０１８（式中８８は、前
述したＲ８と同意義を示す。）、置換基を有してもよい
フェニルチオ基（以下に示す同一もしくは異なる置換基
を１〜３個有してもよい。その置換基は、アルギル基（
たとえばメチル、エチル、プロピル、もしくはイソプロ
ピルなど）、アルコキシ基（たとえばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、もしくはｔ−ブトキシなど
）、ハロゲン（たとえば弗素、塩素、もしくは臭素など
）、ニトロ、シアノ、アセチル、アセトキシ、もしくは
水酸基などである。）、置換基を有してもよいフェニル
スルホニル基（その置換基は、上述した置換基を有して
もよいフェニルチオ基の置換基と同意義を示す０〕、ま
たはアシルオキシ基、→ＣＯＲ’（式中Ｒは、炭素数°
１〜１０個の置換基を有してもよいアルキル基（たとえ
ばメチル、エチル、プロピル、７’　ｆ　／Ｉ／　、ペ
ンチル、へ中シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、もし
くはデシルなど上−°。

数１〜５個のアルキル基（たとえば、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、もしくは
ｔ−ブチルなど））、置換基を有してもよいフェニル基
（その置換基は、先に述べたＲか置換基を有してもよい
フェニル基の置換基と同意義を示す。）、もしくは置換
基を有してもよいベンジル基（その置換基は、先に述べ
たＲか置換基を有してもよいベンジル基の置換基と同意
義を示す。）などである。）などである。

Ｒ２は、水素原子または窒素原子の保護基〔たとえばシ
リル基（たとえばトリメチルシリル、トリエチルシリル
、トリフェニルシリル、１−ブチルジメチルシリル、も
しくはｔ−ブトキシジフェニルシリルなど）、置換基を
有してもよいアルキル基またとえばメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、もしくはヘプチ
ルなどであって、以下に示す同一もしくは異なる置換基
を１〜３個有してもよい。その置換基は、アルキル基（
たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、もしくはｔ−ブチルなど）、Ｃｏ　２Ｒ基（式
中Ｒ３は、前述したものと同意義を示す）、　ｏｎ　１
０基（式中Ｒ１０は水素原子、アルキル基（たとえばメ
チル、エチル、プロピル、もしくはブチルなど）、置換
基を有してもよいベンジル基（その置換基は、先に述べ
たＲ３が置換基を有してもよいベンジル基の置換基と同
意義を示す。））、置換基を有してもよいフェニル基（
その置換基は、先に述べたＲか置換基を有してもよいフ
ェニル基の置換基と同意義を示す。）、もしくは置換基
を有してもよいベンジル基（その置換基は、先に述べた
Ｒ３が置換基を有してもよいくシリル基の置換基と同意
義を示す。））、置換基を有してもよ区アルケニル基（
（たとえば、ビニル、もしくはアリル基であって、以下
に示す同一もしくは異なる１〜３個の置換基を有しても
よい。

その置換基は、アルキル基（たとえば、メチル、エチル
、プロピル、もしくはブチルなど）、置換基を有しても
よいフェニル基（その置換基は先に述べたＲか置換基を
有してもよいフェニル基の置換基と同意義を示す。）、
もしくは−Ｃｏ２Ｒ５基（式中Ｒ３は、前述したものと
同意義を示す。））、置換基を有してもよいフェニル基
、（その置換基は、先に述ぺたＲか置換基を有してもよ
いフェニル基の置換基と同意義であって、同一もしくは
異なる１〜３個のこれらの置換基を有してもよい。）、
置換基を有してもよいベンジル基（その置換基は、先に
述べたＲ３が置換基を有してもよいベンジル基の置換基
と同意義であって、同一もしくは異なる１〜３個のこれ
らの置換基を有してもよい。）、もしくはｔ換基を有し
てもよいシクロアルキル基（たとエバ゛／クロペンチル
、もしくはシクロヘキシルなどであって、その置換基は
先述したＲか窒素原子の保７足基である場合の置換基を
有してもよいアルキル基の置換基と同意義を示す）など
である〕などである。

一般式１１）を有する化合物のうち好適化合物拡Ｒ１が
置換基を有するアルキル基であってその置換基は−ＣＯ
２Ｒ３基（式中、Ｒ３は前述したものと同意義を示す）
もしくは−Ｃｏ８Ｒ’基（式中、Ｒ４は前述したものと
同意義を示す。）、置換基を有してもよいアルキニル基
であって、その置換基は一８Ｒ３基（式中、Ｒ３は前述
したものと同意義を示す。）もしくはＯＲ基（式中Ｒは
、前述したものと同意義を示す。）、アルキルスルホニ
ル基−８０２Ｒ８（式中、Ｒ８は前述したものと同意義
を示す）、置換基を有してもよいフェニルスルホニル基
、もしくはアシルオキシ基−０ＣＯＲ（式中、Ｒ９は前
述したものと同意義を示す。）などであり、Ｒか水素原
子、置換基を有するアルキル基であってその置換基が一
〇０２Ｒ３基（式中、Ｒ３は前述したものと同意義を示
す。）、アルキル基、ＯＲ”基（式中、Ｒ１０は前述し
たものと同意義を示す。）、置換基を有してもよいアル
ケニル基であってその置換基はアルキル基、もしくは−
Ｃｏ２Ｒ’基（式中Ｒ３は前述したものと同意義を示す
）、置換基を有してもよいフェニル基、もしくは置換基
を有してもよいベンジル基などである。

本発明の立体特異的微生物還元に供試される微生物は、
長年の経験と数多い成書を参考にして選ぶことができる
。この目的達成のため最も有望と思われる微生物種は酵
母菌であり、ついで放線菌、糸状菌である。

（−ＮＲＩ？Ｌ　ｇｏ５”ｌ） これらの微生物を供試する場合の実験方法は次に示すＡ
、Ｂ法に大別できる。

ム法−供試微生物がよい生育を示す任意の培地に当該菌
株を接種し、１〜２日培養（通常は回転振とう培養−往
復損とう培養でも可−）し、旺盛な発育のみられる時期
に３０〜２００１９％の基質を添加（微細粉末として直
接培地に添加するか、任意の水とよく混和する有機溶媒
１５〜λ０％の範囲にとかず）シ、同一条件で培養を続
は微生物還元を終了させる、いわゆる生育菌体法である
。

たとえばグルコース２％、ポリペプトン１％、イースト
エキス０．１％の水溶液を水道水２００１１１にとかし
５００１１Ｌｌ三角フラスコ２本に１００ｄずつ分注し
１２０　Ｃ，１５１ｂｓ、　２０分高圧殺菌する。

冷却後、菌を同一培地で３日間培養した培養液３に／ず
つ接種し、２８℃１回転振とうする０１日後、旺盛な生
育のみられる時期に、基質を適幽量、適当な水溶性溶媒
に溶かした液を加え２日間培養を続ける。微生物反応終
了時ｐＨ５，８〜シフである。培養液を酢酸エチルで抽
出し粗生成物が得られる。

Ｂ法−供試微生物がよい生育を示す任意の培地に当該菌
株を接種し、２〜４日培養（通常振とり培養−往復振と
り培養でも可）し、菌体を遠心、集菌し、生理食塩水で
２回洗浄する。こうして得た湿菌体１〜５ｆを、１％〜
３０％の糖の水道水溶液に懸濁させ、（Ｌ５時間から２
時間回転（往復）振とり損にかけ馴化させたのち、Ａ法
と同様にして基質を添加し、同一条件で微生物還元を終
了させる、いわゆる菌体懸濁法。ここでは水道水のかわ
りにｐＨ−５，０〜Ｔ、Ｏの緩衝液例えば燐酸緩衝液を
用いても同様の結果か期待できる。

なお、Ａ法における接種菌体、Ｂ法における湿菌体のか
わりに容易に入手可能な生菌体、たとえば市販されてい
る食パン用イースト、菓子パン用イーストなどは目的達
成のため手軽に供試しうるものである。

Ｂ法は微生物還元終了後の抽出操作において、菌体懸濁
液から来る夾雑物がＡ法に比べて少なく、したがって目
的物質の単離・精製が容易であり、かつ収率がよい。虹
にＡ法の生育菌体法では目的とする１次（還元）反応に
ついで２次反応が起りやすく複数の成績体が得られる場
合があるが、Ｂ法の菌体懸濁法では微生物反応が単純化
され、所望の成績体のみを効率よく得ることができる。

たとえば市販パン用イース）２Ｆ（湿菌体）を３ｆシヨ
糖を含む２０１１ｔｌの水道水に懸濁し、３Ｏ−１ｉｏ
分、２８℃で回転振とうする。次いで適量の基質を、適
当な水溶性溶媒に溶かし添加し、微生物反応を行う。反
応開始後１〜２日間経時変化をＴＬＣで確認し、基質残
存の認められる場合にはショ糖１ｔを追加して微生物反
応を完了させる。反応液を酢酸エチルで抽出し粗生物が
得られる。

なおムおよびＢ法において微生物の培養に供しうる培地
は、微生物の旺盛な生育がみられるものであればすべて
本目的を達しうる。これらの培地には天然培地、半合成
培地、合成培地などがあるが、微生物還元活性の高い菌
体を得るためには、天然培地を用いるのが望ましい。天
然培地の１例として、グルコース１〜５％、ペプトン１
〜３％、イーストエキス６．０５〜α５％ｐＨ−ｔ、　
５などがある。この場合、微生物種によってはグルコー
スを蔗糖又は麦芽糖、液糖など他の糖源に、ペプトン、
イーストエキスも同様に大豆粉、ファーマメデアなど他
の窒素源にかえることもできる。更に炭素源、窒素源以
外に無機塩（例えば、Ｆｅ２Ｏ２−７Ｈ２０，Ｍｇ５ｏ
４−７Ｈ２０。

ＺｎＳＯ４−７Ｂ２０など）をα００１〜ａｏ１　％添
加することで菌体の活性化が期待できる。

一般式（２）（式中、Ｒ１およびＲ２は前述したものと
同意義を示す。）を有する化合物は以下のようＫして得
られる一般式＋１７を有する化合物をアルコール、アセ
トンもしくはＤＭＦに溶かすかまたは直接イーストもし
くはかびの培地に添加してＡ法もしくはＢ法により１日
〜５日間培養する。この間時折薄層クロマトグラフィー
などにより化合物１の化合物２への転換をチェックする
。適当時間後、適当な溶媒、例えば、酢酸エチル、エー
テル、ベンゼン、ヘキサン、クロロホルムの様な溶媒で
抽出し、抽出物をカラムクロマトグラフィーもしくは薄
層クロマトグラフィー、または再結晶法などにより所望
の光学活性なアゼチジノン誘導体２を分離精製する。通
常光学活性な化合物２は立体化学の異る化合物の混合物
として得られるが、各々は上述の手段により純粋な化合
物として分離精製出来る。

本発明によって得られる一般式（２）を有する化合物の
一つである（２）は以下の反応により化合物（３）へ導
くことができる。

化合物（３）は特願昭５８−１２７１４３に開示した方
法により化合物（４）が得られる。化合物（４）を％願
昭５８−１２７１４３および特開昭５１１−５１２８６
に開示した方法により抗菌活性を有するカルバペネム誘
導体へ導くことができる。

次に参考例及び実施例をあげて本発明を更に説明する。

本発明はこれらによって限定されるもので社ない。

実施例１゜ ３．４−）ランス−１−（４−メトキシフエニル）−３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−エムと 参考例１で得たｄ４３−アセチルアゼチジノン体１００
　＃を８ｃｈｉｚｏｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｓｓ　ｐｏ
ｍｂｅと伴にＡ法により２日間振とう培養し、酢酸エチ
ル抽出した粗生綱体１４６９をシリカゲル分取用ＴＬＣ
にて分離精製し、シクロヘキサン：酢酸エチル−１＝１
の系でＲｆ−０，３２及びＲｆ−α２３のＵ’／−ラン
プに感応する部分を抽出する。

Ｒｆ−０，３２の部分：３０ｍ９，３．４−）ランス−
１−（４−メトキシフェニル）−３−（１−とドロヤシ
エチル）−４−エチニル−２−アゼチジンｍｐ１３５℃
（酢酸エチル：エーテルより再結晶）Ｃα）　ｐ”　＋
　２０５　”　（ｃ−１＃　ｃａｃｚ、）ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ２３）　ａ　： １．２７（３Ｈ，改、Ｊ１１１１８Ｈ１）。

２．５５　（ＩＨ、ｄＬ　、Ｊ−２Ｈｚ　）　。

１３８（１Ｂ、ｄ４．Ｊ−２及び４Ｈｚ）＃器７５（３
Ｈ，８）１ ４．１〜４５　（Ｉ　Ｈ）。

４６０（ＩＨ，ｔ、Ｊ−２Ｈｚ）。

６．７５〜７．６０（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型）元素分析”　
Ｃ１４”１５”３として 計算ｆ［：　Ｃ，６８，５５；Ｈ，６，１６；Ｎ、５゜
Ｔ１実測値：　ｃ、６１１．３４；Ｈ，６，１８；Ｎ、
５．６９Ｒｆ−（Ｌ２３の部分：　３７１１９．３．４
−シｘ−１−（４−メトキシフェニル）−３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−４−エチニル−２−アセチジノンＨ ｍｐ１５３〜１５５゜ 〔α）Ｄ２２＠−１５１０”　ＣＣ−１、ＣＥＣ１ｓ）
Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）ｃＩｎ’：　３５７０．３２４０
　、１７３５　。

５９Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、）δ： ｔ、４ｓ（ａｎ、ａ、Ｊ−＠Ｈ２）。

２．８４（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２Ｈｚ）。

〜ｚｏｓ（ｏＨ）。

１５０（１Ｈ，ｚ、Ｊ−６Ｈｚ）。

寡７７（３Ｈ，ｇ）。

４．３７（１Ｈ，ｑ−Ｊ−６Ｈｚ）。

４６６（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−２及び６Ｈｚ）。

８．８〜７．６　（４Ｈ、Ａ２Ｂ２型）実施例２ ノｙ 参考例１で得たｄ１３−アセチルアゼチジノン８４０９
をＴｒｉｇｏｎｏｐｇｉｇ　ｖａｒｉａｂｉｌｉｇと伴
にＡ法により２日間振とり培養し、酢酸エチル抽出した
粗生成物１．００　Ｉｔ　ｆをシリカゲル分取用’１’
ＬＣにて分離精製し、シクロヘキサン：酢酸エチル−１
：１の系でＲｆ−Ｃ３２及びＲｆ　−Ｃ２０のＵＶ−９
ンプに感応する部分を抽出する。

Ｒｆ　−（Ｌ３２の部分：３５０ｑ、３．４−トランス
−１−（４−メトキシフェニル）−３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−エチニル−２−アセチル〔α）　’ｎ
”＋　６１　＠（ｃ−１＃　ＣＥＣ２ｓ　）　　＃この
サンプルをエーテル：シクロヘキサンより再結晶を２度
くり返す事により〔α］２２＋２１０°（ｃ”１　。

ｃＨｃｔ３）のサンプルを与える。ＮＭＲは実施例１の
トランス体と一致する。

Ｒｆ−Ｃ２０の部分：２５ＧＷ９．＆４−シスー１−（
４−メ）キシフェニル）−３−（１−ヒドロキシエチル
）−４−エチニル−２−アゼチジノン〔α〕Ｄ！２°−
４０°（ｃ　−１、ｃａｃｌ、、）ｍｐ１２１〜１２２
＠ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ： １．４７（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）。

〜ｚｓ（ＯＨＬ ２．６８（ＩＨ，ｄ、に２Ｈｚ）。

Ｌ１２（ＩＨ，ｄＬ、６．Ｊ、＠及び９Ｈｚ）。

３．７７（３Ｈ，ｇ）。

４７０（ｄ、ｃｌ、、Ｔ−２及び６Ｈｚ）。

４４５（ＩＨ，（Ｌｑ、Ｊ−１１及び９Ｈｚ）。

６．８〜７．６（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型） 元素分析”　Ｃ１４Ｈ１５”ｉｓとして計ｊＥｆｉ［：
　Ｃ，６８，５５：Ｈ，６，１６；Ｎ、Ｌ７１実測値：
　ｃ、６８．５２；Ｈ，８，０４；Ｎ、５．６１１実施
例１ 参考例１で得た（１４３−アセチルアゼチジノン体１１
５８７ｇを８ａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅａ　Ｃｅｒｅｖｉ
ｓｉａｅと伴にＡ法により培養し、酢酸エチル抽出した
粗生綱体２３０　ｌＩ９を分取用ＴＬＣを用い分離精製
し、シクロヘキサン：酢酸エチル−１：１の系にてＲｆ
−０，３２のＵ’Ｖ−ランプに感応する部分を抽出する
。９０■を得る。

（（Ｚ）、ｇｆ＋８５°（ｃ　−１、ｃＨｃｔ、）ＮＭ
Ｒは実施例１で得られた３、４−トランス−１−（４−
メトキシフェニル）−３−（１−とドロキシエチル）−
４−エチニル−２−アゼチジノンのそれと一致した。

実施例本 参考例１により得られる１ｔｓ−アセチルアゼチジノン
９９１９をＫｌｏｅｃｋｅｒａ　ａｆｒｉｃａｎａと伴
にム法により培養し、酢酸エチル抽出した粗成績体１．
２２　Ｆをシリカゲル分取用ＴＬＣを用い分離精製し、
シクロヘキサン：酢酸エチル−１＝１の系にてＲｆ−α
３２のＵＶ−ランプに感応する部分を抽出し７７０１１
１ｉ１をえる。

〔α〕Ｄ２２＋Ｓ２°（ｅ−１ｐ　ｃｕｃｚ、）を示す
結晶をメタノール３ｄから再結晶するとｍｐ　１２１１
〜７℃〔α］２２＋Ｉ　ＴＴ＠（ｃ−１、ｃＨｃｌ　）
の結晶７３０ダＤ　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　５をえる。

ＮＭＲは実施例１で得九λ４−トランス−１−（４−メ
トキシフェニル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４
−エチニル−２−アゼチジノンのそれに一致する。

実施例ｉ ロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼチジノン 参考例１により得られるｄＬ３−アセチルアゼチジノン
ｓｏＷＩｇを８ａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ　ｒｏｇｅｉ
と伴に２日間培養し、酢酸エチル抽出、抽出した粗生綱
体を分取用シリカゲルＴＬＣを用い分離精製してＲｆ−
１３２（シクロヘキサン：酢酸エチル−１＝１）のＵｖ
−ランプに感応する部分を抽出し２８ｗ９を得る。

ＯＨ ＣαＥ：”−５８＠（Ｃ−１、ＣＨＣｌ、）Ｎ　Ｍ　Ｒ
（ＣＤＣｌ２）は参考例１２によって得られるｄｌアセ
チルアゼチジノン体のＮａＢＨ４還元体Ｒｆ−ａ３２の
ＯＨの配位の混合物のそれと一致する。

Ｒｆ−ａ２３の０ｖ−ランプに感応する部分を抽出し１
６〜の龜４−シス−１−（４−メトキシフェニル）−３
−（１−とドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼ
チジノンを得る。

ｍｐ　１６０’ ＮＭＲは実施例１で得られた＆４−シス体のそれに一致
した。

実施例６゜ ノン 参考例４により得られる１−（４−メトキシベンジル）
−３−アセチル−４−エチニル−２−アゼチジノンｙ＠
ｏ　ａ９をＳｃｈｉｚｏｇａｃｃｈａｒｏｍｙｃｓｓｐ
ｏｍｂｅと供にム法により２４時間培讐し、酢酸エチル
抽出した粗生繊体５００９をシリカゲル分取用丁ＬＣを
用いて分離精製し、シクロヘキサ／：酢酸エチル−１：
３の系でＲｆ　−ａ４３及びＲｆ　−ａ３４のＵｖ−ラ
ンプに感応する部分を抽出する。

Ｒｆ　−（Ｌ４３の部分：１５５〜，３．４−）ランス
−１−（４−メトキシベンジル）−３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−エチニル−２−アセチルｍｐＨ°（エ
ーテルより再結晶） 〔α１２Ｄ”＋ｚｚ°　（ｃ−１＃　ｃａｃｚｓ）ＩＲ
（）ｆｕｊｏｌ）ＣＩ！　　：３３８０，３２１！１０
，１７５０゜　６２Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣ１，）δ： １．１１１（３！、ｄ、Ｊ−ＧＨｚ）。

２．３１（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２Ｈｚ）。

器２２（ＩＨ，ｄｔ３．、、Ｔ−５及び２１１ｚ）。

１７０（ＳＲ，ｓ）。

朱９〜４４（ＩＨ，ｍ）。

ＬＩＴ（ＩＨ，Ｌ、、ｒ−１５１ｆｚ）及び４．５９Ｃ
ＩＨ，６，Ｊ−１５Ｈｚ）。

１Ｌ７０〜７．２５（４Ｈ，Ａ２Ｅ２型）元素分析”１
５Ｈ１７”５と１．て 計算ｆｉｉ：　ｃ、６ｓＬ４８；Ｈ，６，６１；Ｎ、！
Ｌ４０チ実測［：　Ｃ，６９１５：Ｈ，６，４５；Ｎ、
翫５８チＲｆ　−（Ｌ３４の部分：　１！１Ｂ１１９　
、　＆　４−Ｖｘ−１−（４−メトキシベンジル）−３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼ
チジン〔α〕２２°−ｓｙ’　（ｃ−１、ｃＨｃｔ　）
ＮＭＲ（ｃｐｃｔ！Ｉ）δ： １．４！Ｉ（３Ｈ，ｄ、Ｊ−１１１’ｆｚ）。

１５５（ＩＨ，（１，Ｊ−２Ｈｚ）。

２．１１０　（ＯＨ）　。

１１７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−６及び７Ｈｚ）。

ｔｇｓ（ｘｉ、ｇ）ｓ １８５〜４４０　（２１１ｔ　、ｍ　）。

４０（１′Ｈ，ｄ、Ｊ−１５Ｈｚ）、及び４、Ｉ（ＩＨ
，（Ｌ、Ｊ−１５Ｈｚ）。

１７〜１．２５（４Ｈ，ム２Ｂ２型） 実施例Ｔ。

２ヱ 参考例４で得た１−〔４−メ）＝？ジベンジル〕−３−
アセチルー４−エチニル−２−アゼチジン７３００　ｊ
ｌＰを８ａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅａ　ｆｅｒｍｅｎｔａ
ｔｉと４午にＡ法により２日間培養し、酢酸エチル抽出
した粗生遺体５１４即をシリカゲル分取用’Ｉ’ＬＣを
用いて分離精製しシクロヘキサン：酢１１１Ｌｆｋ−１
：３の系テＲｆ　−（Ｌ４３及びＲｆ　−（Ｌ３４のｔ
ｙｖ−ランプに感応する部分を抽出する。

Ｒｔ　−（Ｌ４３の部分：１０２１９ 〔α）　’、”　＋５＠（Ｃ−１、ｃＥｃｊ３）ＮＭＲ
は＆４−トランスー１−（４−メトキシベンジル）−３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼ
チジノンの１−／Ｓイドロキシ基の２つの配位のまざり
である。

Ｒｆ−α３４の部分：８４Ｗ＃９ ＮＭＲ拡実施例６のλ４−シス体のそれと一致し０Ｈｚ 実施例＆ 参考例８で得たジアステレオマー（２）から得られた参
考例９の１−（１−ベンジルオキシカルボニルプロプ−
１−エニル）−３−アセチル−４−エチニル−２−アゼ
チジノン（〔α）、＋１ｇ＠）ｓｏａ５＋を８ａｃｃｈ
ａｒｏｍｙｃｅｓ　ｃｅｒａｖｉｇｉａｓと伴ＫＡ法に
より２日間培養し、酢酸エチル抽出物９１．５１９をシ
リカゲルクロマトグラフィーに付し、シクａヘキサン＝
酢酸エチル−１：１の系でＲｆ　−０，２６及び（Ｌ２
０の部分を単離する。

Ｒｆ　−ａＨの部分：１７ｍｇ、３．４−）ランス−１
−（ｌ−ヘンジルオキシカルボニルプロプ−１−エニル
）−３−（１−ハイドロキシエチル）−４−エチニル−
２−アゼチジノン ＮＭＲ（ｃｖｃｌ、）δ： １．３１（３１１，ａ、Ｊ−８Ｈｚ）。

１．９２（３Ｂ、ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）。

Ｌ４２（ＩＨ，６，Ｊ−２Ｈｓ）。

１３７（１１、ａｄ、、Ｔ−５，４及び２Ｈｚ）。

４．１〜４．４（１町Ｌ ４７５（ＩＨ，ｔ、Ｊ−２Ｈｚ）。

５．２０（２Ｈ，ｇ）。

７．０５（ＩＩＩ、ｑ、Ｊ−７！ｉｚ）。

１．２〜Ｔ、Ｓ　（５１、ｂｒ、ｇ　、　）Ｒｆ−α２
０の部分：１０即、３，４−シス−１−（１−ベンジル
オキシカルボニルプロプ−１−二二ル）−３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−４−二チニルー２−アゼチジノン ＮＭＲ（ｃｐｃｔ！りδ： １．４０　（３Ｈ、（Ｌ　、Ｊ−ＧＨｚ　）　。

１、＠１（３Ｈ，ｄ、Ｊ−ＴＨｚ）。

２．５２（ｌｌｉ、ｄ、Ｊ−２Ｈｚ）。

１３７（ＩＨ，ｔ、Ｊ−５，５Ｈｚ）。

４１〜４５（１１゜ ４１１＠（ＩＨ，ａａ、、ｒ、２及び５．５　Ｈｚ　）
　ｓ器１ｓ（２Ｈ，ｓ）。

７．０２（ＩＨ，ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）。

７．３２（ＳＲ，ｂｒ、ｓ） 実施例９ ゼ争ジノン 参考例８により得られるジアステレオマー（１１から得
られた参考９１１　！ｌの１−（１−ベンジルオキシカ
ルボニルプロプ−１−エニル）−３−ア七チルー４−エ
チニルー２−アセチジノン（（（Ｘ）　　−１１１°（
ｃ＝ｏ、ｓ　、　ＣＦｉＣ１５）７０１１Ｐを８ａｃｃ
ｈａｒｏｍｙｃｅｓ　ｃｅｒｅｖｉｓｉａｅ　　と共に
２日間培養し、酢酸エチルで・抽出し、抽出物１３０１
１１ｐをシリカゲルクロマトグラフィーに付しシクロヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１の系でＲｆ＝　１）、２ｇ
及び０．２０の部分を単離精製する。実施例８で得らｈ
たＲｆ　＝　（Ｌ２　ｇの部分１５■、Ｒｆ＝０．２の
部分１０■を得る。

実施例１０ （１−ヒドロキシエチル）−４−二争二ルー２−　参考
例１０でＬ−セリンを出発物質として得＆１−（２−ヒ
ドロキシ−１−ペンジルオキシカルボニルエ争ル）−３
−アセチル−４−エチニル−２−アゼチジノン（ジアス
テレオマー（１））ｓｏｉｈ９を８ｃｈｉｚｏｓａｃｃ
ｈａｒｏｍｙｃｅｓ　ｐｏｍｂｅと伴にＡ法により２日
間培養し酢酸エチルで゛抽出し、抽出物１４２■をシリ
カゲルクロマトグラフィーに付し、塩化メチレン：酢酸
エチル＝３　：　１ノ系でＲｆ＝０．２４に対応する部
分を単離精製し、１−（２−ヒドロキシ−１−ベンジル
オキシカルボニルエチル）−３−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４−エチニル−２−アゼチジノン２５ＷＩ９を得
る。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣ１５１δ：　１．３！１（３Ｈ，ｄ
、、７＝＝６Ｈｚ）、２．５８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
ｌ、　　３．３４（ＩＨ，ｔ、：ｒ＝５−６Ｈｚ）、１
９〜４．３（４Ｈ。

ｒｎ）、４．４４（ＩＴｉ、（１（１，Ｊ＝５．６及び
２Ｈｚ）。

５．１　　９（２１ｉ、　　　８１．　　　７．３０（
５Ｈ，日　　）実施例１１ 参考例１０によりＬ−セリンを出発物質として得た６０
■の１−（２−ハイドロキシ−１−ベンジルオキシカル
ボニルエチル１−３−７セチルー４−エチニル−２−ア
ゼチジノン（ジアステレオｆｆ　−（１１）をＥｌａｃ
ｃｈａｒＯｍ７ｃｅｓ　ｆｅｒｍｅｎｔａｔｉと共にＡ
法により２日間培養し、生碩体を酢酸エチル抽出ａＳ媒
留去し８１■の粗抽出物をえる。塩化メチレン：酢酸エ
ール＝３：１の系でシリカゲルＴＩ＋Ｃを行いＲｆ＝０
．２４に対応する所望の化合物２０■を得る。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＯＤＣｊｔ５）ａ　：　１．３３（３Ｈ，
（１，Ｊ＝６　Ｈｚ）、２．４４（ＩＨ，ｄ、：ｆ＝２
Ｈｚ　）、１３０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：６及び２Ｈ２）、
ｔｚｚ（ｔＨ。

ｔ、　　、Ｔ＝２Ｈｚ）、　　３．８〜４．４（４Ｈ，
Ｉｎ）、　　５．１９（２Ｈ，Ｆ３）、７．３３（５Ｈ
，８）。

実施例１２ ３．４−トランス−１−（４−メトキシフェニル）−３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼ
チジノン （１４３，４−トランス−１−（４−メトキシフェニル
）−３−ア七千ルー４−エチニルー２−アゼチジノン１
００１１ｖを成熟パン酵母ｓａｃｃｈａ−ｒｏｍｙｃｅ
ｓ　ｃｅｒｅｖｌｓｌａｅ　　と伴にＢ法により２４時
間培養する。この間シヨ糖を添加する。酢酸エチル抽出
し、粗生成物１９２■を得る。シリカゲル分取用ＴＬＯ
Ｋで分離精製しシクロヘキサン：酢酸エチル＝１：１の
系でＲｆ＝＝０．５及びＲｆ＝０．３２のσＶ−→ンプ
に感応する部分を抽出結晶、エーテル−ｎ−ヘキサンよ
り再結晶ｍｐ９７’Ｃ （（Ｉｆ）　　−１２０’　（Ｃ＝１３　、　０ＨＣ１
ｓ）光学活性ｆＪ３−アセチルアゼチジノン体得らｈた
。

ＮＭＲけｄ／！、１−（４−メトキシフェニル）−３−
アセチル−４−二争二ルー２−アゼゆジノン（参考例１
）のそれに一致する。

Ｒｆ＝０．３２の部分　４２１１；１ 結晶、酢酸二チル：エーテルより再結晶ｍｐＮＭＲは実
施例１の３．４−）→ンスー１−（４−メトキシフェニ
ル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−
２−アゼチジノンのそ幻に一致する。

同様の結果は成熟Ｅｌａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ　ｒｏ
ｓｅｉを用いた場合にも得られる。

実施例１３ エチニル−２−アゼ牛ジノン及び３．４−シス′″１−
（４−メトキシフェニル）−３−（１−牛ジノン 参ＩＰＩ　１１ｃよ抄得られるｄｔ　３−アセチルアゼ
チジノン体ｓｏｑをＴｒｉｃｈｏｓｐｏｒｏｎ　ｐｅｎ
ｉｃｉ−１１αｔｕｍ　　と伴にＢ法により２４時間培
養する。

酢酸エチルにて抽出後、溶媒を減圧濃縮し、粗生碩体Ｉ
０．５Ｒ９をシリカゲル分取用ＴＬＯにて分離ｆｆＷし
、シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：１の系にてＲｆ＝
０．３２及びＲｆ＝＝０．２３　０ＵＶ−ランプに感応
する部分を抽出する。

２２’ 〔α）　　＋１４４°（Ｃ＝１．　ｃＥｃｔｓ）ＮＭＲ
け実検ｆＩ１１の３．４−ト丹ンスー１−（４−）トキ
シフェニルｌ−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−エ
チニル−２−アゼチジノンのそれに一致する。

２２゜ 〔α）Ｄ　−１ｓｔ’（ａ＝　１．ａＨｃｔｓ＞ＮＭＲ
は実施例１の３，４−シス−１−（４−メトキシフェニ
ル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−エチニル−
２−アゼチジノンの七ｈＰｃ一致する。

実施例１４ 参考例ＩＫより得らり、るｄｔ　３−アセチルアゼチジ
ノン体１００１１９　Ｐｉｃｈｉａ　ｔａｒｒｉｃｏｌ
ａ　　と伴ＫＢ法により培養り、　（２４時間）、生績
体を酢酸エチル抽出する。粗抽出物１３！１１Ｒ９をシ
リカゲル分取ｍＴｌｌ０を用いシクロヘキサン：酢酸エ
チル＝１＝１の系にてＲｆ＝＝０．３２の部分とＲｆ＝
０．２０の部分を分離精製する。

Ｒｆ＝０．３２の部分：　４Ｂ、８ｗ９．　　（（り　
　＋１８４゜ＮＭＲｄ実Ｉｓ例１　〕３．　４−　ｈ−
ｔｙｘ−１（Ｐ−メトキシフェニル）　−３−（１’−
ハイドロキシエチル）−４−エチニル−２−アゼチジノ
ンのそれに完全に一致する。

Ｒｆ＝０．２０の部分：１４！Ｒ９（α）　　−１４４
６ＣＯ＝１゜ＯＨＯＨＣ１ ５）Ｎは実施例２の３，４−シス−１−（４−メトキシ
フェニル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−エチ
ニル−２−下ゼチジノンのそれに一致する。

実施例１５ 牛ジノン 参考例１により得々ｄｔ−３−アセチルアゼ争ジノン体
ｔｏｏｑをｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｃａｔｔｌｅｙ
ａとともＫＢ法によシフ４時間培養し、生績体を酢酸工
牛ルにて抽出する。溶媒を減圧留去して粗生繊体１２５
．６■をシリカゲル分取用ＴＬＯにて分離精製し、シク
ロヘキサン：酢酸エチル＝１：１の系にて、Ｒｆ：Ｑ、
３２及びＲｆ＝０．２ＯσＶランプに感応する部分を単
離抽出する。

＝　１　、　　ｃＨａｔｓ） ＮＭＦｊけ実施例１の３．４−にランス−１−（４−メ
トキシフェニル）−３−（１−ヒドロキシエチル）−４
−二牛二ルー２−アゼチジノンのそれに一致する。

＝　１　、　　ＣＨＯＬｓ） ＮＭＲけ実施例２の３，４−シス体のそれに完全に一致
する。

実施例１ｇ ヒドロキシエチル）−４−エキニル−２−アゼ井ジノン 参考例Ｉ　Ｋより得たｄｊ　−３−アセキルアゼチジノ
ン誘導体１００１Ｎ；１をＡｓｐｓｒｇｉｒｒｕｓ　ｎ
ｉｇｅｒとともＫＢ法により培養し、生績体を酢酸エチ
ルにて抽出し、粗生繊体１２９１１Ｉ９を得る。シリカ
ゲル分取用ＴＩＪＣを用いてシクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝１＝１の系にてＲｆ＝＝０．３２及び０．２３の部
分を分離精製する。

Ｒｆ＝０．３２の部分：１７．３■　〔α）　　＋１４
３゜ＮＭＲけ実施例１の３，４−トランス−１−（Ｐ−
メトキシフェニル１−３−　（１’−ハイドロキシエチ
ル）−４−エチニル−２−アゼチジノンのそれに一致す
る。

２２゜ Ｒｆ＝０．２３の部分：ｌ１１３１１１９（α〕−６８
°（ａ＝１、　　ｃＦｌａｔｗ） ＮＭＲけ実施例１の３，４−シス体のそれに完全に一致
する。

実施例１Ｔ ジルｌ−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−牛ジノン 参考例４により得た３−アセチル体２０ＱＩＩＧｌを８
ａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ　ｃｅｒｅｖｉｓｉａｅ　　
と共ＫＡ法により３０時間培養し、酢酸エチル抽出する
と粗生繊体２０８■を得る。これをシリカゲル分取用Ｔ
ＬＣを戸いて分離精製し、シクロヘキサン：酢酸工牛ル
＝１：２の系にて１２ｆ＝０．３５及び０．２６の部分
を分離する。

ｃＨＯｔｇ） ＮＭＲは実施例６の３．４−トランス体のそＭｅ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｃＤｏｔｓ）δ　：　　１．４０（３Ｈ，
ｄ、　　Ｊ＝８．５Ｂｇ）、　　２．５５（ＩＨ，６，
Ｊ＝２Ｈ２）、　　２．４０（ＯＨ）。

Ｌ２２（ＩＨ，＋１（Ｌ、Ｊ＝５．５及び９Ｈｚ）、　
　３．７５（３Ｈ，８）、　　１９〜４４（２Ｈ）、　
　３．９７（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝−ｔｓａｇ）及び４６４．　（１Ｂ、ｄＬ、　Ｊ＝
１５Ｈｚ）。

６．７〜７．２５（４Ｈ，ム２Ｂ２型］実施例１８ 参考例１７４Ｃよシ得た３−丁セチルアゼチジノン体３
３０１１９を８ａ（Ｂｃｈａｒ□ｍｙｃｅｓ　ｃｅｒｅ
ｖｉｓｉａｅ　　と伴にＡ法により４８時間培養する。

酢酸エチルにて抽出し、粗生成物２８４■を得る。シリ
カゲル分取用ＴＬＣにて分離精製し、シクロヘキサン：
酢酸エチル＝２：１の系でＲｆ＝０．２４のＵＶ−→ン
プに感応する部分を抽出し、３３■を得ル。　　（ａ）
Ｄ−３ｏ０＜ａ＝１．　ｃＨａｔｓ）Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ
ＯｌＳｌ　　δ　：　　０．１５（９Ｈ，Ｓ　）、　１
．２８（Ｌ５Ｈ，ｄ、Ｉ＝６Ｈｚ）、１．３１（１，５
Ｅ、６．Ｊ＝６Ｈｇ）、　　３．２５〜３．４５（１Ｈ
）、３．７２（３Ｈ，８）。

３．９〜４．３（ＩＨ）、４．３Ｂ（０，５Ｈ，ｄ、　
　Ｊ＝２．５Ｆｉｚ）。

４５２（０，５Ｈ，６，Ｉ＝２．５Ｈｚ）、　　６．Ｔ
　〜７．５（４Ｈ。

Ａ２　Ｂ２型） 参考例１ プロパルギルアルデヒド４ｆをベンゼン５゜ｄに溶解し
、９２のバラ−アニシジン及び４Ａのモレかユ→−シー
ブ（約４Ｐ３を加１２０’ｅ、３０分間攪拌する。反応
液をＦ遇し、Ｆ液の溶媒を留去（減圧下）シ、残渣を６
０Ｒ／の無水塩化メチレンにとかし、イミダゾール４．
３ｆを加えて全系を窒素下−２０℃にする。ジケテン７
、８’　ｆを一２０°〜−１０℃にてゆっ〈シ加える。

反応温度を約２時間かけ２０℃に上げ、４０ｄの塩化メ
チレンを７ＪＯえ、水洗、希塩酸水洗、水洗し、Ｍｇ８
０４上乾燥。

溶媒留去後所望の目的化合物をシリカゲルラビット・ク
ロマトグラフィー（溶媒系ニアクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝３：１）に付し単離精製する。５．７ｆを得る。

ＴＬＯ，Ｒｆ＝０．５（シクロヘキサン：　酢酸エチル
＝１：１） ｍｐＨ５°（エチルエーテルよシ再結晶）Ｎ　Ｍ　Ｒ（
ＣＤＯｔＳ）δ：　２．３５（３１１１，Ｅｌ）、　　
２．５０（ＩＨ，ｄ、　：ｒ＝２Ｈｚ＞、　　３７５（
３Ｊ　１ｉｌ）、　　４．３３（ＩＨ，６，！＝２Ｈｚ
）、　　４．９１（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝２Ｈｚ）。

ＬＴ〜７．５（４Ｈ，ム２Ｂ２型） Ｘ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）ｃｌＬ、　１７８０．　１７２０
．　２１００参考例２ プロパルギルアルデヒド５ｏｏ■を１０１１１１のベン
ゼンに溶解し、Ｍｇ８０４１　ｆを加える。攪拌下更に
ベンジルアミンｓｓｏｍ９を加え、２０’Ｃ２時間攪拌
。反応液の不溶物をＦ去し、減圧下溶媒を留去し、残渣
を無水塩化メチレンＩＳＭに溶解し、５５５１１５７の
イミダゾールを加え、全系を窒素雰囲気下−２０℃に冷
却する。これに注射器にて１罰のジケテンを−２０’〜
−１０’で別え、ゆつ（シと反応温度を１０″’ＧＫ上
げる（約２時間）。２０ｍ１の塩化メチレンを加え、水
洗、希塩酸水洗、水洗し、抽出液をＭｇ８０４上乾燥す
る。溶媒留去後、所望の目的化合物をシリカゲル　ラビ
ット　クロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝５　：　１）に付し１箪離精製する。７２０〜を得
る。油状物質。

Ｔ　Ｌ　Ｏ，Ｒｆ＝０．３１　（シクロヘキサン：酢酸
エチル＝２：１） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＯＤＯｌｓ）ａ　：　２．３０（３Ｈ，Ｓ
）、　　２．４９（ＩＨ，ｔｌ、　、Ｔ＝２Ｈ２）、　
　４．１３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５１１１ｇ）及び４．
６１１（ＩＨ，ｄ、　Ｉ＝１５Ｈｚ＞。

４．２９（１Ｈ，ｔｌ、　Ｊ：２Ｈ１１，４，４９（１
）１．　　ｔ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　　７．３４（５Ｈ，ｂｒ、ｓ、）参考
例３ ３．４−ト今ンスー１−（α−メ千ルペンジ＋ジノン プロパルギルアルデヒド５００１１１９のＳｍＡ無水ベ
ンゼンインに１ｔの４Ａモレキユラーシーフツ存在下←
）Ｄ−フエ庫牛ルアミン１．１２ｆを加え、２　Ｇ’Ｃ
２時Ｖ攪拌する。反応液の不溶物を戸去し、減圧下溶媒
を留去し、残渣を無水塩化メチレン２０ＭＩＫｆｌ！屏
し、イミダゾール０．５６Ｆを加え、全系を窒素雰囲気
下−２０’Ｃになし、同温にて１縦のジケテンをゆっく
り加え、反応温度を３時間かけて１０℃とする。塩化メ
チレンで希釈し、水洗、希塩酸水洗、水洗後Ｍｇ８０ｔ
にて乾燥。溶媒留去後、残渣をシリカゲル、ラビットク
ロマトグラフィーに付しシクロヘキサン：酢酸エキル＝
１：１にてＲｆ＝０．７０に対応する目的化合物１．１
５Ｐを単離する。

当該生成物は約１：１のジアステレオマーのまざりであ
るが、これを丁寧にシリカゲルクロマトグーｙフィー、
ないしはローパーカラムにて分離する事により２つを分
離する事が出来る。

異性体１゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（０ＤＣｊｔ５）δ：　１．７０（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　２．２６（３Ｈ，ｓ　）２．３
８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４．４〜４．７５
（ＩＨ，ｍ、）、　　７．２５（ＳＲ，Ｅｌ、）。

４．１５（ｌｌ’！、　（１，Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４．
３５（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝　２　Ｈｚ　） 異性体２ Ｎ　Ｍ　Ｒ（０ＤＯｔ３）δ：　１．８ｇ（３Ｈ，＋１
．　：ｆ＝ＴＨｚ）、　　２．２４（３Ｈ，８）、　　
２．３１１（ＩＨ，ｃｌ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４．１
５（ＩＨ，ａ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４．３５（Ｉ　Ｈ
＝　ｔ　ｓ　Ｊ　＝２　ＨＺ　）　ｅ　　４８９　（Ｉ
　Ｈｌｑ　、Ｊ＝７Ｈｚ） 参考例４ プロパルギルアルデヒド１ｆを１５１Ｌｌの無水ベンゼ
ンに溶解し、２．２８ｆのＰ−メトキシベンジルアミン
を加え、さらに６ｔのＭｇ８０ａを麿えて３０分間室温
下攪拌する。反応液の不溶物を戸去し、減圧上溶媒を留
去し、無水塩化メチレン３０ｄを茄え、古らに１．２８
ｆ　　のイミダゾールを別え、全系をＮ２雰囲気下−２
０℃に冷却する。同温にて１．５４ｍのジケテンをゆっ
くり加え、約１．５時間かけ、反応温度を一２０℃かｃ
−１０℃にする。減圧工大部分の塩化メチレンを留去し
、酢酸エチルを加え、水洗後Ｍｇ　８０４にで乾燥。溶
媒留去後Ｒｆ＝：Ｑ、４（シクロヘキサン：酢酸エチル
＝１：１）に対応する目的化合物をクロマトグラフィー
にて分離精製し油状物質９８０■を得る。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣ１５）δ：　２．２３（３Ｈ，ｓ）
、　　２．５５（１！Ｉ、　ｔｌ、　Ｉｍ２Ｈｚ）、　
　１７Ｇ（３Ｈ，８）、　　４．０（ＩＨ，ｄ、　Ｉ＝
１５Ｈｚ）及び４．５２（ＩＨ，（Ｌ、　　Ｊ＝１５Ｈ
ｚ）、４．２２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４．
３Ｂ（１Ｂ、　ｔ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　６．７〜７．
３（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型） Ｉ　Ｒ（Ｌｉｑ）　ｃｍ　　、　１７６２．１７１５．
２１２０参考例５ ｄｔ３，４−トランス−１−（２，４−ジメプロパルギ
ルアルデヒド１ｆの１５ｍ無水ベンゼンＩ１ｇＫ、別途
２，４−ジメトキシベンジルアミン塩酸塩２．４８Ｆか
ち得７’？２．４ジメトキシベンジルアミンの１５１ｔ
ｊベンゼン溶液を加え、７Ｆの無水Ｍｇ８０４を加えて
室温３０分攪拌する。反応液の不溶物を戸去し、減圧上
溶媒を留去し、無水塩化メチレン３（Ｉｍに溶解し１．
５ｆのイミダゾールを加え、全系を窒素雰囲気中−２０
℃に冷却する。−２０’〜−１０℃　にてジケテン１．
８　ｔｎｌをゆつ〈抄注加し、約１時間かけて反応温度
を１０℃とし、減圧上溶媒を留去し、酢酸エチルを加え
、水洗、ＭｇＳＯ４にて乾燥。

溶媒留去後Ｒｆ＝０．３３　（シクロヘキサン：酢酸エ
キシ＝１　：　１　）Ｋ対応する目的化合物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーを用いて単離精製し油状物
質ｙｏｏ■を得る。

工Ｒ（Ｌｌｑ、）α　、２１２Ｇ、　　１７６０．　１
７１ＯＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ０１５）δ　：　　２．２５（
３Ｈ，８１，２，４４（ＩＨ，（１，Ｊ＝２１１１！１
．　３．７５（ＳＲ，Ｅｌ、　　４．０５（ＩＪ　６．
Ｊ＝ＩＳＨｚ１及び４５１１（ＩＨ，ｄ、　、Ｔ＝１５
Ｈｚ）、　　４．２０（ＩＪ　　ｄ、　　、Ｔ＝２Ｈｚ
）、　　４．３８（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　
６．３〜６．６　　（２ｉｉ、　　ｍ）。

８．９５−７．２１１（ＩＨ，ｍ　） 参考例６ 参考例５の２，４ジメトキシベンジルアミンの代９に３
．４−ジメトキシベンジルアミン５ｆ、プロパルギルア
ルデヒド２１．イミダゾール３ｆ、及びジケテン３．６
面を使用して参考例５と全く同様に反応古せ所望の首記
化合物１．４２を得る。

Ｒｆ＝０．２４（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：１
） 工Ｒ（Ｌｉｑ）ｃＩＴ、　２１２０．　１７６２．　１
７１ＯＮ　Ｍ　Ｒ（０ＤＣ１５）δ：　２．２６（３Ｈ
，Ｂ　）、　２．６０（ＩＨ，ｃｌ、　　、７　＝ｊＨ
２）、　　３．８０（６Ｊ　　８　）、　　４．０（Ｉ
Ｈ，ｄ、　、Ｔ＝１５Ｈ２）及び４．５５（ＩＨ，ａ、
　；ｒ＝１５Ｈ２）、　　４．２８（ＩＨ，ｅＬ、　　
Ｊ＝２Ｈｚ１．　４．４１（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝２Ｈｚ
）、　　６．７１（２Ｈ，８３，７，４０（１１１１，
８） 参考例Ｔ ４００１１１ｐのプロパルギルアルデヒドのｊ（１ｍベ
ンゼン溶液にクミルアミンａ　ｓ　ａＷＩ９を加え、２
ｔのＭｇＢＯａ　の存在下攪拌３０分。反応液の不溶物
をＦ去し溶媒を留去し、無水塩化メチレンにとかし５［
３１Ｒ９のイミダゾールを加える。窒素雰囲気中全系を
一２０℃に冷却１１．．０．６２ｍ／　のジケテンを加
え、１６５時間かけ、反応温度を１０℃とする。減圧下
溶媒留去し、酢酸エチルを加え水洗。生成物はシクロヘ
キサン：酢酸エチル＝３：１の系にてラビットクロマト
グラフィーに付し目的化合物２８３■を得る。

Ｒｆ＝＝Ｑ、５１　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１
＝１） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ＋、ｔ３）δ：　１．７８（６Ｈ，Ｅ
ｌ）、　２．２６（３Ｈ，Ｓ）、　　２．３３（ＩＨ，
ｄ、　、Ｔ＝２Ｈｚ）、　４．１１（ＩＨ，ｄ、　！＝
２Ｈｚ）、　　４．５４（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝２Ｈｇ）、
７．１〜７．４（ＳＲ，８１ 参考例８ １１　　ｔｏｏ■のプロパルギルアルデヒドの３０１ベ
ンゼン溶液に別途Ｓ、　Ｍ、　Ｔｅｎｎｅｓｏｎ及びＢ
。

Ｂｅ１ｌｅａｕ、　　Ｃ！ａｎ、　Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　
５８　１６０５（１９８０）の方法により合成した１４
１のＬ−スレオニン−０−ター７ヤリープチルジメチル
シリルベンジルエステルを５ｆのＭｇＥｉ０４　の存在
下加え、室温にて３０分攪拌後減圧下溶媒を留去する。

３０Ｉ！／無水塩化メ千レンに溶解し、５ｏｏ１ｎ９の
イミダゾールを加えてから全系を窒素雰囲気中−２０℃
に冷却する。１．１ｆのジケテンを一り０℃〜−１０’
にて加え、約２時間かけ反応温度を１０℃とする。１０
０−の酢酸エチルを加え、水洗５回、有機層はＭｇ　８
０４　上乾燥後、減圧下溶媒留去。シリカゲルラビット
クロマトグラフィーに付しＴＬＣ上Ｒｆ＝０．６（シク
ロヘキサン：酢酸エール＝２　：　１　）Ｋ対応する化
合物１，１ｆを得る。

Ｘ　Ｒ（Ｌ　ｉ　ｑ　）ｃＲ１２１２０＋　　１７７０
　ｖ　　１７４２　＊当該化合物は２つのジアステレオ
マーのｔざりであり、以下の２）の方法によシ分離町。

２）１）の方法により得た化合物１．１１を１５ｍのア
セトニトリルに溶解し、水冷下ＢＦ３−エーテ→−）　
０．３　ｍ／を加える。１５分後ＴＬＣにて脱シリル化
が完全に進行した事を確かめてから、酢酸エチル４０ｒ
ｕｌを加え水洗。Ｍｇ８０４にて乾燥後溶媒留去し生成
物をラビット　クロマトグラフィーに付し、分離精製し
目的化合物を得る。

シアステＬ／、ｌ？−Ｆ　−（１１Ｒｆ：０．３”ｉ　
　６３０１ｎ９を得ル。　　（シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝１：工Ｒ（Ｌｉｑ）ｃｍ　　−〜３２００．〜３
３００゜２１３０、　１７５０．　１７４０．　１７２
ＯＮ　Ｍ　Ｒ（０ＤＣ１５］δ：　１．２７（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝５Ｆｉｚ）、１２９（３Ｈ，８）、２．５０（
ＩＨ，ｄ、！＝２Ｈｚ＞、３．９９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４
Ｈ１，４２５（ＩＨ，ｄ、　！＝２Ｔｉｚ）、　　４．
７３（ＩＨ，ｔ、　！＝２Ｈｚ）、　　４．２〜４．６
（１１，ｍ、１．　５．１９（２Ｈ，Ｓ）。

７．３５（５Ｌ　Ｂｌ ジアステレオマー＋２１　　Ｒｆ　＝　０．２６　３６
０即を得る　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
−１。

工Ｒ（Ｌｉｑ）備　、〜３２００．〜３３００゜２１３
０、１７６０．　１７４０．　１７１９Ｎ　Ｍ　Ｒ（（
：ｊＤＣ１５）δ：　１．２６（ＳＲ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、２．３０（３Ｈ，８１，２，４６（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝２Ｈｚ）、４．１３（１Ｊ　ｌ、Ｊ＝４Ｈ２ｌ、４．
３５（１Ｈ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈ２１，４，８９（ＩＨ，ｔ
、　Ｊ＝２Ｈｚ）。

５．２０（２Ｈ，８）、７．３５（５Ｈ，８１参考例９ ３．４−トランス−１−（１−ベンジルオキ参考例８で
得たジアステレオマー＋１１６３０＃を１０ｍの無水塩
化メ争しンに溶解し、２２０！ｎ９のトリエチルアミン
を加える。この溶液に２５０■のメシルクロリド（メタ
ンスルホニルクロリド）をゆっくり加え２０分間攪拌。

ジアステレオマー（１）の消失するのを確認してから、
塩化メ争しンを加え水洗。Ｍｇ　ｓｏＡ上乾燥後、生成
物を７リカゲルクロマトグラフイーにて分離し３００■
の目的化合物を得る。

Ｒｆ＝０．５（シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：　１
　） ｙ　Ｍ　Ｒ（ａＤｏｔｓ）δ：　１．８！１（３Ｂ、　
（Ｌ、　、Ｔ＝６ＥＦ）、２．２１５（３Ｌ　Ｂ’）、
２．４４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４．２８（１
１１，ｅＬ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　５．１０（ＩＨ，ｔ
、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　５．１８（２Ｈ，８）、　　７
．０５（ＩＨ，ｑ、　Ｊ＝６Ｔｌｚ）、　　７．３５（
ＳＲ，８）２２゜ 〔α〕−１８°（ｃ　＝　ｏ、ｓ、　ａＨｃｔ５）参考
例８で得ｔジアヌテレオマー（２）３６０１１Ｔ９を上
の伊と同様に処理し、所望の首記化合物１５０■を得る
。

Ｒｆ＝（Ｌ５　（シクロヘキサン：酢酸エチル＝２：１
） 工Ｒ（Ｌｉｑ）ｃＲ−２１１０＋　　１７６５，１７２
０゜２２″ 〔α〕＋１８°（０＝　１　、　０Ｂ０１５）なお参考
例８及び９けＤ−スレオニン誘導体を用いても同様に反
応が進行し、それぞれ対応する化合物を与える。

参考ｆｌｌｌ。

１１　４０ＯＮ？のプロパルギルアルデヒドの１０ｄ無
水ベンゼン溶液にＣａｎ、　Ｊ、　Ｃｉｈｅｍ　５８１
６０５（１１８０）の方法に順じて合成した１、４ｆの
ベンジル−Ｌ−七すンー〇−ターシャリーブチルジメチ
ルシリル−エステルを４ｔのＭｇ８０ａ　ｏ存在下加え
、室温にて２０分間攪拌後濾過しろ液を減圧下留去。無
水塩化メチレン２０化溶解し、全系を窒素雰囲気にて一
２０℃となし、０．１ｉ７ｉｔ／のジケテンをゆつ〈シ
加える。反応温度を２時間かけ＋５°となし、酢酸エチ
ル６５−を加え、有機層を水洗、希塩酸水洗、水洗しＭ
ｇ８０４にて乾燥。留去後粗生成物をシリカゲルラビッ
トクロマドグラフイーに付し、シクロヘキサンニ酢酸エ
チル＝４：１の展開系にて展開し所望の化合物７５０１
！Ｉ９を得る。

Ｒｆ＝Ｏ，ＳＣシクロヘキサン：酢酸エチル＝２：　１
　） 工Ｒ（Ｌｉ（１１ａｎ　　　、　２１２０．　１７ＴＯ
，１７４５゜当該化合物は２つのジアステレオマーの混
合物てあり、以下の２）の方法により分離する。

２）１）の方法により得た化合物７５０１１９を１０−
の了セトニトリルに溶解し、Ｑ、ｓｙのＢＦｓ−エーテ
丹−トを氷冷下加える。１５分後ＴＬＣ！にて脱シリル
化が完全に進行した事を確認後、酢酸エキシ４ｏａｔを
加え水洗、ＭｇＳＯ４にて乾燥後溶媒留去。分取用シリ
カゲルＴＩ、０にて２つのジアステレオマーである目的
化合物をそれぞれ分離精製する。

ジアステレオマー（ｔｌ：２３０■、Ｒｆ＝０．５５（
塩化メキレン：酢酸エチル＝３：１）−１。

ＩＲ（Ｌｉｑ）ｃｍ　　、〜３４４０．　３３００．　
２１２０゜１７６５、　１７４０．　１７２Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣ１５”）δ：　２．２９Ｃ３Ｔｉ、
　８）、　　２．４６（ｌＨ，ｄ、　：ｒ＝２Ｈｚ）、
　〜４．１０（３１１！、　’ｂｒ、）。

４２２（ＩＨ，＋１．　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　４７３（Ｉ
Ｈ，ｔ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　　１１ｇ（２Ｈ，８）、　
　７．３４（５Ｈ，Ｓ）〔α）　２２　＋　ｓｏ（Ｃ＝
１　、　ＣＨＯＬｓＩシア、ｘテｖオーｒ　−＋２１　
：　１１ａｍｔｐ、　　ａｔ＝ｏ、４゜（ｊＪＥ化メチ
レン：酢酸エチル＝３：１３Ｘ　Ｒ（Ｌｉｑ）　ｃｍ　
　、〜３４４０．　３３０Ｇ＋　　２１２０゜１７６５
、　　口’４２．　１７２Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｌ２）δ：　２．２９（３１，８）
、　　２．４３（ＩＨ，６，Ｊ＝２Ｈ２）、　　４．０
５（２Ｈ，ｂｒ、　ｃｌ、１゜４３Ｇ（ＩＨ，ｅＬ、　
、Ｔ＝＝２Ｈｚ）、　４．２０〜４．４５（Ｈ（）。

４．８５　（Ｉ　Ｈｌ　ｔ、　Ｊ　＝２Ｈｚ）＋　　５
１８　（２Ｈ１８）＋７．３４（５Ｈ，Ｓ、） 〔α〕＋２１°　Ｃ０＝１．　　ＣＨＣｌ５）参考例１
１ 参考例１０によシ得られるジアステレオマー（１）を３
７１Ｒ９無水塩化メ千レンに溶解し、氷冷下ピリジン２
５ＴＲ９、つ込でメタンスルホニルクロリド４０■を加
え、全系を２０℃にて１０時間攪拌、分取用シリカゲル
ＴＬＯにてＲｆ＝０．４５（シクロヘキサン：酢酸工争
ル＝２：１）の部分を分取すると目的化合物１０１Ｉｌ
ｉＪを得る。

２２゜ 〔α〕−２３°（ｃ＝ｏ、ｓ　、　ａｍｃｔｓ）ＩＲ（
Ｌｉｑ）ｃｓｔ　　、　２１３０．　１７６５．　１７
２０゜６２Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＯＤＣＬｓ）δ：　２．３ＱＣ３Ｈ，８）
、２．３９（１Ｂ、　ａ、　、Ｔ＝２Ｈｚ）、　　４．
２７（ＩＨ，ｅＬ、　、Ｔ＝２Ｈｚ）、５．２３（２Ｈ
，Ｂ１．〜５．２４（ＩＨ，ｍ）。

６．０２（ＩＥ、ｌ及び６．０９（ＩＨ，８）、７．３
６（５Ｈ，８） 参考例１０により得られるジアステレオマー＋２１１０
０■を無水塩化メチレンに溶解し、トリエ牛ルアミン１
００■、ついでメタンスルホニルクロリド７５１Ｒｇを
水冷下別える。５時間後、常法通り処理し、分取用シリ
カゲルＴＬＣにてＲｆ＝０．４５（シクロヘキサン：酢
酸エチル＝２：１）の部分を分取する。目的化合物５８
■を得る。

〔α〕２２　’＋　２ｓ°（ｃ　＝　ｔ　、　ｃｌｌａ
ｔｓ）工Ｒ及びＮＭＲけジアステレオマー（１）より得
たものと同一である。

参考例１２ 参考ｆｌ１１２〜１５け、アゼチジノン誘導体の微生物
還元によって得られ次還元体の絶対配位を確認するため
に行ったものである。

材例１により得られるａｔ　　３−アセチルアゼ牛ジノ
ン３７０１１Ｉ９を５＃！／のメタノールに溶解し１０
℃にて３０Ｍ９のＨａ　ＢＨ４を固体のま＼４回に分は
加える。同温にて１５分間攪拌。ＴＬＯにて完全に原料
の消失した事を確認してから、酢酸エチルを加え水洗、
希塩酸水洗、水洗しＭｇ−８０４にて乾燥。減圧上溶媒
留去し、残渣をクロマトグラフイーにて精製し結晶３０
０■を得る。

Ｒｆ＝０．３２（シクロヘキサン：酢酸エチル：１　：
　１　） 当該化合物はＯＨの配位のまざりであるがメタノールよ
り再結晶する事により１つのアイソマーは結晶として分
離出来る。

ｆｎｐ１Ｇ７〜１０９°　（メタノール再結晶）工Ｒ（
Ｎｕｊｏｌ）　ａｎ　　　、　３５５０．　３２２（１
，２１２０゜７３Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＯＤＣＬｓ）δ：　１．３７（３Ｈ，ｄ、
　、７＝６Ｈｚ）、　　２．５５（ＩＨ，６，ｙ＝２Ｈ
ｚ）、　　３．４０（ＩＨ。

（１（１，Ｊ＝２及び４Ｈ１，３，７５（３Ｈ，Ｓ）、
　３．９〜４．４（ＩＨ，ｍ）、４．４５（ＩＨ，ｔ、
Ｊ＝２Ｈｚ）。

６．７５〜７．６（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型）元素分析Ｃ！１
ｊＨ１５ＮＯ５とし、て計算値：０．６＆５ＬＨ，ｌｉ
、１６　：　Ｎ、　１７１実測値：　０．６８．５７Ｈ
、ｌｉ、２３　：　Ｈ＋　Ｌ７６ 参考例１３ 参考例１２で結晶として単離しｆｅｌつのアイソ−ｒ−
（ｍｐ１０７　１０９℃）８０＋１１１７を２Ｎ／（７
）ＤＭＦＫ溶解し、イミダゾール３ＧＩｎ９及びターシ
ャリ−ブチルジメチルシリルクロリド１３０１ｎ９を室
温にて加え、８０分間攪拌。酢酸エチルを加え水洗後Ｍ
　ｇ　８０　ａにて乾燥。シリカゲル分取用ＴＬＣにて
シクロヘキ゛サン：酢酸エチル＝１：１でＲｆ：（Ｌｌ
ｌの部分を単離抽出し目的化合物１２０■を得る。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｊＬｓ）δ：　ｏ、ｏｓ（ｓｕ、８
）、０．８０Ｃ９Ｈ，Ｓ】、　　１．３３（３Ｈ，６，
：Ｊ＝６Ｈｚ１．２．４７（１Ｈ，６，、Ｔ＝２）：Ｚ
）、３．４３（ＩＨ，Ｊ＝２及び３Ｈｚ）、　　３．７
５（３Ｈ，ｓ）、　　４．０〜４．３５（ＩＨ。

ｍ）、　　４．３７（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ　＝２Ｈｚ）、
　　６．７５〜７．５（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型） 参考例１４ 参考例１３で得られたシリル体１２０■を無水ＴＨＦ２
ｍ［溶解し、ブチルリチウム液０．３　ｍ（ＨｔＪ中１
．６ミリモルブチルリチウムを含むヘキサン液）を−７
８℃にて加える。後３０分攪拌後同温にてジフェニルジ
スルフィドＮ１８１ａ９の１、５　ｍ　Ｔ　ＨＦ液を加
え一７８＠〜−２０”ＣＫて約３時間攪拌する。ＴＬＯ
上原料の消失し友事を確かめてから酢酸エチルを加え、
水洗３回。有機層をＭｇＳＯ４にて乾燥後生成物をシク
ロヘキサン：酢酸エチル＝５：１系にて分取Ｔｌ、ＯＫ
付し目的化合物１２８■を単離する。

Ｔ　Ｌ　ＯＲｆ＝０．５　Ｉｔ　（シクロヘキサン：酢
酸エチル＝５　：　１　） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ０１Ｓ）δ　：　　０．０ｇ（６Ｈ，
８）、０．８２（５１Ｈ，８）、　　１．３８（３Ｈ，
ｃｌ、　　Ｉ＝＠Ｈｚ）、　　３．４８（ＩＬ　ｄｄ、
　Ｊ＝３及び４Ｈｚ）、　　３．７４（３Ｈ，Ｓ）。

４．０〜４．４（ＩＨ，ｍ）、　　４．６４　（ＩＨ，
６，Ｊ＝３Ｈｓ、）。

！、７５〜７．５５　（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型］参考例１５ 参考例１４で得られたＳ−フェニル化体１０８■を４１
のアセトニトリルに溶解し、水冷下４００■のセリツク
アンモニウムナイトライドの３ｄ水溶液を加え、２０分
間攪拌。酢酸エチルを加え、水洗３回、ＭｇＳＯ４にて
乾燥後減圧下溶媒留去。シクロヘキサン：酢酸エチル＝
２：１の系にてＲｆ＝０．５４の部分に対応する目的化
工Ｒ（ＮｕｊＯｌ）　ｅｘ　　、　３２Ｇ０．　２１７
５．　１７１０゜７６Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｆｌ　　（ＣＤＣＩ−５）δ　：　　０．０１
１（８Ｈ，８）、０．８９（９Ｈ，１３）、　　１．３
１（３Ｈ，６，：ｆ＝６Ｈ）、　　＆４２（ＩＨ，ｂｒ
、ｔ、　　Ｊ＝３）、　　４．１　〜４．５（ＩＨ，ｍ
、）。

４３３（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝１５Ｈｚ）、　　〜６．１
（ＩＨ，ｂｒ。

”　ｅ　　７．３２（５Ｈ，ｍ　）。

参考例１６ ゼ千ジノン 実施例６によ抄得た３、４−シス−１−（４−メトキシ
ベンジル］−３−（１−ヒドロキシエゆル）−４−エチ
ニル−２−アゼチジノン（（α）Ｄ−５７’）　１９８
１Ｒ９を無水塩化メキレン５−に溶解し、ピリジニウム
クロロクロメート（ＰＣＣり　５００■を水冷下加え更
に４時間２５℃にて攪拌する。減圧下溶媒を留去し、酢
酸エキシを加え、水洗。生成物はシリカゲルクロマトグ
ラフィーにより分離精製し、Ｒｆ＝０．４　（シクロヘ
キサン：酢酸エキシ＝１：１）に対応する所望化合物１
０６■を得る。工Ｒ及びＮＭＲけ参考例４のそｈに完全
に一致する光学活性な３−アセ牛ルアゼ牛ジノンが得ら
れる。

参考例１Ｔ トリメキルシリルプロパルギルアルデヒド６１４１Ｒ９
をへ７　セフ　２０　ｍｌに溶解し、５００＃１ｌｉ１
のバラ−アニシジン及び６００＋ｎｇの硫酸マグネシウ
ムを加え、２ｏ℃３０分間攪拌する。反応液を濾過し、
Ｆ液の溶媒を減圧上留去し、残渣を２０１の無水塩化メ
チレンに溶かし、イミダゾール３３１Ｍ９を加え全系を
窒素下−２０℃とする。ジ′ケテン０．４　ＷＩｌを一
２０°〜−１０″でゆつくり加える。反応温度を約１時
間かけ１０℃にあげる。

塩化メチレンを加え、水洗後、Ｍｇ８０４　　にて乾燥
。溶媒留去後、所望の目的化合物をシリカゲル・ラビッ
トクロマトグラフィー（溶媒系：シクロヘキサン：酢酸
エチル＝　１０　：　１　）Ｋ付Ｌｌ単離精製する。６
２０■を得る。

ＴＬＯ，Ｒｆ＝０．３５　　（シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝５　：　１１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ：　０．１５（９Ｈ，８）、　
２．３１（３Ｈ，８）、　　λ７０（３Ｈ，１１１１）
、　　４．３２（ＩＨ，（Ｌ。

Ｊ＝２．５Ｈｚ）、　　４．９１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝
２．５Ｈ１、８，７〜７．５（４Ｈ，Ａ２Ｂ２型） 工Ｒ（Ｌｉｑ、）ａｍ　　、　１１６Ｇ、　　１７１８
．　２１６Ｇ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 〔式中、Ｒ＾１は置換基を有してもよいアルキル基、ア
   ルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルチオ
   基、アルキルスルホニル基、アリールチオ基、もしくは
   アリールスルホニル基、またはアシルオキシ基を、Ｒ＾
   ２は水素原子または窒素原子の保護基を示す。〕を有す
   る化合物を微生物還元して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） 〔式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は前述したものと同意義を
   示す。〕を有する化合物へ導くことを特徴とする光学活
   性なβ−ラクタム化合物の製法。