JPH0440357B2 - - Google Patents

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JPH0440357B2
JPH0440357B2 JP54136515A JP13651579A JPH0440357B2 JP H0440357 B2 JPH0440357 B2 JP H0440357B2 JP 54136515 A JP54136515 A JP 54136515A JP 13651579 A JP13651579 A JP 13651579A JP H0440357 B2 JPH0440357 B2 JP H0440357B2
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azide
lower alkyl
phenyl
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JP54136515A
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Jii Kurisutensen Baaton
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Merck and Co Inc
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は1−,6−及び2−置換−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボン酸()に関するも
のである。該化合物及びその医薬的に使用し得る
塩は、抗生物質として有用である。 本発明は式 (式中、R3は低級アルキルでありそしてR4はフ
エニル、アミノ低級アルキル、アミノ低級アルキ
ルフエニル、低級アルケニル又はアミノ低級アル
キルフエニルである。)の化合物及びその薬学的
に許容し得る塩に関する。 本発明は、また、このような化合物()を製
造する次に示す方法: 式 式中R及びR10は容易に除去できる保護基であ
る。)の化合物をグリオキシレートエステル(エ
ステル部分は医薬的に使用しうるエステル部分又
は容易に除去できる保護基でR′である。)で処理
せしめて構造式 を有する化合物を得、次いでハロゲン化せしめて
構造式 (式中、Xはハロゲンである。)を有する化合物
を得、次いでトリフエニルフオスフイン及び穏や
かな水性加水分解で処理せしめて構造式 (式中、φはフエニルである。)を有する化合物
を得、ついで酸化剤で処理して構造式 を有する化合物を得、次いで上記構造式の化合物
をケトンに変換せしめて構造式 (式中、R4′はフエニル、アジ化低級アルキル、
アジ化低級アルキルフエニル、低級アルケニル又
はアジ化低級アルケニルである。)を有する化合
物を得、この化合物を環化して構造式 を有する化合物を得、この化合物から保護基R10
及びR′を除去し、R4′がアジ化低級アルキル又は
アジ化低級アルキルフエニル又はアジ化低級アル
ケニルである場合には−N3を−NH2に変換する
ことを特徴とする方法に関する。 さらに、本発明は、化合物()を製造する次
に示す方法: 式 (式中、φはフエニルであり、R3は低級アルキ
ルであり、R10は容易に除去できる保護基であ
る。R′は医学的に使用できるエステル部分又は
容易に除去できる保護基である。)の化合物をケ
トンに変換せしめて構造式 (式中、R4′はフエニル、アジ化低級アルキル、
アジ化低級アルキルフエニル、低級アルケニル又
はアジ化低級アルケニルである。)を有する化合
物を得、この化合物を環化して構造式 を有する化合物を得、この化合物から保護基R10
及びR′を除去し、R4′がアジ化低級アルキルまた
はアジ化低級アルキルフエニルまたはアジ化低級
アルケニルである場合には−N3を−NH2に変換
することを特徴とする製造方法に関するものであ
る。 新規な抗生物質に対する継続した要求がある。
不幸にして、継続した広範囲な新規の使用は選択
的に病原菌の抵抗性菌株を生ずるために、抗生物
質の固定された安定な有効性はない。更ち、既知
の抗生物質、或る型の微生物に対してのみ有効で
あるという不利点を有している。 従つて、本発明の一つの目的は、動物及び人間
の治療及び無生物系に有用な新規な級の抗生物質
を提供せんとするものである。これらの抗生物質
は、S・オーレウス、Strep、ピオゲナス及び
B・サブチリスのようなグラム陽性細菌及びE・
コリー、プソイドモナス、プロテウス・モルガニ
ー、セラチア及びクレブシエラのようなグラム陰
性菌を包含する広範囲の病原菌に対して活性であ
る。本発明の他の目的は、このような抗生物質を
製造する科学的方法を提供せんとするものであ
る。 本発明の化合物〔上記の()〕は、次の図式
によつて有利に製造される。 式中、R3は前述した通りである。Rは容易に
除去できる保護基である。R′は、また、医薬的
に使用できるエステル部分であつてもよい。例え
ば、普通保護基Rはアシル例えば低級アルカノイ
ル、アルアルキルカルボニルなど例えばアセチ
ル、ブロモ−t−ブトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、フオルミル、トリフルオロア
セチルなどまたはトリアルキルシリル例えばトリ
メチルシリルまたはt−ブチルジメチルシリル基
である。例えば、普通、閉鎖基R′は置換された
または置換されないアルキル、アルアルキル、ア
ルケニルなど例えばベンジル、P−ニトロベンジ
ル、O−ニトロベンジル、ピバロイルオキシメチ
ル、ブロモ−t−ブチルなどである。 前記反応図式において、適当に置換されたアゼ
チジノン(1)をグリオキザレートエステル例えばベ
ンジルグリオキサレートと反応せしめて相当する
1−(ベンジルオキシカルボニルヒドロキシメチ
ル)アゼチジノン(2)を形成させる。反応1→2
は、ベンゼン、トルエン、キシレンなどのような
溶剤中において約25℃乃至還流温度で2〜10時間
有利に実施される。充分に反応剤を溶解しそして
反応の所望の過程において不活性または実質的に
不活性であれば、溶剤については制限はない。ハ
ロゲン化反応2→3は、何れかの種々な公知のハ
ロゲン化手段によつて実施し得る。適当な試薬
は、SOCl2、POCl3、塩化オキザリルなどを包含
する。好適な塩素化手段は、テトラヒドロフラン
(THF)、エーテル、CH2Cl2などのような溶剤中
においてピリジン、トリエチルアミン、キノリン
などのような塩基1〜2当量(塩化チオニルに関
して)の存在下で塩化チオニルで処理することか
らなる。普通、反応は−30〜25℃の温度で0.5〜
1時間実施される。得られた1−(ベンジルオキ
シカルボニルクロロメチル)−アゼチジノン化合
物3は、必要ならば、後の反応3〜4のために普
通の方法によつて単離することができる。中間体
4は、ジメチルフオルムアミド(DMF)、ジメチ
ルスルフオキシド(DMSO)、THF、ジメトキ
シエタン(DME)などのような溶剤中において
3をフオスフイン例えばトリフエニルフオスフイ
ン、トリブチルフオスフイン、トリエチルフオス
フイン、トリス−(2−シアノエチル)フオスフ
インなどの1〜1.5当量で処理することによつて
製造される。普通、反応は、窒素雰囲気下におい
て−20°〜25℃の温度で0.5〜2時間行われる。反
応4→5は、加水分解または水素添加分解のよう
な種々な公知の脱保護法によつて達成し得る。脱
保護4→5に対して特に有利な手段は、ナトリウ
ムメトキシドなどのような相当するアルカリ金属
アルコキシド0.1〜1.4当量の存在下においてメタ
ノール、エタノールなどのような低級アルカノー
ル中において4を処理することからなるアルタリ
シスによる。普通、反応は、0〜25℃の温度で
0.5〜2時間行われる。5→6の酸化は、5を
CrO/H2SO4/Me2O(ジヨンズ試薬)、RuO4
CCl4、KMnO4/H2O、t−ブチルクロメートな
どのような酸化系で処理することによつて達成し
得る。6からの9の製造は、カルボン酸をケトン
に変換する公知の方法によつて、例えば、カルボ
ン酸官能基をジシクロヘキシルカルボジイミド、
エチルクロロフオルメート、2−フルオロピリジ
ン、1−フルオロ−2,4−ジニトロベンゼン、
塩化チオニル、塩化オキザリルなどで活性化し次
いでRMgX、LiCuR2、R2Cdなどのような炭素求
核剤(Carbon neucleophiles)で除去基を求核
置換(neucleophilic displacement)して所望の
ケトン9を与えることによつて達成できる。また
は、好適には、6を塩化オキザリルで処理し次で
クロライドをチオフエノールで求核置換して安定
なチオエステル8を与え、次に、これをグリニヤ
ール試薬と反応せしめてケトン9を得ることによ
つて達成し得る。普通、工程9〜10の閉環工程
は、ベンゼン、トルエン、ジオキサン、キシレン
またはDMFのような溶剤中において100〜160℃
に加熱することによつて行われる。カルボキシル
脱保護工程10→()は、加水分解、水素添加、
またはR′基の光分解のような多くの公知の方法
によつて達成し得る。脱保護に対する適当な水素
添加触媒は、パラジウム付炭素などを包含する。
水素添加に対する適当な溶剤は、1〜50気圧の圧
力の水素の存在下メタノール、ジオキサン/
H2O、エタノール/H2Oなどを包含する。水素
添加は普通重炭酸ナトリウムなどのようなおだや
かな塩基の随意の存在下約25℃の温度で5分乃至
4時間行われる。 1と反応せしめるために使用されるグリオキザ
レートエステル(1a)は、THF、ベンゼン、塩
化メチレンのような溶剤中において、−20〜25℃
において1/2〜4時間、相当する酒石酸ジエステ
ルを過沃素酸または四酢酸鉛のような酸化剤で酸
化することによつて製造することができる。酒石
酸エステルはDMFまたはDMSOのような溶剤中
において25〜70℃で4〜48時間、R′X(式中Xは
塩素、臭素または沃素でありそしてR′は前述し
た通りである。)との反応によつてジリチオター
タレートまたはジソジオタータレートまたはジソ
ジオタータレートから製造される。前述したよう
に、R′は医薬的に使用し得るエステル及びアミ
ドであり得るが、また、1976年10月18日出願の米
国特許出願第733651号の方法によつて()の遊
離酸から製造することもできる。この特許出願
は、チエナマイシンの医薬的に使用し得るエステ
ル及びアミド及びその製法に関するものである。
従つて、このような医薬的に使用し得る形態及び
その製造手段に関する説明に対して、前記引用特
許出願を参照として引用する。 置換アゼチジノン(1)は、ボウフアード等の米国
特許出願第743370号に説明されている。1及びそ
の製造に関する説明に対してこの特許出願を参照
として本明細書に引用する。次の図式は、この出
発物質1の合成を要約する。 前記反応図式において、4−(1−メチル−2
−アセトキシビニル)アゼチジノン−2−オン
(3′)は、無水ジエチルエーテルのような溶剤中
において約−30℃〜0℃の温度で窒素雰囲気下に
おいて、クロロスルフオニルイソシアネート及び
1−アセトキシ−2−メチルブタジエンのような
アシルオキシブタジエン(1′)を反応せしめるこ
とによつて製造される。反応中間体2′は加水分解
によつて3′に変換される。4−(1−メチル−2
−アセトキシエチル)−2−アゼチジノン(4′)
を与える3′の還元は、白金パラジウムまたはその
酸化物のような触媒の存在下、1〜20気圧の水素
圧下、エタノール、酢酸エチルなどのような溶剤
中において、0〜25℃の温度で5分〜1時間水素
添加するような普通の手段によつて行われる。4
−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル−2−ア
ゼチジノン5′は、加水分解によつて4′から得られ
る。8−オキソ−2,2,5−トリメチル−3−
オキサ−2−アザビシクロ〔4,2,0〕オクタ
ン6′は、三フツ化硼素エーテル化物のような触媒
の存在下において塩化メチレンのような溶剤中に
おいて0〜40℃の温度において1〜40分5′を2,
2−ジメトキシプロパンで処理することによつて
得られる。このようにする代りに、5′を三フツ化
硼素エーテル化物及びトリメチルオルトフオルメ
ートで処理して8−オキソ−2−メトキシ−5−
メタル−3−オキサ−1−アザビシクロ〔4,
2,0〕オクタンを形成させ、これを6′または
7′に対する方法によつてヒドロキシエチル化する
ことができる。6′のヒドロキシエチル化は7′を与
える。普通、6′をテトラヒドロフラン(THF)、
エーテル、ジメトキシエタンなどのような溶剤中
において−80℃〜0℃の温度でリチウムジイソプ
ロピルアミド、水素化ナトリウム、フエニルリチ
ウムまたはブチルリチウムのような強塩基で処理
し、その後アセトアルデヒドなどのようなアルデ
ヒドを加えてモノ−アルキル化合物7′を得る。化
合物9′は、酸加水分解によつて7′から得ることが
できる。 所望の保護化合物(1)は9′をDMF、CH2Cl2THF
などのような溶剤中でイミダゾールなどのような
塩基の存在下において0℃〜25℃で0.5〜6時間
t−ブチルジメチルクロロシラン、トリメチルク
ロロシランのようなシリル化剤でまたはCH2Cl2
CHCl3、THFなどのような溶剤中で−20°乃至25
℃の温度で約0.5〜4時間塩化アセチル、蟻酸酢
酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物などのような
アシル化剤で処理することを経て得られる。出発
物質(1)は、反応後、本発明の化合物の製造に対す
る本発明の方法によつて単離することができる。 R(9′→1)の確立において、環窒素は容易に
除去できる保護基R″によつて保護することがい
きる。 (式中、R″はアシルまたはトリ有機シリル例え
ばトリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリ
ル、トリフルオロアセチルフオルミルなどであ
る。)。R″の除去は、公知の方法によつて加水分
解することによつて達成することができ、1を得
る。 出発物質1はまた、次の図式によつて製造し得
る。 記号はすべて前述した通りである。 反応5′→5a′は、P−ジオキサン、ベンゼンな
どのような溶剤中においてP−トルエンスルフオ
ン酸、過塩素酸などの存在下において0°〜約30℃
の温度で2,3−ジヒドロピランで5′を処理する
ことによつて達成される。中間体5a′は、単離す
ることができるそして次に前述した反応6′→7′に
類似した方法によつてヒドロキシエチル化して
7a′を得ることができる。中間体9′はおだやかな
加水分解によつて7′から得られる。 保護基として使用される好適なエステルは
R′がベンジル、p−ニトロベンジル、O−ニト
ロベンジル、t−ブチル、ブロモ−t−ブチル、
t−ブチル−ジメチルシリル、トリメチルシリ
ル、トリルクロロエチルであるものである、また
は、R′は医薬的に使用し得るエステル部分例え
ばピバロイルオキシメチルアリル、メタリル、
(2−メチルチオ)−エチル、3−メチル−2−ブ
テニル、p−t−ブチルベンジル、5−インダニ
ル、3−フタリジルを示す。 本発明の生成物()は、無機及び有機塩基と
広範囲な種々な薬学的に使用し得る塩を形成す
る。これらは、例えば、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属水酸化物、炭酸塩または重炭酸塩か
ら誘導された金属塩及び第一級、第二級または第
三級アミン例えばモノアルキルアミン、ジアルキ
ルアミン、トリアルキルアミン、低級アルカノー
ルアミン、ジ−低級アルカノールアミン、低級ア
ルキレンジアミン、N,N−ジアルアルキル低級
アルキレンジアミン、アルアルキルアミン、アミ
ノ置換低級アルカノール、N,N−ジ−低級アル
キルアミノ置換低級アルカノール、アミノ−、ポ
リアミノ及びグアニジノ−置換低級アルカン酸及
び窒素含有複素環式アミンから誘導された塩を包
含する。代表的な例は、水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化カリウム、炭酸カルシウム、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、ピペリジン、モルフオ
リン、キニン、リジン、プロタミン、アルギニ
ン、プロカイン、エタノールアミン、モルフイ
ン、ベンジルアミン、エチレンジアミン、N,
N′−ジベンジルエチレンジアミン、ジエタノー
ルアミン、ピペラジン、ジメチルアミノエタノー
ル、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノー
ル、テオフイリン、N−メチルグルカミンなどか
ら誘導された塩を包含する。 本発明の塩は、薬学的に使用し得る非毒性の誘
導体であつて、これは、適当な単位使用医薬形態
中の活性成分として使用することができる。ま
た、化合物は、他の薬剤と一緒にして広い活性ス
ペクトルを有する組成物を与えることができる。 本発明の新規な1−カルバ−2−ペネム−3−
カルボン酸は、種々なグラム−陽性及びグラム−
陰性病原菌に対して活性な価値ある抗菌物質であ
る。このように、遊離酸及び特にアミン及び金属
塩のようなその塩特にアルカリ金属及びアルカリ
土類金属塩は、有用な殺菌剤であつてそして歯科
及び医科装置から感受性病原菌を除去するため
に、微生物を分離するためにそしてまた人間及び
動物における治療目的のために使用することがで
きる。この後者の目的のために、当該技術に知ら
れておりそしてペニシリン及びセフアロスポリン
の投与に対して使用されているような無機及び有
機塩基との薬学的に使用できる塩を利用すること
ができる。例えば、アルカリ金属及びアルカリ土
類金属塩及び第一級、第二級及び第三級アミン塩
をこの目的に対して使用することができる。これ
らの塩は、医薬的に利用できる液体及び固体ベヒ
クルと合してピル、錠剤、カプセル、坐薬、シロ
ツプ、エリキサーなどのような適当な使用単位形
態を形成することができる。これらは、当該技術
においてよく知られている方法によつて製造する
ことができる。 新規な化合物は、種々なグラム−陽性及びグラ
ム−陰性細菌に対して活性な価値ある抗生物質で
ありそして従つて人間及び家畜医薬として利用さ
れることが判つた。それ故に、本発明の化合物
は、グラム−陽性またはグラム−陰性細菌例えば
スタフイロコツカス・オーレウス、エシエリヒ
ア・コリー、クレブシエラ・プノイモニー、バチ
ルス・サブチリス、サルモネラ・チフオサ、プソ
イドモナス及びバクテリウム・プロテウスによつ
て引起される感染を処理する抗菌薬剤として使用
される。 この抗菌剤は、更に、例えば飼料を防腐するた
めに及び殺菌剤として動物供給飼料に対する添加
剤として使用される。例えば、化合物は、医科及
び歯科装置上の有害な細菌の生長を破壊及び阻止
するために及び工業適用例えば水を基にしたペイ
ント及びペーパーミルの白水中における有害な細
菌の生長を阻止する殺菌剤として、溶液1ミリオ
ン部当り抗生物質0.1〜100部の範囲の濃度で水性
組成物に使用することができる。 本発明の生成物は、種々な医薬製剤の何れかの
製剤において単独でまたは活性成分と組合せて使
用することができる。これらの抗生物質及びそれ
らの相当する塩は、カプセル形態、錠剤、粉末ま
たは液体溶液、懸濁液またはエリキサーとして使
用し得る。これらの抗生物質は、経口的に、静脈
内的にまたは筋肉内的に投与することができる。 経口投与に対する錠剤は、単位使用形態にあり
得るそして普通の賦形剤例えば結合剤例えばシロ
ツプ、アラビヤゴム、ゼラチン、ソルビトール、
トラガントゴムまたはポリビニルピロリドン、充
填剤例えばラクトーズ、糖類、とうもろこし澱
粉、リン酸カルシウム、ソルビトールまたはグリ
シン、潤滑剤例えばステアリン酸マグネシウム、
タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、崩壊
剤例えば馬鈴薯澱粉またはナトリウムラウリルサ
ルフエートのような利用し得る湿潤剤を含有し得
る。錠剤は、当該技術によく知られている方法に
よつて被覆することができる。経口液状製剤は、
水性または油性懸濁液、溶液、乳濁液、シロツ
プ、エリキサーなどの形態になし得るまたは使用
前に水または他の適当なベヒクルで再構成する乾
燥製品として提供し得る。このような液状製剤
は、懸濁剤例えばソルビトールシロツプ、メチル
セルローズ、グルコース/糖類シロツプ、ゼラチ
ン、ヒドロキシエチルセルローズ、カルボキシメ
チルセルローズ、ステアリン酸アルミニウムゲル
または水素添加可食油例えばアーモンド油、分溜
ヤシ油、油状エステル、プロピレングリコールま
たはエチルアルコール、防腐剤例えばメチルまた
はプロピルp−ヒドロキシベンゾエートまたはソ
ルビン酸を含有し得る。坐剤は、普通の坐剤基質
例えばココア・バターまたは他のグリセライドを
含有する。 注射用組成物は、アンプルまたは防腐剤を添加
した多使用容器の単位使用形態で提供し得る。組
成物は、油性または水性ベヒクル中の懸濁液、溶
液または乳濁液のような形態になし得るそして懸
濁剤、安定剤及び(または)分散剤のような処方
剤を含有し得る。また、活性成分は、使用前に適
当なベヒクル例えば殺菌した発熱性物質を含有し
ていない水で再構成する粉末形態になし得る。 組成物は、また、鼻及びのどの粘膜または気管
支組織によつて吸収される適当な形態に製造し得
るそして普通粉末、液状スプレー又は吸入剤、ロ
ゼイン、のどペイントなどの形態をとり得る。目
または耳の医薬投与に対しては、製剤は液状また
は半固体形態の個々のカプセルとして提供し得る
または滴下剤として使用し得る。処所適用は軟
膏、クリーム、ローシヨン、ペイント、粉末など
のような疎水性または親水性基剤を使用して処方
し得る。 また、担体以外に、本発明の組成物は安定剤、
結合剤、酸化防止剤、防腐剤、潤滑剤、懸濁剤、
粘稠剤または風味剤などのような他の成分を含有
し得る。更に、組成物に他の活性成分を含有せし
めてより広いスペクトルの抗菌活性を与えること
もできる。 家畜医薬に対しては、組成物は、長く作用する
または速やかに放出する気質中の乳腺内製剤とし
て処方し得る。 投与される使用量は、大部分処理される患者の
状態及び宿主の体重、投与の方法及び頻度、一般
的感染に対して好適な非経口的方法及び腸感染に
対する経口的方法によつてきまつてくる。一般
に、1日当りの経口的使用量は、1日当り1回ま
たはそれ以上の適用において、患者の体重1Kg当
り活性成分約15〜600mgからなる。大人の人間に
対する好適な1日当りの使用量は、体重1Kg当り
活性成分約80〜120mgの範囲にある。 前述の組成物は、例えば固体または液体の経口
的に摂取できる使用形態のような幾つかの単位使
用形態で投与し得る。液体または固体の単位使用
当りの組成物は活性物質0.5〜99%を含有する。
好適な範囲は、約10〜60%である。組成物は、一
般に、活性成分約15〜1500mgを含有している。し
かしながら、一般に、約250〜1000mgの範囲の使
用量を使用することが好適である。非経口的投与
においては、単位使用は、普通僅かに酸性にした
殺菌水溶液または溶解のために企図された可溶性
粉末の形態における純粋な化合物である。 以下の例は、本発明の化合物またはその製造方
法を説明するものであるが、限定するものではな
い。反応温度はすべて℃である。 原料の製造例 1 ジ−O−ニトロベンジルタートレートの製造 酒石酸(15.0g、0.1モル)を水40mlにとかし
そして水酸化リチウム(8.4g、0.2モル)で処理
する。得られた溶液を減圧蒸発して少容量となし
次に残留物をp−ジオキサンで処理する。得られ
た沈澱を濾過し次に真空乾燥してジリチウムター
タレート(17.7g)を得る。 ジ−リチウムタータレート(9.46g、0.0585モ
ル)をDMF200mlに懸濁し次に塩化O−ニトロベ
ンジル(20g、0.117モル)及び沃化ナトリウム
(17.5g、0.117モル)で処理する。混合物をN2
で65℃で2 1/2日撹拌する。 溶剤を真空下で除去し次に得られたペーストを
水及びチオ硫酸ナトリウム(5g)で処理する。
得られた固体を濾過し次に乾燥してジ−O−ニト
ロベンジルタータレート(17.0g、0.040モル、
69%、融点128℃)を得る。 N.M.R(DMSO):4.8d(j=7、H−C−OH)、 5.23d(j=7、H−C−OH)、 5.7s(O−CH2−C6H4−NO2) 7.73及び8.2m(芳香族H) p−ニトロベンジルブロマイド、ベンジルブロ
マイド、ピバロイルオキシメチルクロライドのよ
うなR1X(式中XはCl、BrまたはIである。)に
よるジ−リチウム塩の同様な処理は、ジ−p−ニ
トロベンジルタータレート、ジ−ベンジルタータ
レート、ジピバロイルオキシメチルタータレート
のような酒石酸の相当するジエステルを与える。
これらは以下の例2のジ−O−ニトロベンジルタ
ータレートに代る均等物として使用することがで
きる。 原料の製造例 2 α,β−不飽和アルデヒド(C)は、J.Chem Soc
3262頁(1957年)にM.B.グリーン及びW.J.ヒホ
ンボトムによつて及びJ.Org.Chem 21巻328頁
(1956年)W.J.バイリー及びR.バークレーによつ
て報告されている変形法により製造される。 アセトアルデヒド(1当量)及びプロピオンア
ルデヒド(R3=CH3)(1当量)を、機械的撹拌
器、ドライアイス凝縮器及び圧力等化滴下漏斗を
具備した三首丸底フラスコに入れる。溶液に、撹
拌しながら液下漏斗を通して1NNaOH1当量を滴
下する。混合完了後、混合物を10分撹拌し次に破
砕氷を含有するビーカーに注加する。混合物をエ
ーテルで抽出して粗生成物を得る。所望の生成物
(C)は、ワイドマーカラムを通る分溜によつて得ら
れる。 イソプロペニルアセテート(2当量)、酢酸第
一銅(0.002当量)、p−トルエンスルフオン酸
(0.008当量)及びα,β−不飽和アルデヒドC〜
(1当量)を、温度計、窒素導入管及びワイトマ
ーカラム(蒸留ヘツドと連結されている)を具備
した三首丸底フラスコに入れる。混合物を、定量
的なアセトンが集められるまで、93〜110℃で加
熱する。次に混合物を室温に冷却しそして固体か
ら濾過する。暗褐色の濾過を0℃の水中のトリエ
タノールアミンと混合する。2相混合物を減圧下
で急速に蒸留する。蒸留物の有機相を分離する。
水性相をエーテル200mlで抽出する。合した有機
相を10%K2CO3で洗滌し、Na2SO4上で乾燥し次
に真空蒸発する。そのようにして得られた残留物
をN−フエニル−β−ナフトアミン2.0gと混合
しそして減圧蒸留して所望の2−メチル−1−ア
セトキシ−1,3−ブタジエン(1′)を得る。 実施例 1 6−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2
−(p−アミノメチルフエニル)−1−カルバデ
チアペソ−2−エム−3−カルボン酸の製造 工程A 1′の製造 イソプロペニルアセテート(182g)、酢酸第二
銅(0.40g)、2−メチル−2−ブテナル(84g)
及びp−トルエンスルフオン酸(1.52g)を、温
度計、窒素導入口及び10吋のワイドマーカラム
(蒸留ヘツドに連絡されている)を具備した1.0
の三首フラスコに入れる。アセトン73mlが集めら
れるまで混合物を93〜110℃で加熱する。室温
(25℃)に冷却した後、混合物を固体から濾過す
る。暗褐色の瀘液を氷浴中で冷却しそして水200
ml中のトリエタノールアミン3.4gと混合する。
2相混合物を53mm(沸点54℃)で急速に蒸留す
る。溜出物の有機相を分離する。水性相をエーテ
ル200mlで抽出する。有機相を合しそして10%
K2CO3で洗滌し、Na2SO4上で乾燥し次に真空蒸
発する。そのようにして得られた残留物をN−フ
エニル−β−ナフトアミン2.0gと混合しそして
減圧蒸留して1′(97g)を得る。沸点81〜90°(66
mm)。 工程B 2′及び3′の製造 クロロスルフオニルイソシアネート(CSI)
(6.5ml)を、温度計、磁気撹拌棒、窒素導入管及
び25ml圧力等化滴下漏斗を具備した100mlの三首
フラスコに入れる。CSIを−50℃に冷却しそして
滴下漏斗を通してエーテル12.5mlと混合する。
CSIのエーテル溶液を−25℃に加温し、溶液に1
−アセトキシル−2−メチル−1,3−ブタジエ
ン(1′)(エーテル12.5ml中の5.9ml)を30分で滴
下する。次に混合物を−20±3℃で20分撹拌す
る。初期に形成する白色沈殿は、反応の終りにお
いて再溶解する。 500mlの丸底フラスコ中において、水100ml中の
亜硫酸ナトリウム10g及び燐酸水素カリウム25g
の溶液を製造しそして氷浴中で冷却する。エーテ
ル(100ml)及び破砕氷(100g)を加えそして混
合物を氷浴中ではげしく撹拌する。20分の反応時
間の終りに、2′を含有する反応混合物を滴下漏斗
に移しそして5分で加水分解混合物に滴下する。
加水分解は、更に30分3℃でつづける。有機相を
分離して水性相をエーテル50mlで抽出する。有機
相を合し、Na2SO4上で乾燥し次に蒸発して結晶
性生成物3′(2.3g)を得る。 融点 77〜78.5°。M.S.169(M+) IR1760cm-1(β−ラクタム)。 NMR(300MHz、CDCl3):1.70(d) 2.16(s)、2.84(qq)、3.18(qq)、 4.10(m)、5.82(ブロード)及び6.26(s)ppm。 工程C 4′の製造 4−(1−メチル−2−アセトキシビニル)−ア
ゼチジン−2−オン(3′)(6.5g)を、パールシ
エーカー上で酢酸エチル200ml中において、10%
Pd/c(0.6g)の存在において、40psiの水素下
室温で2時間水素添加する。混合物を触媒から濾
過しそして瀘液を真空蒸発して粗生成物を得る。
粗生成物を高圧液体クロマトグラフ(HPLC)
(シリカゲルカラム、30%酢酸エチル/CH2Cl2
剤系)によつて精製して、溶剤の蒸発後、白色の
結晶性生成物4′(6.04g)を得る。生成物は、次
の物理的特性を示す。 Ms171(M+)、IR(ニート)1754cm-1。 NMR(60MHz、CDCl3):0.96(d)、1.01(d)、2.06
(d、OAc)、2.75−3.80(m)、3.99(d)及び6.80(ブ
ロード)ppm。 工程D 5′の製造 N2下0°で、メタノール10mg中の4−(1−メチ
ル−2−アセトキシエチル)−2−アゼチジノン
4′(1.2g)の溶液をナトリウムメトキシド(57
mg)で処理する。1時間撹拌した後に、溶液を氷
酢酸(65mg)で中和する。メタノールを真空下で
除去して油として粗製の4−(1−メチル−2−
ヒドロキシエチル)−2−アゼチジノン(5′)を
得る。生成物を精製しそしてシリカゲル上でクロ
マトグラフイー処理し、酢酸エチルで溶離して
5′0.78gを得る。 IR(ニート):1740cm-1。 NMR(CDCl3):0.77(d)、0.96(d)、1.90(m)、2.60〜
3.30(m)、3.60(m)、4.19(s)及び7.23(s)。 生成物は冷却器中において無色の固体として結
晶化する。 工程E 6′製造 無水の塩化メチレン10ml中の4−(1−メチル
−2−ヒドロキシエチル)−2−アゼチジノン
(0.5g)及び2,2−ジメトキシプロパン(0.48
g)の溶液を、室温で90分三弗化硼素(55mg)で
処理する。混合物を飽和NaHCO35mlで洗滌す
る。有機相を分離し、Na2SO4上で乾燥し次に真
空蒸発して油として6′の粗製異性体混合物(0.48
g)を得る。 異性体6′α及び6′βの分離は、40%酢酸エチル/
ヘキサンで溶離する高圧液体クロマトグラフ
(HPLC)(シリカゲル)によつて達成される。溶
剤の蒸発後、油として6′β150mg及び白色固体とし
て6′α200mgを得る。 6′αのNMR(300MHz、CDCl3):0.81(d)、1.31(s)、
1.68(s)、 1.62(m)、2.52(q)、3.05(m)、 3.42(t)及び3.66(q)ppm。 6′βのNMR(300MHz、CDCl3):1.10(d)、1.38(s)、
1.67(s)、 1.90(m)、2.80(q)、2.86(q)、 3.62(q)3.78(m)及び3.98(q)ppm。 工程Fa 7′αの製造 −78℃において、無水のテトラヒドロフラン20
ml中のジイソプロピルアミン(2.2g)をn−ブ
チルリチウム(n−ヘキサン中1.6M、14ml)で
5分処理する。溶液に、8−オキソ−5α,2,
2−トリメチル−1−アザビシクロ〔4,2,
0〕オクタン(6′a)(3.4g)を加えそして混合
物を10分間撹拌する。得られたリチウムエノレー
トをアセトアルデヒド(1.68ml)で処理する。混
合物を1分撹拌し次に−78℃で飽和塩化アンモニ
ウムで処理しそれから室温(25℃)に加温する。
混合物を酢酸エチル(2×100ml)で抽出する。
有機相を分離し、Na2SO4上で乾燥し次に真空蒸
発して粗生成物7′α4.5gを得る。 7′αの粗製異性体混合物を、50%酢酸エチル/
塩化メチレンで溶離するHPLC(シリカゲル)に
よつて精製分離してトランス−7′α3.5g及びシス
−7′α0.5gを得る。両異性体何れも結晶性固体で
ある。 工程Fb 7′βの製造 出発物質6′αを6′β異性体で置換する以外は工程
Faの方法によつて、生成物トランス−7′β(4.0g)
及びシス−7′β(0.1g)を得る。 工程Fc 7″βの製造 無水の条件下0℃で、塩化メチレン60ml中のR
にとんだトランス−7′β(2.90g)の溶液を、4−
ジメチルアミノピリジン(3.32g)及びO−ニト
ロベンジルクロロフオルメート(5.88g)で処理
する。混合物を室温に加温しそして1時間撹拌す
る。得られた混合物を0.1NHCl、水、塩水及び
水で洗滌する。有機相を分離し、Na2SO4上で乾
燥し次に真空蒸発して粗生成物を得る。この粗生
成物をエーテル20ml中にとかしそして−5℃で冷
却してO−ニトロベンジルアルコール(0.5g)
を得る。これを濾過によつて分離する。異性体混
合物トランス−7″βを40%酢酸エチル/シクロヘ
キサンで溶離するHPLC(シリカゲル)によつて
精製分離してS−トランス−7″β1.2g及びR−ト
ランス−7″β1.0gを得る。 R−トランス−7″のスペクトラデータ; NMR(300MHz、CDCl3):1.12(d)、 1.40(s)、1.46(d)、1.73(s)、 1.95(m)、3.20(q)、3.60(q)、 3.74(q)、3.95(q)、5.07(m)、 5.58(q)、7.56(t)、7.70(m)及び8.19(d)ppm S−トランス−7″βのスペクトラデータ; NMR(300MHz、CDCl3):1.10(d)、 1.40(s)、1.43(d)、1.72(s)、 1.94(m)、3.34(q)3.61(q)、 3.67(q)、3.96(q)、5.13(m)、 5.64(d)、7.53(m)、7.68(m)及び8.17(d)ppm。 工程Fd 7″αの製造 出発物質トランス−7′βをトランス−7′αで置換
する以外は工程Fcの方法によつて、生成物R−
トランス−7″α及びS−トランス−7″αを得る。 次の図式は前記分離を要約するものである。 工程Ga R−トランス−9′βの製造 R−トランス−9′β (1R−O−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル)−1−アザビシクロ−〔4,20〕オク
タン(R−トランス−7″β)(2.1g)を、トリフ
ルオロ酢酸4ml及び水4mlに室温で溶解しそして
混合物を10分撹拌する。得られた均質な溶液を
徐々に200mlのビーカー中の重炭酸カリウムのは
げしく撹拌した飽和溶液(30ml)加える。混合物
を塩化メチレン(200ml)で抽出する。有機相を
分離し、Na2SO4上で乾燥し次に真空蒸発して粗
生成物9′を得、これを40%酢酸エチル/シクロヘ
キサンで溶離するシリカゲルカラムによつて精製
して油として生成物R−トランス−9′βを得る。 NMR(300MHz、CDCl3):0.98(d)、 1.28(d)、2.85(m)、3.20(q)、 3.62(m)、5.12(m)、5.57(q)、 6.40(s)、7.53(t)、7.66(m)及び8.14(d)。 工程Gb 出発物質を他の異性体で置換する以外は工程
Gaの方法によつて他の異性体生成物が得られる。
(第表)。
【表】
【表】 工程Ha R−トランス−1βの製造 R−トランス−1β 出発物質R−トランス−9′β(1.58g、4.5ミリモ
ル)を無水のN,N−ジメチルフオルムアミド
(DMF)5ml中のt−ブチルクロロシラン5当
量、イミダソール10当量で室温で3時間処理す
る。混合物を真空蒸発して粗生成物を得る。粗生
成物を、30%酢酸エチル/シクロヘキサンで溶離
するシリカゲルカラムによつて精製して生成物
(R−トランス−1β)2.0gを得る。 NMR(300MHz、CDCl3):0.04(s)、 0.88(s)、0.98(d)、1.26(d)、 1.82(m)、3.20(q)、3.60(m)、5.15(m)、5.59(q)、5.94
(s)、 7.54(t)、7.68(m)及び8.18(d)ppm。 工程Hb 出発物質を置換する以外工程Haの方法によつ
て、他の異性体生成物が得られる(第表)。
【表】
【表】 工程I 2の製造 O−ニトロベンジル−d−タータレート(1.8
g)を、無水のテトラヒドロフラン18ml中の過沃
素酸(0.97g)で25℃で30分酸化する。混合物を
固体から濾過し次に瀘液を真空蒸発してO−ニト
ロベンジルグリオキザレートを得、次にこれをベ
ンゼン100mlに入れそして250mlの丸底フラスコに
入れる。溶液にトランス−3−〔1−(R)−O−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル〕
−4−〔(1β−メチル−2−t−ブチルジメチル
シリルオキシ)エチル〕−2−アゼチジノン(R
−トランス−1β)(2.0g)を加える。混合物を加
熱還流しそして水をCaH2(1g)で充填したジエ
ーン−スタークトラツプで6時間除去する。混合
物を冷却し、濾過し、蒸発し次にシリカゲル上で
クロマトグラフイー処理し、30%酢酸エチル/シ
クロヘキサンで溶離して2を得る。 工程J 3及び4の製造 無水のテトラヒドロフラン20ml中のトランス−
1−(O−ニトロベンジルオキシカルボニルヒド
ロキシメチル)−3−〔1(R)−O−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル〕−4−〔(1β−
メチル−2−t−ブチルジメチルシリルオキシ)
エチル〕−2−アゼチジノン(2)(3.92g)を−20
℃でピリジン(0.42ml)及び塩化チオニル(0.37
ml)で処理する。混合物を撹拌しながら25℃に加
温し、次に固体から濾過する。溶剤を真空除去し
た後、生成物3が得られる。クロライド3を無水
のDMF25mlに再溶解しそして撹拌しながら25℃
で1時間トリフエニルフオクフイン(1.1g)で
処理する。溶剤を真空除去し次に残留物を塩化メ
チレン100mlに溶解し次に0.1NのPH7.2のフオスフ
エート緩衝液30mlで洗滌し、シリカゲル上でクロ
マトグラフイー処理し、40%酢酸エチル/シクロ
ヘキサンで溶離して生成物4(1.0g)を得る。 工程K 5の製造 トランス−1−(O−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルトリフエニルフオスフオラニルメチル)
−3−〔1(R)−O−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシエチル〕−4−〔1β−メチル−2−
t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−2
−アゼチジノン(4)(1.0g)をテトラヒドロフラ
ン10mlにとかし次に25℃で10分濃HCl(0.41ml)
で処理する。混合物を塩化メチレン200mlでうす
め次に0.1MNaHPO4(50ml)で洗滌する。有機相
を分離し、Na2SO4上で乾燥し次に真空蒸発して
粗製5を得る。粗生成物をクロマトグラフイー処
理し、30%酢酸エチル/シクロヘキサンで溶離す
ることによつて精製して50.68gを得る。 工程L 6の製造 1−(O−ニトロベンジルオキシカルボニルメ
チルトリフエニルフオスフオラニル)−4−(1−
メチル−2−ヒドロキシエチル)−6−(O−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)−2
−アゼチジノン1gをアセトン20mlに溶解しそし
て0℃に冷却する。ジヨンズ試薬(1ml、4N溶
液)を5分にわたつて滴加し次に得られた溶液を
0℃で10分撹拌する。イソプロノール(0.1ml)
を加える。混合物を更に2分撹拌する。反応混合
物をCH2Cl2でうすめ次に濾過する。濾液を飽和
NaCl溶液で洗滌し、乾燥し次に蒸発して粗製酸
を得、これを更に精製することなしに次に工程に
使用する。 工程M 7及び8の製造 1−(O−ニトロベンジルオキシカルボニルメ
チルトリフエニルフオスフオラニル)−4−(1−
メチル−2−カルボキシメチル)−6−(1−O−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル)
−2−アゼチジノン(0.851g)をCH2Cl220mlに
とかしそしてN2下0℃に冷却する。塩化オキザ
リル(0.8ml)を5分にわたり滴加し次にDMF1
滴を加える。混合物を0℃で5分それから25℃で
15分撹拌する。溶剤及び過剰の塩化オキザリルを
減圧下で蒸発する。残留物は所望の酸クロライド
7である。この酸クロライドをCH2Cl220mlにと
かしてそしてN2下0°に冷却する。チオフエノー
ル(0.4g)を加え次にピリジン0.8mlを滴加す
る。反応混合物を0℃で5分それから25℃で15分
撹拌し、CH2Cl2でうすめそして水で洗滌し、乾
燥し次に蒸発する。残留物を、溶離剤として50%
EtOAc/C6H5を使用してシリカゲル上でクロマ
トグラフイー処理してチオエステルを得る。 工程N 9aの製造 沃化第一銅(0.380g)をN2下で乾燥フラスコ
中の無水エーテル10mlに懸濁しそして0°に冷却す
る。p−テトラヒドロピラニルオキシメチルフエ
ニルマグネシウムブロマイド(THF中マグネシ
ウムとp−テトラヒドロピラニルオキシメチルフ
エニルブロマイドから製造した)を滴加しそして
混合物を0°で5分撹拌して黄色の懸濁液を得る。
次に混合物を−50°に冷却する。THF10ml中の1
−(p−ニトロベンジルオキシカルボニルトリフ
エニルフオスフオラニルメチル)−4−(メチルフ
エニルチオカルボニルメチル)−2−アセチジノ
ン(0.674g)を5分にわたつて滴加する。混合
物を−50℃で5分撹拌し次に20分にわたり−20°
となしそして−20℃で5分撹拌する。飽和
NH4Cl溶液を5mlを加えそして混合物をCH2Cl2
でうすめる。室温で5分撹拌する。有機相を分離
し、乾燥し次に蒸発する。残留物を溶離剤として
EtOAcを使用してシリカゲル上でクロマトグラ
フイー処理して生成物を得る。 工程O 9bの製造 工程Nから得られたTHPエーテル(0.42g)
を、酢酸4ml及び10%硫酸1mlに溶解する。混合
物を25℃で0.5時間撹拌する。次に、混合物を飽
和KHCO320mlを含有するビーカーに徐々に注加
する。混合物を塩化メチレンで抽出する。有機相
を分離し、MgSO4上で乾燥し次に真空蒸発する。
残留物をTLCプレート上でクロマトグラフイー
処理して所望のアルコールを得る。 工程P 9cの製造 前記アルコール(90mg)をCH2Cl5mlにとかし
そして0℃でメタンスルフオニルクロライド34μ
及びトリエチルアミン42μで処理し次に0.5時
間撹拌する。混合物を塩化メチレンでうすめそし
て水で洗滌する。有機相を分離し、MgSO4上で
乾燥し次に真空蒸発する。残留物をTLC上でク
ロマトグラフイー処理して所望の生成物を得る。 工程Q 9dの製造 メシレートイリド(72mg)をDMF中のリチウ
ムアジドで25℃で一夜処理する。混合物を真空蒸
発する。残留物をTLC(シリカゲル)上でクロマ
トグラフイー処理して所望の生成物を得る。 工程R 10の製造 アジドイリド(61mg)をキシレン3mlに溶解し
そしてN2下140°で1.5時間加熱する。混合物を25
℃に冷却する。キシレンを減圧下で除去する。残
留物をシリカゲルプレート上でクロマトグラフイ
ー処理して所望の生成物を得る。 工程S の製造 カルバペネムエステル(10mg)をジオキサン1
mgに溶解する。溶液に、水1ml及びエタノール
0.2mlを加える。溶液を稀HClで調整してPH3.5に
する。10%Pd/c1mgを加える。混合物を40p.s.i
で20分水素添加する。 混合物を触媒から濾過し次に瀘液をエーテル3
×5mlで抽出する。水性相をXAD−2カラム上
でクロマトグラフイー処理し、水で溶離して標記
化合物()を得る。 その同定データと抗菌活性試験結果を以下に示
す。
【表】 尚、MIC90とは菌の90%を阻害する最小濃度
を意味する。 UV:λnax(H2O)287nm(NH2OH消光的
(extinguishable)) MS:FAB陽イオン、319(M+H); FAB陽イオン、317(M−H) 実施例 2 実施例1と同様な方法で、以下の本発明の化合
物を得た。
【表】 この化合物のNMRデータは以下のとおりであ
る:1 H−NMR(D2O、DOH(4.80における)) δ1.15(d、1B−CH3)、1.28(d、C 3CHO)、 3.22(m、H1)、3.46(dd、H6)、 3.81(d、J=15Hz、C 2NH2のひとつ) 3.97(d、J=15Hz、他C 2NH2)、 4.18−4.28(m、H5及びCH3CO)
【表】 実施例 3 実施例1の工程A−R、工程NにおけるP−テ
トラヒドロピラニルオキシメチルフエニルマグネ
シウムブロマイド(TEPPhMgBr)の代わりに
フエニルマグネシウムブロマイドを使用すること
を除いて、実施例1を繰り返し、下記化合物を得
た。
【表】
【表】 NMR(D2O):0.96(CH3、d、J=8Hz)、1.20
(CH3、d、J=6Hz)、3.34(H1、m)、3.38
(H6、dd、J=1.5、3Hz)、4.16(H8、m)、
4.18(H5、dd、J=1.5、5Hz)、7.32(フエニル
H、m)。UV:λnax(H2O)285nm(NH2OH
消光的)。MS:286(M−K)、378(M−K+グ
リセロールマトリクス) 実施例 4 上述してきた方法と同様の方法で、以下の本発
明の化合物を得た。 1H−NMR(D2O、200MHz): d=1.1(d、J=7Hz、1−B−Me); 1.32(d、J=6.5Hz、C 3−CH−OH); 2.59(m、C 2−CH2−NH2); 3.19(t、J=7Hz、NH2−C 2−CH2); 3.4(m、C−1H及びC−6H)、4.16(dd、J=
2.5Hz及び6.5Hz、C−5H);4.26(m、C−
8H); 6.04(m、C=C−CH2); 7.06(d、J=16Hz、−C=CH−CH2) 実施例 5 上述してきた方法と同様の方法で、以下の本発
明の化合物を得た。 1H−NMR(D2O、200MHz): d=0.093及び1.02(2d、J=7.5Hz、C 3−CH
−C=C); 1.08(2d、1−B−Me); 1.3(d、J=6.5Hz、C 3−CH−OH); 1.61(d、J=8Hz、CH3−C=C); 2.0(m、CH3−C−C=C)2.84(m、C=C
−C 2−CH); 3.15(m、C−1H); 3.36(dd、J=2Hz及び6Hz、C−6H); 4.08(m、C−5H);4.25(m、C−8H); 5.12(m、−C=C+)」 本発明の化合物の使用例 医薬組成物の製造 1つのこのような単位使用形態は、1−メチル
−1−カルバ−2−(p−アミノメチルフエニル)
−6−(1′−ヒドロキシエチル)−ペン−2−エム
−3−カルボン酸120mgをラクトーズ20mg及びス
テアリン酸マグネシウム5mgと混合しそして145
mgの混合物をNo.3ゼラチンカプセルに入れること
によつて製造される。同様に、より大なる量の活
性成分及びより小なる量のラクトーズを使用する
ことによつて、他の使用形態をNo.3ゼラチンカプ
セルに入れることができる。145mgより大なる量
の成分を混合することが必要である場合は、圧搾
錠剤及びピルのような他の製剤もまた製造するこ
とができる。以下の例は、医薬処方物の製造を説
明する。錠 剤 1錠当り 1−メチル−1−カルバ−2−(p−アミノメチ
ルフエニル)−6−(1′−ヒドロキシエチル)−ペ
ン−2−エム−3−カルボン酸 125mg 玉蜀黍澱粉(U.S.P.) 6mg 燐酸ジカルシウム 192mg ラクトーズ(U.S.P) 190mg ステアリン酸マグネシウム 残り 活性成分を燐酸ジカルシウム、ラクトーズ及び
約半量の玉蜀黍澱粉と混合する。次に混合物を15
%玉蜀黍澱粉ペースト(6mg)で顆粒化し次に粗
スクリーンする。それを45℃で乾燥し次に再びNo.
16スクリーンを通してスクリーンする。残りの玉
蜀黍澱粉及びステアリン酸マグネシウムを加え次
に混合物を圧搾してそれぞれが800mgの直径約0.5
吋の錠剤を得る。 非経口的溶液 アンプル 1−メチル−1−カルバ−2−(p−アミノメチ
ルフエニル)−6−(1′−ヒドロキシエチル)−ペ
ン−2−エム−3−カルボン酸 500mg 殺菌水 2ml 眼用溶液 1−メチル−1−カルバ−2−(p−アミノメチ
ルフエニル)−6−(1′−ヒドロキシエチル)−ペ
ン−2−エム−3−カルボン酸 100mg ヒドロキシプロピルメチルセルローズ 5mg 殺菌水 1ml 耳性溶液 1−メチル−1−カルバ−2−(p−アミノメチ
ルフエニル)−6−(1′−ヒドロキシエチル)−ペ
ン−2−エム−3−カルボン酸 100mg ベンズアルコニウムクロライド 0.1mg 殺菌水 1ml 局処軟膏 1−メチル−1−カルバ−2−(p−アミノメチ
ルフエニル)−6−(1′−ヒドロキシエチル)−ペ
ン−2−エム−3−カルボン酸 100mg ポリエチレングリコール4000U.S.P. 400mg ポリエチレングリコール400U.S.P. 1.0g 前記処方における活性成分は、単独で、また
は、他の生物学的に活性を成分例えばリンコマイ
シン、ペニシリン、スレプトマイシン、ノボビオ
シン、ゲンタマイシン、ネオマイシン、コリスチ
ン及びカナマイシンのような他の抗菌剤またはプ
ロベネシドのような他の治療剤と組合せて投与す
ることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、R3は低級アルキルであり、そしてR4
    フエニル、アミノ低級アルキル、アミノ低級アル
    キルフエニル、低級アルケニル又はアミノ低級ア
    ルケニルである。)の化合物及びその薬学的に許
    容し得る塩。 2 式 (式中、R3は低級アルキルであり、そしてR4
    フエニル、アミノ低級アルキル、アミノ低級アル
    キルフエニル、低級アルケニル又はアミノ低級ア
    ルケニルである。)の化合物及びその薬学的に許
    容し得る塩の製造方法において、式 式中R及び10は容易に除去できる保護基であ
    る。)化合物をグリオキシレートエステル(エス
    テル部分は医薬的に使用しうるエステル部分又は
    容易に除去できる保護基R′である。)で処理せし
    めて構造式 を有する化合物を得、次いでハロゲン化せしめて
    構造式 (式中、Xはハロゲンである。)を有する化合物
    を得、次いでトリフエニルフオスフイン及び穏や
    かな水性加水分解で処理せしめて構造式 (式中、φはフエニルである。)を有する化合物
    を得、ついで酸化剤で処理して構造式 を有する化合物を得、次いで上記構造式の化合物
    をケトンに変換せしめ構造式 (式中、R4′はフエニル、アジ化低級アルキル、
    アジ化低級アルキルフエニル、低級アルケニル又
    はアジ化低級アルケニルである。)を有する化合
    物を得、この化合物を環化して構造式 を有する化合物を得、この化合物から保護基R10
    及びR′を除去し、R4′がアジ化低級アルキル又は
    アジ化低級アルキルフエニル又はアジ化低級アル
    ケニルである場合には−N3を−NH2に変換する
    ことを特徴とする方法。 3 式 (式中、φはフエニルであり、R3は低級アルキ
    ルであり、R10は容易に除去できる保護基であ
    る。R′は医学的に使用できるエステル部分又は
    容易に除去できる保護基である。)の化合物をケ
    トンに変換せしめて構造式 (式中、R4′はフエニル、アジ化低級アルキル、
    アジ化低級アルキルフエニル、低級アルケニル又
    はアジ化低級アルケニルである。)を有する化合
    物を得、この化合物を環化して構造式 を有する化合物を得、この化合物から保護基R10
    及びR′を除去し、R4′がアジ化低級アルキルまた
    はアジ化低級アルキルフエニルまたはアジ化低級
    アルケニルである場合には−N3を−NH2に変換
    することを特徴とする式 (式中、R3は低級アルキルであり、R4はフエニ
    ル、アミノ低級アルキル、アミノ低級アルキルフ
    エニル、低級アルケニルまたはアミノ低級アルケ
    ニルである。)の化合物の製造方法。
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