JPS61136666A - 溶射皮膜の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、金属材料の表面に溶射により形成された溶
射皮膜の緻密性２よび溶射皮膜と金属材料との結合性を
向上するようにする溶射皮膜の処理方法に関する。

〔従来の技術Ｊ 従来、金属材料の表面にセラミックスなどを溶射した場
合、形成された溶射皮膜の緻密性や、溶射皮膜と金属材
料との結合性か悪く、実用に供せない場合かほとんどで
ある。

そこで、前記緻密性Ｓよび結合性を向上するために、Ａ
ｒ　、　Ｎ、等の不活性ガスｔ−圧力媒体として高温高
圧雰囲気下で処理するＨＩＰ（ホット干ソスタチック　
プレツシング）処理が考えられている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、前記ＨＩＰ処理は、密閉容器内で行なわれるた
め、大きな実用構造物や現地に据え付けられた構造物に
、ＨＩＰ処理を行なうことは、きわめて困難である。

この発明は、前記の点に留意し、ＨＩＰ処理と同等の効
果を得る処理方法を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明は、金属材料の表面に溶射により形成された溶
射皮膜２よび該溶射皮膜と前記金属材料の結合界面近傍
のみを、不活性ガスの雰囲気下で高−波誘導電流により
加熱し、同時に加熱部分の前記溶射皮膜を加圧体により
加圧することｔ−特徴とする溶射皮膜の処理方法である
。

〔作用〕

したがって、この発明によると、溶射皮膜および溶射皮
膜と金属材料の結合界面近傍のみを、不活性ガスの雰囲
気下で高周波誘導電流により加熱し、加熱部分の溶射皮
膜を加圧体により加圧するため、不活性ガスを供給する
のみで高温高圧がきわめて容易に得られる。

〔実施例〕

つぎにこの発明を、その１実施例を示した図面とともに
、詳細に説明する。

図面において、ｆｉｌは高周波誘導加熱用コイルであゆ
、ケイ素鋼などの導磁嘉のよい材料からなり、角形のう
づ巻き状に形成されている。１２１はコイル［１１に埋
設された水冷鋼管であり、一端は、コイルｆｉｌの外側
の端部から直−状に導出され・他端は、コイル（１）の
内側の端部から、斜め上方に導出されたのちコイルｉｌ
＋の上面に沿い、斜め下方に折曲され、浮き上っており
、水冷銅管１２１の両１が高周波発振器に接続されてい
る。

（３１はコイルｉｌ＋の下面に固着された耐熱・耐絶縁
性にすぐれたセラミックスからなる薄板、（４）はコイ
ル（１１の上面に固着された耐熱・耐絶縁性にすぐれた
セラミックスからなる厚板、（６；は水冷銅管１２１の
浮き上り部分に相当する厚板（４）の位置に形成された
欠除部・（６）は厚板（４）の上面に固着された加圧板
、（７）は加圧板（６）の上面に固着された加ＩＥ棒で
ある。

（８）は断面はぼ半円状の覆体であり、コイル（１１゜
薄板（３１，厚板（４１，加圧板（６）のブロックｔｉ
い、１ＪＯ田棒（７）か覆体（８）から導出されている
。（９）はぎ体（８）に複数個設けられたガス導入部で
ありｓＡｒ＊Ｎｔ等の不活性ガスが覆体（８）内に導入
される。

（２）は金属材料、（１１１は金属材料α値の表面に溶
射により形成されたセラミックスなどの溶射皮膜、Ｑ２
＋は加熱域である。

そして、前記ブロックを溶耐皮膜曲に当てかい、加圧棒
（７）全複線矢印方向に加圧し、ガス導入部（９）から
不活性ガスを単線矢印方向に導入し、コイルｆｉ＋に水
冷鋼管（２）を弁して高周波電流を流す。

このとき、水冷銅管（２１の１わりのコイルｆｉ＋が導
磁寒のよい材料からなるため、発生する４→ｉ磁場の磁
束密度が増大し、誘導加熱効果か大である。

したがって、コイル＋１１に近接した平行な面の近傍に
誘導電流か流れ、その部分が加熱される。

この場合、薄板（３）および厚板（４：は耐絶縁性であ
る九め誘導電流か流れなく、誘導電流によって加熱され
る可能性のある部分は、厚板（４）の上側の加圧板（６
）と、薄板（３１の下側の材料である。

ところで、上側の厚板（４１は加圧板（６）に誘導電流
か流れないよう十分な厚さを有しているため、加圧板（
６）には誘導′に流か流れなく、下側の薄板（３）は薄
いため、薄板（３）に接した溶射皮膜ｆｌｌｌ　ｊｅｔ
よび該溶、　射皮膜ｆｉｌ＋と金属材料αＯの結合界面
近傍の金属材料（２）に誘導電流が流れ、加熱される。

なＳ、薄板（３１の機能は、加圧棒（７）による加圧力
を溶射皮膜（！ｌ）に均等に分散し、高周波誘導加熱用
コイル（１１か溶射皮膜（！【１と常に一定の間隔を保
ち、所定の加熱条件を得るためのものである。もし、溶
射皮膜（１１１か導電性のもので、この薄板（３）が存
在しないと、コイルｆｉ＋と溶射皮膜＋Ｉ１１　、金−
材料α０の間に高周波電流が直接流れ、誘導加熱を行な
うことができない。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明の溶射皮膜の処理方法によると
、加圧棒（７）、力ｉ圧板１６１からなる加圧体により
容易に加圧が得られるとともに、高周波誘導電流により
容易に加熱でき、従来のような密閉容器を用い、ガスに
よる加温、加圧である）ＬＩＰ処理では不可能である大
きな構漬物や既設の構造物に対して、ＨＩＰ処理と同等
の緻密性２よび結合性ｔ−Ｗ易に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

図面は、この発明の溶射皮膜の処理方法の１実施例を示
し、第１図は一部破断正面図、第２図は一部の分所斜視
図である。 ｆｉｌ・・・高周波誘導加熱用コイル、１２１・・・水
冷銅管、（６〕・・・加１３Ｅ板、（７）・・・加圧棒
、（９）・・・ガス導入部、αＯ・・・金属材料、（１
１）・・・溶射皮膜。 代理入　弁理士　藤　１）龍太部 第１図 と 恨 井　　　ａ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）金属材料の表面に溶射により形成された溶射皮膜
   および該溶射皮膜と前記金属材料の結合界面近傍のみを
   、不活性ガスの雰囲気下で高周波誘導電流により加熱し
   、同時に加熱部分の前記溶射皮膜を加圧体により加圧す
   ることを特徴とする溶射皮膜の処理方法。