JPS6112051A - 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂成形材料Info
- Publication number
- JPS6112051A JPS6112051A JP13110084A JP13110084A JPS6112051A JP S6112051 A JPS6112051 A JP S6112051A JP 13110084 A JP13110084 A JP 13110084A JP 13110084 A JP13110084 A JP 13110084A JP S6112051 A JPS6112051 A JP S6112051A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin
- forming material
- organosiloxane
- resistance
- Prior art date
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- Granted
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
- H01L23/296—Organo-silicon compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は半導体封止用エポキシ樹脂成形材料に関し、特
に高い耐湿性耐腐食性及び耐クラツク性を有する半導体
封止用エポキシ樹脂成形材料に関する。
に高い耐湿性耐腐食性及び耐クラツク性を有する半導体
封止用エポキシ樹脂成形材料に関する。
近年、電子部品の小型化や薄層化への指向及び集積度の
増大にともない高い耐湿性、耐腐食性。
増大にともない高い耐湿性、耐腐食性。
耐クラック性、電気特性のバランスのとれたモールド用
樹脂の開発が望まれている。
樹脂の開発が望まれている。
従来、電子部品のそ−ルド用樹脂としては、フェノール
ノボラック樹脂を硬化剤として含有するエポキシ樹脂成
形材料が使用されてきた。しかし、この樹脂組成物はモ
ールド用樹脂として要求される前記特性を満たしていな
かった。このため、上記組成の他にシリコーン系化合物
を添加した半導体封止用エポキシ樹脂成形材料が使用さ
れるに至った。しかしこの成形材料を用いて素子封止を
行った場合、充分な耐湿性、耐腐食性、耐クラツク、性
が得られず、またボンディングワイヤー流れを生ずる成
形時の金型からの離型性が悪いなど種々の問題点があっ
た。
ノボラック樹脂を硬化剤として含有するエポキシ樹脂成
形材料が使用されてきた。しかし、この樹脂組成物はモ
ールド用樹脂として要求される前記特性を満たしていな
かった。このため、上記組成の他にシリコーン系化合物
を添加した半導体封止用エポキシ樹脂成形材料が使用さ
れるに至った。しかしこの成形材料を用いて素子封止を
行った場合、充分な耐湿性、耐腐食性、耐クラツク、性
が得られず、またボンディングワイヤー流れを生ずる成
形時の金型からの離型性が悪いなど種々の問題点があっ
た。
本発明はモールド用樹脂として要求される高い耐湿性、
耐腐食性、耐クラツク性を有し、素子封止を行った場合
のワイヤー流れ性及び金型からの離型性の優れた半導体
封止用エポキシ樹脂成形材料を提供する。ことを目的と
する。
耐腐食性、耐クラツク性を有し、素子封止を行った場合
のワイヤー流れ性及び金型からの離型性の優れた半導体
封止用エポキシ樹脂成形材料を提供する。ことを目的と
する。
本発明の半導体用エポキシ樹脂成形材料としては、エポ
キシ樹脂、フェノールノボラック樹脂。
キシ樹脂、フェノールノボラック樹脂。
無機質充填剤を必須成分としてなる組成物にオルガノシ
ロキサンを0.1〜5重量%混合するエポキシ樹脂成形
材料において、エポキシ樹脂又は、フェノール樹脂とオ
ルガノシロキサンを予備混練し、−さらに残りの材料と
混合することを特徴とする。
ロキサンを0.1〜5重量%混合するエポキシ樹脂成形
材料において、エポキシ樹脂又は、フェノール樹脂とオ
ルガノシロキサンを予備混練し、−さらに残りの材料と
混合することを特徴とする。
本発明に用いるエポキシ樹脂は一分子中に二個以上のエ
ポキシ基を有するものであればその種類には制限はなく
、例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、フ
ェノールノボラック型、タレゾールノボラック型等のエ
ポキシ樹脂及びこれらの樹脂に塩素原子もしくは臭素原
子等のハロゲン原子を導入したエポキシ樹脂等が例示さ
れる。
ポキシ基を有するものであればその種類には制限はなく
、例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、フ
ェノールノボラック型、タレゾールノボラック型等のエ
ポキシ樹脂及びこれらの樹脂に塩素原子もしくは臭素原
子等のハロゲン原子を導入したエポキシ樹脂等が例示さ
れる。
これらは単独で又は混合系で使用される。
本発明におけるフェノールノボラック樹脂は、1分子中
に2個以上のフェノール性水酸基を有するものであれば
いかなるものであってもよく、その具体例としては、フ
ェノールノボラック樹脂。
に2個以上のフェノール性水酸基を有するものであれば
いかなるものであってもよく、その具体例としては、フ
ェノールノボラック樹脂。
オルソクレゾールノボラック樹脂及びメタクレゾールノ
ボラック樹脂等が例示される。これらは単独で又は混合
系で使用される。その配合量は多官能エポキシ化合物1
00重量部に対して、10〜80重量部、好ましくは2
0〜60重量部の範囲である。
ボラック樹脂等が例示される。これらは単独で又は混合
系で使用される。その配合量は多官能エポキシ化合物1
00重量部に対して、10〜80重量部、好ましくは2
0〜60重量部の範囲である。
本発明における無機質充填剤には、本発明樹脂組成物の
目的及び用途等に応じて各種の充填剤が使用される。そ
の具体例としては、溶融シリカ。
目的及び用途等に応じて各種の充填剤が使用される。そ
の具体例としては、溶融シリカ。
結晶系シリカ、タルク、マイカ、クレー、カオリン、炭
酸カルシウム、アルミナ、亜鉛華、ガラス繊維、水酸化
アルミニウム、アスベスト、酸化チタン等が例示される
。これらは単独で又は混合系で使用される。
酸カルシウム、アルミナ、亜鉛華、ガラス繊維、水酸化
アルミニウム、アスベスト、酸化チタン等が例示される
。これらは単独で又は混合系で使用される。
このような無機充填剤の配合量を増すと樹脂封止体の線
膨張係数は小さくなり熱伝導度が大きくなって好ましい
が過度に配合すると樹脂組成物の成形時の流動性が、低
下して半導体素子のボンディングワイヤーの切断を起す
恐れが生じるため好しくない。無機質充填剤の配合量と
しては65〜82重量%の範囲で選択すると、樹脂封止
体の線膨張係数はかなり小さく、熱伝導度は大きく維持
しつつ、低圧トランスファー成形法に適する成形時の流
動性も得ることができる。また素子の信頼性を維持する
ためには樹脂を低歪化することが望ましく、かかる観点
からすると、無機充填剤としては、結晶性シリカ粉及び
溶融シリカ粉が特に好まし1)。
膨張係数は小さくなり熱伝導度が大きくなって好ましい
が過度に配合すると樹脂組成物の成形時の流動性が、低
下して半導体素子のボンディングワイヤーの切断を起す
恐れが生じるため好しくない。無機質充填剤の配合量と
しては65〜82重量%の範囲で選択すると、樹脂封止
体の線膨張係数はかなり小さく、熱伝導度は大きく維持
しつつ、低圧トランスファー成形法に適する成形時の流
動性も得ることができる。また素子の信頼性を維持する
ためには樹脂を低歪化することが望ましく、かかる観点
からすると、無機充填剤としては、結晶性シリカ粉及び
溶融シリカ粉が特に好まし1)。
本発明におけるオルガノシロキサンは、素子の信頼性に
悪影響を及はさない化合物であれば、いかなるものも使
用可能である。また、一般にシリコーンオイルと称呼さ
れているものが作業性の点で良く、その具体例としては
ジメチル系シリコーンオイルメチルフェニル系シリコー
ンオイル、メチルクロ四フェニルシリコーンオイル、フ
ロロシリコーンオイルアルキル変性シリコーンオイル、
高級脂肪酸変性シリコーンオイル、メチルノーイドロジ
エンシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルな
どが挙げられるがこのうちジメチル系シリコーンオイル
、メチルフェニル系シリコーンオイルが好ましい。これ
らは単独で又は混合系で使用される。その配合量は成形
材料に対し0,1〜5重量パーセントの範囲で使用され
、好しくは0.2〜2重景パーセントで0.1重量パー
セント以下では充分な耐クラツク性及び素子信頼性が得
られず5重量パーセント以上では成形性の低下が著しい
。
悪影響を及はさない化合物であれば、いかなるものも使
用可能である。また、一般にシリコーンオイルと称呼さ
れているものが作業性の点で良く、その具体例としては
ジメチル系シリコーンオイルメチルフェニル系シリコー
ンオイル、メチルクロ四フェニルシリコーンオイル、フ
ロロシリコーンオイルアルキル変性シリコーンオイル、
高級脂肪酸変性シリコーンオイル、メチルノーイドロジ
エンシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルな
どが挙げられるがこのうちジメチル系シリコーンオイル
、メチルフェニル系シリコーンオイルが好ましい。これ
らは単独で又は混合系で使用される。その配合量は成形
材料に対し0,1〜5重量パーセントの範囲で使用され
、好しくは0.2〜2重景パーセントで0.1重量パー
セント以下では充分な耐クラツク性及び素子信頼性が得
られず5重量パーセント以上では成形性の低下が著しい
。
本発明においてエポキシ樹脂又はフェノールノボラック
樹脂とシリコーンオイルを予備混合することにより、素
子のボンディングワイヤー流れが改良される。また素子
の信頼性、耐腐食性及び耐クラツク性が向上された成形
材料が得られる。混合方法としては、エポキシ樹脂及び
フェノールノボラック樹脂の軟化点以上の温度での混合
方法であれば良く、攪はん機、ロール、ニーダ−あるい
はスクリュ一式連続混練機等により均一に混合できる。
樹脂とシリコーンオイルを予備混合することにより、素
子のボンディングワイヤー流れが改良される。また素子
の信頼性、耐腐食性及び耐クラツク性が向上された成形
材料が得られる。混合方法としては、エポキシ樹脂及び
フェノールノボラック樹脂の軟化点以上の温度での混合
方法であれば良く、攪はん機、ロール、ニーダ−あるい
はスクリュ一式連続混練機等により均一に混合できる。
本発明では更に、硬化促進剤を配合させてもよい。硬化
促進剤としては、通常イミダゾール類。
促進剤としては、通常イミダゾール類。
三級アミン類、フ壬ノール類、有機金属化合物等が用い
られるが、耐湿性及び電気特性の点からはトリフェニル
ホスフィン等の有機ホスフィン類が好ましい。また、こ
の他にも用途、目的に応じて、本発明の目的が阻害され
ない範囲内で種々の添加剤を配合することができる。こ
のような添加剤としては、例えば、ステアリン酸などの
脂肪酸、ワックス類等の離型′剤、カーボンブラック等
の着色剤、エポキシシラン、ビニルシラン、ボラン系化
合物、アルキルチタネート等のカップリング剤、及びア
ンチモン、リン化合物等の難燃剤があげられる。
られるが、耐湿性及び電気特性の点からはトリフェニル
ホスフィン等の有機ホスフィン類が好ましい。また、こ
の他にも用途、目的に応じて、本発明の目的が阻害され
ない範囲内で種々の添加剤を配合することができる。こ
のような添加剤としては、例えば、ステアリン酸などの
脂肪酸、ワックス類等の離型′剤、カーボンブラック等
の着色剤、エポキシシラン、ビニルシラン、ボラン系化
合物、アルキルチタネート等のカップリング剤、及びア
ンチモン、リン化合物等の難燃剤があげられる。
本発明組成物は、ロール、ニーダ−又はスクリュ一式連
続混線機等を用いて、ドライ混練、溶融混練等により、
再度均一に混合された後、コンプレッション、トランス
ファー又はインジェクション成型に供される。また、液
状、溶液もしくは粉体コーテイング材及びボツチング材
等にも利用される。
続混線機等を用いて、ドライ混練、溶融混練等により、
再度均一に混合された後、コンプレッション、トランス
ファー又はインジェクション成型に供される。また、液
状、溶液もしくは粉体コーテイング材及びボツチング材
等にも利用される。
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂成形材料はモールド
用樹脂として要求される、特に高い耐湿性、耐腐食性及
び耐クラツク性が優れており、しかもモールド時の成形
性が優れており、低応力化、高ガラス転移点という特徴
を有する。したがってその工業的価値は極めて大である
。
用樹脂として要求される、特に高い耐湿性、耐腐食性及
び耐クラツク性が優れており、しかもモールド時の成形
性が優れており、低応力化、高ガラス転移点という特徴
を有する。したがってその工業的価値は極めて大である
。
実施例1〜5および比較例1〜2
タレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当It
200、軟化点74℃) 16.5部にT8F −45
1(東芝シリコーン社製ジメチルシリコーンオイル)を
1.0部を混合機を用いて予備混合を行い次いでフェノ
ールノボラックエポキシ樹脂8.2部トリフェニルホス
フィン0.2 部シランカップリング剤0.4部離型剤
ヘキストE(商品名へキストジャバン社製)0.4部、
溶融シリカ粉70部をヘンシェルミキサーで混合後60
〜100℃の二軸ロールで混練し冷却後粉砕してエポキ
シ樹脂成形材料を得た。
200、軟化点74℃) 16.5部にT8F −45
1(東芝シリコーン社製ジメチルシリコーンオイル)を
1.0部を混合機を用いて予備混合を行い次いでフェノ
ールノボラックエポキシ樹脂8.2部トリフェニルホス
フィン0.2 部シランカップリング剤0.4部離型剤
ヘキストE(商品名へキストジャバン社製)0.4部、
溶融シリカ粉70部をヘンシェルミキサーで混合後60
〜100℃の二軸ロールで混練し冷却後粉砕してエポキ
シ樹脂成形材料を得た。
同様にXF−40、F8F−410、XF −3802
、XF−42(以上東芝シリコーン社製シリコーンオイ
ル)を用いて実施例2〜4を得た。比較例としては、上
記組成と同様のシリコーンオイル無添加品及びジメチル
シリコーンオイルを予備混合せずに二軸ロールを用いて
混練りを行った。比較例−1は、シリコーンオイル無添
加品、比較比−2はジメチルシリコーンオイルを予備混
合せずに成形材料を作った組成である。
、XF−42(以上東芝シリコーン社製シリコーンオイ
ル)を用いて実施例2〜4を得た。比較例としては、上
記組成と同様のシリコーンオイル無添加品及びジメチル
シリコーンオイルを予備混合せずに二軸ロールを用いて
混練りを行った。比較例−1は、シリコーンオイル無添
加品、比較比−2はジメチルシリコーンオイルを予備混
合せずに成形材料を作った組成である。
(以下余白)
Claims (1)
- エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂、無機質充
填剤を必須成分としてなる組成物にオルガノシロキサン
を0.1〜5重量%混合するエポキシ樹脂成形材料にお
いて、エポキシ樹脂又は、フェノール樹脂とオルガノシ
ロキサンを予備混練しさらに残りの材料と混合すること
を特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂成形材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13110084A JPS6112051A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13110084A JPS6112051A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5041767A Division JPH0680143B2 (ja) | 1993-02-08 | 1993-02-08 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6112051A true JPS6112051A (ja) | 1986-01-20 |
JPH0550542B2 JPH0550542B2 (ja) | 1993-07-29 |
Family
ID=15049975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13110084A Granted JPS6112051A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6112051A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0770282A (ja) * | 1994-05-09 | 1995-03-14 | Hitachi Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
KR19990075429A (ko) * | 1998-03-20 | 1999-10-15 | 성재갑 | 반도체 소자 봉지용 에폭시 수지 조성물의 제조 방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5834824A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-03-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びその製造方法 |
JPS6058425A (ja) * | 1983-09-07 | 1985-04-04 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
-
1984
- 1984-06-27 JP JP13110084A patent/JPS6112051A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5834824A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-03-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びその製造方法 |
JPS6058425A (ja) * | 1983-09-07 | 1985-04-04 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0770282A (ja) * | 1994-05-09 | 1995-03-14 | Hitachi Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
KR19990075429A (ko) * | 1998-03-20 | 1999-10-15 | 성재갑 | 반도체 소자 봉지용 에폭시 수지 조성물의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0550542B2 (ja) | 1993-07-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |