JPS61113688A - 混合ガス中の硫化水素を除去する方法 - Google Patents
混合ガス中の硫化水素を除去する方法Info
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- JPS61113688A JPS61113688A JP59235629A JP23562984A JPS61113688A JP S61113688 A JPS61113688 A JP S61113688A JP 59235629 A JP59235629 A JP 59235629A JP 23562984 A JP23562984 A JP 23562984A JP S61113688 A JPS61113688 A JP S61113688A
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- sulfide
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- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Industrial Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、コークス炉ガス（ＣＯＧ）などの少なくと
も硫化水素および二酸化炭素を含む混合ガス中の硫化水
素を除去する方法に関する。
も硫化水素および二酸化炭素を含む混合ガス中の硫化水
素を除去する方法に関する。
ＣＯＧから圧力スイング再生方式で運転される主精製装
置を用いて水素を回収することが行われている。硫化水
素は主ｍｌ１Ａ装置に対して犀害を与えるので、予めほ
ぼゼロになるまで除去しておかなければならない。従来
、このようなプロセスにおいて、ＣＯＧ中に含まれる硫
化水素を除去するには、上記主精製装置の前段に予備ｒ
Ｉ製用活性炭吸着装置を設け、ここで硫化水素を吸着除
去する方法がある。しかしながら、硫化水素を活性炭吸
着剤に吸着させる方法では、硫化水素を脱着させるとき
硫化水素が硫黄（Ｓ）として析出し、吸着剤からの脱着
に困峻を伴い、吸着剤を取換える方法を採らざるを得な
かった。また、吸着剤を再生する方法もあるが、耐用回
数が少なく、寿命も短い。
置を用いて水素を回収することが行われている。硫化水
素は主ｍｌ１Ａ装置に対して犀害を与えるので、予めほ
ぼゼロになるまで除去しておかなければならない。従来
、このようなプロセスにおいて、ＣＯＧ中に含まれる硫
化水素を除去するには、上記主精製装置の前段に予備ｒ
Ｉ製用活性炭吸着装置を設け、ここで硫化水素を吸着除
去する方法がある。しかしながら、硫化水素を活性炭吸
着剤に吸着させる方法では、硫化水素を脱着させるとき
硫化水素が硫黄（Ｓ）として析出し、吸着剤からの脱着
に困峻を伴い、吸着剤を取換える方法を採らざるを得な
かった。また、吸着剤を再生する方法もあるが、耐用回
数が少なく、寿命も短い。
さらに、硫化水素の活性炭への反応−吸着ｌプロセスで
は、反応のマストランスファーゾーンが相当に長くなり
、充填した活性炭の能力に比べて微かじか硫化水素を吸
着できず、どうしても吸着器を大盤化せざるを得ない。
は、反応のマストランスファーゾーンが相当に長くなり
、充填した活性炭の能力に比べて微かじか硫化水素を吸
着できず、どうしても吸着器を大盤化せざるを得ない。
通常、活性炭のＨ，Ｓ吸着率は１０〜２０ ｗｔ％にも
なるにもかかわらずマストランスファーゾーンが長いた
めに、硫化水系を実質ゼロまで除去するためには全吸着
剤量に対して０．１〜ＩＷｔＪの吸着率しか利用し得な
い。
なるにもかかわらずマストランスファーゾーンが長いた
めに、硫化水系を実質ゼロまで除去するためには全吸着
剤量に対して０．１〜ＩＷｔＪの吸着率しか利用し得な
い。
このため、非常に大容量の予備吸着器を設置するか、も
しくはある程度の硫化水素を主精製装置へ流して、主精
製装置の吸着剤の早期劣化に甘んじるなどの方法が採ら
れている。
しくはある程度の硫化水素を主精製装置へ流して、主精
製装置の吸着剤の早期劣化に甘んじるなどの方法が採ら
れている。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、予備Ｍ’
Ａ吸着装置を小型化でき、この装置の再生操作が容易に
行え、主精製装置の寿命を長くでき、従って精製コスト
の低減を計ることのできる硫化水素の除去方法を提供す
ることを目的とするものである。
Ａ吸着装置を小型化でき、この装置の再生操作が容易に
行え、主精製装置の寿命を長くでき、従って精製コスト
の低減を計ることのできる硫化水素の除去方法を提供す
ることを目的とするものである。
以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
本発明は、予備精製段においてゼオライトの存在下、硫
化水素を二酸化炭素と反応させて硫化カルボニルに変え
、主ｆｆ製装置においてこの硫化カルボニルを吸着除去
することを特徴とするものであるが、以下には硫化水素
を含むガスの例としてＣＯＧをとり、ＣＯＧ中の硫化水
素を除去する場合について説明する。図面はこの発明の
方法をＣＯＧ中の硫化水素の除去に適用した装置を示す
ものである。
化水素を二酸化炭素と反応させて硫化カルボニルに変え
、主ｆｆ製装置においてこの硫化カルボニルを吸着除去
することを特徴とするものであるが、以下には硫化水素
を含むガスの例としてＣＯＧをとり、ＣＯＧ中の硫化水
素を除去する場合について説明する。図面はこの発明の
方法をＣＯＧ中の硫化水素の除去に適用した装置を示す
ものである。
原料ＣＯＧは、タール除去器１にてタール分を除去され
たのち、圧縮機２に送り、ここで５〜１５ｉｃｇ７ｃｔ
ａに加圧されたのち、弁３を経て切換運転される２基の
吸着筒５ａ、５ｂからなる予備精製装置５の一方の吸着
筒５ａに送り込まれる。これらの吸着筒５ａ、５ｂには
、いずれもガス入口側（上流［）からゼオライト、シリ
カゲル、活性炭の順序に％ ３ｆｆｉの吸着剤が充填さ
れている。吸着筒５ａに流入したＣＯＧ中の硫化水素は
、合成ゼオライトモレキュラーシーブスを触媒として共
存する二酸化炭素、ｍ素１１．水の゛存在丁Ｊ常温で、
”Ｈｚ ８ ＋ ００２ → ＣＯ
８＋ Ｈ２Ｏなる反応を起し、硫化カルボニルに変化す
る。この反応による硫化水系の硫化カルボニルへの変化
率は、硫化水素、二酸化炭素の濃度、圧力等に左右され
るが、常温では十分可能な反応である。また、ＣＯＧ中
の硫化水素は通常は微量であるので、反応熱は相対的に
微かで、全体系に影響を及ぼすことはない。
たのち、圧縮機２に送り、ここで５〜１５ｉｃｇ７ｃｔ
ａに加圧されたのち、弁３を経て切換運転される２基の
吸着筒５ａ、５ｂからなる予備精製装置５の一方の吸着
筒５ａに送り込まれる。これらの吸着筒５ａ、５ｂには
、いずれもガス入口側（上流［）からゼオライト、シリ
カゲル、活性炭の順序に％ ３ｆｆｉの吸着剤が充填さ
れている。吸着筒５ａに流入したＣＯＧ中の硫化水素は
、合成ゼオライトモレキュラーシーブスを触媒として共
存する二酸化炭素、ｍ素１１．水の゛存在丁Ｊ常温で、
”Ｈｚ ８ ＋ ００２ → ＣＯ
８＋ Ｈ２Ｏなる反応を起し、硫化カルボニルに変化す
る。この反応による硫化水系の硫化カルボニルへの変化
率は、硫化水素、二酸化炭素の濃度、圧力等に左右され
るが、常温では十分可能な反応である。また、ＣＯＧ中
の硫化水素は通常は微量であるので、反応熱は相対的に
微かで、全体系に影響を及ぼすことはない。
硫化水素が硫化カルボニルに変換されたＣＯＧは、つぎ
にシリカゲル層でアンモニアが吸着除去され、そののち
活性炭層で、ベンゼン、トルエン。
にシリカゲル層でアンモニアが吸着除去され、そののち
活性炭層で、ベンゼン、トルエン。
キシレンやその他の炭化水素類が吸着除去され、予備精
製が終了し、吸着筒５ａから流出する。吸着筒５ａから
流出したＣＯＧは、不純分として、硫化カルボニル、微
積の炭化水素を含んでおり、弁６を経て、次の圧力スイ
ング再生方式で運転されている主精製装置８に送られる
。主精製装置８には、活性炭、ゼオライトが充填されて
おり、硫化カルボニルはメタン、−酸化炭素等と同時に
吸着剤に吸着除去され、主精製装置８からは高純度（９
９，９％以上）の水Ｘ （Ｈ２）が導出される。
製が終了し、吸着筒５ａから流出する。吸着筒５ａから
流出したＣＯＧは、不純分として、硫化カルボニル、微
積の炭化水素を含んでおり、弁６を経て、次の圧力スイ
ング再生方式で運転されている主精製装置８に送られる
。主精製装置８には、活性炭、ゼオライトが充填されて
おり、硫化カルボニルはメタン、−酸化炭素等と同時に
吸着剤に吸着除去され、主精製装置８からは高純度（９
９，９％以上）の水Ｘ （Ｈ２）が導出される。
上記予備精製装ｆ５の吸着筒５ａからｅ、着筒５ｂへの
切換は、吸着筒５ａの出口での流出ＣＯＧ中のベンゼン
濃度が所定濃度になったときに行い、管９から再生用の
高圧水蒸気もしくは加熱不活性ガスを三方弁１０を経て
破過した吸着筒５ａに流シ、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、水、アンモニア等を脱着し、ついで主精製装置８
からの排ガスまたは水素を三方弁１１．管１２を経て流
し、乾燥および仕上再生を行い、次の切換に備える。
切換は、吸着筒５ａの出口での流出ＣＯＧ中のベンゼン
濃度が所定濃度になったときに行い、管９から再生用の
高圧水蒸気もしくは加熱不活性ガスを三方弁１０を経て
破過した吸着筒５ａに流シ、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、水、アンモニア等を脱着し、ついで主精製装置８
からの排ガスまたは水素を三方弁１１．管１２を経て流
し、乾燥および仕上再生を行い、次の切換に備える。
そして、再生排ガスは、吸着筒５ａから三方弁１３を経
て系外に排出される。
て系外に排出される。
このよう゛なＣＯＧ中の硫化水素の除去方法にあっては
、この硫化水素を予備精製装ｆｔ５において、ゼオライ
トを触媒として、硫化カルボニルに変え、この硫化カル
ボニルを主精製装置ＭＢで吸着除去するようにしている
ので、予備ＵＳ装ｆ５の吸着剤量は主にＣＯＧ中のベン
ゼン、トルエン、キシレン等の量によって決められ、硫
化水素の除去性能の制限から決められた従来の予備精製
装置の１／１０程度で充分となるとともに予備精製装置
５の吸着剤の再生も確実かつ容易に行える。また、硫化
カルボニルは圧力スイング再生方式によって極めて容易
に脱着できるので、主精製装置８の運転操作が特に複雑
になったり、困雌になったりすることもない。
、この硫化水素を予備精製装ｆｔ５において、ゼオライ
トを触媒として、硫化カルボニルに変え、この硫化カル
ボニルを主精製装置ＭＢで吸着除去するようにしている
ので、予備ＵＳ装ｆ５の吸着剤量は主にＣＯＧ中のベン
ゼン、トルエン、キシレン等の量によって決められ、硫
化水素の除去性能の制限から決められた従来の予備精製
装置の１／１０程度で充分となるとともに予備精製装置
５の吸着剤の再生も確実かつ容易に行える。また、硫化
カルボニルは圧力スイング再生方式によって極めて容易
に脱着できるので、主精製装置８の運転操作が特に複雑
になったり、困雌になったりすることもない。
以下、実施例を示して具体的に説明する。
原料ＣＣ０Ｇ３０Ｎ”７時間をタール除去器１を通して
圧縮機２でｘｏＩｃｇ／ｃｄｌＧまで圧縮し、ついで予
備［膜装置５に送る。吸着筒５ａ、５ｂ内には、それぞ
れゼオライト２＃、シリカゲル１ｋｇ。
圧縮機２でｘｏＩｃｇ／ｃｄｌＧまで圧縮し、ついで予
備［膜装置５に送る。吸着筒５ａ、５ｂ内には、それぞ
れゼオライト２＃、シリカゲル１ｋｇ。
活性炭１８都が、上流側から順次積層して充填されてい
る。ＣＯＧ中の硫化水素は、ここで硫化カルボニルに変
換され、ベンゼン、トルエン、キシレン、アンモニア等
が吸着除去されたうえ、次の主精製装置８に送られる。
る。ＣＯＧ中の硫化水素は、ここで硫化カルボニルに変
換され、ベンゼン、トルエン、キシレン、アンモニア等
が吸着除去されたうえ、次の主精製装置８に送られる。
主精製装［８には活性炭７焙２合成ゼオライト８＃が充
填され、ここで硫化カルボニル等が吸着除去されＳ純度
９９．９９９〜９９．９％の水素が１０〜１３Ｎｍｌ／
時間長期にわたって安定に得られた。
填され、ここで硫化カルボニル等が吸着除去されＳ純度
９９．９９９〜９９．９％の水素が１０〜１３Ｎｍｌ／
時間長期にわたって安定に得られた。
操業２５時間後、予備精製装置５出口でベンゼンが約１
００〜２００９９ｍ検出されたところで、吸着筒５ａを
吸着筒５ｂに切り換え、使用済の吸着筒５ａに８０〜１
５０℃の水蒸気を流して脱着、再生し、ついで主精製装
ｆｉｔ８からの再生排ガスを流して仕上げ再生および乾
燥、冷却を行い１次回の使用に備えた。
００〜２００９９ｍ検出されたところで、吸着筒５ａを
吸着筒５ｂに切り換え、使用済の吸着筒５ａに８０〜１
５０℃の水蒸気を流して脱着、再生し、ついで主精製装
ｆｉｔ８からの再生排ガスを流して仕上げ再生および乾
燥、冷却を行い１次回の使用に備えた。
予備精製装ｆ５の吸着筒５ａ、５ｂの切換までの可使時
間は、数回の切換までは徐々Ｊこ短くなったが、その後
は安定し、極めて長期間安定して便用することができた
。
間は、数回の切換までは徐々Ｊこ短くなったが、その後
は安定し、極めて長期間安定して便用することができた
。
従来の活性炭を多量に充填した予備精製装置では、短期
間で充填剤を交換せねばならず、これに比べてはるかに
本発明の方法は長期間使用でき、精製コストの低減が達
成できた。
間で充填剤を交換せねばならず、これに比べてはるかに
本発明の方法は長期間使用でき、精製コストの低減が達
成できた。
なお、以上においては、硫化水素と二酸化炭素を含む混
合ガスの一例としてのＣＯＧから水素を回収する際の硫
化水素の除去方法について説明し 、また
が、ＣＯＧに限られることなく、硫化水素と二酸化炭素
を最少成金む混合ガスを予備精製し、ついで圧カスイン
ブ再生方式で運転される主ｎＩ製装置に詔いてガス分離
を行うシステムに対して広く適用できる。そして、この
場合には、予備精製装置５の吸着筒５ａ、５ｂ内に充填
される吸着剤の種類および積層順序は、上記例に限られ
ず、混合ガスの組成に応じて、例えば入口側（上流１１
４Ｉｌ）から活性炭、ゼオライト、シリカゲルの順にし
てもよく、要は吸着筒５ａ、５ｂ内に少なくともゼオラ
イトが存在すればよく、これによって混合ガス中の硫化
水素は硫化カルボニルに充分変換され、上記例と同様の
作用効果が得られる。
合ガスの一例としてのＣＯＧから水素を回収する際の硫
化水素の除去方法について説明し 、また
が、ＣＯＧに限られることなく、硫化水素と二酸化炭素
を最少成金む混合ガスを予備精製し、ついで圧カスイン
ブ再生方式で運転される主ｎＩ製装置に詔いてガス分離
を行うシステムに対して広く適用できる。そして、この
場合には、予備精製装置５の吸着筒５ａ、５ｂ内に充填
される吸着剤の種類および積層順序は、上記例に限られ
ず、混合ガスの組成に応じて、例えば入口側（上流１１
４Ｉｌ）から活性炭、ゼオライト、シリカゲルの順にし
てもよく、要は吸着筒５ａ、５ｂ内に少なくともゼオラ
イトが存在すればよく、これによって混合ガス中の硫化
水素は硫化カルボニルに充分変換され、上記例と同様の
作用効果が得られる。
以上説明したように、この発明の混合ガス中の硫化水素
を除去する方法は、少なくとも硫化水素４゜と二酸化炭
素を含む混合ガスを予備精製し、ついで圧力スイング再
生方式で運転される主精製装置においてガス分離を行う
際に、上記予備精製段においてゼオライトの存在下、硫
化水素を二酸化炭素と反応させて硫化カルボニルに変え
、ついで上記主精製装置においてこの硫化カルボニルを
吸着除去するものである。よって、吸着効率が悪く、し
かも脱着再生時硫黄を生成し、不都合を来す硫化水素を
、吸着効率がよく、脱着再生にも問題のない硫化カルボ
ニルに一旦変え、この硫化カルボニルを主精製装置で吸
着除去しているので、予備＃層設での吸着剤量を大幅に
削減できるとともにその脱着再生が容易に行える。また
、硫化カルボニルを効率よく主精製装置で吸着除去でき
、主精製装置の脱着再生も通常通り容易に行うことがで
きる。したがって、本発明の方法によれば硫化水素の吸
着除去に伴う諸問題を一気に解決することができるとと
もに除去に伴うコストも大幅に低減できる。
を除去する方法は、少なくとも硫化水素４゜と二酸化炭
素を含む混合ガスを予備精製し、ついで圧力スイング再
生方式で運転される主精製装置においてガス分離を行う
際に、上記予備精製段においてゼオライトの存在下、硫
化水素を二酸化炭素と反応させて硫化カルボニルに変え
、ついで上記主精製装置においてこの硫化カルボニルを
吸着除去するものである。よって、吸着効率が悪く、し
かも脱着再生時硫黄を生成し、不都合を来す硫化水素を
、吸着効率がよく、脱着再生にも問題のない硫化カルボ
ニルに一旦変え、この硫化カルボニルを主精製装置で吸
着除去しているので、予備＃層設での吸着剤量を大幅に
削減できるとともにその脱着再生が容易に行える。また
、硫化カルボニルを効率よく主精製装置で吸着除去でき
、主精製装置の脱着再生も通常通り容易に行うことがで
きる。したがって、本発明の方法によれば硫化水素の吸
着除去に伴う諸問題を一気に解決することができるとと
もに除去に伴うコストも大幅に低減できる。
図面は、この発明の一実施例として、ＣＯＧから水素を
回収する際の硫化水素の除去に用いらｎる装置のフロー
である。
回収する際の硫化水素の除去に用いらｎる装置のフロー
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくとも硫化水素と二酸化炭素を含む混合ガスを予備
精製し、ついで圧力スイング再生方式で運転される主精
製装置においてガス分離を行うに際して、 上記予備精製段においてゼオライトの存在下、硫化水素
を二酸化炭素と反応させて硫化カルボニルに変え、つい
で上記主精製装置においてこの硫化カルボニルを吸着除
去するようにしたことを特徴とする混合ガス中の硫化水
素を除去する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59235629A JPS61113688A (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 | 混合ガス中の硫化水素を除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59235629A JPS61113688A (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 | 混合ガス中の硫化水素を除去する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61113688A true JPS61113688A (ja) | 1986-05-31 |
| JPH0569566B2 JPH0569566B2 (ja) | 1993-10-01 |
Family
ID=16988843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59235629A Granted JPS61113688A (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 | 混合ガス中の硫化水素を除去する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61113688A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0246843U (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-30 | ||
| JPH0441716U (ja) * | 1990-07-31 | 1992-04-09 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IN2014CN02080A (ja) * | 2011-08-20 | 2015-05-29 | Hyl Technologies Sa De Cv | |
| CN110856792A (zh) * | 2018-08-23 | 2020-03-03 | 中国石化工程建设有限公司 | 活性焦吸附净化烟气的系统及方法 |
-
1984
- 1984-11-08 JP JP59235629A patent/JPS61113688A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0246843U (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-30 | ||
| JPH0441716U (ja) * | 1990-07-31 | 1992-04-09 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0569566B2 (ja) | 1993-10-01 |
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