JPS61110141A - 遮光性マスキングフイルム - Google Patents

遮光性マスキングフイルム

Info

Publication number
JPS61110141A
JPS61110141A JP59232682A JP23268284A JPS61110141A JP S61110141 A JPS61110141 A JP S61110141A JP 59232682 A JP59232682 A JP 59232682A JP 23268284 A JP23268284 A JP 23268284A JP S61110141 A JPS61110141 A JP S61110141A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
dye
release layer
acrylic rubber
vinyl chloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59232682A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0338580B2 (ja
Inventor
Yoshiaki Murakami
吉昭 村上
Noriji Iwai
岩井 紀治
Shinji Omura
大村 慎次
Joichi Kasamatsu
丈一 笠松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Shinko Corp
Shinko Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shinko Chemical Co Ltd
Shinko Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Chemical Co Ltd, Shinko Chemical Industries Co Ltd filed Critical Shinko Chemical Co Ltd
Priority to JP59232682A priority Critical patent/JPS61110141A/ja
Publication of JPS61110141A publication Critical patent/JPS61110141A/ja
Publication of JPH0338580B2 publication Critical patent/JPH0338580B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチックスフィルム支持体の片面上に遮
光性剥離層を設けてなるマスキングフィルムに関する。
さらに詳しくは、遮光性、被膜性、耐紫外線性、易!1
vIIIII性及び帯電防止性の改善されたIA層層を
透光性のプラスチンクスフイルム支持体の片面上に設け
てなる遮光性マスキングフィルムに関する。
〔従来技術〕
遮光性マスキングフィルムは、誘光性のプラスチックス
フィルム支持体上に遮光性剥離層を設けてなるものであ
るから、当該剥離層を部分的に剥離することによって、
@離された部分が透光性となるものであり、この特性を
利用して写真製版用などに用いられるものである。
遮光性マスキングフィルムに要求される特性としては、
■#1III層の強度が良い、■プラスチックスフィル
ム支持体の透光性が良好である、■剥離層の剥離性に優
れている、■カッターナイフにて剥離層部分に切れを入
れても非@難部分に浮き上りが生じない、■カンターナ
イフによる剥離層の切り口がシャープである、■遮光性
に優れていること、■柔軟性を育する、0表面べとつき
がない、■精密な写実体が得られる等があげられる。
遮光性マスキングフィルムとして、たとえば特公昭51
−25478号にポリウレタン樹脂と酢酸繊維素樹脂よ
りなる@離層ををするものが開示されているが、上記■
〜■の全ての特性を満足するものではない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、上記Φ〜■の全ての特性を満足する遮
光性マス¥ングフィルムを提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、プラスチンクスフィルム支持体の片面上に、
少なくともアクリルゴム、塩化ビニル系樹脂および遮光
性色素を含有する樹脂組成物よりなる@離層を設けてな
る遮光性マスキングフィルムに関する。
本発明で使用されるプラスチンクスフィルム支持体は、
透光性が良く、可とう性に優れているものであればよく
、延伸フィルム、無延伸フィルムのいずれでもよい、か
かるプラスチンクスフィルム支持体としては、たとえば
ポリエステル(たとえば、ポリエチレンテレフタレート
、ポリブチレンテレフタレート、ポリオキシベンンゾエ
ートなど)、ポリカーボネートなどよりなるフィルムが
例示される。
本発明で使用されるアクリルゴムとしては、良好な粘着
性と耐体紫外線性とを有するものであれば好適に使用さ
れる。アクリルゴムを構成するアクリル酸エステルとし
ては、エチルエステル、ブチルエステルなどのアルキル
(好ましくは、炭素数1〜4)エステルが好ましく、ま
た他の成分としては、アクリロニトリルなどが配合され
る。アクリルゴムとしては、具体的にはアクリル酸ブチ
ル−アクリロニトリル共重合体が例示され、その構成比
は、アクリル酸ブチル85〜90重量%、アクリロニト
リル15〜9.5重量%、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート0.5〜2重量%であることが好ましく、その
分子量は、10万〜60万(ポリスチレンを基準物質と
するゲルバーミニ−シランクロマトグラフによって測定
される数平均分子量)であることが好ましい。
塩化ビニル系樹脂としては、上記アクリルゴムと相溶性
があり、かつ室温でベトつきのないものが使用される。
塩化ビニル系樹脂は、通常重合度500〜1000程度
のホモポリマーまたはコポリマーであり、その例として
は、好ましくは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、就中
塩化ビニルモ/?−85〜95重量%、酢酸ビニル15
〜5重量%の共重合体があげられる。
アクリルゴムと塩化ビニル系樹脂との混合比は、通常固
形分重量で2010〜50:50の範囲で、好ましくは
30;70〜40:60である。
混合比で20:80よりアクリルゴムが少なくなるとプ
ラスチック支持体との接着が悪く、剥離層が簡単に剥が
れてしまう、逆に50;50よりもアクリルゴムが多く
なると、ゴムの特徴が著しく現れ、剥離層の伸度が大き
くなり、作業が困難となる。
遮光性色素としては、1rlII溶剤可溶性であって、
前記アクリルゴムと塩化ビニル系樹脂との混合樹脂(以
下、アクリルゴム系樹脂組成物という)と相溶性を育し
、遮光性を育するものが使用される。
また、熱および紫外線に対して色調の変化の少ないもの
であることが好ましい、当該色素の色調および構造には
、特に制限はない、遮光性色素の配合量は、遮光性を発
揮するに十分な量であればよく、たとえば、樹脂固形分
100重量部に対して0.5〜lO重量部である。かか
る遮光性色素としては、たとえばオイル可溶性染料、有
機溶媒可溶性染料、金属錯塩染料などが例示される。
本発明に関する剥離層を構成する樹脂組成物は、更に帯
電防止剤を含んでいることが好ましい、帯電防止剤とし
ては、アクリルゴム系樹脂組成物を溶解する際に用いら
れる下記溶剤に溶解するカチオン系帯電防止剤が用いら
れる。かかるカチオン系帯電防止剤としては、たとえば
、アルキロイル(炭素数8〜24程度)アミノプロピル
ジメチルヒドロキシエチルアンモニウム、アル革ルアミ
ン塩(例、日本油脂社製、商品名ニューニレガンなど)
、第4級アンモニウム塩〔たとえばN、N、N、Nテト
ラアルキル(アルキル基は、その少なくとも一つは炭素
数8〜24程度以上のものであり、残りは炭素数1〜5
程度のものである)第4&&アンモニウム塩、(例、ラ
イオン社製、商品名レオスタンド)〕などが例示される
。帯電防止剤の好ましい配合量は、静電気の発生を防止
するに十分な量であればよく、たとえばアクリルゴム系
組成物中の固型分に対して、2〜6重量%である。
剥離層を構成する樹脂組成物には、光の反射を防止する
目的でつや消し荊を配合することが好ましい、つや消し
剤としては、粒子径10ミクロン以下のつや消し能を有
する粒子(例えば、含水無晶形ケイ素)が使用さ些る。
つや消し剤の配合量は、アクリルゴム系樹脂組成物中の
固形分に対して0.5〜3重量九程度、好ましくは0,
75〜2重量九程度である。配合量が0.5重量%より
少ないとつや消し効果がなく、3重量%より多くなると
つや哨し効果が飽和され、逆につや消し剤による弊害と
してカッターナイフ刃の11!耗が早くなり、遮光層の
可視光線の透過性が悪(なり、レイアトウド作業等に支
障が生じ好ましくない。
本発明の遮光性マスキングフィルムは、例えばアクリル
ゴム系樹脂組成物を、5咳組成物溶解性の溶剤〔たとえ
ば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレ
ン、これらの混合fJW (例、アセトン、メチルエチ
ルケトンとトルエン、またはキシレンとの混合溶媒)〕
に溶解した後、他の成分を混合して得た組成物をプラス
チックスフィルム支持体の片面に、たとえば、ロールコ
ータ−によって塗布して、剥離層を形成せしめることに
よって製造される。
〔作用・効果〕
本発明遮光性マスキングフィルムは、上記の如き構成と
したので、01111層の強度が良い、■プラスチンク
スフィルム支持体の透光性が良好である、■I411!
l1層の@離性に優れている、■カッターナイフにて剥
離層部分に切れを入れても非剥離部分に浮き上りが生じ
ない、■カッターナイフによる#離層の切り口がシャー
プである、■遮光性に優れていること、■柔軟性を育す
る、0表面べとつきがない、[F]精密な写実体が得ら
れる等の効果を育し、すぐれた遮光性マスキングフィル
ムである。
実施例に 二輪延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムに、
少量の2−ヒドロキシメタクリレートを含むアクリロニ
トリル含有量が12重量%のアクリルゴム(分子量約1
0万)と、塩化ビニル/酢酸ビニル−90/10(重量
比)の共重合体(重合度750)との混合物をメチルエ
チルケトンに溶解し、遮光性染料である保土谷化学工業
株式会社製のスビロンオレンジ2RH(4重量部)と、
カチオン系帯電防止剤である日本油脂株式会社製のニュ
ーニレガンAr(4111部)と同じカチオン系帯電防
止剤であるライオン油脂株式会社製のArmosLaL
 410 (1重量部)との混合物を混合した溶液をi
J!4MI、塗布液とした。
上記各成分の配合比は表1に示す通りである。
該塗布液を100μの厚みを有する二輪延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上にロールコータ−に
より塗布し、オーブン中で2分間乾燥し、全体が125
μの厚みでオレンジ色の透明フィルムを得た。該フィル
ムは分光光度計により光線透過度の測定の結果、200
〜560ナノメーター(n−)の光線を透過せず、良好
な遮光性を有していた。また、実施例のフィルム表面は
ベトつきがなく、フィルムベースと塗布膜とは適度な剥
離強度を有し、かつ優れた帯電防止性を有してした。更
に、写真製版の露光による@離層の劣化が生じにくく、
長期にわたって切り口が浮くことな(安定していた。
実施例2 二輪延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムに、
アクリロニトリル含有量が12重量%のアクリルゴム、
塩化ビニル/酢酸ビニル−90710(重量比)の共重
合体(重合度800)をメチルエチルケトンに溶解し、
遮光性染料である保土谷化学工業株式会社製のスピロン
レソドGEH(4重量部)とカチオン系帯電防止剤であ
るニューニレガンAI(4重量部)とArmostat
 410(1重量部)とつや消し荊である塩野義製薬株
式会社製のカープレックスFPS−7(1重量部)との
混合物を混合した溶液を調整し塗布液とした。
上記各成分の配合比は表1に示す通りである。
譲塗布液を125μの厚みを有する二輪延伸ボリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上に塗布し、全体が1
50μの外観が透明で表面つや消しの赤色フィルムを得
た。
該フィルムの表面はII離線をナイフでカットする前に
、あらかじめ鉛筆、ボールペン等の筆記具で筆記でき、
かつ製版カメラで邊影する場合にもハレーシランを起こ
さないため反射光による作業が可能である。又、分光光
度計により光線透過度の測定の結果、200〜590ナ
ノメーター(n謡)の光線を透過せず良好な遮光性を有
してした。更に、該フィルムは実施例1と同じ#IM挙
動を有してした。
実験例1  (!1111層強度・剥離性試験)試料と
して、実施例1で得られた遮光性マスキングフィルムを
、また対照試料として、グラビカ[有]6120G^(
ダイセル化学工業社製) 、AKボビールo# 300
 (きもと社製)、ツバピール[1AP−50OA(ソ
マール工業社製)を用いた。
各試料を15m暢X200mで各5枚切り取り、フエイ
ドメーターで465時間紫外線を照射した。
紫外線照射前後の各遮光性マスキングフィルムをプラス
チック支持体面において澗仮に接着し、剥離面にポリエ
ステル粘着テープに−/ ト−)h 31B)を貼り付
けて補強片として#Ij!1層の引張り強さと伸び(剥
離層強度)、及び180°ビーリング(剥離性)を調べ
た。その結果はそれぞれ表2及び表3に示す通りである
試験方法 Ill 剥離層の引張り強さと伸び ・試験装置 テンシロン万能試験機 UTM−Ill L(東洋ボー
ルドウィン社製) ・試験条件 気温     24℃ 支点間距離  100鶴 引張り速度  200鶴/調1n (2)剥離層の剥離性(180℃ビーリング)・試験装
置 同上 ・試験条件 気温     24℃ @離速度   300鵡/sin 実験例2(光進遇性試験) 実験例1で使用したと同様の紫外線照射前後の試料につ
いて、各々のプラスチックフィルム支持体および@離層
について、プラスチックフィルム支持体については、そ
の光透過性を、また@離層については、その遮光性を調
べた。その結果は表4に示した。
試験方法 ・試験装置 分光光度計 UV−240(島原製作所製)・試験条件 気温     24℃ 表2に示した結果から明らかなように本発明の遮光性マ
、スキングフィルムは、紫外線等による劣化を受けにく
く、紫外線照射によってもその強度は殆ど変化しない、
他方、公知の遮光性マスキングフィルムは、紫外線照射
によって劣化を受けて剥離しにくくなり、また剥離され
ても剥離層が脆く、その特性の測定が出来ない程度まで
劣化していることがわかる。また、遮光性マスキングフ
ィルムは、通常1809ピーリングとして200 g 
/15鵬儀以上の強度が必要であるが、表3の結果から
、本発明の遮光性マスキングフィルムのみがかかる強度
を満足するものであることがわかる。更に、600n−
の可視光線において、本発明の遮光性マスキングフィル
ムのプラスチック性支持体は、公知のものに比較して透
視し易く、また剥離層は紫外線照射前後においてその遮
光性において殆ど変化がないことが、表4の結果かられ
かる。
(以下余白) 表1 表2  C固層の引張り強さと伸ω 米グラピカ、AKボピーノ4Lツバピールいずれも劣化
後は塗膜を剥がそうとする時、塗膜がはがれにくい、欝
坊(れても塗膜が跪く割れてしまい試験できなかった。
双下奈白 表3  (剥離層の剥離性) 来グラピカ、AKボビールEE、ツバピールいずれの試
験片とも表2の※にて述べたと同じ理由により試験でき
なかった。
双下余白 表4 恍楯シ弊) 手続補正書(白銀 昭和60年2月15日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透光性プラスチックスフィルム支持体の片面上に
    、少なくともアクリルゴム、塩化ビニル系樹脂および遮
    光性色素を含有する樹脂組成物よりなる剥離層を設けて
    なる遮光性マスキングフィルム。
  2. (2)さらに艶消剤を配合してなる樹脂組成物よりなる
    剥離層を設けてなる特許請求の範囲、第(1)項記載の
    記載の遮光性マスキングフィルム。
JP59232682A 1984-11-05 1984-11-05 遮光性マスキングフイルム Granted JPS61110141A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59232682A JPS61110141A (ja) 1984-11-05 1984-11-05 遮光性マスキングフイルム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59232682A JPS61110141A (ja) 1984-11-05 1984-11-05 遮光性マスキングフイルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61110141A true JPS61110141A (ja) 1986-05-28
JPH0338580B2 JPH0338580B2 (ja) 1991-06-11

Family

ID=16943138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59232682A Granted JPS61110141A (ja) 1984-11-05 1984-11-05 遮光性マスキングフイルム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61110141A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63163355A (ja) * 1986-12-25 1988-07-06 Oike Ind Co Ltd 遮光性マスキングフイルム
JPS6435556A (en) * 1987-07-31 1989-02-06 Somar Corp Light shielding masking film
JPH01267550A (ja) * 1988-04-19 1989-10-25 Somar Corp 遮光性マスキングフィルム
US4923727A (en) * 1988-02-16 1990-05-08 Somar Corporation Lightsafe masking film

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5846011A (ja) * 1981-09-14 1983-03-17 Kao Corp 毛髪処理剤

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5846011A (ja) * 1981-09-14 1983-03-17 Kao Corp 毛髪処理剤

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63163355A (ja) * 1986-12-25 1988-07-06 Oike Ind Co Ltd 遮光性マスキングフイルム
JPS6435556A (en) * 1987-07-31 1989-02-06 Somar Corp Light shielding masking film
US4923727A (en) * 1988-02-16 1990-05-08 Somar Corporation Lightsafe masking film
JPH01267550A (ja) * 1988-04-19 1989-10-25 Somar Corp 遮光性マスキングフィルム

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0338580B2 (ja) 1991-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3996800B2 (ja) 表面保護フィルムおよびそれを用いた積層体
JP2004506228A (ja) 顕微鏡用カバースリップ材
AU611746B2 (en) Masking film with masking layer comprising cellulose ester and aliphatic polyester-based polyurethane
US5043198A (en) Lightsafe masking film
JP2003027019A (ja) 光学シート保護用粘着フィルム
JPS61110141A (ja) 遮光性マスキングフイルム
JPS5846011B2 (ja) 遮光性マスキングフィルム
JPH07120035B2 (ja) 遮光性マスキングフイルム
US5009944A (en) Lightsafe masking film
JPS61254916A (ja) 顕微鏡用カバ−グラス
JPH09176586A (ja) 光学用プロテクトテープ
JPS6249356A (ja) マスキングフイルム及びその製造方法
JPH02960A (ja) 遮光性マスキングフィルム
JPH0848954A (ja) 保護用粘着フィルム
JP2631384B2 (ja) 遮光性マスキングフイルム
JPH117121A (ja) 表面保護フィルム
JPS62246071A (ja) マスキングフイルム
JPS62287254A (ja) 遮光性マスキングフイルム
JPH09151360A (ja) 表面保護フィルム
JPS63304260A (ja) 遮光性マスキングフィルム
JPS62163054A (ja) 帯電防止型遮光性マスキングフイルム
KR960006163B1 (ko) 차광 마스킹 수지 조성물
JPH0934096A (ja) 遮光性マスキングフィルム
JPH06100821B2 (ja) 薄グリーン系遮光性マスキングフィルム
JPS6289968A (ja) 再粘着性マスキングフイルム