JPS6110834A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
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- JPS6110834A JPS6110834A JP13011784A JP13011784A JPS6110834A JP S6110834 A JPS6110834 A JP S6110834A JP 13011784 A JP13011784 A JP 13011784A JP 13011784 A JP13011784 A JP 13011784A JP S6110834 A JPS6110834 A JP S6110834A
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- Japan
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- shadow mask
- glass
- vacuum
- mask
- electrostatic field
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2209/00—Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
- H01J2209/01—Generalised techniques
- H01J2209/012—Coating
- H01J2209/015—Machines therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシャドウマスク型カラー受像管に用いられるシ
ャドウマスクの製造方法籠二関するものである。
ャドウマスクの製造方法籠二関するものである。
一般にシャドウマスク凰カラー受像管は、パネル、ファ
ンネルおよびネック(二よシ真空外囲器が構成され、パ
ネル内面(二は3色蛍光体からなる蛍光面が形成され、
その蛍光面(二近接して多数の透孔な有するシャドウマ
スクが配設されている。前記ネック部には電子銃が内蔵
され、この電子銃から放出される′電子ビームは前記シ
ャドウマスクの透孔を通過して蛍光面(=到達してこれ
を発光させ、カラー画像を再現しているが、シャドウマ
スクの透孔を通過して蛍光面(=達するのは全体の加饅
程度であり、残9の約8096はシャドウマスクに衝突
して熱エネルギー(=変換され、シャドウマスクを加熱
していた。この結果、加熱された7ヤドウマスクは各易
−熱)膨張を生ずるが、その周辺部は黒化処理を施こさ
れた熱容量の大きなマスクフレームく二対撤しているた
め、輻射や伝導によシャドウマスク周辺からマスクフレ
ーム(1熱が移動し、シャドウマスク周辺の温度が中央
部よりも低くなる。このためシャドウマスクの中央部と
周辺部(二温度差を生じ相対的(1中央部を生体として
加熱膨張されたいわゆるドーミング現象を生ずる。この
結果シャドウマスクと蛍光体スクリーンとの距離が変化
し電子ビームの正確なランディングが乱され色純度の劣
化を生ずる。このような現象は特(二カラー受像管の動
作初期(=おいて顕著である。
ンネルおよびネック(二よシ真空外囲器が構成され、パ
ネル内面(二は3色蛍光体からなる蛍光面が形成され、
その蛍光面(二近接して多数の透孔な有するシャドウマ
スクが配設されている。前記ネック部には電子銃が内蔵
され、この電子銃から放出される′電子ビームは前記シ
ャドウマスクの透孔を通過して蛍光面(=到達してこれ
を発光させ、カラー画像を再現しているが、シャドウマ
スクの透孔を通過して蛍光面(=達するのは全体の加饅
程度であり、残9の約8096はシャドウマスクに衝突
して熱エネルギー(=変換され、シャドウマスクを加熱
していた。この結果、加熱された7ヤドウマスクは各易
−熱)膨張を生ずるが、その周辺部は黒化処理を施こさ
れた熱容量の大きなマスクフレームく二対撤しているた
め、輻射や伝導によシャドウマスク周辺からマスクフレ
ーム(1熱が移動し、シャドウマスク周辺の温度が中央
部よりも低くなる。このためシャドウマスクの中央部と
周辺部(二温度差を生じ相対的(1中央部を生体として
加熱膨張されたいわゆるドーミング現象を生ずる。この
結果シャドウマスクと蛍光体スクリーンとの距離が変化
し電子ビームの正確なランディングが乱され色純度の劣
化を生ずる。このような現象は特(二カラー受像管の動
作初期(=おいて顕著である。
このようなカラー受像管の動作初期のドーミング現象を
抑えるものとして例えば、シャドウマスクの表面(=黒
色層を設けてシャドウマスクの熱を放射し易くするもの
、あるいは%開昭50−44771号公報のようにシャ
ドウマスクの表面(=多孔質層を形成し、その上からA
1層を形成、さら(=その上から酸化ニッケルまたはニ
ッケル鉄屑を蒸着したものがある。しかしながら、前者
はカラー受像管の製造工程中の熱工程での熱サイクル(
二より黒色層の密着性が劣化し、カラー受像管(=振動
が与えられると一部が剥離して微小片が脱落することが
ある。このようにして生じた脱落黒色層はシャドウマス
クロ付着すると孔詰りを生じて蛍光面4二おける画像特
性を劣化させ、また電子銃に付着すると、電極間のスパ
ークを酵発して耐電圧特性を劣化させるなどカラー受像
管の品質を者しく低下させる。また後者はシャドウマス
ク面上に三重層を設けるため、製造方法が複雑で、作業
時間がかかり量産的でないという欠点がある。
抑えるものとして例えば、シャドウマスクの表面(=黒
色層を設けてシャドウマスクの熱を放射し易くするもの
、あるいは%開昭50−44771号公報のようにシャ
ドウマスクの表面(=多孔質層を形成し、その上からA
1層を形成、さら(=その上から酸化ニッケルまたはニ
ッケル鉄屑を蒸着したものがある。しかしながら、前者
はカラー受像管の製造工程中の熱工程での熱サイクル(
二より黒色層の密着性が劣化し、カラー受像管(=振動
が与えられると一部が剥離して微小片が脱落することが
ある。このようにして生じた脱落黒色層はシャドウマス
クロ付着すると孔詰りを生じて蛍光面4二おける画像特
性を劣化させ、また電子銃に付着すると、電極間のスパ
ークを酵発して耐電圧特性を劣化させるなどカラー受像
管の品質を者しく低下させる。また後者はシャドウマス
ク面上に三重層を設けるため、製造方法が複雑で、作業
時間がかかり量産的でないという欠点がある。
そこですで(二本出願人が出願済みの特願昭58−14
8843号のよう(二、シャドウマスクの表面にガラス
層を形成して動作初期の熱膨張を抑制するものが提案さ
れている。シャドウマスク表面にガラス層を形成する手
段としては、はけ塗り、スプレー塗布および静電塗装な
どがあるが材料の効率の点では靜屯塗装法が好ましい塗
布法である。しかしながら、シャドウマスクはその周辺
部を強固(=保持しているフレームあるいはパネルピン
と係合されるホルダー等を有しており、それらの部分C
二は電気的導通性を必要とすることからガラスの付着を
防止しなければならないが、シャドウマスク全体は導電
体であるため静電塗装の過程において前記部分にガラス
が付着しないようにするのは困難である。これは遮蔽体
で非塗装部を覆う程度では防止できず、ガラスの粉体は
微細なためそのまねり込みで結果的C二付着してしまう
。これを先金(二防止しようとした場合、非塗装部分≦
二接着テープを貼るとか遮蔽体を用いる時は非塗装体(
一完全(二密着させることなどが考えられるが、そうな
るとテープを貼p付けた部分や遮蔽体との接触部等の変
形を起したり、作業が複雑(二なるので生産性を著しく
損うなどの問題がある。
8843号のよう(二、シャドウマスクの表面にガラス
層を形成して動作初期の熱膨張を抑制するものが提案さ
れている。シャドウマスク表面にガラス層を形成する手
段としては、はけ塗り、スプレー塗布および静電塗装な
どがあるが材料の効率の点では靜屯塗装法が好ましい塗
布法である。しかしながら、シャドウマスクはその周辺
部を強固(=保持しているフレームあるいはパネルピン
と係合されるホルダー等を有しており、それらの部分C
二は電気的導通性を必要とすることからガラスの付着を
防止しなければならないが、シャドウマスク全体は導電
体であるため静電塗装の過程において前記部分にガラス
が付着しないようにするのは困難である。これは遮蔽体
で非塗装部を覆う程度では防止できず、ガラスの粉体は
微細なためそのまねり込みで結果的C二付着してしまう
。これを先金(二防止しようとした場合、非塗装部分≦
二接着テープを貼るとか遮蔽体を用いる時は非塗装体(
一完全(二密着させることなどが考えられるが、そうな
るとテープを貼p付けた部分や遮蔽体との接触部等の変
形を起したり、作業が複雑(二なるので生産性を著しく
損うなどの問題がある。
本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、静電塗装に
おいて容易に部分的(=塗布することができ、かつ量産
向きのシャドウマスクの製造方法を提供するものである
。
おいて容易に部分的(=塗布することができ、かつ量産
向きのシャドウマスクの製造方法を提供するものである
。
本発明は、シャドウマスク(1静り11m装(二よりガ
ラスを塗布するもので、バキュームまたはエアーブロー
を用いてシャドウマスクにガラス層を部分的(二塗布し
ない非塗装部を形成すること(二より、シャドウマスク
の温度上昇を効率的(二軽減でき、かつ量産的なシャド
ウマスクの製造方法である。
ラスを塗布するもので、バキュームまたはエアーブロー
を用いてシャドウマスクにガラス層を部分的(二塗布し
ない非塗装部を形成すること(二より、シャドウマスク
の温度上昇を効率的(二軽減でき、かつ量産的なシャド
ウマスクの製造方法である。
以下、本発明を参照して詳細(二説明する。
第3図は本発明(二より製造されたシャドウマスクを適
用したシャドウマスク型力2−受像管をかすもので、外
囲器は、実質的(二足形状の・(ネル12υと漏斗状の
7アンネル(24とネック(ハ)とから構成される。そ
してパネルI2υの内面には赤、緑及び青(二夫々発光
する例えばストライプ状蛍光体スクリ+ン(至)が設け
られ、一方ネツク(ハ)(二はパネル(2υの水平軸線
に沿って一列(二配列され赤、緑及び青(二対応する3
本の電子ビーム−を射出するいわゆるインライン型電子
銃(至)が内設されている。またスクリーン(至)(二
近接対同して多数の透孔の!i#!設された曲面状の王
■を有するシャドウマスク(至)が配設される。シャド
ウマスク(至)の周辺部はパネル外形(二対応して折り
曲げられたスカート部端を有し、このスカート部(ハ)
は断面り字型の枠からなるマスク7レームシη(二よっ
て支持固定され、さらにマスクフレーム−θはホルダー
四を介してパネルゆ内1Ill壁(二埋め込まれたビン
l(図示せずンで保止めされている。このようなカラー
受像管(二おいて、電子銃eQから射出された3本の電
子ビーム(至)はファンネル(2)近傍の外部(=配置
された偏向装置(図示せず)によって偏向され、実質的
に矩形状のパネル121)に対応する矩形状の範囲を走
査するよう(二且つシャドウマスク(至)の透孔な介し
て色選別され、各色発光ストライプ状蛍光体(二正しく
対応射突せしめてカラー映像を現出させる。
用したシャドウマスク型力2−受像管をかすもので、外
囲器は、実質的(二足形状の・(ネル12υと漏斗状の
7アンネル(24とネック(ハ)とから構成される。そ
してパネルI2υの内面には赤、緑及び青(二夫々発光
する例えばストライプ状蛍光体スクリ+ン(至)が設け
られ、一方ネツク(ハ)(二はパネル(2υの水平軸線
に沿って一列(二配列され赤、緑及び青(二対応する3
本の電子ビーム−を射出するいわゆるインライン型電子
銃(至)が内設されている。またスクリーン(至)(二
近接対同して多数の透孔の!i#!設された曲面状の王
■を有するシャドウマスク(至)が配設される。シャド
ウマスク(至)の周辺部はパネル外形(二対応して折り
曲げられたスカート部端を有し、このスカート部(ハ)
は断面り字型の枠からなるマスク7レームシη(二よっ
て支持固定され、さらにマスクフレーム−θはホルダー
四を介してパネルゆ内1Ill壁(二埋め込まれたビン
l(図示せずンで保止めされている。このようなカラー
受像管(二おいて、電子銃eQから射出された3本の電
子ビーム(至)はファンネル(2)近傍の外部(=配置
された偏向装置(図示せず)によって偏向され、実質的
に矩形状のパネル121)に対応する矩形状の範囲を走
査するよう(二且つシャドウマスク(至)の透孔な介し
て色選別され、各色発光ストライプ状蛍光体(二正しく
対応射突せしめてカラー映像を現出させる。
シャドウマスク(2)は一般(二〇〜100”Cでの熱
膨張係数が1.2 X 10−6/’Cと大きい鉄を主
成分とするいわゆる冷間圧g鋼からなる厚さ0,1藤〜
0.3nの薄板から形成されており、このシャドウマス
ク四のスカート部端を支持するマスクフレーム(5)は
厚さ1n前後の強固な断面り型の悪化処理を施こされた
同じく冷間圧延鋼から形成されている。
膨張係数が1.2 X 10−6/’Cと大きい鉄を主
成分とするいわゆる冷間圧g鋼からなる厚さ0,1藤〜
0.3nの薄板から形成されており、このシャドウマス
ク四のスカート部端を支持するマスクフレーム(5)は
厚さ1n前後の強固な断面り型の悪化処理を施こされた
同じく冷間圧延鋼から形成されている。
このようなカラー受像管のシャドウマスクは写真露光法
(二よシ選択的にエツチングされること(二より多数の
透孔が穿設される。次いで多数の透孔な有する土面が曲
面状で周縁部は土面支持のためのスカート部にプレス成
形されてシャドウマスクの原型が完成する。このような
シャドウマスク四は所定形状(二形成された後、スクリ
ーン−〇二近接対向して配設される場合電子銃側の凹面
となる土面にガラスを主体とする、例えば鉛はう酸塩ガ
ラスからなる層が形成される。この鉛はう酸塩ガラス層
は、パネルG!!υと7アンネル@とが封着される前(
二、ニトロセルロースを数チ溶かした酢酸ブチルアルコ
ール溶液で溶かされたものを静電塗装法でシャドウマス
ク(ハ)の電子銃側(二塗布すること(=よって形成さ
れる。
(二よシ選択的にエツチングされること(二より多数の
透孔が穿設される。次いで多数の透孔な有する土面が曲
面状で周縁部は土面支持のためのスカート部にプレス成
形されてシャドウマスクの原型が完成する。このような
シャドウマスク四は所定形状(二形成された後、スクリ
ーン−〇二近接対向して配設される場合電子銃側の凹面
となる土面にガラスを主体とする、例えば鉛はう酸塩ガ
ラスからなる層が形成される。この鉛はう酸塩ガラス層
は、パネルG!!υと7アンネル@とが封着される前(
二、ニトロセルロースを数チ溶かした酢酸ブチルアルコ
ール溶液で溶かされたものを静電塗装法でシャドウマス
ク(ハ)の電子銃側(二塗布すること(=よって形成さ
れる。
第1図は本発明(二よるシャドウマスクの製造方法を説
明するもので、シャドウマスクAを陽極として接地し、
一方このマスク(二対間配置される鉛はう酸塩ガラスの
噴射装置Uりは直流電源(1(9から負の高電圧、例え
ば−90KVを印加し、シャドウマスク(ハ)と噴射装
置(I4の間1″−高圧の静電界を形成する。供給槽u
l)から噴射装置@を通じて噴霧された鉛はう酸塩ガラ
ス粒子は負に帯電されて静電外場(二のシ、対極のシャ
ドウマスク(ハ)(一連続的(二付着させることができ
るJ第1図(=おいて矩形状のシャドウマスク(ハ)は
、長軸方図の断面を示すものであり、シャドウマスク中
央m (251L)およびフレームシηの全周およびホ
ルダー(2)の近傍(=はバキュームダクト住鐘および
四が配置されておシ、また、これらを全体的に囲むバキ
ュームダクト(至)によシ吸引し、噴霧状態の鉛はう酸
塩ガラス粉体眞Ii四を形成するものである。非塗装部
(=配置されたバキューダクトtts、u場は、付近の
ガラス粉体訛を急速(二速め、静磁作用(二よる粉体の
シャドウマスクに付着しようとする力を上まわる運動エ
ネルギーを粉体(二与えるよう(=そのバキュームダク
ト内(二吸い込んでしまうため粉体が付着するのを防止
できる。
明するもので、シャドウマスクAを陽極として接地し、
一方このマスク(二対間配置される鉛はう酸塩ガラスの
噴射装置Uりは直流電源(1(9から負の高電圧、例え
ば−90KVを印加し、シャドウマスク(ハ)と噴射装
置(I4の間1″−高圧の静電界を形成する。供給槽u
l)から噴射装置@を通じて噴霧された鉛はう酸塩ガラ
ス粒子は負に帯電されて静電外場(二のシ、対極のシャ
ドウマスク(ハ)(一連続的(二付着させることができ
るJ第1図(=おいて矩形状のシャドウマスク(ハ)は
、長軸方図の断面を示すものであり、シャドウマスク中
央m (251L)およびフレームシηの全周およびホ
ルダー(2)の近傍(=はバキュームダクト住鐘および
四が配置されておシ、また、これらを全体的に囲むバキ
ュームダクト(至)によシ吸引し、噴霧状態の鉛はう酸
塩ガラス粉体眞Ii四を形成するものである。非塗装部
(=配置されたバキューダクトtts、u場は、付近の
ガラス粉体訛を急速(二速め、静磁作用(二よる粉体の
シャドウマスクに付着しようとする力を上まわる運動エ
ネルギーを粉体(二与えるよう(=そのバキュームダク
ト内(二吸い込んでしまうため粉体が付着するのを防止
できる。
本方法によるとバキュームダク[l11.dへの粉体の
逃げが生ずるため、噴射装置@からの粉体の噴出量を多
めにする必要があるが、ガラスの付着の必要な部分への
付着量(膜厚)は、噴射装置U々の印加電圧、塗装時間
あるいはバキュームダクトの吸引量などで調整が可能で
ある。また、バキュームダクト(=吸引された粉体は、
回収し、再使用が可能なので材料効率の問題は全くない
。
逃げが生ずるため、噴射装置@からの粉体の噴出量を多
めにする必要があるが、ガラスの付着の必要な部分への
付着量(膜厚)は、噴射装置U々の印加電圧、塗装時間
あるいはバキュームダクトの吸引量などで調整が可能で
ある。また、バキュームダクト(=吸引された粉体は、
回収し、再使用が可能なので材料効率の問題は全くない
。
以上のようにガラス層を塗布し、乾燥後のシャドウマス
ク(ハ)をバネルシυ内(二装着する。そしてその後、
バネA/eυとファンネルシ4を所定の枠台(二乗せて
、最高温度が約440°でその保持時間がお分易上の熱
処理炉を通過させると、シャドウマスク(ハ)の電子銃
側(=ガラス化された鉛はう酸塩ガラス層が形成できる
。この鉛はう酸塩ガラスはPboの重量パーセントが4
4〜93%の範囲でガラス化するが、結晶化(二対し安
定なのは70〜85%であシ、この範囲がlit腫に適
している。また、一般に金属とガラスを封着する場合ガ
ラス(二無理な歪力がかからないようにすることが必要
である。ガラスではその圧縮強度が引つ張シ強度の約1
0倍であり、従って封着後ガラスにわずか(二圧縮力が
加わっている状態にすることがよいので、ガラスの熱w
張よシも封着金属のそれがわずか(二大きい方が好まし
い。一般(二乍間圧延鋼板よりなるシャドウマスク(ハ
)の熱膨張係数は約1.2 X 10つ℃でめるが、前
記PbOの重量パーセントが70〜85%の鉛はう酸塩
ガラスの熱膨張係数tFi0.7〜1.2 X 10−
’/℃であシ、冷間圧延鋼板のシャドウマスク(=封着
するの(=非常(二速している。ところでこのような鉛
はう酸塩ガラスを結晶化するため(二は、400乃至6
00℃の最高温度とそれを蜀分以上保持できる炉が必要
であるが、後のカラー受像管の製造工程中のパネル12
])とファンネル(24との封着時(二同時に封着炉で
結晶化すれば、工業的(=非常(二有利である。このよ
う(=従来の封着炉条件で最適化結晶させるため必要(
一応じて、ZnOやCuOを鉛はう酸塩ガラス(=添加
してもよい。この場合、熱膨張係数をあまシ変化させな
いでより低温で結晶化させることが可能となる。このよ
うにして形成されたシャドウマスク(ハ)は、第2図に
示すように中央部分(25a)を除きドーミング(=よ
る電子ビームのミスランディングの大きい左右領域(二
部公的(=ガラス層t4Qを有しておシ、この構造でも
実質的(二色純度の劣化を防止することができる。
ク(ハ)をバネルシυ内(二装着する。そしてその後、
バネA/eυとファンネルシ4を所定の枠台(二乗せて
、最高温度が約440°でその保持時間がお分易上の熱
処理炉を通過させると、シャドウマスク(ハ)の電子銃
側(=ガラス化された鉛はう酸塩ガラス層が形成できる
。この鉛はう酸塩ガラスはPboの重量パーセントが4
4〜93%の範囲でガラス化するが、結晶化(二対し安
定なのは70〜85%であシ、この範囲がlit腫に適
している。また、一般に金属とガラスを封着する場合ガ
ラス(二無理な歪力がかからないようにすることが必要
である。ガラスではその圧縮強度が引つ張シ強度の約1
0倍であり、従って封着後ガラスにわずか(二圧縮力が
加わっている状態にすることがよいので、ガラスの熱w
張よシも封着金属のそれがわずか(二大きい方が好まし
い。一般(二乍間圧延鋼板よりなるシャドウマスク(ハ
)の熱膨張係数は約1.2 X 10つ℃でめるが、前
記PbOの重量パーセントが70〜85%の鉛はう酸塩
ガラスの熱膨張係数tFi0.7〜1.2 X 10−
’/℃であシ、冷間圧延鋼板のシャドウマスク(=封着
するの(=非常(二速している。ところでこのような鉛
はう酸塩ガラスを結晶化するため(二は、400乃至6
00℃の最高温度とそれを蜀分以上保持できる炉が必要
であるが、後のカラー受像管の製造工程中のパネル12
])とファンネル(24との封着時(二同時に封着炉で
結晶化すれば、工業的(=非常(二有利である。このよ
う(=従来の封着炉条件で最適化結晶させるため必要(
一応じて、ZnOやCuOを鉛はう酸塩ガラス(=添加
してもよい。この場合、熱膨張係数をあまシ変化させな
いでより低温で結晶化させることが可能となる。このよ
うにして形成されたシャドウマスク(ハ)は、第2図に
示すように中央部分(25a)を除きドーミング(=よ
る電子ビームのミスランディングの大きい左右領域(二
部公的(=ガラス層t4Qを有しておシ、この構造でも
実質的(二色純度の劣化を防止することができる。
以上のようにして形成完成されたシャドウマスクをカラ
ー受像管(二組込んで動作させた場合、電子ビームが射
突する鉛はう酸塩ガラスで発生した熱は、鉛はう酸塩ガ
ラスの熱伝導率が6W/m−にと冷間圧延鋼板のシャド
ウマスクのそれの約1/8のためマスク(二伝達される
量が少なくなシャドウマスクの温度上昇を効果的(=抑
制することができる。
ー受像管(二組込んで動作させた場合、電子ビームが射
突する鉛はう酸塩ガラスで発生した熱は、鉛はう酸塩ガ
ラスの熱伝導率が6W/m−にと冷間圧延鋼板のシャド
ウマスクのそれの約1/8のためマスク(二伝達される
量が少なくなシャドウマスクの温度上昇を効果的(=抑
制することができる。
また、他の実施例としてシャドウマスクの非塗装部の近
傍にエアーを吹き付けること(=よってガラス粉体の付
着を防止することもでき、ざら(=、特(=ガラス粉体
が付着してはならないホルダ一部分(=エアーを吹き付
け、他の非塗装部にはバキュームダクトを用いてエアー
ブローとバキュームを併用することもできる。
傍にエアーを吹き付けること(=よってガラス粉体の付
着を防止することもでき、ざら(=、特(=ガラス粉体
が付着してはならないホルダ一部分(=エアーを吹き付
け、他の非塗装部にはバキュームダクトを用いてエアー
ブローとバキュームを併用することもできる。
以上のよう(=、本発明(二よれば部分的かつ確実な静
電塗装がt照的にできるという利点を有する。
電塗装がt照的にできるという利点を有する。
第1図は本発明によるシャドウマスクの製造方法の一例
を説明するための装置の概略図、第2図は本発明によっ
て製造されたシャドウマスクの正面図、第3図は本発明
(二よるシャドウマスクを組込んだシャドウマスク型カ
ラー受像管の概略断面図を示す。 @・・・噴射装置、 (13・・・ガラス粉体流H
,un、(7)・・・バキュームダクト(4)・・・シ
ャドウマスク 代理人 弁理士 則 近 M 右(ほか1名)第1図
を説明するための装置の概略図、第2図は本発明によっ
て製造されたシャドウマスクの正面図、第3図は本発明
(二よるシャドウマスクを組込んだシャドウマスク型カ
ラー受像管の概略断面図を示す。 @・・・噴射装置、 (13・・・ガラス粉体流H
,un、(7)・・・バキュームダクト(4)・・・シ
ャドウマスク 代理人 弁理士 則 近 M 右(ほか1名)第1図
Claims (1)
- 多数の閉口が穿設された金属板の表面にガラス層を有す
るシャドウマスクの製造方法において、シャドウマスク
と、これと対向配置されガラス粒子を噴射する装置との
間に静電界を形成してシャドウマスク表面にガラス粒子
を塗布する方法であつて、同時にバキュームまたはエア
ーブローによルシャドウマスクに非塗装部を形成し、そ
の後シャドウマスクに形成されたガラス層を加熱し結晶
化させるシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13011784A JPS6110834A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13011784A JPS6110834A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6110834A true JPS6110834A (ja) | 1986-01-18 |
Family
ID=15026352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13011784A Pending JPS6110834A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6110834A (ja) |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP13011784A patent/JPS6110834A/ja active Pending
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