JPH0552013B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はカラー受像管に用いられるシヤドウマ
スクの製造方法に関するものである。

〔発明の技術的背景と問題点〕

一般にシヤドウマスク型カラー受像管は第１図
に示すように典型的には碍子で形成された外囲器
は、実質的に矩形状のパネル１と漏斗状のフアン
ネル２とネツク３とから構成される。そしてパネ
ル１の内面には赤、緑及び青に夫々発光する例え
ばストライプ状螢光体スクリーン４が設けられ、
一方ネツク３にはパネル１の水平軸線に沿つて一
列に配列され赤、緑及び青に対応する３本の電子
ビーム１０を射出するいわゆるインライン型電子
銃６が内設されている。またスクリーン４に近接
対向して多数の透孔の穿設された曲面状の主面を
有するシヤドウマスク５が配設される。シヤドウ
マスク５の周辺部はパネル外形に対応して折り曲
げられたスカート部８を有し、このスカート部８
は断面Ｌ字型の枠からなるマスクフレーム７によ
つて支持固定され、さらにマスクフレーム７はス
プリング９を介してパネル１内側壁に埋め込まれ
たピン（図示せず）で係止めされている。このよ
うなカラー受像管において、電子銃６から射出さ
れた３本の電子ビーム１０はフアンネル２近傍の
外部に配置された偏向装置（図示せず）によつて
偏向され、実質的に矩形状のパネル１に対応する
矩形状の範囲を走査するように且つシヤドウマス
ク５の透孔を介して色選別され、各色発光ストラ
イプ状螢光体に正しく対応射突せしめてカラー映
像を現出させる。ここでシヤドウマスク５の透孔
を通過する有効電子ビーム量はその機構上1/3以
下であり、残りの電子ビームはシヤドウマスクに
射突し熱エネルギーに変換され時として80℃程度
迄シヤドウマスクを加熱させる。シヤドウマスク
５は一般に０〜100℃での熱膨張係数が1.2×
10^-5／℃と大きい鉄を主成分とするいわゆる冷間
圧延鋼からなる厚さ0.1mm〜0.3mmの薄板から形成
されており、このシヤドウマスク５のスカート部
８を支持するマスクフレーム７は厚さ１mm前後の
強固な断面Ｌ型の黒化処理を施こされた同じく冷
間圧延鋼から形成されている。従つて加熱された
シヤドウマスク５は容易に熱膨張を生ずるが、そ
の周辺部は黒化処理を施こされた熱容量の大きな
マスクフレーム７に対接しているため輻射や伝導
によりシヤドウマスク周辺からマスクフレームに
熱が移動し、シヤドウマスク周辺の温度が中央部
よりも低くなる。このためシヤドウマスク５の中
央部と周辺部に温度差を生じ相対的に中央部を主
体として加熱膨張されたいわゆるドーミング現象
を生ずる。この結果シヤドウマスク５と螢光体ス
クリーン４との距離が変化し電子ビームの正確な
ランデイングが乱され色純度の劣化を生ずる。こ
のような現象は特にカラー受像管の動作初期にお
いて顕著である。また部分的に高輝度の映像が映
出される場合も、シヤドウマスクの対応部位で局
部的なドーミング現象を生ずる。

このようなカラー受像管のドーミング現象に対
しては多くの提案がなされている。例えば米国特
許第2826538号ではシヤドウマスクの熱放射を促
進すべくシヤドウマスクの曲面状の主面に黒船よ
りなる黒色層を設ける提案がなされている。また
低熱膨張、低熱伝導率のガラス状層をシヤドウマ
スクの曲面状の主面に設ける提案が本発明と同一
の出願人により特願昭58−148843でなされいる。
上記何れの場合もシヤドウマスクの曲面状の主面
への粒状物の塗布形成は、均一な膜厚、透孔の孔
詰まりのないこと及び量産性に富むことが要求さ
れる。このような塗布形成法としてはスプレー方
式が最も簡便な方法である。

第２図はこのようなスプレー方式の装置の概略
を示すもので、まず多数の透孔を有する主面１２
は曲面状に、主面の周縁部はスカート部１３とし
て形成されたシヤドウマスク１１のスカート部１
３をマスクフレーム１４に溶接等により支持固定
してシヤドウマスク構体を完成する。次いでこの
シヤドウマスク構体をスプレーブース１５上のス
プレー台１６上の所定位置に載置し、ブース１５
内のスプレーノズル１７から粒状物を噴射して主
面１２上に粒状物層１８を塗布形成する。その後
焼成炉を通してカラー受像管内に組み込まれる。
尚、場合によつては黒化処理を施こす場合もあ
る。

しかし乍らこのような塗布方法では、スプレー
の回り込みによつて必要とする部分以外、例えば
スカート部１３やマスクフレーム１４にも粒状物
が不規則に形成され後工程の螢光面露光形成時の
シヤドウマスク構体の複数回の脱着作業により剥
れを生じ易く、シヤドウマスク構体の管内組込後
も含めて透孔の孔詰まりや耐絶縁性の低下を生ず
る原因となる。また塗布工程終了後の検査により
不良となつた場合、少なくともマスクフレームは
シヤドウマスクに比して機械的に強固であり回収
再使用を計ることとなるが、この場合マスクフレ
ームに付着した粒状物を除去する別工程が必要と
なる。

〔発明の目的〕

本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、シ
ヤドウマスクに粒状物を塗布形成するにあたり、
不要な部位に粒状物が付着せずまた回収も容易な
製造方法を提供することを目的とする。

〔発明の概要〕

本発明は、シヤドウマスクのスカート部とマス
クフレームを固定する前に少なくともスカート部
を遮蔽する治具を介して粒状物を塗布形成して
後、スカート部とマスクフレームを固定するシヤ
ドウマスクの製造方法である。

〔発明の実施例〕

以下本発明の実施例について説明する。尚、本
発明に適用されるシヤドウマスク及びカラー受像
管自体は第１図に示すものと同様であるので、全
体構成についての説明は省略する。

第３図は本発明の実施例に適用される塗布装置
の一例を示すものである。まず所定の形状に成形
されたシヤドウマスク１１はマスクフレーム（図
示せず）に固定する前に単独で遮蔽治具１９を介
してスプレーブース１５上のスプレー台１６上の
所定位置に載置される。この遮蔽治具１９はシヤ
ドウマスク１１の周縁部と相似の形状に形成され
ており、シヤドウマスクをこの遮蔽治具に嵌挿す
るだけでよい。この実施例の場合、遮蔽治具１９
はシヤドウマスク１１のスカート部１３から主面
１２の周縁無透孔部２０まで延在しており、周縁
無透孔部２０の対応部分は相似の曲面状に成形さ
れている。次いでブース１５内の主面１２に対向
するスプレーノズル１７からシヤドウマスク１１
の所定部位に粒状物１８を所定の膜厚となるよう
塗布形成する。その後シヤドウマスク１１単体は
所定の焼成炉を通した後マスクフレームに固定さ
れてシヤドウマスク構体が完成する。

このような製造方法では以下の利点を有する。
まず粒状物の塗布部位に応じて遮蔽治具１９を任
意に設定すればよく、不要な部分に粒状物が付着
しないので剥離による透孔の孔詰まりや耐絶縁性
の危険性が減少する。またマスクフレームとは全
く無関係となるので従来のような検査不良の場合
のマスクフレームの回収も無関係となる。さらに
シヤドウマスクのスカート部をマスクフレームの
内側に固定するが、または外側に固定するかの固
定方式或はマスクフレームの形状には無関係とな
るので多管種にも容易に対応でき量産に適応す
る。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、マスクフレーム
とは無関係にシヤドウマスクの必要な部分にのみ
粒状物を塗布形成することができ、透孔の孔詰ま
りや耐絶縁性の低下の危険性を軽減し、量産性に
富むシヤドウマスクの製造方法を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図はシヤドウマスク型カラー受像管の構成
を示す概略断面図、第２図は従来の粒状物塗布装
置を示す概略構成図、第３図は本発明の実施例に
適用される塗布装置を示す概略構成図である。 １１……シヤドウマスク、１２……主面、１３
……スカート部、１４……マスクフレーム、１５
……ブース、１６……スプレー台、１７……スプ
レーノズル、１８……粒状物、１９……遮蔽治
具。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 多数の透孔の穿設された曲面状の主面と前記
   主面の周縁部に延在するスカート部とからなるシ
   ヤドウマスクと前記スカート部を支持固定するマ
   スクフレームとからなるシヤドウマスク構体の少
   なくとも前記曲面状の主面に粒状物を塗布形成す
   るにあたり、前記スカート部と前記マスクフレー
   ムを固定する前に少なくとも前記スカート部を遮
   蔽する治具を介して前記粒状物を塗布形成して後
   前記スカート部と前記マスクフレームを固定する
   ことを特徴とするシヤドウマススの製造方法。 ２ 前記スカート部から前記主面の周縁部に延在
   し、且つ前記主面の周縁部に対応する部分が前記
   周縁部の曲面と実質的に同一の曲率を有する治具
   を介して前記主面に前記粒状物を塗布形成するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシヤ
   ドウマスクの製造方法。