JPS61108145A - Detecting device for detecting semiconductor pellet - Google Patents

Detecting device for detecting semiconductor pellet

Info

Publication number
JPS61108145A
JPS61108145A JP22952384A JP22952384A JPS61108145A JP S61108145 A JPS61108145 A JP S61108145A JP 22952384 A JP22952384 A JP 22952384A JP 22952384 A JP22952384 A JP 22952384A JP S61108145 A JPS61108145 A JP S61108145A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
defective
semiconductor
semiconductor pellet
pellets
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22952384A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumichi Kimura
木村 一路
Hisashi Kubota
久保田 恒史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SAGA EREKUTORONITSUKUSU KK
Original Assignee
SAGA EREKUTORONITSUKUSU KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SAGA EREKUTORONITSUKUSU KK filed Critical SAGA EREKUTORONITSUKUSU KK
Priority to JP22952384A priority Critical patent/JPS61108145A/en
Publication of JPS61108145A publication Critical patent/JPS61108145A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To detect reliably defective semiconductor pellets due to a break and so forth by a detecting device in the simple constitution by a method wherein an He-Ne laser beam is irradiated on the semiconductor pellets through a diaphragm, its reflected light is detected in the light-receiving element, the current value of its output is compared with the current setpoint and whether the pellets are defective or non-defective is decided. CONSTITUTION:A laser beam from an He-Ne laser light source 1 is narrowed by a pinhole plate 4 via a filter 2 and a reflecting mirror 3 and the laser beam is irradiated on the semiconductor pellets of a wafer 5 on an X-Y stage 10. The reflected light is made to incide in a light-receiving element 7. The current value of its output is compared with the prescribed current setpoint in the light-receiving element 7 and when the current value of the output is lower than the setpoint, it is decided that defects such as a break and so forth exist on the pellet. Accordingly, defective pellets due to a break and so forth are detected by the detecting device in the simple constitution with a high reliability.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 半導体集積回路いわゆるIC,L8工などは、原材料の
半導体基板いわゆるウェーハに不純物を選択的にドーピ
ングしたシ、電極のアルミ層を形成したり、また絶縁酸
化膜をつける等のいわゆるウェーハエ程を行なう工場(
ウェーハエ場)から、ウェーハ状態のまま出荷され、組
立工場でこれが入荷してからダイシングと呼ばれる切断
作業により各一枚ずつのペレットに切多分けられる。
[Detailed Description of the Invention] [Background of the Invention] Semiconductor integrated circuits (IC, L8, etc.) are manufactured by selectively doping a raw material semiconductor substrate (wafer) with impurities, forming an aluminum layer for electrodes, and forming an insulating layer. A factory that performs so-called wafer etching processes such as attaching an oxide film (
They are shipped in wafer form from the wafer factory (wafer factory), and after arriving at the assembly factory, they are cut into individual pellets through a cutting operation called dicing.

このよウニ一枚ずつのペレットに切り分けられた半導体
ウェーハはダイシング前の半導体ウェーハの形状をその
まま保持され、各半導体ペレットは順次たとえば真空チ
ャック方式のコレットによって吸着取出され、半導体装
置の外囲器のベース面にグイボンデングされる。
The semiconductor wafer cut into individual pellets retains its shape before dicing, and each semiconductor pellet is successively picked out by a vacuum chuck collet, and placed in the envelope of the semiconductor device. It is attached to the base surface.

ところで、このような半導体ウェーハは、その周辺部に
おいても半導体ペレットが形成されてお如、シかもこの
半導体ペレットはその一辺が半導体ウェーへの辺と一致
しているために、欠けが生じた半導体ペレットとして製
造される。
By the way, it is possible that such a semiconductor wafer has a semiconductor pellet formed on its periphery as well, and since one side of the semiconductor pellet coincides with the side of the semiconductor wafer, the chipped semiconductor may be Manufactured as pellets.

このような欠けが形成されている半導体ペレットは、特
性検査いわゆるグローブ検査の対象とはならず事前にチ
ェックされグイボンデングされないものとして取扱われ
る。
Semiconductor pellets with such chips formed thereon are not subject to characteristic inspection, so-called glove inspection, but are checked in advance and handled as not subject to any bonding.

従来、この欠けの形成されている半導体ペレツトはたと
えば撮像装置によって認識され、たとえば標準・母ター
ンの面積と比較して何優り上欠けている場合に不良品と
して判定されていたものでおる。
Conventionally, semiconductor pellets with chips have been recognized by, for example, an imaging device, and determined to be defective if the chips are more chipped than, for example, the area of a standard mother turn.

しかしながら、従来の撮像装置は標準・臂ターンとの面
積比例で欠けがある半導体ペレットを検出しているため
に、信頼性に乏しく、また装置それ自体高価なものとな
っていた。
However, conventional imaging devices detect chipped semiconductor pellets in proportion to the area of a standard arm turn, resulting in poor reliability and the device itself is expensive.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、欠は等による不良ペレットを信頼性よ
く簡単な構成にて検出し得る不良半導体ペレット検出装
置を提供するにおる0 〔発明の概要〕 このような目的を達成するために、本発明は、半導体ウ
ェーハの周辺部に位置しかつ該周辺部が半導体ペレット
の一辺と一致する不良半導体ペレットを検出する不良半
導体ペレット検出装置において、ヘリウムネオンレーザ
光源と、この光源の照射光束を適当な大きさに絞る手段
と、この手段を通過した光の前記半導体ペレットに対す
る反射光を入射させる受光素子と、この受光素子の出力
電流が予め定めた電流値と比較して前記半導体ペレット
の良否を判定する手段と、を有するようにしたものであ
る。
An object of the present invention is to provide a defective semiconductor pellet detection device that can reliably detect defective pellets due to chipping, etc. with a simple configuration. The present invention provides a defective semiconductor pellet detection device for detecting a defective semiconductor pellet located at the periphery of a semiconductor wafer and in which the periphery coincides with one side of the semiconductor pellet. a light-receiving element that allows the reflected light of the light that has passed through the means to be incident on the semiconductor pellet, and an output current of the light-receiving element is compared with a predetermined current value to determine the quality of the semiconductor pellet. and means for making a determination.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第1図は本発明による不良半導体ペレット検出装置の一
実施例を示す構成図である。同図において、ヘリウム・
ネオンレーザ光源1があり、このヘリウム・ネオンレー
ザ光源1はビーム直径が0.7u程度、広がシ角1.2
11 ra(1程度のレーザ光を照射するようになって
いる。このヘリウム・ネオンレーザ光源1からのレーザ
光はフィルタ2を介して反射鏡3へ入射するようになっ
ている。前記フィルタ2は後述する受光素子7の種類に
応じて光蓋の眺整ができるようになっているものである
。そして、前記反射鏡5からのレーザ光はピンホール板
4または適当なレンズを介し、かつ15〜35@程度の
入射角で半導体ウェーハ5内の−の半導体ペレットに入
射するようになっている。なお、前記反射鏡5はその必
要に応じて角度調整ができるものである。前記ピンホー
ル板4は板体に直径0.51程度の孔が形成されたもの
で、前記ヘリウム・ネオンレーザ光源1からのレーザ光
の光束径を回折現象を利用してたとえば光[0,25m
as程度に絞り強度を上げている。ただし、ピンホール
板の代わ如に適当なレンズを用いても差し支えない。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a defective semiconductor pellet detection device according to the present invention. In the same figure, helium
There is a neon laser light source 1, and this helium neon laser light source 1 has a beam diameter of about 0.7u and a spread angle of 1.2
11 ra (approximately 1 ra).The laser light from this helium-neon laser light source 1 is made to enter a reflecting mirror 3 via a filter 2.The filter 2 is The light cover can be adjusted according to the type of light receiving element 7, which will be described later.The laser beam from the reflecting mirror 5 passes through the pinhole plate 4 or an appropriate lens, and It is designed to be incident on the - semiconductor pellets in the semiconductor wafer 5 at an incident angle of about ~35@.The angle of the reflecting mirror 5 can be adjusted as necessary.The pinhole plate Reference numeral 4 has a hole with a diameter of about 0.51 mm formed in a plate body, and uses a diffraction phenomenon to change the beam diameter of the laser beam from the helium-neon laser light source 1, for example, into a light [0.25 m
The drawing strength is increased to about as. However, an appropriate lens may be used instead of the pinhole plate.

第2図は、ピンホール板4によつ°ζ光束を絞ることが
できる実験結果を示すグラフであり、ピンホール板のな
い状態と比べてピンホール板がアル場合、テッグ面照度
が大きくなっていることが判るO したがって、このようにテッグ面照度を上は光束を絞る
ためには、必ずしも前記ピンホール板4を用いる必要は
なくたとえばレンズを用いてもよい0 なお、上述したヘリウム・ネオンレーザ光源1、フィル
タ2、反射鏡3およびピンホール板4はそれぞれペレッ
トボンディング装置に組み込まれておυ、これらは、ダ
イボンディングのための真空ビックアーム8の上下及び
回転運動のだめのスペース、具体的には半導体ウエーノ
・5の上方的50mxの空間を確保して配置されている
Figure 2 is a graph showing the experimental results that the pinhole plate 4 can narrow down the °ζ luminous flux, and shows that when the pinhole plate is used, the TEG surface illuminance becomes larger than when there is no pinhole plate. It can be seen that the above-mentioned helium neon A laser light source 1, a filter 2, a reflector 3, and a pinhole plate 4 are each incorporated into the pellet bonding device. It is placed with a space of 50 mx above the semiconductor wafer 5 secured.

そして、レーザ光の半導体ペレットに対する反射光はホ
ルダ6内に組み込まれた受光素子7に入射されるように
なっている。
The reflected light of the laser light from the semiconductor pellet is made incident on a light receiving element 7 built into the holder 6.

また、前記半導体ウェーハ5はX−’lステージ10の
上面に載置されてお如、このX−Yステージ10の各Y
方向ステージおよびY方向ステージを独立に移動させる
ことによシ、前記真空吸着コレット9下に半導体ウェー
ハ内のピックアップすべき半導体ペレットを位置づける
よう、になっている0 このようにして構成した不良半導体ペレット検出装置の
作用を以下説明する。
Further, the semiconductor wafer 5 is placed on the upper surface of the X-'l stage 10, and each
By independently moving the direction stage and the Y direction stage, the semiconductor pellet to be picked up within the semiconductor wafer is positioned under the vacuum suction collet 9. The operation of the detection device will be explained below.

X−Yステージ10の駆動によってピツクアッグアーム
8の真空吸着コレット9の真下に被検査チップとなる半
導体ペレット5が送られてくると、レーザ光はペレット
の中心部に0.25mm程度のスポット径で照射され、
その部分に直径500〜600μmの黒インクドツト(
マーク)があれば、第3図に示すように、マーク部分の
反射は非常に小さくなる。
When a semiconductor pellet 5, which is a chip to be inspected, is sent directly below the vacuum suction collet 9 of the pick-up arm 8 by the drive of the irradiated with a diameter of
A black ink dot with a diameter of 500 to 600 μm (
If there is a mark), as shown in FIG. 3, the reflection at the mark will be very small.

ここで、前記インクドツトとはダイボンデング工程前に
おいて、各半導体ペレットの特性検査をし、その結果不
良と判定された場合に、その半導体ペレット面に印され
る不良マークである0なお、マークがない場合において
も、半導体ペレットのIC,4ターンによっては中心部
の反射が、低いとともある。しかし、一枚のペレット中
の一中心線上に沿った反射率の分布を第3図に示してい
るように画像の光学的拡大をしない上、拡がりや減衰の
少ないレーザ光を使用するという理由から、IC/fタ
ーンの明暗と黒インクドツトの有無による明暗に関する
8N比は極めて大きくしたがって誤判定が起こりにくい
。このために、IC/fターンに拘わらずマークを適確
に検出することができる◇第4図は、ペレット中心部を
一列のペレットについて走査してみた結果を示す。なお
、実際には前述のように、コレットの真下にチップが来
て静止したとき判定すればよい。良と判定した時はげツ
クアッグがそのチップをコレットに吸着してダイボンデ
ィングの位置に持ち去る。不良と判定すればそのまま残
す。いずれにしても判定が完了すれば次のテップをコレ
ットの真下まで送る。つまり、チップ1個ずつこの動作
がくり返される。同図はピックアップの操作を略し、直
線送りを続けながら連続的に良否判定を行なったもので
ある。
Here, the ink dot is a defect mark that is marked on the surface of the semiconductor pellet when the characteristics of each semiconductor pellet are inspected before the die bonding process and the semiconductor pellet is determined to be defective. Also, it is said that the reflection at the center is low depending on the 4-turn IC of the semiconductor pellet. However, as shown in Figure 3, which shows the distribution of reflectance along one center line in a single pellet, the image is not optically magnified, and a laser beam with little spread and attenuation is used. , the 8N ratio regarding the brightness and darkness of the IC/f turn and the brightness and darkness depending on the presence or absence of black ink dots is extremely large, so that erroneous determination is unlikely to occur. For this reason, marks can be detected accurately regardless of the IC/f turn. ◇Figure 4 shows the results of scanning a row of pellets at the center of the pellet. In fact, as described above, the determination may be made when the chip comes to rest directly under the collet. When the chip is determined to be good, the bald tsuquag adsorbs the chip into a collet and carries it away to the die bonding position. If it is determined to be defective, it will be left as is. In any case, once the determination is complete, send the next step directly below the collet. In other words, this operation is repeated for each chip. In this figure, the operation of the pickup is omitted, and the pass/fail judgment is performed continuously while linear feeding is continued.

マークがあると図のように受光部出力電圧が大きく低下
し、リレーが働くので判定回路出力電圧が下がる。同図
における高さの低い・母ルスはICマークの暗部によっ
て生ずるもので、SN比の大きいことは同図からもよく
かわる。
If there is a mark, the output voltage of the light receiving section will drop significantly as shown in the figure, and since the relay will work, the output voltage of the judgment circuit will drop. The low-height muzzle in the figure is caused by the dark part of the IC mark, and the fact that the signal-to-noise ratio is large is also clearly seen in the figure.

このようにして、半導体ウエーノ・5内の各半導体ペレ
ットのうち不良マークが印された半導体ペレットを避け
て、順次ダイボンデングする過程において、前記真空吸
着コレット9上に半導体ウェーハ5の周辺部に位置する
半導体ペレットが位置づけられた場合、本発明の作用が
開始される・すなわち、半導体ウェーハ5はそのダイシ
ング前においても周辺部に欠けがあるのが通常であわ、
前記周辺部を一辺としてダイシングされた半導体ペレッ
トは不良となるものである0この不良半導体ペレットは
欠けが生じているが故に、受光素子7に入射されるレー
ザ光は前記欠は部によって乱反射された一部の光となる
。したがって、前記受光素子7からの出力信号は第5図
に示すように、マーク検出のための信号とは一見して明
瞭となる特異な信号となり、この信号を認識することに
よって不良半導体ペレットの存在を明らかにすることが
できる〇 このような不良半導体ペレットを認識できたときは酌記
X−Yステージ10のY方向ステージをY方向と逆方向
に1ステツブ分(半導体ペレット分)送υ、さらにX方
向ステージを1ステップ分送る仁とにより、次の半導体
ペレットの吸着にとりかかる。
In this way, the semiconductor wafer 5 is placed on the vacuum suction collet 9 at the periphery of the semiconductor wafer 5 during the die bonding process, avoiding the semiconductor pellets marked with defective marks among the semiconductor pellets in the semiconductor wafer 5. When the semiconductor pellet is positioned, the action of the present invention starts; that is, the semiconductor wafer 5 usually has chips at its periphery even before dicing;
The semiconductor pellet diced with the peripheral part as one side is defective. Because this defective semiconductor pellet has chips, the laser light incident on the light receiving element 7 is diffusely reflected by the chipped parts. Become some light. Therefore, as shown in FIG. 5, the output signal from the light-receiving element 7 becomes a unique signal that is clearly different from the mark detection signal at first glance, and by recognizing this signal, the presence of a defective semiconductor pellet can be detected. 〇When such a defective semiconductor pellet is recognized, move the Y-direction stage of the X-Y stage 10 one step (semiconductor pellet) in the opposite direction to the Y direction, and then By moving the X-direction stage one step, the next semiconductor pellet is picked up.

以上説明した実施例は半導体ペレットの特性上の不良を
検出する装置を兼ねて欠は等による不良半導体ペレット
を検出するようにしたものであるが、欠は等による不良
半導体ペレットの検出は、半導体ペレットの特性上の不
良を検出する装置とは別個に装置化するようにして行な
ってもよいことはいうまでもない0 〔発明の効果〕 ′ 以上説1明したことから明らかなように、本発明に
よる不良半導体ペレット検出装置によれば、欠は等によ
る不良ペレットを信頼性よく簡単な構成にて検出するこ
とができるようになる0
The embodiment described above also serves as a device for detecting defects in the characteristics of semiconductor pellets, and is designed to detect defective semiconductor pellets due to chips, etc.; however, the detection of defective semiconductor pellets due to chips, etc. It goes without saying that the detection may be carried out as a separate device from the device for detecting defects in the characteristics of the pellets. According to the defective semiconductor pellet detection device according to the invention, defective pellets due to defects etc. can be detected with high reliability and a simple configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による不良半導体チップ検出装置の一実
施例を示す構成図、第2図はピンホールの集光効果を示
す説明図、第3図はマーク無しチップとマーク有υチツ
ゾの中心線に沿ったレーザ光反射率の分布を示す説明図
、第4図はあるチップの列を等速運動により連続的に走
査した場合の良否判定状況を示す説明図、第5図は本発
明による効果を示す説明図である。 1・・・ヘリウム・ネオンレーザ発振器、2・・・フィ
ルタ、    3・・・反射鏡、4・・・ピンホール板
、  5・・・半導体ウェーハ、6・・・受光素子ホル
ダー、 7・・・半導体受光素子、 8・・・ダイボンダのピックアップアーム、9・・・真
空吸着コレット、 10・・・X−Yステージ。 代理人   鵜  沼 辰  之 Ql) 第1図 第2図 tNN13・カ゛I;nKFit   (mm)(v”
  M ’f )   l/ ’gM 4’# X’l
−。 (A)7/I 平    C△ンリさq劇;d1慧り、
l<、1ρfEc]ぶl+よ
Fig. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a defective semiconductor chip detection device according to the present invention, Fig. 2 is an explanatory diagram showing the light condensing effect of a pinhole, and Fig. 3 is the center of a chip without a mark and a chip with a mark. An explanatory diagram showing the distribution of laser beam reflectance along a line, Fig. 4 is an explanatory diagram showing the pass/fail judgment situation when a row of chips is continuously scanned by uniform motion, and Fig. 5 is an explanatory diagram showing the condition of pass/fail judgment when a row of chips is continuously scanned by uniform motion. It is an explanatory view showing an effect. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Helium neon laser oscillator, 2... Filter, 3... Reflector, 4... Pinhole plate, 5... Semiconductor wafer, 6... Light receiving element holder, 7... Semiconductor photodetector, 8... Pick-up arm of die bonder, 9... Vacuum suction collet, 10... X-Y stage. Agent Tatsuyuki Unuma
M'f)l/'gM4'#X'l
−. (A) 7/I flat C△nri saq play; d1 Kei,
l<, 1ρfEc] bl+yo

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  半導体ウェーハの周辺部に位置しかつ該周辺部が半導
体ペレットの一辺と一致する不良半導体ペレットを検出
する不良半導体ペレット検出装置において、ヘリウムネ
オンレーザ光源と、この光源の照射光束を適当な大きさ
に絞る手段と、この手段を通過した光の前記半導体ペレ
ツトに対する反射光を入射させる受光素子と、この受光
素子の出力電流を予め定めた電流値と比較して前記半導
体ペレットの良否を判定する手段と、を有することを特
徴とする不良半導体ペレット検出装置。
In a defective semiconductor pellet detection device that detects a defective semiconductor pellet that is located at the periphery of a semiconductor wafer and whose periphery coincides with one side of the semiconductor pellet, a helium neon laser light source and the irradiation light flux of this light source are adjusted to an appropriate size. a light-receiving element that allows the reflected light of the light that has passed through the means to be incident on the semiconductor pellet; and a means that compares the output current of the light-receiving element with a predetermined current value to determine the quality of the semiconductor pellet. A defective semiconductor pellet detection device comprising:
JP22952384A 1984-10-31 1984-10-31 Detecting device for detecting semiconductor pellet Pending JPS61108145A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22952384A JPS61108145A (en) 1984-10-31 1984-10-31 Detecting device for detecting semiconductor pellet

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22952384A JPS61108145A (en) 1984-10-31 1984-10-31 Detecting device for detecting semiconductor pellet

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61108145A true JPS61108145A (en) 1986-05-26

Family

ID=16893500

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22952384A Pending JPS61108145A (en) 1984-10-31 1984-10-31 Detecting device for detecting semiconductor pellet

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61108145A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53127267A (en) * 1977-04-13 1978-11-07 Mitsubishi Electric Corp Inspection method for pattern

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53127267A (en) * 1977-04-13 1978-11-07 Mitsubishi Electric Corp Inspection method for pattern

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3530158B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US6808117B2 (en) Method and apparatus for calibrating marking position in chip scale marker
US7193728B2 (en) Processing apparatus, processing method and position detecting device
US7253443B2 (en) Electronic device with integrally formed light emitting device and supporting member
JP2589411B2 (en) Chip position detection method
KR20220089639A (en) Die bonding apparatus and manufacturing method of semiconductor device
KR100294128B1 (en) Test method for a bonding pad on a semiconductor chip
JP2021034414A (en) Workpiece check method and processing method
KR101953146B1 (en) Method and apparatus for inspecting a chip prior to bonding
US7129507B2 (en) Chip mis-position detection method
JPS61108145A (en) Detecting device for detecting semiconductor pellet
JP2913609B2 (en) Probing apparatus, probing method and probe card
JP2008172203A (en) Semiconductor chip selector
JPH05160245A (en) Circular board positioning apparatus
EP0614080A2 (en) Apparatus for recognizing the shape of a semiconductor wafer
KR20070049745A (en) Wafer for inspecting defects and method of inspecting defects using the same
JP3300264B2 (en) Semiconductor chip recognition method
JPS60120519A (en) Photomask automatic defect inspection device
JPS621247B2 (en)
JP2005044949A (en) Sorter of semiconductor chip, method of sorting semiconductor chip, and method of manufacturing semiconductor chip
JPH10233350A (en) Semiconductor chip and manufacturing system of semiconductor device using the same
JP2005017168A (en) External appearance inspection apparatus, external appearance inspection method, and method for manufacturing semiconductor chip
JPS6177335A (en) Defective mark detector for semiconductor pellet
JPS61108149A (en) Position detecting device for semiconductor pellet
JPS62204542A (en) Method and apparatus for dividing wafer