JPS61106260A - インキ書出装置の加圧ヘツドの製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野： 本発明は特許請求の範囲第１項の上位概念による加圧ヘ
ッドの製法に関する。

従来の技術： インキ書出装置の実際作業中の機能信頼性の定めおよび
製造の点からもインキ加圧へツρには特殊な要求が課さ
れる。その重要な理由の１つはインキ加圧ヘソＰ内に集
積し九個々のインキ通路は一方でインキ供給系と結合し
、他方が滴の押出のｔめに重要な出口孔と結合している
けれど、この通路を非常に正確な寸法で、同時にきわめ
てきれいに形成しなければならないことである。きわめ
て小さい不規則ですでに個々のノズルの変化または不良
が生ずる。この問題はとくに高解像力書出装置のインキ
加圧ヘッドに重要であるノズル数の上昇とともに著しく
犬たくなる。

１つの公知法（西独公開特許公報第２５４３４５］ｊに
工れは成形ニーＰル、滴排出のための駆動要素お工び駆
動要素の友めの接触要素からなる前組立ユニットを射出
または流しこみ成形型へ挿入して流しこむ。成形ニー戸
ル除去後ヘッド部材にインキ通路が残される。この方法
はほとんど手で実施しなければならないきわめて正確な
前組立を必要とする。インキ通路内部の所望の完全に平
滑な表面を保証する定め成形二＋＋　１．＋）ルの除去
は非常に注意深〈実施しなければならない。

インキ加圧へツｒをインキ通路およびインキ供給室が感
光層内の空所として形成されるように製造することはす
でに公知である（西独公開特許公報第３１０８２０６号
参照）。この場合基板へ被覆した感光層はインキ通路お
よびインキ供給室に相当する透明範囲を有するホトマス
クによって蔽われる。露光お工び溶剤にＬる処理によっ
て所望の空所が形成される。カッ々−仮によって全装置
が完成する。しかしこの方法によれば比較的簡単な構造
しか形成し得ない。しかしインキ通路の形に対する要求
はしばしば非常に高く、この方法にＬつては充足し得な
い。

発明が、解決しようとする問題点： 本発明の目的は任意の３次元的形のインキ通路の形成を
可能にするインキ加圧ヘラＰの製法を得ることである。

さらにこの方法は費用の低い自動化可能の製法が可能で
なければならない。

問題点を解決する友めの手段： この目的は特許請求の範囲第１項の特徴部に記載の特徴
に工って解決される。

作用： 本発明の方法に伴う利点は主としてインキ通路の微細構
造形成の改善にある。この方法により低い製造費用でた
とえば断面の変化するインキ通路を形成し、それゆえ友
とえはインキ通路が出口孔の方向に細くなるインキ加圧
ヘラＰを得る可能性が開かれる。

本発明の他の形成は特許請求の範囲第２項〜第１０項に
記載される。

実施例： 次に本発明の実施例を図面にニジ説明する。

第１ａ−ｔｆ図には本発明の理解に重要な方法工程が示
される。まず支持体１上に薄いプラスチック層２が被覆
され、この層は主として支持体材料とインキ加圧ヘラＰ
内に含まれるインキとの間の保護層および接着剤として
役立つ（第１ａ図）。支持体１は金属またはプラスチッ
クたとえばポリブチレン化会物からなる。厚さ約０．２
〜１　ｗｍ、表面積約５ｃｒｎｘｌＯｃｒｎの支持体に
よって好ましい結果が連取される。次に支持体１上に第
１積層工程でホトプラスチックシート３の形で層を設け
る。このシートｔマスク４で蔽い、ＵＶ光を照射する。

マスク４はこの例では特定輪かくの透明範囲５を有する
（第１ｂ図）。そｎによってマスク４の範囲５によって
決めらｎ７（ホトプラスチックシート３の範囲６へ化学
的に回答のシートセグメントが形成される（第１ｃ図〕
。マスク４を除去した後ホトプラスチックシート３の自
由表面はたとえば光吸収性染料溶液１７′ｃはトナー粉
末により不活性化は適当なカバーによって自由表面の一
部に制限することもできる。不活性化によりすでに処理
したホトプラスチックシート３の後の２重露光が避けら
ｎる。このように処理した第１ホトプラスチツクシート
３の上へ次の積層工程で第２のホトプラスチックシート
７を被覆し、マスク８で蔽って露光する（第１ｄ図）。

マスク８は同様特定輪かくの透明範囲９ｆｔ：有し。

ここ素通してこの輪かくに相当するホトプラスチックシ
ート７の一定のセグメントが露光される。このようにし
て第２ホトプラスチツクシート７に再び化学的処理によ
って溶出しうる範囲すなわちシートセグメントｌＯが発
生する。マスク８の範囲９（第１ｄ図）およびしたがっ
てシートセグメント１０（第１ｅ図）はその長さも幅も
ホトプラスチックシート３のマスク４の範囲５（第１ｂ
図）またはシートセグメント６（第１Ｃ図）と異なる。

そｎによって第２および３図により後述するようにイン
キ通路の３次元的構造が可能である。ホトプラスチック
シート７の露光した自由表面はマスクを除去した後同様
不活性化される。露光したホトプラスチックシートの光
化学的処理は各積層工程後または順次に続く数積層工程
後に実施することができる。第１図に示す例では光化学
的処理は第２積層工程後に行われる。

この工程によってホトプラスチックシート３お工び７の
可溶性シートセグメントは溶出される（第１ｆ図）。こ
れは公知のホトリトグラフィー法である。前記積層、マ
スキング、露光および不活性化工程は次に数回繰返され
、各工程　　。

後ま几は数回の工程後現像したがって個々のホトプラス
チックシートの可溶性シートセグメントの溶出が行われ
る。この層状構造および積層工程の数に相当する数の、
透明範囲がそれぞれ異なる輪かくを有しうるマスクの使
用に工って発生する中空空間が所望の３次元的通路およ
びノズル構造を形成する。

第２お工び３図にはインキ加圧ヘッドの前記方法により
形成したインキ通路が示される。第２図はインキ室とし
て設けた範囲１２、インキ通路１３および出口孔１４を
示す。範囲１２゜１３お工び１４はインキ加圧ヘラ戸の
作業中インキで充てんされる。インキ加圧ヘラＰはいわ
ゆる減圧法で作業する。これは図示の場合インキ供給が
インキ通路の出口孔工り低いレベルに配置シ、り・イン
キ貯蔵部から行われることを意味する。たとえばピエゾ
管またはピエゾ板として形成しうるノクルス状に制御し
うる変換器１５の作用下に公知の工うにインキ室１２の
内部に圧力反が発生し、この波は両側へ音速で拡がり、
ノズル出口孔１４でインキ滴の形の少量のインキの排出
に作用する。出口孔１４の方向に細くなるインキ通路１
３お工び出口孔１４は本発明の方法に工す前記積層工程
で形成される。縦断面図で配置を示す第２図によりイン
キ通路１３の高さが次第に低くなることが明らかである
。

配置を平面図で示す第３図により同時にインキ通路１３
の幅が次第に減少することが明らかである。出口孔１４
を形成するそれぞれ最上層のホトプラスチックシートを
カバーするためカッ々−シート１６が備えられ、このシ
ートは直接的インキ接触に対する保護のため保護層１７
を備えることができる。

第２図および第３図により説明し之実施例では範囲１２
，１３お工び１４の構造は８つのホトプラスチックシー
ト１８〜２５に工って形成される。厚さ約１０〜５０μ
のホトプラスチックシートが入手されるので、８つのホ
トプラスチックシート使用の際厚さ４００μまでのイン
キ通路を製造することができる。

カッ々−として自己接着性シートを使用する場合、２つ
の書出ヘッドユニットの接合によって複列のインキ通路
を有する書出ヘラＰを製造することができる。２つの書
出ヘラＰユニットのインキ通路へのインキ供給はこの場
合たとえば六ノ々−シートの貫通孔を介して行われる。

全書出ヘラＰのシールはカバーおよび減圧法に１って保
証される。詳細には示さないけれど必要に応じて出口孔
を蔽う付加的カバーを備え、たとえば輸透の間のインキ
流出を防ぐこともできる。

本発明によれば書出ヘッドの端面も前記方法で形成する
ことができる。これはとくに出口孔が非常に細い毛管で
ある場合および（ま几は）数列の出口孔を有する書出ヘ
ラρを製造する場合有利である。簡単な切断工程に伴う
出口孔の範囲の粗い表面が避けられる。

第２および３図に示す実施例はそれぞれ同じ厚さの８つ
のホトプラスチックシートの使用から出発する。本発明
の方法にＬればこの実施例工りもつと多数または少数の
ホトプラスチックシートを使用することは容易に可能で
ある。さらにホトプラスチックシートは個々に異なる厚
さを有することができる。し友がって適当に形成したマ
スクの使用によってインキ通路および出口孔の非常に正
確な非常に微細な段階の３次元構造をつくることができ
る。その几めに必要な費用は、本発明の方法は非常に高
度の自動化が可能なので、重視するほど大きくない。本
発明の方法によって１作業工程で支持体にそれぞれ多数
のこのような構造を形成することができるので、この方
法はとくにマルチノズル書出ヘッドの製造に適する。こ
の場合所望の構造を製造しうる精密性がとくに有利に作
用する。第４図は１つの実施例を示す。ここに示し几加
圧ヘッドの部分は８つのホトプラスチックシート１８〜
２５から形成され、これらのシートは前記方法で順次に
積層される。

本発明は書出ヘラＰのインキ通路お工び出口孔の形成に
制限されない。インキ室およびインキ室の出口孔と反対
側の端部が結合するインキ供給部を形成することもでき
る。

同様本発明は露光したシートセグメントを除去するホト
リトグラフィ一工程を実施例に記載したようないわゆる
ポジチブ法により実施することに限定されない。同じ利
点をもっていわゆるネガチプ法を適用することができる
。この場合露光によりいわゆる架橋結合したシートセグ
メントを形成し、すなわち露光したシートセグメントが
不溶性になるホトプラスチックシートを使用することだ
けが必要である。適当に形成したマスクに工すこの場合
も水沫を前記のように実施することができる。

さらに本発明の範囲内でインキ加圧ヘッドのインキ通路
の全構造の一部のみを本発明の方法に工す形成すること
も可能である。この方法は公知の射出成形法と組合わせ
ることもできる。

この形成は積層する層の数を減少しうるので有利である
。この形成の０例を第５図に示す。

第５図の実施例によればインキ室１２お工びインキ通路
１３の一部は公知の射出成形法により製造される。イン
キ通路１３のとくに高度の要求が課される部分お工び出
０孔１４のみ本発明の方法により製造される。そのため
に多数のホトプラスチックシート、この例ではシート２
７および２８・が射出成形したプラスチック部材２６上
に順次に積層され、前記方法で処理される。

この配置の上部は再び被覆した全屈シート１６゜１７に
工ってカバーされる。

【図面の簡単な説明】

第１ａ図〜第１ｆ図は本発明によるインキ加圧へツＰの
製法の個々の工程を示す縦断面図、第２図はこの方法に
より製造したインキ加圧ヘッドの縦断面図、第３図はそ
の平百図、第４図はマルチノズル書出ヘッドの斜視図、
第５図は出口ノズルの範囲のみ本発明の方法に工す製造
し友ヘラＰの縦断面図である。 １・・・支持体、２・・・保護層、３，７．１８〜２５
．２７．２８・・・ホトプラスチックシート、４．８・
・・マスク、５，９・・・透明範囲、６，１０・・・シ
ートセグメント、１２・・・インキ室、１３・・・イン
キ通路、１４・・・出口孔、１５・・・変換器、１６・
・・カッ々−シート、１７・・・保護層、２６・・・プ
ラスチック部材

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、インキを収容する少なくとも１つのインキ室を有し
   、この室がインキ供給部分と結合し、かつインキ通路を
   介して出口孔へ開口し、この孔から変換素子の作用下に
   インキが滴状に排出されるインキ書出装置の加圧ヘッド
   を、支持体に感光材料を被覆し、ここに一定のパターン
   による範囲をつくり、光化学的に処理することにより、
   製造する方法において、感光材料を多数のホトプラスチ
   ックシート（３、７；１８〜２５；２７、２８）の形で
   順次に続く積層工程で支持体（１）へ積層し、個々の積
   層工程の間にそれぞれ１つのマスキングを実施し、その
   際個々のマスク（４、８）がそれぞれの積層工程のため
   に個々に決定しうるそれぞれ１つの透明範囲（５、９）
   を有し、それによってそれぞれのホトプラスチックシー
   ト（３、７；１８〜２５；２７、２８）に露光によって
   この範囲（５、９）に相当する光化学的処理のためのシ
   ートセグメント（６、１０）が決定され、このシートセ
   グメント（６、１０）を除去するための光化学的処理を
   それぞれのまたは多数の積層工程後に実施することを特
   徴とするインキ書出装置の加圧ヘッドの製法。 ２、ホトプラスチックシート（３、７；１８〜２５；２
   ７、２８）をそれぞれ積層工程後、光吸収性染料溶液で
   不活性化する特許請求の範囲第１項記載の製法。 ３、それぞれ同じ厚さおよび（または）異なる厚さのホ
   トプラスチックシートを使用する特許請求の範囲第１項
   記載の製法。 ４、ホトプラスチックシート（３、７；１８〜２５；２
   ７、２８）を順次に続く積層工程で支持体（１）の平ら
   な表面へ積層し、インキ通路（１３）をシートセグメン
   ト（６、１０）の除去によって形成する特許請求の範囲
   第１項から第３項までのいずれか１項に記載の製法。 ５、積層工程の数に相当する数のマスク（４、８）を使
   用し、個々のマスク（４、８）の透明範囲（５、９）が
   それぞれ異なる寸法を有し、構造の層厚増大とともに個
   々のホトプラスチックシートのそれぞれのシートセグメ
   ントの除去によって個々のインキ通路（１３）を形成す
   る３次元的に変化する形が発生する特許請求の範囲第４
   項記載の製法。 ６、マスク（４、８）の透明範囲（５、９）のインキ通
   路（１３）の長さ方向に拡がる寸法が構造の層厚の増大
   とともに大きくなり、その幅が減少し、寸法のこの変化
   により空所が出口孔（１４）の方向に細くなるインキ通
   路（１３）を形成する特許請求の範囲第５項記載の製法
   。 ７、ホトプラスチックシート（２７、２８）を順次に続
   く積層工程でインキ通路（１３）を形成する空所を有す
   るプラスチック部材（２６）上へ積層し、インキ通路（
   １３）の出口孔（１４）の範囲にある部分および（また
   は）出口孔（１４）自体のみをホトプラスチックシート
   （２７、２８）内の空所によって形成する特許請求の範
   囲第１項から第３項までのいずれか１項に記載の製法。 ８、インキ通路（１３）および（または）出口孔（１４
   ）のほかに書出ヘッドの端面もホトプラスチックシート
   内の相当するシートセグメントの除去によって形成する
   特許請求の範囲第１項から第７項までのいずれか１項に
   記載の製法。 ９、ホトプラスチックシートをネガチブ法により処理す
   る特許請求の範囲第１項から第８項までのいずれか１項
   に記載の製法。 １０、ホトプラスチックシートをポジチブ法により処理
   する特許請求の範囲第１項から第８項までのいずれか１
   項に記載の製法。