JPS6098321A - 赤外光学材料の吸収センタ検出装置 - Google Patents
赤外光学材料の吸収センタ検出装置Info
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- JPS6098321A JPS6098321A JP20585083A JP20585083A JPS6098321A JP S6098321 A JPS6098321 A JP S6098321A JP 20585083 A JP20585083 A JP 20585083A JP 20585083 A JP20585083 A JP 20585083A JP S6098321 A JPS6098321 A JP S6098321A
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- infrared laser
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- Pending
Links
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/48—Thermography; Techniques using wholly visual means
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上皇創朋豆且
本発明は、赤外レーザ用光学部品としての良否を判定す
るに有効な赤外光学材料の吸収センタ検出装置に関する
ものである。
るに有効な赤外光学材料の吸収センタ検出装置に関する
ものである。
従未狡■
赤外レーザー用光学部品は、通常の赤外光学材料と比較
すると、使用するレーザー光の波長に対して光吸収性が
極めて低い光学特性を要求されている。また、赤外レー
ザー用光学部品全体にわたり、光学特性が均質であるこ
とが要求されている。
すると、使用するレーザー光の波長に対して光吸収性が
極めて低い光学特性を要求されている。また、赤外レー
ザー用光学部品全体にわたり、光学特性が均質であるこ
とが要求されている。
特に、レーザー光が透過する部分に吸収センタ（例えば
、気泡欠陥、ボイド、不純物等）が存在すると、その大
きさの大小によらず、レーザー光の異常吸収により発熱
し、局部的に温度上昇が生じ、極端な場合には、赤外レ
ーザー用光学部品の破損に至たる。
、気泡欠陥、ボイド、不純物等）が存在すると、その大
きさの大小によらず、レーザー光の異常吸収により発熱
し、局部的に温度上昇が生じ、極端な場合には、赤外レ
ーザー用光学部品の破損に至たる。
従来、そのような吸収センタを予め検出すると共に均質
性を検査するために、光学顕微鏡で光学部品内部をくま
なく検査していた。しかし、このような方法では、光学
顕微鏡の特性として視野が狭いために、光学部品内部を
くまなく検査するに多大の労力と時間を必要とし、検査
に簡便性が欠ける。また、人間の目による観察によらざ
るをえないので、吸収センタの見落としは避けられず、
光学部品全体にわたる光学特性の均質性を正確に把握す
ることはできない。更に、光学顕微鏡の検査台に光学部
品の表面が接触するので、検査中に損傷を受け易い。
性を検査するために、光学顕微鏡で光学部品内部をくま
なく検査していた。しかし、このような方法では、光学
顕微鏡の特性として視野が狭いために、光学部品内部を
くまなく検査するに多大の労力と時間を必要とし、検査
に簡便性が欠ける。また、人間の目による観察によらざ
るをえないので、吸収センタの見落としは避けられず、
光学部品全体にわたる光学特性の均質性を正確に把握す
ることはできない。更に、光学顕微鏡の検査台に光学部
品の表面が接触するので、検査中に損傷を受け易い。
犬皿■且ｍ
そこで、本発明は、赤外レーザー用光学部品の吸収セン
タを非接触式に短時間で検査できる吸収センタ検出装置
を提供せんとするものである。
タを非接触式に短時間で検査できる吸収センタ検出装置
を提供せんとするものである。
光」Ｒυ創叉
すなわち、本発明によるならば、被検査物に赤外レーザ
ー光を投射する赤外レーザー光投射装置と、その被検査
物を撮影する赤外線カメラと、該赤外線カメラからの信
号を受ける画像処理装置と、該画像処理装置で処理され
た信号を受けて被検査物の温度分布状態を表示する画像
表示装置とを具備することを特徴とする赤外光学材料の
吸収センタ検出装置が提供される。
ー光を投射する赤外レーザー光投射装置と、その被検査
物を撮影する赤外線カメラと、該赤外線カメラからの信
号を受ける画像処理装置と、該画像処理装置で処理され
た信号を受けて被検査物の温度分布状態を表示する画像
表示装置とを具備することを特徴とする赤外光学材料の
吸収センタ検出装置が提供される。
叉膳班
以下添付図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明を実施した赤外光学材料の吸収センタ
検出装置の概略構成図である。第１図に示すように、赤
外光学材料の吸収センタ検出装置は、ＣＷ発振ＣＯ２レ
ーザーのような赤外レーザー光発生器１０を具備してお
り、その赤外レーザー光発生器１０からの赤外レーザー
ビーム１１は、平面鏡１２で反射させられて、ビームエ
キスパンダ１４に入射して、拡径平行光に変換され、カ
ーボンブラックのような光吸収体１６に投射される。そ
して、赤外レーザー用光学部品のような被検査物１日は
、ビームエキスパンダ１４と光吸収体１６との間の赤外
レーザービーム路上に、赤外レーザービームに対してほ
ぼ直角に配置される。その被検査物１８を撮影するよう
に、赤外線カメラ２０が置かれている。
検出装置の概略構成図である。第１図に示すように、赤
外光学材料の吸収センタ検出装置は、ＣＷ発振ＣＯ２レ
ーザーのような赤外レーザー光発生器１０を具備してお
り、その赤外レーザー光発生器１０からの赤外レーザー
ビーム１１は、平面鏡１２で反射させられて、ビームエ
キスパンダ１４に入射して、拡径平行光に変換され、カ
ーボンブラックのような光吸収体１６に投射される。そ
して、赤外レーザー用光学部品のような被検査物１日は
、ビームエキスパンダ１４と光吸収体１６との間の赤外
レーザービーム路上に、赤外レーザービームに対してほ
ぼ直角に配置される。その被検査物１８を撮影するよう
に、赤外線カメラ２０が置かれている。
その赤外線カメラ２０からの映像信号は、画像処理装置
２２に送られて処理される。そして、その画像処理装置
２２にモニタテレビのような画像表示装置２４が接続さ
れている。
２２に送られて処理される。そして、その画像処理装置
２２にモニタテレビのような画像表示装置２４が接続さ
れている。
赤外レーザー光発生器１０が発生するレーザー光の波長
は、被検査物の赤外レーザー用光学部品の使用波長と同
しでも異なるものでもよい。
は、被検査物の赤外レーザー用光学部品の使用波長と同
しでも異なるものでもよい。
ビームエキスパンダ１４は、被検査物１８の直径の６０
％から８０％程度に、赤外レーザービームを拡径する。
％から８０％程度に、赤外レーザービームを拡径する。
例えば、直径７５顛の赤外レーザー用光学部品を検査す
る場合、直径６０額の赤外レーザー光に拡径することが
望ましい。また、ビームエキスパンダ１４は、被検査物
である赤外レーザー用光学部品の形状により倍率の異な
るものを使用する。なお、ビームエキスパンダ１４の出
力ビームのビーム密度が均一であることが望ましいが、
通當のガウス分布のビーム密度でも問題はない。
る場合、直径６０額の赤外レーザー光に拡径することが
望ましい。また、ビームエキスパンダ１４は、被検査物
である赤外レーザー用光学部品の形状により倍率の異な
るものを使用する。なお、ビームエキスパンダ１４の出
力ビームのビーム密度が均一であることが望ましいが、
通當のガウス分布のビーム密度でも問題はない。
図示の例では、平面鏡１２が使用されているが、赤外レ
ーザー光発生器１０からの赤外レーザービームを直接ビ
ームエキスパンダ１４に入射させるようにした場合は、
不要である。
ーザー光発生器１０からの赤外レーザービームを直接ビ
ームエキスパンダ１４に入射させるようにした場合は、
不要である。
画像処理装置２０は、赤外線カメラ１８よりの映像信号
をうけて、各画素の信号レベルに比例した輝度の映像を
画像表示装置２２に表示させるものであってもよいが、
画像表示装置２２に、温度の等しい部位を表す等温図を
表示させるように前記赤外線カメラからの信号を処理す
るサーモグラフィー装置が好ましい。
をうけて、各画素の信号レベルに比例した輝度の映像を
画像表示装置２２に表示させるものであってもよいが、
画像表示装置２２に、温度の等しい部位を表す等温図を
表示させるように前記赤外線カメラからの信号を処理す
るサーモグラフィー装置が好ましい。
上述した装置において、赤外レーザー光発生器１０とし
て、赤外レーザービーム径１０龍、出力５００ＷのＣＷ
発振ＣＯ□レーザーを使用し、ビームエキスパンダ１４
とし°ζ、倍率６倍のものを使用し、画像処理装置２２
として、温度精度±０．１℃のサーモグラフィー装置を
使用し、直径７５Ｂ厚さ１０ｍのコーティング加工され
たＺｎ５ｅ赤外レ一ザー用光学部品を被検査物として検
査した。
て、赤外レーザービーム径１０龍、出力５００ＷのＣＷ
発振ＣＯ□レーザーを使用し、ビームエキスパンダ１４
とし°ζ、倍率６倍のものを使用し、画像処理装置２２
として、温度精度±０．１℃のサーモグラフィー装置を
使用し、直径７５Ｂ厚さ１０ｍのコーティング加工され
たＺｎ５ｅ赤外レ一ザー用光学部品を被検査物として検
査した。
レーザー光を照射しながら、画像表示装置２４を観察し
たところ、レーザー光を５分照射した後、第２図に示す
ような温度分布の等温図面像が得られた。その被検査物
の場合、３つの吸収センタ２６があることが判明した。
たところ、レーザー光を５分照射した後、第２図に示す
ような温度分布の等温図面像が得られた。その被検査物
の場合、３つの吸収センタ２６があることが判明した。
第２図において、参照番号２７は、被検査物の直径７５
ｍｍ長を示している。
ｍｍ長を示している。
なお、赤外レーザー光の照射時間は、被検査物の性質、
厚さ、赤外レーザー光の波長等によって決める。
厚さ、赤外レーザー光の波長等によって決める。
被検査物としては、Ｚｎ５ｅ赤外レ一ザー用光学部品だ
けでなく 、ＣｄＴｅ、 ＧａＡｓ５．Ｓｉ、 ＧｅＸ
ＺｎＳなどの半導体結晶や、ＫＣｌ 、ＮａＣ１，ＫＢ
ｒ ％ ＮａＢｒ、 ＣａＦ ａ、ＭｇＦ２などのアル
カリハライド及びアルカリ土類ハライドのイオン結晶体
でつくられた赤外レーザー用光学部品も検査できる。
けでなく 、ＣｄＴｅ、 ＧａＡｓ５．Ｓｉ、 ＧｅＸ
ＺｎＳなどの半導体結晶や、ＫＣｌ 、ＮａＣ１，ＫＢ
ｒ ％ ＮａＢｒ、 ＣａＦ ａ、ＭｇＦ２などのアル
カリハライド及びアルカリ土類ハライドのイオン結晶体
でつくられた赤外レーザー用光学部品も検査できる。
光１廊Ｂ九艮
以上の説明から明らかなように、本発明による赤外光学
材料の吸収センタ検出装置は、非接触式で被検査物全体
を同時に非破壊検査できるので、簡便で、機能性が高く
、光学部品が損傷することがなく、吸収センタの存在及
び分布状況を一目瞭然で知ることができ、光学部品全体
の均質性検査が同時に且つ短時間にできる。それ故、検
査時間が短く、量産設備における検査装置として極めて
有効である。
材料の吸収センタ検出装置は、非接触式で被検査物全体
を同時に非破壊検査できるので、簡便で、機能性が高く
、光学部品が損傷することがなく、吸収センタの存在及
び分布状況を一目瞭然で知ることができ、光学部品全体
の均質性検査が同時に且つ短時間にできる。それ故、検
査時間が短く、量産設備における検査装置として極めて
有効である。
第１図は、本発明を実施した赤外光学材料の吸収センタ
検出装置の概略構成図、第２図は、本発明により得られ
た赤外レーザー用光学部品の吸収センタを示す温度分布
の等温図である。 １０・・・赤外レーザー光発生器、１１・・・レーザー
ビーム、１２・・・平面、１１．１４・・・ビームエキ
スパンダ、１６・・・光吸収体、１８・・・被検査物、
２０・・・赤外線カメラ、 ２２・・・画像処理装置、２４・・・画像表示装置、２
６・・・吸収センタ、２７・・・７５ｆｉ長特許出願人
・・・工業技術院長 川１）裕部第１図
検出装置の概略構成図、第２図は、本発明により得られ
た赤外レーザー用光学部品の吸収センタを示す温度分布
の等温図である。 １０・・・赤外レーザー光発生器、１１・・・レーザー
ビーム、１２・・・平面、１１．１４・・・ビームエキ
スパンダ、１６・・・光吸収体、１８・・・被検査物、
２０・・・赤外線カメラ、 ２２・・・画像処理装置、２４・・・画像表示装置、２
６・・・吸収センタ、２７・・・７５ｆｉ長特許出願人
・・・工業技術院長 川１）裕部第１図
Claims (3)
- （１） 被検査物に赤外レーザー光を投射する赤外レー
ザー光投射装置と、その被検査物を撮影する赤外線カメ
ラと、該赤外線カメラからの信号を受ける画像処理装置
と、該画像処理装置で処理された信号を受けて被検査物
の温度分布状態を表示する画像表示装置とを具備するこ
とを特徴とする赤外光学材料の吸収センタ検出装置。 - （２） 前記赤外レーザー光投射装置は、赤外レーザー
光発生器と、該レーザー光発生器からのレーザービーム
を受けて前記被検査物に拡径平行光を投射するビームエ
クスパンダとを有していることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の赤外光学材料の吸収センタ検出装置。 - （３）前記画像処理装置は、前記画像表示装置に、温度
の等しい部位を表す等温図を表示させるように前記赤外
線カメラからの信号を処理することを特徴とする特許請
求の範囲第１項または第２項記載の赤外光学材料の吸収
センタ検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20585083A JPS6098321A (ja) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | 赤外光学材料の吸収センタ検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20585083A JPS6098321A (ja) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | 赤外光学材料の吸収センタ検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6098321A true JPS6098321A (ja) | 1985-06-01 |
Family
ID=16513740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20585083A Pending JPS6098321A (ja) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | 赤外光学材料の吸収センタ検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6098321A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0599779A (ja) * | 1991-10-08 | 1993-04-23 | Osaka Gas Co Ltd | ガス漏れ監視装置 |
| US7044634B2 (en) * | 2001-01-26 | 2006-05-16 | Rolf Sandvoss | Thermography method |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5129431A (en) * | 1974-09-02 | 1976-03-12 | Kuraray Co | Ritsutaikiseisareta fuaruneshirusakusan mataha sonoesuterurui no seizoho |
| JPS55134351A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-20 | Hitachi Ltd | Foreign substance detector |
| JPS5747423A (en) * | 1980-09-03 | 1982-03-18 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | Cultivation of jew's-ear |
| JPS5852525A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-28 | Fujitsu Ltd | 高密度レ−ザ光のエネルギ−空間分布測定方法 |
-
1983
- 1983-11-04 JP JP20585083A patent/JPS6098321A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5129431A (en) * | 1974-09-02 | 1976-03-12 | Kuraray Co | Ritsutaikiseisareta fuaruneshirusakusan mataha sonoesuterurui no seizoho |
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| JPS5747423A (en) * | 1980-09-03 | 1982-03-18 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | Cultivation of jew's-ear |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0599779A (ja) * | 1991-10-08 | 1993-04-23 | Osaka Gas Co Ltd | ガス漏れ監視装置 |
| US7044634B2 (en) * | 2001-01-26 | 2006-05-16 | Rolf Sandvoss | Thermography method |
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