JPS6097621A - 分子線エピタキシ装置における基板搬送装置 - Google Patents
分子線エピタキシ装置における基板搬送装置Info
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- JPS6097621A JPS6097621A JP20478683A JP20478683A JPS6097621A JP S6097621 A JPS6097621 A JP S6097621A JP 20478683 A JP20478683 A JP 20478683A JP 20478683 A JP20478683 A JP 20478683A JP S6097621 A JPS6097621 A JP S6097621A
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- substrate
- chambers
- chamber
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕 ゛
本発明は分子線エピタキシ装置における基板搬送装置、
特に基板を信頼度高く自動搬送するのに好適な分子線エ
ピタキシ装置における基板搬送装置に関するものである
。
特に基板を信頼度高く自動搬送するのに好適な分子線エ
ピタキシ装置における基板搬送装置に関するものである
。
本発明の対象である分子線エピタキシ装置は第１図に示
すように、真空をやぶらずに基板をチャンバー（共に図
示せず）内に送り込む導入室１と、結晶成長前の基板表
面を焼くと共に、結晶成長後の基板表面を観察する準備
分析室２と、基板表面の結晶成長を行う成長室３と、結
晶成長後の基板を真空をやぶらずに装置外部へ取出す搬
出室４と、これらの各室１ないし４とそれぞれゲートバ
ルブ７を介して連通ずる搬送室５とからなり、前記室１
ないし４間の基板の移動は前記搬送室５を経て行われ、
しかも各室１ないし４と搬送室５との間の基板の受授は
トランファーマニプレータ６を介して行われる。
すように、真空をやぶらずに基板をチャンバー（共に図
示せず）内に送り込む導入室１と、結晶成長前の基板表
面を焼くと共に、結晶成長後の基板表面を観察する準備
分析室２と、基板表面の結晶成長を行う成長室３と、結
晶成長後の基板を真空をやぶらずに装置外部へ取出す搬
出室４と、これらの各室１ないし４とそれぞれゲートバ
ルブ７を介して連通ずる搬送室５とからなり、前記室１
ないし４間の基板の移動は前記搬送室５を経て行われ、
しかも各室１ないし４と搬送室５との間の基板の受授は
トランファーマニプレータ６を介して行われる。
従来の上記搬送室５の構造は、第２図および第３図に示
すとおりである。すなわち第２図に示す搬送室５は複数
個の筒状チャンバー（以下チャンバーと称す）５ａ、５
ｂ・・・を連設すると共に、一体に結合して構成され、
かつゲートバルブ７を介して真空封止可能に設けられ、
また前記搬送室５の両端は閉塞壁５Ｗにより密封されて
いる。前記チャンバー５ａ内には、支柱９ａ、９ｂによ
り支持されたレール８が設けられ、このレール８上にピ
ニオン１２ａとラック１３ｂを介して軸方向に移動され
る移動台１３が設置されている。この移動台１３上には
、基板１６を塔載し、かつ転がり軸受１５を備える搬送
車１４ａが移動可能に設けられている。この搬送車１４
ａは、移動台１３の両端に取付けられたスプロケットま
たはプーリ１１ａ、ｌｌｂを経て、ピニオン１２ａの軸
１２ａ１に巻回されたエンドレス状のチェーン°または
ロープ１０の両端に連結されている。そのピニオン１２
ａの軸１２ａ１は、チャンバー５ａの外部に設けたモー
タ（図示せず）に連結されているため、ピニオン１２ａ
を回転させれば、搬送車１４ａを移動台１３の倍速で移
動させることができる。
すとおりである。すなわち第２図に示す搬送室５は複数
個の筒状チャンバー（以下チャンバーと称す）５ａ、５
ｂ・・・を連設すると共に、一体に結合して構成され、
かつゲートバルブ７を介して真空封止可能に設けられ、
また前記搬送室５の両端は閉塞壁５Ｗにより密封されて
いる。前記チャンバー５ａ内には、支柱９ａ、９ｂによ
り支持されたレール８が設けられ、このレール８上にピ
ニオン１２ａとラック１３ｂを介して軸方向に移動され
る移動台１３が設置されている。この移動台１３上には
、基板１６を塔載し、かつ転がり軸受１５を備える搬送
車１４ａが移動可能に設けられている。この搬送車１４
ａは、移動台１３の両端に取付けられたスプロケットま
たはプーリ１１ａ、ｌｌｂを経て、ピニオン１２ａの軸
１２ａ１に巻回されたエンドレス状のチェーン°または
ロープ１０の両端に連結されている。そのピニオン１２
ａの軸１２ａ１は、チャンバー５ａの外部に設けたモー
タ（図示せず）に連結されているため、ピニオン１２ａ
を回転させれば、搬送車１４ａを移動台１３の倍速で移
動させることができる。
上記の説明はチャンバー５ａについて述べたが、その他
のチャンバー５ｂも同様であるから説明を省略する。前
記チャンバー５ａ内の基板１６を相隣るチャンバー５ｂ
の搬送車１４ｂに移載する場合には、チャンバー５ａ内
の搬送車１４をチャンバー５ｂに取付けたマニプレータ
１７の操作範囲まで移動させ、駆動機１８を介してマニ
プレータ１７を操作することにより、基板１６をチャン
バー５ｂ内に搬送車１４ｂ上に塔載する。
のチャンバー５ｂも同様であるから説明を省略する。前
記チャンバー５ａ内の基板１６を相隣るチャンバー５ｂ
の搬送車１４ｂに移載する場合には、チャンバー５ａ内
の搬送車１４をチャンバー５ｂに取付けたマニプレータ
１７の操作範囲まで移動させ、駆動機１８を介してマニ
プレータ１７を操作することにより、基板１６をチャン
バー５ｂ内に搬送車１４ｂ上に塔載する。
上記のような従来例では、基板１６の搬送を自動化する
場合、各チャンバー５ａ、５ｂ・・・の各搬送車１４
ａ、 １４ ｂ・・・間における基板１６の移載にマニ
プレータ１７を用いる必要があるばかりでなく、各ピニ
オン１２ａの駆動モータを制御しなければならないから
、その制御系は複雑化する欠点がある。また各チャンバ
ー５ａ、５ｂ・・・毎に基板搬送に関する駆動部を設け
るため、真空中における軸受などの数が多くなり、基板
搬送機構の寿命は短命になる恐れがある。
場合、各チャンバー５ａ、５ｂ・・・の各搬送車１４
ａ、 １４ ｂ・・・間における基板１６の移載にマニ
プレータ１７を用いる必要があるばかりでなく、各ピニ
オン１２ａの駆動モータを制御しなければならないから
、その制御系は複雑化する欠点がある。また各チャンバ
ー５ａ、５ｂ・・・毎に基板搬送に関する駆動部を設け
るため、真空中における軸受などの数が多くなり、基板
搬送機構の寿命は短命になる恐れがある。
一方、第３図に示す他の従来例は上記従来例（第２図）
と同様に、各チャンバー５ａ、５ｂ・・・内にそれぞれ
独自のレール８を設け、このレール８に取付けたスプロ
ケットまたはプーリ１１ａ。
と同様に、各チャンバー５ａ、５ｂ・・・内にそれぞれ
独自のレール８を設け、このレール８に取付けたスプロ
ケットまたはプーリ１１ａ。
１１ｂに掛けたエンドレスチエンまたはロープ１０ａに
適宜間隔を保って突起１９を設け、これらの突起１９を
搬送車１４ａの両端部に設けた係合穴（図示せず）にそ
れぞれ係合させることにより搬送車１４ａを搬送するよ
うに構成されている。
適宜間隔を保って突起１９を設け、これらの突起１９を
搬送車１４ａの両端部に設けた係合穴（図示せず）にそ
れぞれ係合させることにより搬送車１４ａを搬送するよ
うに構成されている。
また前記スプロケットまたはプーリｌｌａは、搬送室５
の外部に設けた駆動機構（図示せず）により駆動される
ものとする。
の外部に設けた駆動機構（図示せず）により駆動される
ものとする。
このような従来例によれば、第２図の従来例におけるラ
ック機構１２ａ、１２ｂおよびマニプレータ１７．１８
を省略することが可能であるが、依然として各チャンバ
ー５ａ、５ｂ・・・内のスプロケットまたはロープ１０
ａをそれぞれ駆動させるために、多数の駆動機構を必要
とし、かつその駆動機構のモータを連動するように制御
する関係上、その制御系が複雑となる欠点がある。
ック機構１２ａ、１２ｂおよびマニプレータ１７．１８
を省略することが可能であるが、依然として各チャンバ
ー５ａ、５ｂ・・・内のスプロケットまたはロープ１０
ａをそれぞれ駆動させるために、多数の駆動機構を必要
とし、かつその駆動機構のモータを連動するように制御
する関係上、その制御系が複雑となる欠点がある。
本発明は上記従来の欠点を解消し、基板の搬送機構を単
一化することにより、搬送の自動化を行う際の制御系を
簡素化し、かつ前記搬送機構の長寿命化をはかることを
目的とするものである。
一化することにより、搬送の自動化を行う際の制御系を
簡素化し、かつ前記搬送機構の長寿命化をはかることを
目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するために、連設して一体に結
合され、かつ真空封止可能に設けられた複数個の筒状チ
ャンバーと、これらのチャンバー内に軸方向に設置され
た単一レールと、この単一レール上にエンドレス機構を
介して走行自在に設置され、かつエビタキシシャル成長
を行う基板を塔載する搬送車と、前記各チャンバー内に
設けた搬送車位置決め用センシング手段と、これらのセ
ンシング手段に接続し、前記エンドレス機構を駆動させ
るモータを制御するコントローラとからなることを特徴
とするものである。
合され、かつ真空封止可能に設けられた複数個の筒状チ
ャンバーと、これらのチャンバー内に軸方向に設置され
た単一レールと、この単一レール上にエンドレス機構を
介して走行自在に設置され、かつエビタキシシャル成長
を行う基板を塔載する搬送車と、前記各チャンバー内に
設けた搬送車位置決め用センシング手段と、これらのセ
ンシング手段に接続し、前記エンドレス機構を駆動させ
るモータを制御するコントローラとからなることを特徴
とするものである。
以下本発明の実施例を図面について説明する。
第４図において、２０は複数個（図では３個）の筒状チ
ャンバー（以下チャンバーと称す）２０ａ〜２０ｃを連
設して一体に結合して構成された搬送室で、この搬送室
２０の両端は閉塞壁５Ｗにより密封され、かつ真空手段
（図示せず）により真空状態に保持されている。２１は
搬送室２０内に設けられた支柱２２ａ〜２２ｃにそれぞ
れボルト２３ａ〜２３ｃを介して取付けられた単一レー
ルで、このレール２１のボルト２３ｂ。
ャンバー（以下チャンバーと称す）２０ａ〜２０ｃを連
設して一体に結合して構成された搬送室で、この搬送室
２０の両端は閉塞壁５Ｗにより密封され、かつ真空手段
（図示せず）により真空状態に保持されている。２１は
搬送室２０内に設けられた支柱２２ａ〜２２ｃにそれぞ
れボルト２３ａ〜２３ｃを介して取付けられた単一レー
ルで、このレール２１のボルト２３ｂ。
２３ａ部分には、軸方向にレール２１のスライド用長穴
２１ｘが設けられている。
２１ｘが設けられている。
２４ａ、２４ｂはレール２１の両端にそれぞれ回転自在
に取付けられたローラ（またはスプロケット）で、その
一方２４ａは搬送室２０の外部に設けた動力伝達手段２
５を介してモータ２６により駆動される。このモータ２
６は電源２７とコントローラ２８に接続され、かつ搬送
室２０内に取付られた搬送車位置決め用センシング手段
２９ａ”２９ ｔ：の出力により制御されるコントロー
ル２８によりオン−オフ制御される前記搬送車３１は前
記ローラ２４ａと２４ｂに掛けわたされたエンドレスロ
ープ３０に連結され、転がり軸受３２を介してレール２
１上を自由に走行するように設けられている。３３は搬
送車３１上に塔載された基板、３４はロープ３０に張力
を付与するテンションローラである。
に取付けられたローラ（またはスプロケット）で、その
一方２４ａは搬送室２０の外部に設けた動力伝達手段２
５を介してモータ２６により駆動される。このモータ２
６は電源２７とコントローラ２８に接続され、かつ搬送
室２０内に取付られた搬送車位置決め用センシング手段
２９ａ”２９ ｔ：の出力により制御されるコントロー
ル２８によりオン−オフ制御される前記搬送車３１は前
記ローラ２４ａと２４ｂに掛けわたされたエンドレスロ
ープ３０に連結され、転がり軸受３２を介してレール２
１上を自由に走行するように設けられている。３３は搬
送車３１上に塔載された基板、３４はロープ３０に張力
を付与するテンションローラである。
本実施例は上記のような構造からなり、搬送室２０の軸
方向長さが数米に及ぶため、ベーキングの昇温時および
降温時のように搬送室２０閉塞壁２０Ｗとレール２１の
温度差が大きくなると、そのレール２１は熱ひずみによ
り伸縮するが、この伸縮はレール２１に設けたスライド
用長穴２１ｘにより吸収することができる。また、本実
施例によれば、基板３３の搬送機構は−セットでよく、
軸受個数を減少させ、かつ制御系を簡単化することがで
きるから、搬送機構全体の寿命を延長させることが可能
である。
方向長さが数米に及ぶため、ベーキングの昇温時および
降温時のように搬送室２０閉塞壁２０Ｗとレール２１の
温度差が大きくなると、そのレール２１は熱ひずみによ
り伸縮するが、この伸縮はレール２１に設けたスライド
用長穴２１ｘにより吸収することができる。また、本実
施例によれば、基板３３の搬送機構は−セットでよく、
軸受個数を減少させ、かつ制御系を簡単化することがで
きるから、搬送機構全体の寿命を延長させることが可能
である。
第６図および第７図は本発明に係わる第２実施例を示す
もので、同図の符号のうち前記第１実施例（第４，５図
）の符号と同一のものは、同一または該当する部分を示
すものとする。
もので、同図の符号のうち前記第１実施例（第４，５図
）の符号と同一のものは、同一または該当する部分を示
すものとする。
前記第１実施例では、レール２１を搬送室２０の全長よ
り僅かに短かい単−長に形成したが、本第２実施例では
、前記単一レールを筒状チャンバー２０ａ、２０ｂ、・
・・と同数に分割して分割レール２１ ａ、 ２ ｌ
ｂ、 ２１ ｃ・・・となし、かつ各分割レール２１ａ
、’２１ｂ、２１ｃ・・・の各長さを各チャンバー２０
ａ、２０ｂ、２０ｃ・・・の各長さより小さく形成し、
相隣る分割レール間に僅小の間隙、ｄを設けたものであ
る。この間隙ｄはベーキング時の搬送室内壁とレールと
の間の熱ひずみ量を十分に吸収でき、かつ搬送車３１の
転がり軸受３２の直径より十分に小さく形成されている
。前記各分割レール２１ａ、２１ｂ、２１ｃｍは、それ
ぞれ−大側（図では左側）が支柱２２ａｌ 。
り僅かに短かい単−長に形成したが、本第２実施例では
、前記単一レールを筒状チャンバー２０ａ、２０ｂ、・
・・と同数に分割して分割レール２１ ａ、 ２ ｌ
ｂ、 ２１ ｃ・・・となし、かつ各分割レール２１ａ
、’２１ｂ、２１ｃ・・・の各長さを各チャンバー２０
ａ、２０ｂ、２０ｃ・・・の各長さより小さく形成し、
相隣る分割レール間に僅小の間隙、ｄを設けたものであ
る。この間隙ｄはベーキング時の搬送室内壁とレールと
の間の熱ひずみ量を十分に吸収でき、かつ搬送車３１の
転がり軸受３２の直径より十分に小さく形成されている
。前記各分割レール２１ａ、２１ｂ、２１ｃｍは、それ
ぞれ−大側（図では左側）が支柱２２ａｌ 。
２２ｂｌ、２２ｃＩにボルト２３ａに固定されると共に
、他方側（左側）が・各分割レールに設けたスライド用
長孔２１ｘ内に設けたボルト２３ｂにスライド可能に取
付けられている。その他の構造は第１実施例と同一であ
るから説明を省略する。
、他方側（左側）が・各分割レールに設けたスライド用
長孔２１ｘ内に設けたボルト２３ｂにスライド可能に取
付けられている。その他の構造は第１実施例と同一であ
るから説明を省略する。
上記の第２実施例によれば、第１実施例と同様な効果を
うろことができるばかりでなく、分解時にロープを外す
でけで分割レールを分解することなく、各チャンバーを
容易に分解することが可能であるから、装置の運搬を容
易に行うことができる利点がある。
うろことができるばかりでなく、分解時にロープを外す
でけで分割レールを分解することなく、各チャンバーを
容易に分解することが可能であるから、装置の運搬を容
易に行うことができる利点がある。
上記の第２実施例では、各分割レール２１ａ〜２１ｃに
スライド用長孔２１Ｘが設けられる共に、相隣る分割レ
ール２１ａ、２１ｂおよび２１ｂ。
スライド用長孔２１Ｘが設けられる共に、相隣る分割レ
ール２１ａ、２１ｂおよび２１ｂ。
２１ｃ間に間隙ｄが設けられ、かつ各チャンバー２０ａ
〜２０ｃの内壁にセンシング手段２９ａ〜２９ｃがそれ
ぞれ取付けられ、さらにセンシング手段２９ａ〜２９ｃ
に接続するコントロール２８が設けられている。
〜２０ｃの内壁にセンシング手段２９ａ〜２９ｃがそれ
ぞれ取付けられ、さらにセンシング手段２９ａ〜２９ｃ
に接続するコントロール２８が設けられている。
ところが、第８図に示す第３実施例では、上述した第２
実施例の各構成点を全べて廃止すると共に、分割レール
２１ｃの右端と搬送室２０の右側の閉塞壁２０Ｗとの間
に弾機、例えばばね３５を介在させ、かつ支柱２２ａ１
を除く他の各支柱２２ ａ２．２２ ｂｌ 、２２ ｂ
２．２２ Ｃ１，２２Ｃ２上にレール２１ａ〜２１ｃが
それぞれスライド可能に取付けられている点が、第２実
施例と異なり、その他の構造は同一であるから説明を省
略する。
実施例の各構成点を全べて廃止すると共に、分割レール
２１ｃの右端と搬送室２０の右側の閉塞壁２０Ｗとの間
に弾機、例えばばね３５を介在させ、かつ支柱２２ａ１
を除く他の各支柱２２ ａ２．２２ ｂｌ 、２２ ｂ
２．２２ Ｃ１，２２Ｃ２上にレール２１ａ〜２１ｃが
それぞれスライド可能に取付けられている点が、第２実
施例と異なり、その他の構造は同一であるから説明を省
略する。
このような第３実施例によれば、前記実施例と同様な効
果をうろことができるばかりでなく、ベーキングにより
分割レール２１ｃと搬送室２０の右端閉塞壁２０Ｗとの
間の距離が相対的に変化しても、この変化はばね３５に
より吸収される。このため各分割レール２１ａ〜２ ］
、 ｃの各相互間のギャップを常になくすることができ
るので、搬送車３１の転がり軸受３２の寿命をより一層
に延長させる利点がある。
果をうろことができるばかりでなく、ベーキングにより
分割レール２１ｃと搬送室２０の右端閉塞壁２０Ｗとの
間の距離が相対的に変化しても、この変化はばね３５に
より吸収される。このため各分割レール２１ａ〜２ ］
、 ｃの各相互間のギャップを常になくすることができ
るので、搬送車３１の転がり軸受３２の寿命をより一層
に延長させる利点がある。
以上説明したように本発明によれば、基板の搬送を単一
の駆動機構のみにより行うことにより、駆動部を簡単化
すると共に、その寿命の延命化をはかることができるば
かりでなく、ベーキング時に生ずるレールと搬送室閉塞
壁との熱ひずみの問題を容易に解決することができる。
の駆動機構のみにより行うことにより、駆動部を簡単化
すると共に、その寿命の延命化をはかることができるば
かりでなく、ベーキング時に生ずるレールと搬送室閉塞
壁との熱ひずみの問題を容易に解決することができる。
また、基板搬送の自動化を行う際の制御系を簡単にし、
その長寿命化および信頼度の向上をはかることが可能で
ある。
その長寿命化および信頼度の向上をはかることが可能で
ある。
第１図は本発明の対象である分子線エピタキシ装置の構
成図、第２図および第３図は従来の搬送室の縦断面図、
第４図および第５図は本発明の搬送室の第１実施例を示
す縦断面図および平面断面図、第６図および第７図は本
発明に係わる第２実施例を示す縦断面図および平面断面
図、第８図は本発明に係わる第３実施例の縦断面図であ
る。 ２０・・・搬送室、２０ａ〜２０ｃ・・・筒状チャンバ
ー、２０Ｗ・・・閉塞壁、２１・・・単一レール、２１
ａ〜２１ｃ・・・分割レール、２１Ｘ・・・スライド用
長孔、２６・・・モータ、２８・・・コントロール、２
９ａ〜２９ｃ・・・搬送車位置決め用センシング手段、
３０４・ろｎ 牙’７１！１ ２ 才８閉
成図、第２図および第３図は従来の搬送室の縦断面図、
第４図および第５図は本発明の搬送室の第１実施例を示
す縦断面図および平面断面図、第６図および第７図は本
発明に係わる第２実施例を示す縦断面図および平面断面
図、第８図は本発明に係わる第３実施例の縦断面図であ
る。 ２０・・・搬送室、２０ａ〜２０ｃ・・・筒状チャンバ
ー、２０Ｗ・・・閉塞壁、２１・・・単一レール、２１
ａ〜２１ｃ・・・分割レール、２１Ｘ・・・スライド用
長孔、２６・・・モータ、２８・・・コントロール、２
９ａ〜２９ｃ・・・搬送車位置決め用センシング手段、
３０４・ろｎ 牙’７１！１ ２ 才８閉
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、連設して一体に結合され、かつ真空封止可能に設け
られた複数個の筒状チャンバーと、これらのチャンバー
内に軸方向に設置された単一レールと、この単一レール
上にエンドレス機構を介して走行自在に設置され、かつ
エビタキシシャル成長を行う基板を塔載する搬送車と、
前記各チャンバー内に設けた搬送車位置決め用センシン
グ手段と、これらのセンシング手段に接続し、前記エン
ドレス機構を駆動させるモータを制御するコントローラ
とからなることを特徴とする分子線エピタキシ装置にお
ける基板搬送装置。 ２、上記単一レールを筒状チャンバーと同数に分割し、
かつこの各分割レールの長さを前記各チャンバーの軸方
向長さよりも少しく短かく形成し、前記第１分割レール
の第２分割レール側端部を支柱に移動可能に取付けると
共に、この第１分割レール端と、これに対設した第２分
割レールの固定端部との間に搬送車の転がり軸受の直径
よりも小さい間隙を形成し、以降も同様に構成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の分子線エピタ
キシ装置における基板搬送装置。 ３、連設して一体に結合され、かつ真空封止可能に設け
られた複数個の筒状チャンバーと、これらのチャンバー
内に軸方向に設置された単一レールと、この単一レール
上にエンドレス機構を介して走行自在に設置され、かつ
エビタキシシャル成長を行う基板を塔載する搬送車と、
前記エンドレス機構め従動側の単一レール端と最終チャ
ンバーの閉塞壁との間に弾機を介在させることを特徴と
する分子線エピタキシ装置における基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20478683A JPS6097621A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 分子線エピタキシ装置における基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20478683A JPS6097621A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 分子線エピタキシ装置における基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097621A true JPS6097621A (ja) | 1985-05-31 |
| JPH0469413B2 JPH0469413B2 (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=16496320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20478683A Granted JPS6097621A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 分子線エピタキシ装置における基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6097621A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50126175A (ja) * | 1974-03-22 | 1975-10-03 | ||
| JPS57170519A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-20 | Western Electric Co | Device and method for coating molecle beam |
| JPS57199218A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-07 | Mitsubishi Electric Corp | Morecular beam epitaxial growth equipment |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP20478683A patent/JPS6097621A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50126175A (ja) * | 1974-03-22 | 1975-10-03 | ||
| JPS57170519A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-20 | Western Electric Co | Device and method for coating molecle beam |
| JPS57199218A (en) * | 1981-06-01 | 1982-12-07 | Mitsubishi Electric Corp | Morecular beam epitaxial growth equipment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0469413B2 (ja) | 1992-11-06 |
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