JPS6092686A - 半導体レ−ザ−装置 - Google Patents

半導体レ−ザ−装置

Info

Publication number
JPS6092686A
JPS6092686A JP58201565A JP20156583A JPS6092686A JP S6092686 A JPS6092686 A JP S6092686A JP 58201565 A JP58201565 A JP 58201565A JP 20156583 A JP20156583 A JP 20156583A JP S6092686 A JPS6092686 A JP S6092686A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermal expansion
semiconductor laser
expansion coefficient
making
extent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58201565A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0224392B2 (ja
Inventor
Akira Otsuka
昭 大塚
Nobuo Ogasa
小笠 伸夫
Shinichi Iguchi
井口 信一
Yoshimitsu Yamazoe
山添 良光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP58201565A priority Critical patent/JPS6092686A/ja
Publication of JPS6092686A publication Critical patent/JPS6092686A/ja
Publication of JPH0224392B2 publication Critical patent/JPH0224392B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02476Heat spreaders, i.e. improving heat flow between laser chip and heat dissipating elements
    • H01S5/02492CuW heat spreaders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/02208Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
    • H01S5/02212Can-type, e.g. TO-CAN housings with emission along or parallel to symmetry axis
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02469Passive cooling, e.g. where heat is removed by the housing as a whole or by a heat pipe without any active cooling element like a TEC

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体レーザー装置、特にその放熱特性の改
良に関するものでおる。
(ロ)従来技術 半導体レーザー装置は電流駆動による大電力素子である
ため、動作中の発熱抵が大きい。そのため、適切な放熱
設計が行なわれていない場合には、ME使用中の発熱に
より性能の劣化、素子ノを命の低下、あるいは半導体V
−ザー素子の破J衷をまねく危険がある。具体的には半
導体レーザー素子は一般に第2図に示すような温度特性
をもつ。
図から明らかなように、発光出ノJは、索−r−ffi
!i度に大きく依存する。温度20゛Cで光出力2mW
を74)るには約801++Aの電流が必要であるが、
l+A K 50℃で使用する場合には807+1Aで
はレーザ発振にさえ達することが出来ず、光出力2nl
Wを得るには60+t+A以上の駆動電流が必要となる
。しかも、IJll’L度]−21による光出力の低下
を補なうために駆動電流を増加してやれば、電流増加に
ともなう素子の発熱1五の増加がひきおこされ、さらに
素子温度が上91する劣化や、はなはだしい場合は素子
の破壊にいたる。
したがって、半導体レーザー素子を支持するステrは、
熱伝導率の高い材料を用いて熱放散を良好にする必要が
ある。
また、上記ステムと半導体レーザー素子の熱膨張係数に
差があると、発熱に伴ってひずみが発生し、半導体レー
ザー素子に不必要なストレスが加わる。
このようなストレスは、半導体レーザー素子の性能の劣
化を加速し、更にはその破壊の原因となるノものである
、したがって、ステムの材料としては、熱伝導率が高く
、しかも熱膨張係数が半導体レーザー素子のそれとでき
るだけ近いものであることが要求される。
そこで、従来は、第1図に示すように、半導体レーザー
素子1をサブマウント2を介してパッケージのマウント
用ブロック3に取(=Iけ、そのサブマウント2の材料
として、コバー/I/(商品名)の如き低熱膨張特性を
示す材料を使用することが行なわれていた。
e→発明によって解決しようとする問題点サブマウント
2の拐剥は、前述のとおシ熱伝導率が良好で、かつ熱膨
張係数が半導体レーザー素子lのそれに近いことが要求
される。
しかしながら、従来使用されているコバールは、第1表
に示すように、熱膨張係数は半導体レーザー素子lに非
常に近いが、熱伝導率が低い問題があシ、このことが半
導体レーザーの性能改良の上で大きな障害となっていた
に)問題点を解決するだめの手段 この発明は1nAs、InP又はl n S 11を基
板とする半導体レーザー素子を用いた半導付レーザーを
対象とし、その場合のサブマウン1−の材料として、熱
膨張係数が4.5〜7.5 X l Ocm/cm・°
Cの範囲にある次の金属、すなわち fllwKcuを均一に含有させた合金(21MoにC
uを均一に含有させた合金(31W−Mo合金にCuを
均一に含有させた合金のいずれか一つを使用することと
したものである。
上Mdの合金は粉末法又は溶浸法によつマ製造すること
ができる。
サブマウントの材料が上記の熱1膨張係数の範囲を越え
ると、半導体レーザー素子との熱1膨張係数の特に45
 cm/am ”c未満の場合に−は熱伝導度が極端に
小さくなシ、放熱効果を発揮させることができない。
また、上記範囲の熱膨張係数を満足する上記金属゛材料
のCu含有量を重ffi%で示せば次のとおりである。
W+Cu : 0.5−25%(前記i11の金属材料
)Mo+Cu : 0.5−20 % (前記(2)の
金属4A料)W−Mo +Cu : 0.5−25%(
前記(3)の金属材料)なお、上記金属材料の熱伝導率
は、0.85〜0.65.27!/cm−seC1Cテ
アル。
この発明の金属材料と従来例(コバール)との対比、及
び素子基板の熱膨張係数を参考までに示せば、次の第1
素に示すとおりである。
第 1 表 上記第1表かられかるように、この発明の場合は、熱膨
張係数が半導体レーザー装置1グの素j’−J、%板の
それにきわめて近く、また熱伝導率は従来のコバールよ
り101&以上改良されている。
(7+9実施例 InP基板上にI nGaA FIPをエピタキシャル
成長させたダブルへテロtM造をもつ゛1′得体レーザ
ー素rを、Cuを重量比で5チ含むW−cu合金でなる
リブマウントを介してラウン1−用ブロックに固着した
半導体レーザー装置を製作した。
この場合のサブマウント材料の熱膨張係数は55あった
上記の半導体レーザー装置の素子の温度上昇はコバール
の場合と比較して約30チ低減した。
また、従来のものと比べて、発光効果は約60%、寿命
は約100倍伸びた。
なお、Cuの含有量が多いほど放熱特性が良好になるこ
とが確認できた。
(へ)効 果 以上のとおりであるから、この発明によれば、放熱が良
好でかつ発熱に伴うストレスの少ない半導体レーザー装
置1イを得ることができる。又、第3図に示した如く、
サブマウントとマウント用ブロックを一体にしたパッケ
ージ構造も容易にとりうろことができだ。
【図面の簡単な説明】
第1図(、)ば、従来の半導体レーザ装置を示す上面図
、第1図(blはAA・における断面図である。第2図
は半導体レーザの発光特性の一例を示す図面である。第
8図(、)は本発明の半導体レーザ装置の一例を示す上
面図、第3図(b)ばBB’における断面図である。図
において各掛けの意味するどころは次のとおりである。 同−缶号は、各図面における相当部分を示す。 I:半導体レーザ素子 2:サブマウント 3:マウント用ブロック月 4:光取出窓 5:キャップ 6:パツケーシ本体スなわちステム 7:第1のリード線 8:第2の q 9:絶縁物 IO:リードワイヤー シ ′た 四 + 家用やl

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 [1) InAs、InP又はInSbを基板とする半
    導体レーザー素子をサブマウントを介してノ(ツケージ
    のステムに取イ;jけてなる半導体レーザー装置におい
    て、はW−Mo合金のいずれかにCuを均一に含有させ
    た合金を用いたことを特徴とする単導体レーザー装置。 (2)上記ステムをサブマウントと同−材料により構成
    したことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の半
    導体レーザー装置。 (3)上記ステムとザブマウントを一体成形したことを
    特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の半導体レーザ
    ー装置。
JP58201565A 1983-10-26 1983-10-26 半導体レ−ザ−装置 Granted JPS6092686A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58201565A JPS6092686A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 半導体レ−ザ−装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58201565A JPS6092686A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 半導体レ−ザ−装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6092686A true JPS6092686A (ja) 1985-05-24
JPH0224392B2 JPH0224392B2 (ja) 1990-05-29

Family

ID=16443159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58201565A Granted JPS6092686A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 半導体レ−ザ−装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6092686A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4906086A (en) * 1987-06-19 1990-03-06 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Rearview mirror device for motorcycles
CN101533801A (zh) * 2008-03-14 2009-09-16 株式会社迪思科 光器件制造方法
US8104665B2 (en) 2009-12-24 2012-01-31 Disco Corporation Manufacturing method for composite substrate
JP2013236010A (ja) * 2012-05-10 2013-11-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5891692A (ja) * 1981-11-27 1983-05-31 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5891692A (ja) * 1981-11-27 1983-05-31 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4906086A (en) * 1987-06-19 1990-03-06 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Rearview mirror device for motorcycles
CN101533801A (zh) * 2008-03-14 2009-09-16 株式会社迪思科 光器件制造方法
US7704769B2 (en) 2008-03-14 2010-04-27 Disco Corporation Optical device manufacturing method
US8104665B2 (en) 2009-12-24 2012-01-31 Disco Corporation Manufacturing method for composite substrate
JP2013236010A (ja) * 2012-05-10 2013-11-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US9041197B2 (en) 2012-05-10 2015-05-26 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0224392B2 (ja) 1990-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11222998B2 (en) Optical semiconductor apparatus and method of manufacturing optical semiconductor apparatus
US6323059B1 (en) Method of fabricating a semiconductor device
US20090080485A1 (en) Nitride semiconductor laser device
JPH05129733A (ja) サブマウント型レーザ
JPS62291052A (ja) 気密封止形パッケージ
JPS6092686A (ja) 半導体レ−ザ−装置
JP5031136B2 (ja) 半導体レーザ装置
US20060146899A1 (en) Semiconductor laser diode device, and method for manufacturing the same
JP3417297B2 (ja) 半導体装置
JP6988268B2 (ja) 半導体レーザ装置
JPS6092687A (ja) 半導体レ−ザ−装置
US10840671B2 (en) Semiconductor laser device
TWI236196B (en) Semiconductor laser device
JP2006269995A (ja) 熱電変換モジュール及び電子デバイス
US7873086B2 (en) Semiconductor device
CN111541144A (zh) 半导体激光光源装置
JPH0436473B2 (ja)
JP2003188456A (ja) 光電子装置
JP5179795B2 (ja) 発光装置の製造方法
JPS63144588A (ja) 半導体チツプレ−ザ用サブマウント
JPH04278593A (ja) 光電子装置およびその製造方法
TWI661628B (zh) 雷射二極體表面安裝結構
JPS61179558A (ja) 半導体装置の容器
JP2005259851A (ja) 半導体レーザ装置
JP2855980B2 (ja) 熱電冷却モジュールおよび冷却型半導体レーザモジュール