JPS6092343A - 低温加硫方法 - Google Patents
低温加硫方法Info
- Publication number
- JPS6092343A JPS6092343A JP20235083A JP20235083A JPS6092343A JP S6092343 A JPS6092343 A JP S6092343A JP 20235083 A JP20235083 A JP 20235083A JP 20235083 A JP20235083 A JP 20235083A JP S6092343 A JPS6092343 A JP S6092343A
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- JP
- Japan
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- butyl rubber
- peroxide
- rubber
- parts
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- Pending
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はブチルゴムの低温加硫方法に関する。
ブチルゴムが従来過酸化物加硫ができないとされていた
ことは、ゴム加工業界ではよく知られている。一般に、
ブチルゴムの過酸化物加硫ができない理由は下記■〜■
のごとく説明されている。
ことは、ゴム加工業界ではよく知られている。一般に、
ブチルゴムの過酸化物加硫ができない理由は下記■〜■
のごとく説明されている。
■ すなわち、過酸化物によってイソブチレン連鎖上に
生成したラジカルは下式のごとく、崩壊反応を生じる。
生成したラジカルは下式のごとく、崩壊反応を生じる。
(イソブチレン連鎖)
10、、過酸化物から生成したラジカル(引用文献:
Trans F’aradar Sac。
Trans F’aradar Sac。
57.511 (1961))
■ 市販されているブチルゴムi、t 96 mo1%
以上のイソブチレンを含むため、上式の崩壊反応が主と
なり、過酸化物加硫ができない。
以上のイソブチレンを含むため、上式の崩壊反応が主と
なり、過酸化物加硫ができない。
以上の機構により、ブチルゴムは過酸化物加硫ができな
いとされていた。
いとされていた。
ブチルゴムは粘着性、耐オゾン性、耐候性、空 無透過
性に優れた特徴を有し、接着用基剤や、防水材料、自動
車用チューブ等に用いられている。しかし、これらの用
途製品はいずれも、硫黄加硫や樹脂加硫が適用されてい
る。
性に優れた特徴を有し、接着用基剤や、防水材料、自動
車用チューブ等に用いられている。しかし、これらの用
途製品はいずれも、硫黄加硫や樹脂加硫が適用されてい
る。
本発明者等は、不可能とされていたブチルゴムの過酸化
物加硫方法について、鋭意検討した結果、ブチルゴムは
特定の過酸化物と、特定の加硫助剤を使用することによ
って、70°C以下であれば加硫することを発見し本発
明に到達した。
物加硫方法について、鋭意検討した結果、ブチルゴムは
特定の過酸化物と、特定の加硫助剤を使用することによ
って、70°C以下であれば加硫することを発見し本発
明に到達した。
第1の発明は過酸化物を加硫剤として、ブチルゴムの加
硫を行うに際し、過酸化物として、ハイドロパーオキサ
イド、ケトンパーオキサイド、過酸化水素から選ばれる
1種以上の過酸化物と、P−ベンゾキノンジオキシムN
−N’ mフェニレンビスマレイミド、多官能性アク
リル酸エステル類酸化還元作用を有する有機、または、
無機金属塩から選ばれる加硫助剤を併用することによっ
て、70°C以下、好ましくは15〜85°Cの常温付
近での自然放置によって、加硫ブチルゴムを提供するも
のである。
硫を行うに際し、過酸化物として、ハイドロパーオキサ
イド、ケトンパーオキサイド、過酸化水素から選ばれる
1種以上の過酸化物と、P−ベンゾキノンジオキシムN
−N’ mフェニレンビスマレイミド、多官能性アク
リル酸エステル類酸化還元作用を有する有機、または、
無機金属塩から選ばれる加硫助剤を併用することによっ
て、70°C以下、好ましくは15〜85°Cの常温付
近での自然放置によって、加硫ブチルゴムを提供するも
のである。
また、本発明の第2の発明はブチルゴム、または、ブチ
ルゴムを主体とするゴム質ポリマー、100重量部に必
要に応じ、充填剤、軟化剤、その他任意の成分を配合し
、これに前記の加硫助剤を配合し、0〜70°Cの温度
範囲で加硫するに際して、前記過酸化物の液体、もしく
は、溶液を塗付または、浸漬することによって、被加硫
物表面に施し、加硫する方法である。
ルゴムを主体とするゴム質ポリマー、100重量部に必
要に応じ、充填剤、軟化剤、その他任意の成分を配合し
、これに前記の加硫助剤を配合し、0〜70°Cの温度
範囲で加硫するに際して、前記過酸化物の液体、もしく
は、溶液を塗付または、浸漬することによって、被加硫
物表面に施し、加硫する方法である。
さらに、本発明の第8の発明はブチルゴム、(5)
または、ブチルゴムを主体とするゴム質ポリマー、10
0重斌部に、必要に応じ、充填剤、軟化剤、その他任意
の成分を配合し、これに前記過酸化物を配合し、0〜7
0’Cの温度範囲で加硫するに際して、前記加硫助剤の
液体、もしくは、溶液を塗付または、浸漬することによ
って、被加硫物表面に施し、加硫する方法である。
0重斌部に、必要に応じ、充填剤、軟化剤、その他任意
の成分を配合し、これに前記過酸化物を配合し、0〜7
0’Cの温度範囲で加硫するに際して、前記加硫助剤の
液体、もしくは、溶液を塗付または、浸漬することによ
って、被加硫物表面に施し、加硫する方法である。
本発明におけるブチルゴムとは、イソプレン。
イソブチレン共重合ゴム、および、臭素または、塩素で
変性されたハロゲン化ブチルゴム、および、イソブチレ
ン重合体を云う。
変性されたハロゲン化ブチルゴム、および、イソブチレ
ン重合体を云う。
本発明においては、従来から過酸化物加硫が可能とされ
ているエチレン、プロピレンゴム、エチレン、フロピレ
ン非共役ジェンターポリマースチレン、ブタジェンゴム
、ブタジェン、アウリルニトリルゴム、クロロプレンゴ
ム、天然ゴム等を、必用に応じて配合してもよい。その
配合割合はブチルゴムとのゴム基材総量中40%以下が
よく、余り多くなると、ブチルゴムの特徴が失なわれる
ので好ましくない。
ているエチレン、プロピレンゴム、エチレン、フロピレ
ン非共役ジェンターポリマースチレン、ブタジェンゴム
、ブタジェン、アウリルニトリルゴム、クロロプレンゴ
ム、天然ゴム等を、必用に応じて配合してもよい。その
配合割合はブチルゴムとのゴム基材総量中40%以下が
よく、余り多くなると、ブチルゴムの特徴が失なわれる
ので好ましくない。
(6)
本発明で加硫剤として用いる過酸化物の具体例としては
、クメンハイドロパーオキサイド、P−メンタンハイド
ロパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド
、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルア
セトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイ
ド、過酸化水素等が挙げられる。
、クメンハイドロパーオキサイド、P−メンタンハイド
ロパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド
、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、アセチルア
セトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイ
ド、過酸化水素等が挙げられる。
これら加硫剤の使用量は、ブチルゴムまたは、ブチルゴ
ムを含むゴム質ポリマー100iijt部に対して、2
〜20!量部、好ましくは8〜15重量部添加すればよ
い。
ムを含むゴム質ポリマー100iijt部に対して、2
〜20!量部、好ましくは8〜15重量部添加すればよ
い。
また、本発明で加硫剤と併用して使用する加硫助剤の具
体例としてはP−ベンゾキノンジオキシム、N−N’m
フェニレンビスマレイミド、トリメチロールプロパント
リアクリレート、エチレンジメタクリレート、塩化第一
鉄、硫酸第一鉄、ナフテン酸コバルト等が挙げられる。
体例としてはP−ベンゾキノンジオキシム、N−N’m
フェニレンビスマレイミド、トリメチロールプロパント
リアクリレート、エチレンジメタクリレート、塩化第一
鉄、硫酸第一鉄、ナフテン酸コバルト等が挙げられる。
コレら加硫助剤の使用量は、ブチルゴムマタは、ブチル
ゴムを含むゴム質ポリマー100重量部に対して、0.
5〜10重量部、好ましくは1〜5重量部配合すればよ
い。
ゴムを含むゴム質ポリマー100重量部に対して、0.
5〜10重量部、好ましくは1〜5重量部配合すればよ
い。
本発明の方法による加硫に先だち、必要に応じ、ゴム工
業界で公知の充填剤、軟化剤、粘着付与剤、その他任意
の成分を配合することができる。
業界で公知の充填剤、軟化剤、粘着付与剤、その他任意
の成分を配合することができる。
本発明において使用される特定の過酸化物または、特定
の加硫助剤は、トルエン、キシレン、アセトン、メチル
エチルケトン、アルコール類等の適当な溶媒を用いて、
溶液として塗付またれば、溶液にせずそのまま塗付する
か、スプレーするか、あるいは、被加硫ゴムを浸漬して
もよい。
の加硫助剤は、トルエン、キシレン、アセトン、メチル
エチルケトン、アルコール類等の適当な溶媒を用いて、
溶液として塗付またれば、溶液にせずそのまま塗付する
か、スプレーするか、あるいは、被加硫ゴムを浸漬して
もよい。
以下に実施例で本発明を具体的に説明する。
ただし、本実施例は本発明を限定するものではない。
実施例−1
本発明で云う代表的過酸化物、および、加硫助剤のブチ
ルゴムへの配合例を第1表に示した。これらの混合には
オープンロールを用いrfられた混7合物を、直ちに4
本カレンダーロールを用いて、0.5■厚みシートに成
形し、5〜100°Cの温度で放置した場合の物性の経
時変化を第2表に示し1こ。
ルゴムへの配合例を第1表に示した。これらの混合には
オープンロールを用いrfられた混7合物を、直ちに4
本カレンダーロールを用いて、0.5■厚みシートに成
形し、5〜100°Cの温度で放置した場合の物性の経
時変化を第2表に示し1こ。
実施例−2
第8表の配合による組成物を、オープンロールで作成し
、実施例−1と同様に0.5 tax厚みシートに成形
した。成形されたシートに室温(20〜80°C)で、
本発明の過酸化物または、そのトルエン溶液を塗付した
後のシート物性の経時変化を第4表に示した。
、実施例−1と同様に0.5 tax厚みシートに成形
した。成形されたシートに室温(20〜80°C)で、
本発明の過酸化物または、そのトルエン溶液を塗付した
後のシート物性の経時変化を第4表に示した。
本発明を応用することにより、薄物ゴム材料、例えば防
水シート、ゴム引布等が、特別の加硫機を必用とせず、
製造できることが本実施例から明らかである。
水シート、ゴム引布等が、特別の加硫機を必用とせず、
製造できることが本実施例から明らかである。
実施例−8
第5表の配合による組成物を、オープンロールで作成し
、実施例−1と同様に0.5■厚みシートに成形した。
、実施例−1と同様に0.5■厚みシートに成形した。
成形されたシートに、(9)
に、本発明で用いる加硫助剤のトルエン溶液(濃度20
%)をハケで塗付後、室温で放置した。
%)をハケで塗付後、室温で放置した。
放置シートの物性の経時変化を第6表に示した。
第1表 配合
1)日本合成ゴム(株)製 ブチル268(イソブチレ
ン98mo1%) 2)出光興産(株)製 プロセスオイル第8表記合 (12) 第4表 加硫剤塗付後の物性の経時変化*塗付加硫剤 A:クメンハイドロパーオキサイド/トルエン=8/2
溶液B:クメンハイドロパーオキサイド D:過酸化水素20%水溶液 f45表 配合 第6表 加硫助剤塗付後の物性の経時変化* 加硫助剤
ン98mo1%) 2)出光興産(株)製 プロセスオイル第8表記合 (12) 第4表 加硫剤塗付後の物性の経時変化*塗付加硫剤 A:クメンハイドロパーオキサイド/トルエン=8/2
溶液B:クメンハイドロパーオキサイド D:過酸化水素20%水溶液 f45表 配合 第6表 加硫助剤塗付後の物性の経時変化* 加硫助剤
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) ブチルゴムまたはブチルゴムを主体とするゴム
質ポリマー100重量部に必要に応じ充填剤、軟化剤、
その他任意の成分を配合し、0〜70℃の温度範囲で加
硫するに際して、ハイドロパーオキサイド、ケトンパー
オキサイド、過酸化水素から選ばれる少なくとも1肴1 種以上の過酸化物からなる加硫剤2〜20重量部ト、P
−ベンゾキノンジオキシム、N−I−N’mフェニレン
ビスマレイミド、多官能性アクリル酸エステル類、酸化
還元作用を有する有機または無機金属塩から選ばれる加
硫助剤1種以上を0.5〜10重量部を配合することを
特徴とするゴムの低温加硫方法。 (2) ブチルゴムまたはブチルゴムを主体とするゴム
質ポリマー100重量部に必要に応じ充填剤、軟化剤、
その他任意の成分を配合し、これにP−ベンゾキノンジ
オキシム、N−N′mフェニレンビスマレイミド、多官
能性アクリル酸エステル類、酸化還元作用を有する有機
または無機金属塩から選ばれる加硫助剤1種以上0.5
〜10重量部を配合し、0〜70°Cの温度範囲で加硫
する1ど際して、ハイドロパーオキサイド、ケトンパー
オキサイド、過酸化水素から選ばれる少なくとも1種以
上の過酸化物の液体もしくは溶液を、塗付または浸漬す
ることによって、被加硫物表面に施すことを特徴とする
ゴムの低温加硫方法。 (8) ブチルゴムまたはブチルゴムを主体とするゴム
質ポリマー100重量部に、必要に応じ充填剤、軟化剤
、その他任意の成分を配合し、これにハイドロパーオキ
サイド、ケトンパーオキサイド、過酸化水素から選ばれ
る少なくとも1種以上の過酸化物からなる加硫剤2〜2
0重量部を配合し、0〜70°Cの温度範囲で加硫する
に際して、P−ベンゾキノンジオキシム、N−N’mフ
ェニレンビスマレイミド、多官能性アクリル酸エステル
類、酸化還元作用を有する有機または無機金属塩から選
ばれる加硫助剤1種以上の液体もしくは溶液を、塗付ま
たは浸漬することによって、被加硫物表面に施すことを
特徴とするゴムの低温加硫方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20235083A JPS6092343A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 低温加硫方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20235083A JPS6092343A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 低温加硫方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6092343A true JPS6092343A (ja) | 1985-05-23 |
Family
ID=16456071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20235083A Pending JPS6092343A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | 低温加硫方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6092343A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0474406A2 (en) * | 1990-08-24 | 1992-03-11 | Daikyo Gomu Seiko Ltd. | A rubber composition and a rubber article for pharmaceuticals and medical treatment |
JPH04213347A (ja) * | 1990-08-24 | 1992-08-04 | Daikyo Rubber Seiko:Kk | ゴム組成物及び医薬品・医療用具用ゴム製品 |
EP2949717A4 (en) * | 2013-08-05 | 2016-07-20 | Lg Chemical Ltd | ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE FILM, AND METHOD FOR PREPARING ORGANIC ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS518350A (en) * | 1974-07-11 | 1976-01-23 | Oizumi Masao | Tomeigomuno seizoho |
JPS5546420A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-01 | Hitachi Ltd | Mass spectroscope |
JPS5610927A (en) * | 1979-07-06 | 1981-02-03 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Electron beam transfer device |
-
1983
- 1983-10-27 JP JP20235083A patent/JPS6092343A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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