JPS6087893A - 蒸気発生システムで使用する水性媒体から溶存酸素を除去する方法 - Google Patents
蒸気発生システムで使用する水性媒体から溶存酸素を除去する方法Info
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- JPS6087893A JPS6087893A JP59196511A JP19651184A JPS6087893A JP S6087893 A JPS6087893 A JP S6087893A JP 59196511 A JP59196511 A JP 59196511A JP 19651184 A JP19651184 A JP 19651184A JP S6087893 A JPS6087893 A JP S6087893A
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
未発IJJは、蒸気システムで使用する水性媒体から溶
存酸素を除去する方法に関する。
存酸素を除去する方法に関する。
エネルギー発生用のボイラー装置やその他の加熱装置の
ような種々のシステムで水性媒体が循環使用されている
が、これらの水性媒体は該媒体に溶存する望ましくない
酸素を含むことがある。
ような種々のシステムで水性媒体が循環使用されている
が、これらの水性媒体は該媒体に溶存する望ましくない
酸素を含むことがある。
器や蒸気発生器等のシステム下流の構成部がまれでいる
コンデンサを介して酸素は水性媒体中に入り込む。高圧
ボイラー装置では、ボイラーに供給される給水にヒドラ
ジンを配合して、酸素の除去が行なわれて来た。
コンデンサを介して酸素は水性媒体中に入り込む。高圧
ボイラー装置では、ボイラーに供給される給水にヒドラ
ジンを配合して、酸素の除去が行なわれて来た。
水中に溶存した酸素を除去する酸素スカベンジャ(ox
ygen scavenger)としてヒドラジンを使
用することは公知素と結合するとされている。米国特許
第3゜551.349号IJI細書には、腐食に対する
保護を行なうために、ヒドラジンとキノンの高めるため
に、ヒドラジン水溶液に化学的な活性剤即ち触媒を添加
するにが好ましい。溶存酸素の除去速度を高める触媒の
例としては、米国特許第、3,808,138号明細書
はヒドラジンとともにコバルト・マレイン酸ヒドラジド
(cobalt maleicacid hydraz
ide)の使用を教示し、米国特許第3.843.54
7号明細書はヒドラジンとともにアリールアミン化合物
(arylamin’e compound)とキノン
化合物との混合物の使用を教示し、米国特許第4.14
2.500号明細書はヒドラジンとともにニトロ置換ま
たはアミン置換フェノール類またはクレゾール類の使用
を教示している。この種の添加物は、ある場合には触媒
と呼ばれ、他の場合には活性剤と呼ばれているが、これ
らの添加物を加える1コ的は、ヒドラジンを使用するシ
ステムから溶存#索を除去する除去速度を高めることで
ある。酸素スカベンジャとしてヒドラジンを用いた場合
、一般的なコンデンサの温度である26.7℃〜54.
4℃(80°F〜130°F)の温度下でのヒドラジン
の反応速度が低というヒドラジンの使用に伴う問題のた
めに添加物が必要になるのである。しかしながら、添加
物の使用によって反応速度が低いという問題の解決をは
かる場合、これらの添加物及びその分解生成物の性質並
びにそれらの物質によって蒸気発生器の材料物質に与え
られる影響に関する問題がある。
ygen scavenger)としてヒドラジンを使
用することは公知素と結合するとされている。米国特許
第3゜551.349号IJI細書には、腐食に対する
保護を行なうために、ヒドラジンとキノンの高めるため
に、ヒドラジン水溶液に化学的な活性剤即ち触媒を添加
するにが好ましい。溶存酸素の除去速度を高める触媒の
例としては、米国特許第、3,808,138号明細書
はヒドラジンとともにコバルト・マレイン酸ヒドラジド
(cobalt maleicacid hydraz
ide)の使用を教示し、米国特許第3.843.54
7号明細書はヒドラジンとともにアリールアミン化合物
(arylamin’e compound)とキノン
化合物との混合物の使用を教示し、米国特許第4.14
2.500号明細書はヒドラジンとともにニトロ置換ま
たはアミン置換フェノール類またはクレゾール類の使用
を教示している。この種の添加物は、ある場合には触媒
と呼ばれ、他の場合には活性剤と呼ばれているが、これ
らの添加物を加える1コ的は、ヒドラジンを使用するシ
ステムから溶存#索を除去する除去速度を高めることで
ある。酸素スカベンジャとしてヒドラジンを用いた場合
、一般的なコンデンサの温度である26.7℃〜54.
4℃(80°F〜130°F)の温度下でのヒドラジン
の反応速度が低というヒドラジンの使用に伴う問題のた
めに添加物が必要になるのである。しかしながら、添加
物の使用によって反応速度が低いという問題の解決をは
かる場合、これらの添加物及びその分解生成物の性質並
びにそれらの物質によって蒸気発生器の材料物質に与え
られる影響に関する問題がある。
1957年5月15日〜17日に英国のプルネマウス(
Bournemout b) で開催されたブローシー
ディンゲス・オブ会ザ・インターナショナル・コンファ
レンス・オン・ヒドラジン水溶液ド・ウォータ・トリー
トメンl−(PrOceedings of tb e
I n t e r n a t i o n a
I Co nference on Hydrazin
ea n d W a t e r T r e a
t m e nt)でニス・アール・エム・エリス及び
シー・モーランド(S、R,M、El l < s a
nd C,Moreland)によッテ発表され報文集
の17頁及び18真に記載されているように、紫外線は
酸素とヒドラジンとの反応を加速させる効果を持つ。し
かしながら、この報告にあるデータは、酸素の飽和した
水(約8ppm)で燐酸ナトリウム水の化学として行な
われたものであった。
Bournemout b) で開催されたブローシー
ディンゲス・オブ会ザ・インターナショナル・コンファ
レンス・オン・ヒドラジン水溶液ド・ウォータ・トリー
トメンl−(PrOceedings of tb e
I n t e r n a t i o n a
I Co nference on Hydrazin
ea n d W a t e r T r e a
t m e nt)でニス・アール・エム・エリス及び
シー・モーランド(S、R,M、El l < s a
nd C,Moreland)によッテ発表され報文集
の17頁及び18真に記載されているように、紫外線は
酸素とヒドラジンとの反応を加速させる効果を持つ。し
かしながら、この報告にあるデータは、酸素の飽和した
水(約8ppm)で燐酸ナトリウム水の化学として行な
われたものであった。
本発明の目的は、速やかな反応を行なわせて蒸気発生器
に還流され゛る水性媒体から酸素を除去する位置におい
て、蒸気発生システム中でのヒドラジンに及ぼす紫外線
照射の触媒効果を有効に利用することである。
に還流され゛る水性媒体から酸素を除去する位置におい
て、蒸気発生システム中でのヒドラジンに及ぼす紫外線
照射の触媒効果を有効に利用することである。
本発明のもう1つの目的は、ヒドラジンを使用し、化学
的添加物を必要とせず、添加物並びに添加物の分解生成
物に伴なう各種の問題のない酸素除去方式を提供するこ
とである。
的添加物を必要とせず、添加物並びに添加物の分解生成
物に伴なう各種の問題のない酸素除去方式を提供するこ
とである。
即ち、本発明は蒸気発生システムで使用する水性媒体か
ら溶存酸素を除去する方法であって、前記蒸気発生シス
テムは、温水溜めを持つコンデンサーと、温水溜めとコ
ンデンサーの間を接続する循環路とを有し、水性媒体が
蒸気発生器を通過した後、凝縮物を形成し温水溜めに送
られてコンデンサーに入る前に水性媒体にヒドラジンを
添加し水性媒体中でヒドラジンを溶存酸素と接触させて
前記の溶存酸素と反応させ;コンデンサー中で形成され
たヒドラジン含有水性媒体の凝縮物をコンデンサーの温
水溜め中でヒドラジンにより溶存酸素が除去されるに充
分な時間紫外線に露光し;水性媒体凝縮物を蒸気発生器
中で使用するために循環させることを特徴とする方法を
提供せんとするものである。
ら溶存酸素を除去する方法であって、前記蒸気発生シス
テムは、温水溜めを持つコンデンサーと、温水溜めとコ
ンデンサーの間を接続する循環路とを有し、水性媒体が
蒸気発生器を通過した後、凝縮物を形成し温水溜めに送
られてコンデンサーに入る前に水性媒体にヒドラジンを
添加し水性媒体中でヒドラジンを溶存酸素と接触させて
前記の溶存酸素と反応させ;コンデンサー中で形成され
たヒドラジン含有水性媒体の凝縮物をコンデンサーの温
水溜め中でヒドラジンにより溶存酸素が除去されるに充
分な時間紫外線に露光し;水性媒体凝縮物を蒸気発生器
中で使用するために循環させることを特徴とする方法を
提供せんとするものである。
温水溜めの壁部を介して紫外線露光を行なうこともでき
るけれども、好ましくは、温水溜めに集められた凝縮液
中に沈めた紫外線ランプを使用して、紫外線に露光する
。露光時間を長くする必要がある場合には、凝縮水が温
水溜めに送られる前に、ヒドラジン含有凝縮液をコンデ
ンサ内部で紫外線に露光させて←t −tx、s もよい。p −h 8.5〜10.5(7)水性・を2
〜lo分間、好ましくは波長2500〜3500オング
ストロームの紫外線に露光させる。
るけれども、好ましくは、温水溜めに集められた凝縮液
中に沈めた紫外線ランプを使用して、紫外線に露光する
。露光時間を長くする必要がある場合には、凝縮水が温
水溜めに送られる前に、ヒドラジン含有凝縮液をコンデ
ンサ内部で紫外線に露光させて←t −tx、s もよい。p −h 8.5〜10.5(7)水性・を2
〜lo分間、好ましくは波長2500〜3500オング
ストロームの紫外線に露光させる。
添付の説明図に示す蒸気発生器lは、恭気発−生器とコ
ンデンサ5とをつなぐ還流路3とコンデンサ5から蒸気
発生器lに戻る還流路7とを有する。水性媒体は蒸気発
生装置を通って還流され、蒸気発生器からの蒸気はコン
デンサ5で凝縮されて凝縮水となる。
ンデンサ5とをつなぐ還流路3とコンデンサ5から蒸気
発生器lに戻る還流路7とを有する。水性媒体は蒸気発
生装置を通って還流され、蒸気発生器からの蒸気はコン
デンサ5で凝縮されて凝縮水となる。
蒸気発生器lの放出物とコンデンサ5との中間に流路3
に加えて配設されている流路9を介してヒドラジン水溶
液が水性媒体に添加される。流路9からコンデンサ5に
入ったヒドラジンは、コンデンサ5を通る曲がりくねっ
た流路を通る間に完全に水性媒体と混ざり合って、ヒド
ラジンと水性媒体中の溶存酸素との反応を行なわせる充
分な滞留時間が与えられる。
に加えて配設されている流路9を介してヒドラジン水溶
液が水性媒体に添加される。流路9からコンデンサ5に
入ったヒドラジンは、コンデンサ5を通る曲がりくねっ
た流路を通る間に完全に水性媒体と混ざり合って、ヒド
ラジンと水性媒体中の溶存酸素との反応を行なわせる充
分な滞留時間が与えられる。
蒸気発生装置中で使用される水性媒体の酸素含有率は、
通常、最大でも100ppb(重量基準)であり、多く
の場合2pp b程度の極めて低い酸素含有率を持つに
過ぎない。添加するヒドラジンの量はモル基準で酸素と
の反応に必要な量より過剰な量、即ち反応に必要な理論
モル比であるヒドラジン対酸素l:1のモル比よりも過
剰な量のヒドラジンを加える。好ましくは、水性媒体中
の溶存酸素との反応に必要な量よりも最大150 P
P b過剰のヒドラジンを加える。
通常、最大でも100ppb(重量基準)であり、多く
の場合2pp b程度の極めて低い酸素含有率を持つに
過ぎない。添加するヒドラジンの量はモル基準で酸素と
の反応に必要な量より過剰な量、即ち反応に必要な理論
モル比であるヒドラジン対酸素l:1のモル比よりも過
剰な量のヒドラジンを加える。好ましくは、水性媒体中
の溶存酸素との反応に必要な量よりも最大150 P
P b過剰のヒドラジンを加える。
この種の蒸気発生器装置の内部の水性媒体のpH値は一
般に塩基性であり、pH8,5〜10.5であるのが好
ましい。
般に塩基性であり、pH8,5〜10.5であるのが好
ましい。
四
部材を含むコンデンサ針内部では、ヒドラジンが添加さ
れた水性媒体が凝縮させられて、形成された凝縮物は温
水溜め17に集められる。コンデンサ5の内部で形成さ
れ温水溜め17に集められる凝縮水の温度は一般的には
28.7°C〜54.4℃(80°F−130°F)、
通常は約32.2°C(90°F)であり、この温度下
ではヒドラジンと水性媒体中の溶存酸素との反応速度は
低い。
れた水性媒体が凝縮させられて、形成された凝縮物は温
水溜め17に集められる。コンデンサ5の内部で形成さ
れ温水溜め17に集められる凝縮水の温度は一般的には
28.7°C〜54.4℃(80°F−130°F)、
通常は約32.2°C(90°F)であり、この温度下
ではヒドラジンと水性媒体中の溶存酸素との反応速度は
低い。
ヒドラジンを含有する温水溜め巾の凝縮水を溶存酸素を
ヒドラジンにより除去するに充分な時間紫外線に露光す
る。紫外線の波長よって変化させることが゛できるが、
紫外線の波長は100〜4000オングストローム、好
ましくは2500〜3500オングストロームである。
ヒドラジンにより除去するに充分な時間紫外線に露光す
る。紫外線の波長よって変化させることが゛できるが、
紫外線の波長は100〜4000オングストローム、好
ましくは2500〜3500オングストロームである。
図面に示すように、温水溜め17に集められた凝縮水(
図中、凝縮水の水面を1で示しである)中に沈めた一連
の紫外線ランプ19によって紫外線を照射し、ランプは
石英の外管その他の保護部材の内部に収納されていて電
源21に接続されている。□他の実施態様として、温水
溜め17の壁部内にランプを配設し、温水溜めの内壁に
設けた窓を介して紫外線を凝縮水に照射することもでき
る。紫外線への接触時間を更に延長することが必要な場
合にことができる。
図中、凝縮水の水面を1で示しである)中に沈めた一連
の紫外線ランプ19によって紫外線を照射し、ランプは
石英の外管その他の保護部材の内部に収納されていて電
源21に接続されている。□他の実施態様として、温水
溜め17の壁部内にランプを配設し、温水溜めの内壁に
設けた窓を介して紫外線を凝縮水に照射することもでき
る。紫外線への接触時間を更に延長することが必要な場
合にことができる。
紫外線とヒドラジンとの接触に必要な接触時間は、凝縮
水から溶存酸素の除去が行なわれる時間である。接触時
間として更に長い時間が必要な場合もあるが、2分間程
度の接触已 時間で充分である。ph値が8.5〜10.5であり、
溶存酸素に対するヒドラジンの過剰量が150 p p
b以下である水性媒体の場合の接触時間は2〜lO分
間である。
水から溶存酸素の除去が行なわれる時間である。接触時
間として更に長い時間が必要な場合もあるが、2分間程
度の接触已 時間で充分である。ph値が8.5〜10.5であり、
溶存酸素に対するヒドラジンの過剰量が150 p p
b以下である水性媒体の場合の接触時間は2〜lO分
間である。
コンデンサの温水溜め17からの凝縮水は、原流路7を
介して、尽気発生器に送られる。
介して、尽気発生器に送られる。
図示したように、還流路7は供給水システム23のよう
な他の部材を含むものであり、供給水システムは通常6
基またはそれ以上の供給部で溶存酸素が除去されている
ので、床置、の供給水加熱器も酸素による攻撃から保護
されることになる。
な他の部材を含むものであり、供給水システムは通常6
基またはそれ以上の供給部で溶存酸素が除去されている
ので、床置、の供給水加熱器も酸素による攻撃から保護
されることになる。
本発明方法を採用するこにより、装置に好ましくない影
響を与える分解生成物を形成する化学的添加物または触
媒を加えることなく、蒸気発生装置で使用する水性媒体
から溶存酸素を除去するためにヒドラジン溶液を使用す
ることが57能になる。紫外線露光の採用により、ヒド
ラジンはコ・ンデンサの内部で酸素と反応し易くなり、
蒸気発生器の内部に入り込んで熱分解したり高温度下で
酸化物の還元を起こすことがなくなる。ヒドラジンの分
解生成物はアンモニア、水素及び窒素を含み、局部表面
領域でアンモニア及び水素の濃度が高くなると腐食が加
速される可能性があるので、この種の潜在的な問題も本
発明によって取除かれることになる。本発明方法では、
酸素はその一次発生源であるコンデンサの内部で除去さ
れる。又、未発[JJによれば、高価な触媒類の添加が
不要になり、触媒の分解に伴なう諸問題も回避され、ヒ
ドラジンをより効果的に使用できる。
響を与える分解生成物を形成する化学的添加物または触
媒を加えることなく、蒸気発生装置で使用する水性媒体
から溶存酸素を除去するためにヒドラジン溶液を使用す
ることが57能になる。紫外線露光の採用により、ヒド
ラジンはコ・ンデンサの内部で酸素と反応し易くなり、
蒸気発生器の内部に入り込んで熱分解したり高温度下で
酸化物の還元を起こすことがなくなる。ヒドラジンの分
解生成物はアンモニア、水素及び窒素を含み、局部表面
領域でアンモニア及び水素の濃度が高くなると腐食が加
速される可能性があるので、この種の潜在的な問題も本
発明によって取除かれることになる。本発明方法では、
酸素はその一次発生源であるコンデンサの内部で除去さ
れる。又、未発[JJによれば、高価な触媒類の添加が
不要になり、触媒の分解に伴なう諸問題も回避され、ヒ
ドラジンをより効果的に使用できる。
添付の図面は、本発明方法を実施するシステムの一実施
例を示す説明図である。 l・・・・蒸気発生器 5・・0コンデンサ 3.7・・・・還流路 17・・・・温水溜め 18・・・・紫外線ランプ
例を示す説明図である。 l・・・・蒸気発生器 5・・0コンデンサ 3.7・・・・還流路 17・・・・温水溜め 18・・・・紫外線ランプ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、蒸気発生システムで使用する水性媒体から溶存酸素
を除去する方法であって、前記蒸気発生システムは、温
水溜めを持つコンデンサーと、・温水溜めとコンデンサ
ーの間を接続する循環路とを有し、水性媒体が蒸気発生
器を通過した後、凝縮物を形成し温水溜めに送られてコ
ンデンサーに入る前に水性媒体にヒドラジンを添加し水
性媒体中でヒドラジンを溶存酸素と接触させて前記の溶
存酸素と反応させ;コンデンサー中で形成されたヒドラ
ジン含有水性媒体の凝縮物をコンデンサーの温水溜め中
でヒドラジンにより溶存酸素が除去されるに充分な時間
紫外線に露光し;水性媒体凝縮物を蒸気発生器中で使用
するために循環させることを特徴とする方法。 2、コンデンサーの温水溜めに集められた凝縮物中に浸
漬しておいた紫外線ランプを使用してヒドラジン含有水
性媒体凝縮物の前記紫外線露光を行なうことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 シ 3、ヒドラジン含有水性媒体を、コンデ梅一の温水溜め
中に集める前にコンデンサー中で紫外線と接触させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の方法。 4、コンデンサーの温水溜めの周囲に配置したランプに
よってヒドラジン含有水性媒体の凝縮物を紫外線に露光
させることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
方法。 5、ヒドラジン含有水性媒体をコンデンサーの温水溜め
中に集める前にコンデンサー中で紫外線と接触させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第4項に記載の方法。 6、水性媒体中に溶存している酸素と反応するに必要な
量よりも最大151) p p b過剰のヒドラジンを
水性媒体に添加することを特徴とする特許請求の範囲第
1項〜第5項の何れかに記載の方法。 7、水性媒体のPhが8.5〜10.5であることを特
徴とする特許請求の範囲ff11項〜第6項の何れかに
記載の方法。 8、ヒドラジンを含有する水性媒体凝縮物が2〜lO分
間紫外線に露光させることを特徴とする特許請求の範囲
第・1項〜第7項の何れかに記載の方法。 9、紫外線の波長が2500〜3500オングストロー
ムであることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第7
項の何れかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US53318583A | 1983-09-19 | 1983-09-19 | |
US533185 | 1983-09-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6087893A true JPS6087893A (ja) | 1985-05-17 |
JPH0462797B2 JPH0462797B2 (ja) | 1992-10-07 |
Family
ID=24124855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59196511A Granted JPS6087893A (ja) | 1983-09-19 | 1984-09-18 | 蒸気発生システムで使用する水性媒体から溶存酸素を除去する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0140563B1 (ja) |
JP (1) | JPS6087893A (ja) |
KR (1) | KR910009127B1 (ja) |
DE (1) | DE3463366D1 (ja) |
ES (1) | ES536024A0 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03278882A (ja) * | 1989-11-07 | 1991-12-10 | Ebara Infilco Co Ltd | 水中の溶存酸素の除去方法および装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3137053A1 (de) * | 1981-09-17 | 1983-03-24 | Linde Ag, 6200 Wiesbaden | "verfahren und vorrichtung zur hygienisierung von klaerschlamm" |
-
1984
- 1984-09-18 EP EP84306367A patent/EP0140563B1/en not_active Expired
- 1984-09-18 JP JP59196511A patent/JPS6087893A/ja active Granted
- 1984-09-18 ES ES536024A patent/ES536024A0/es active Granted
- 1984-09-18 DE DE8484306367T patent/DE3463366D1/de not_active Expired
- 1984-09-19 KR KR1019840005733A patent/KR910009127B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03278882A (ja) * | 1989-11-07 | 1991-12-10 | Ebara Infilco Co Ltd | 水中の溶存酸素の除去方法および装置 |
JPH0671594B2 (ja) * | 1989-11-07 | 1994-09-14 | 荏原インフイルコ株式会社 | 水中の溶存酸素の除去方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES8601809A1 (es) | 1985-11-01 |
KR850002032A (ko) | 1985-05-06 |
EP0140563A3 (en) | 1985-06-05 |
JPH0462797B2 (ja) | 1992-10-07 |
EP0140563A2 (en) | 1985-05-08 |
DE3463366D1 (en) | 1987-06-04 |
EP0140563B1 (en) | 1987-04-29 |
KR910009127B1 (ko) | 1991-10-31 |
ES536024A0 (es) | 1985-11-01 |
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