JPS6097092A - 水性媒体から溶存酸素を除去する方法 - Google Patents
水性媒体から溶存酸素を除去する方法Info
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- JPS6097092A JPS6097092A JP59203973A JP20397384A JPS6097092A JP S6097092 A JPS6097092 A JP S6097092A JP 59203973 A JP59203973 A JP 59203973A JP 20397384 A JP20397384 A JP 20397384A JP S6097092 A JPS6097092 A JP S6097092A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ヒドラジンを使用して水から溶存酸素を除去
する方法に関し、特に蒸気発生装置の給水から溶存酸素
を除去する方法に関する。
する方法に関し、特に蒸気発生装置の給水から溶存酸素
を除去する方法に関する。
エネルギーを発生させるボイラー装置のような水性媒体
を循環使用する各種の装置では、循環水が望ましくない
酸素を捕捉して、捕捉された酸素が水中に解は込む。溶
解酸素の存在は、発電プラントの二次系の内部で、点数
（ピッティング）、蒸気発生器のチューブのへこみ、応
力腐食クラッキング（ｓｔｒｅｓｓｃｏｒｒｏｓｉｏｎ
ｃｒａｃｋｉｎｇ） 、供給部の損傷等の種々の腐食
の問題を惹き起こす可能性を含む。
を循環使用する各種の装置では、循環水が望ましくない
酸素を捕捉して、捕捉された酸素が水中に解は込む。溶
解酸素の存在は、発電プラントの二次系の内部で、点数
（ピッティング）、蒸気発生器のチューブのへこみ、応
力腐食クラッキング（ｓｔｒｅｓｓｃｏｒｒｏｓｉｏｎ
ｃｒａｃｋｉｎｇ） 、供給部の損傷等の種々の腐食
の問題を惹き起こす可能性を含む。
発電プラントの二次系の内部における溶存酸素を除去す
るために広く採用されている方法は、凝縮水ポンプでヒ
ドラジンを添加する方法である。コンデンサから蒸気発
生器に至る一連の供給部の何れかの部分でも酸素の進入
が起こり得るわけであるが、ヒドラジンの添加が効果を
あげるのは給水加熱器通過以後の温度条件下においてだ
けである。その理由は、酸素とヒドラジンとの反応が高
温度下でより好ましい挙動を示すことによる。
るために広く採用されている方法は、凝縮水ポンプでヒ
ドラジンを添加する方法である。コンデンサから蒸気発
生器に至る一連の供給部の何れかの部分でも酸素の進入
が起こり得るわけであるが、ヒドラジンの添加が効果を
あげるのは給水加熱器通過以後の温度条件下においてだ
けである。その理由は、酸素とヒドラジンとの反応が高
温度下でより好ましい挙動を示すことによる。
発電プラントで現在実用化されている溶存酸素抑制法は
、種々の理由で制約を受けている。１つの理由は、ヒド
ラジンと酸素との反応が最も効率良く行なわれる供給部
の高温度領域において反応に利用できる接触時間が比較
的短いことである。コンデンサの直後で給水加熱器に至
るまでの領域である供給部の低温度端部領域では、この
領域を支配する雰囲気が低温度であるために、酸素の除
去はわずかじか行なわれない。現在採用されているヒド
ラジン添加法に伴うもう一つの問題点は、調合金製の供
給部の部品がプラントに含まれている場合に、銅表面と
ヒドラジンとの間で溶存酸素に関して競合関係が存在す
ることである。銅と酸素との反応の結果として不揮発性
の酸素代用物類（ｓｕｒｒｏｇａｔｅｓ ｏｆ ｏｘｙ
ｇｅｎ）が生成し、これらの生成物類が蒸気発生器に運
ばれ蒸気発生器の腐食プロセスを活性化させる可能性が
ある。供給部内における銅合金類の表面積が大きいため
に、銅合金は接触時間が限られているヒドラジンよりも
酸素と反応し易い状態にあるといえる。
、種々の理由で制約を受けている。１つの理由は、ヒド
ラジンと酸素との反応が最も効率良く行なわれる供給部
の高温度領域において反応に利用できる接触時間が比較
的短いことである。コンデンサの直後で給水加熱器に至
るまでの領域である供給部の低温度端部領域では、この
領域を支配する雰囲気が低温度であるために、酸素の除
去はわずかじか行なわれない。現在採用されているヒド
ラジン添加法に伴うもう一つの問題点は、調合金製の供
給部の部品がプラントに含まれている場合に、銅表面と
ヒドラジンとの間で溶存酸素に関して競合関係が存在す
ることである。銅と酸素との反応の結果として不揮発性
の酸素代用物類（ｓｕｒｒｏｇａｔｅｓ ｏｆ ｏｘｙ
ｇｅｎ）が生成し、これらの生成物類が蒸気発生器に運
ばれ蒸気発生器の腐食プロセスを活性化させる可能性が
ある。供給部内における銅合金類の表面積が大きいため
に、銅合金は接触時間が限られているヒドラジンよりも
酸素と反応し易い状態にあるといえる。
水中に溶解した溶存酸素に起因する諸問題並びに溶存酸
素の物理的及び化学的な各種除去方法は、１９８０年１
０月２０〜２２日にペンシルベニア州、ピッツバーグで
開催されたインターナショナル・ウォータ・コファレン
スの第４１回年金（ｔｈｅ ４１ｓｔ Ａｎｎｕａｌ
Ｍｅｅｔｉｎｇ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｗａｔ
ｅｒ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ）で１７１１ ？ルティノ
ラ（Ｆ、 １４Ｂｔｉｎｏｌａ）によッテ発表さレタ「
給水中の酸素の触媒還元によるエネルギー節減」（“Ｓ
ａｖｉｎｇ Ｅｎｅｒｇｙ ｂｙ Ｃａｔａｌｙｔｉｃ
Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ Ｏｘｙｇｅｎ ｉｎ Ｆｅ
ｅｄｗａｔｅｒ″）と題する親交で検討されており、こ
の親交を参考文献としてここで引用しておく、このマル
ティノラ親交は、水性媒体中に添加された水素と水性媒
体中の溶存酸素との反応を助長するために、パラジウム
を含有するポリエチレン系アニオン交換樹脂の使用を検
討している。この親交に記載された方法では、ｅｐｐ■
の酸素を含む水に水素を添加して、プレキシガラス（ｐ
ｌｅｘｉｇｌａｓｓ：商品名ポリメタクリル酸メチル樹
脂）製のリングを入れた混合タンクに流し、次いで混合
物をパラジウム触媒を入れた反応容器に流す。触媒カラ
ム通過後における水中の残留酸素含有率は、０．０２５
ｐｐｍ（２５ｐｐｂ）であった。水素とパラジウム触媒
とを使用したその他の方法における残留酸素含有率は約
０．０１５〜０．０２５ｐｐ腸（１５〜２５ｐｐｂ）で
あった。
素の物理的及び化学的な各種除去方法は、１９８０年１
０月２０〜２２日にペンシルベニア州、ピッツバーグで
開催されたインターナショナル・ウォータ・コファレン
スの第４１回年金（ｔｈｅ ４１ｓｔ Ａｎｎｕａｌ
Ｍｅｅｔｉｎｇ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｗａｔ
ｅｒ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ）で１７１１ ？ルティノ
ラ（Ｆ、 １４Ｂｔｉｎｏｌａ）によッテ発表さレタ「
給水中の酸素の触媒還元によるエネルギー節減」（“Ｓ
ａｖｉｎｇ Ｅｎｅｒｇｙ ｂｙ Ｃａｔａｌｙｔｉｃ
Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ Ｏｘｙｇｅｎ ｉｎ Ｆｅ
ｅｄｗａｔｅｒ″）と題する親交で検討されており、こ
の親交を参考文献としてここで引用しておく、このマル
ティノラ親交は、水性媒体中に添加された水素と水性媒
体中の溶存酸素との反応を助長するために、パラジウム
を含有するポリエチレン系アニオン交換樹脂の使用を検
討している。この親交に記載された方法では、ｅｐｐ■
の酸素を含む水に水素を添加して、プレキシガラス（ｐ
ｌｅｘｉｇｌａｓｓ：商品名ポリメタクリル酸メチル樹
脂）製のリングを入れた混合タンクに流し、次いで混合
物をパラジウム触媒を入れた反応容器に流す。触媒カラ
ム通過後における水中の残留酸素含有率は、０．０２５
ｐｐｍ（２５ｐｐｂ）であった。水素とパラジウム触媒
とを使用したその他の方法における残留酸素含有率は約
０．０１５〜０．０２５ｐｐ腸（１５〜２５ｐｐｂ）で
あった。
本発明の目的は、ヒドラジンを使用し常温で操作して、
水から溶存酸素を除去する改良された方法を提供するこ
とである。
水から溶存酸素を除去する改良された方法を提供するこ
とである。
本発明の実施例では、水性媒体中の残留酸素含有率が１
０ｐｐ ｂ未満となるような水性媒体から溶存酸素を除
去する方法が提供される。
０ｐｐ ｂ未満となるような水性媒体から溶存酸素を除
去する方法が提供される。
本発明の実施例では、循環水が供給部の加熱器を通過し
て蒸気発生器に入る前に発電プラントの供給部から溶存
酸素を除去して、銅製部材の損傷と銅成分の移送を減少
させる方法が提供される。
て蒸気発生器に入る前に発電プラントの供給部から溶存
酸素を除去して、銅製部材の損傷と銅成分の移送を減少
させる方法が提供される。
従って、本発明は、水性媒体にヒドラジンを添加して水
性媒体から溶存酸素を除去する方法であって、ヒドラジ
ンが溶存酸素と反応するに充分な時間、前記ヒドラジン
を含有する前記水性媒体を安定な担体物質上に分散させ
たパラジウムまたは白金の形の貴金属の有効隈と接触さ
せることを特徴とする方法である。
性媒体から溶存酸素を除去する方法であって、ヒドラジ
ンが溶存酸素と反応するに充分な時間、前記ヒドラジン
を含有する前記水性媒体を安定な担体物質上に分散させ
たパラジウムまたは白金の形の貴金属の有効隈と接触さ
せることを特徴とする方法である。
金属パラジウムまたは金属白金を含有する物理的に安定
な相体にヒドラジン含有水性媒体を通すことにより、酸
素と反応させるためにヒドラジンを添加した水性媒体か
ら溶存酸素が除去される。金属パラジウムまたは金属白
金がヒドラジンと溶存酸素との反応に触媒作用を及ぼし
て、常温での酸素除去が可能になる。パラジウムまたは
白金を含有するポリスチレン系アニオン交換樹脂からパ
ラジウムまたは白金含有触媒床を形成させ、ガラス・ビ
ーズを充填したカラムのような混合手段にヒドラジン含
有水性媒体を通して、触媒床と接触させる前にヒドラジ
ンと溶存酸素とを密接に接触させておくのが好ましい。
な相体にヒドラジン含有水性媒体を通すことにより、酸
素と反応させるためにヒドラジンを添加した水性媒体か
ら溶存酸素が除去される。金属パラジウムまたは金属白
金がヒドラジンと溶存酸素との反応に触媒作用を及ぼし
て、常温での酸素除去が可能になる。パラジウムまたは
白金を含有するポリスチレン系アニオン交換樹脂からパ
ラジウムまたは白金含有触媒床を形成させ、ガラス・ビ
ーズを充填したカラムのような混合手段にヒドラジン含
有水性媒体を通して、触媒床と接触させる前にヒドラジ
ンと溶存酸素とを密接に接触させておくのが好ましい。
また、好ましくは、触媒床に入れる際にヒドラジン含有
水性媒体を約３．５２〜１０．５ｋｇ／ｃ■２（５０〜
１５０ｐｓｉ）に加圧して、接触状態及び床中を流れる
流れを良好にしておく。水中の溶存酸素含有率が重量基
準で約ｔｏｐｐｂ以下に減少するに充分な時間ヒドラジ
ン含有水性媒体を触媒床と接触させた後、水を触媒床か
ら抜き取って使用する。
水性媒体を約３．５２〜１０．５ｋｇ／ｃ■２（５０〜
１５０ｐｓｉ）に加圧して、接触状態及び床中を流れる
流れを良好にしておく。水中の溶存酸素含有率が重量基
準で約ｔｏｐｐｂ以下に減少するに充分な時間ヒドラジ
ン含有水性媒体を触媒床と接触させた後、水を触媒床か
ら抜き取って使用する。
本発明の一実施例においては、コンデンサのポンプの下
流で、給水温度になる以前に水性媒体が加熱されて蒸気
発生器に戻入される前に、ヒドラジンを含有する水性媒
体をパラジウムまたは白金触媒床と接触させる。
流で、給水温度になる以前に水性媒体が加熱されて蒸気
発生器に戻入される前に、ヒドラジンを含有する水性媒
体をパラジウムまたは白金触媒床と接触させる。
本発明によれば、水に添加されたヒドラジンがパラジウ
ムまたは白金触媒の存在下で常温で溶存酸素と反応して
、発電プラントの水供給部から溶存酸素が除去される改
良された方法が提供される。
ムまたは白金触媒の存在下で常温で溶存酸素と反応して
、発電プラントの水供給部から溶存酸素が除去される改
良された方法が提供される。
発電プラントの二次系では、水が連続的に循環させられ
ている。水は給水加熱装置を通過し、次いで蒸気発生器
に流れ、コンデンサに戻って流体が凝縮し、コンデンサ
のポンプを通って給水加熱器を介して系に還流される。
ている。水は給水加熱装置を通過し、次いで蒸気発生器
に流れ、コンデンサに戻って流体が凝縮し、コンデンサ
のポンプを通って給水加熱器を介して系に還流される。
水性媒体にヒドラジンを添加して、系を流れる間に捕捉
された溶存酸素と反応させて溶存酸素を除去する従来法
の装置の場合には、コンデンサのポンプの下流の予熱器
の上流部分でヒドラジンを添加するのが普通行なわれる
方法である。しかしながら、ヒドラジンと溶存酸素との
初期反応は、水性媒体の予熱後に行なわれる。
された溶存酸素と反応させて溶存酸素を除去する従来法
の装置の場合には、コンデンサのポンプの下流の予熱器
の上流部分でヒドラジンを添加するのが普通行なわれる
方法である。しかしながら、ヒドラジンと溶存酸素との
初期反応は、水性媒体の予熱後に行なわれる。
本発明方法の場合には、還流水が給水加熱装置に送られ
る前に、ヒドラジン含有水がパラジウムまたは白金触媒
と接触する。
る前に、ヒドラジン含有水がパラジウムまたは白金触媒
と接触する。
蒸気発生装置の場合、水中の溶存酸素含有率は、重量基
準で最大ｔｏｏｐｐｂ以下であるのが普通であり、通常
の測定結果はこの値以下である。本発明によれば、酸素
含有率をｔｏｐｐｂ以下、更には２ｐｐｂに下げること
ができる。添加するヒドラジンの量は、従来法における
と同様に、モル基準で水性媒体中に存在する溶存酸素と
の反応に必要な量と同量である。ヒドラジンの量を僅か
に過剰にしてもよいが、好ましいヒドラジン対酸素のモ
ル比はｌであＯ る。
準で最大ｔｏｏｐｐｂ以下であるのが普通であり、通常
の測定結果はこの値以下である。本発明によれば、酸素
含有率をｔｏｐｐｂ以下、更には２ｐｐｂに下げること
ができる。添加するヒドラジンの量は、従来法における
と同様に、モル基準で水性媒体中に存在する溶存酸素と
の反応に必要な量と同量である。ヒドラジンの量を僅か
に過剰にしてもよいが、好ましいヒドラジン対酸素のモ
ル比はｌであＯ る。
固体状の担体−にに分散させたパラジウム及び白金から
選択した貴金属を有する触媒床とヒドラジン含有水性媒
体とを接触させる。固体状の担体は、木に不溶で、プロ
セス条件下において物理的に安定であって、細かい粉末
状の金属パラジウムまたは白金を担持するものでなけれ
ばならない。固体状の担体として使用できるものは、ポ
リスチレン系のイオン交換樹脂、特にポリスチレン系ア
ニオン交換樹脂である。パラジウムを含有するポリスチ
レン系アニオン交換樹脂の市販品の例としては、モーベ
イΦケミカルφコーポレーション（Ｍｏｂａｙ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から販売されて
いるレワティット（Ｌｅｗａｔｉｔ） ＱＣ＋０４５及
びレワティット ＱＣ１０４０を挙げることができる。
選択した貴金属を有する触媒床とヒドラジン含有水性媒
体とを接触させる。固体状の担体は、木に不溶で、プロ
セス条件下において物理的に安定であって、細かい粉末
状の金属パラジウムまたは白金を担持するものでなけれ
ばならない。固体状の担体として使用できるものは、ポ
リスチレン系のイオン交換樹脂、特にポリスチレン系ア
ニオン交換樹脂である。パラジウムを含有するポリスチ
レン系アニオン交換樹脂の市販品の例としては、モーベ
イΦケミカルφコーポレーション（Ｍｏｂａｙ Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から販売されて
いるレワティット（Ｌｅｗａｔｉｔ） ＱＣ＋０４５及
びレワティット ＱＣ１０４０を挙げることができる。
パラジウムまたは白金触媒をカラム中に保持させて、加
圧下でヒドラジン含有水をカラムに通じるのが好ましい
。常温、即ち２０〜４０１ ℃で接触させるわけであるが、この温度範囲は従来法の
溶存酸素除去法で用いられる一般的なヒドラジンと酸素
との反応温度よりも遥かに低い温度である。
圧下でヒドラジン含有水をカラムに通じるのが好ましい
。常温、即ち２０〜４０１ ℃で接触させるわけであるが、この温度範囲は従来法の
溶存酸素除去法で用いられる一般的なヒドラジンと酸素
との反応温度よりも遥かに低い温度である。
ヒドラジン含有水とパラジウムまたは白金触媒との接触
時間は、ヒドラジンと溶存酸素の反応が行なわれるに充
分な時間であればよく、水性媒体中の溶存酸素の初期含
有率、ヒドラジンの添加量、担体−１−に担持されたパ
ラジウムまは白金の量及びその他の因子によって変動す
る。接触時間は約０．５〜２分間で充分である。しかし
ながら、水中の残留酸素含有率が重量基準で１０ｐｐｂ
以下、好ましくは重量基準で２９ｐｂ以下になるに充分
な時間、接触させる。
時間は、ヒドラジンと溶存酸素の反応が行なわれるに充
分な時間であればよく、水性媒体中の溶存酸素の初期含
有率、ヒドラジンの添加量、担体−１−に担持されたパ
ラジウムまは白金の量及びその他の因子によって変動す
る。接触時間は約０．５〜２分間で充分である。しかし
ながら、水中の残留酸素含有率が重量基準で１０ｐｐｂ
以下、好ましくは重量基準で２９ｐｂ以下になるに充分
な時間、接触させる。
ゲージ圧３．５２〜１０．５ｋｇ／ｃ■２（５０〜１５
０ ｐｓｌ）、好ましくはゲージ圧約７．０３ｋｇ／ｃ
ｍ２− （＋００ｐｓｉｇ）の正圧を印加１７て、ヒド
ラジン含有水とパラジウムまたは白金触媒とを接触させ
る。
０ ｐｓｌ）、好ましくはゲージ圧約７．０３ｋｇ／ｃ
ｍ２− （＋００ｐｓｉｇ）の正圧を印加１７て、ヒド
ラジン含有水とパラジウムまたは白金触媒とを接触させ
る。
触媒カラムにゲージ圧約７．０３ｋｇ／ｃｍ２−（１０
０ｐｓｉ ２ ｇ）の入１」圧力を加えるために、カラムへの流入路に
ポンプを導入する。
０ｐｓｉ ２ ｇ）の入１」圧力を加えるために、カラムへの流入路に
ポンプを導入する。
本発明のもう一つの実施例においては、触媒カラムに送
る前にヒドラジンと水性媒体とを密に混合させる。ガラ
スの小球（ビーズ）を入れ管内に曲がりくねった流路が
できてヒドラジンと水性媒体の混合が行なわれうように
構成されたチューブまたはカラムに混合物を通すことに
より、密な混合が行なわれる。
る前にヒドラジンと水性媒体とを密に混合させる。ガラ
スの小球（ビーズ）を入れ管内に曲がりくねった流路が
できてヒドラジンと水性媒体の混合が行なわれうように
構成されたチューブまたはカラムに混合物を通すことに
より、密な混合が行なわれる。
本発明方法は、蒸気発生プラントの二次系の水性媒体か
ら酸素を除去するために用いれば特に有用である。この
種のプラントの場合、水性媒体は給水加熱器を通過した
後に、蒸気発生器に送られる。蒸気発生器からの水性媒
体は凝縮させられ、凝縮物は凝縮物ポンプにより給水加
熱器に圧送されて装置に還流される。従来法では、給水
加熱器の手前でヒドラジンを水性媒体に添加することは
できるけれども、給水加熱器中で水性媒体が加熱される
まであるいは加熱後までは、ヒドラジン３ と水性媒体中の溶存酸素との反応は実際には起こらない
。本発明方法においては、金属パラジウムまたは白金を
含有する触媒床がシステム中の凝縮物ポンプと給水加熱
器の中間に配置され、室温で給水加熱器と接触する前に
溶存酸素が還流水性媒体から除去される。
ら酸素を除去するために用いれば特に有用である。この
種のプラントの場合、水性媒体は給水加熱器を通過した
後に、蒸気発生器に送られる。蒸気発生器からの水性媒
体は凝縮させられ、凝縮物は凝縮物ポンプにより給水加
熱器に圧送されて装置に還流される。従来法では、給水
加熱器の手前でヒドラジンを水性媒体に添加することは
できるけれども、給水加熱器中で水性媒体が加熱される
まであるいは加熱後までは、ヒドラジン３ と水性媒体中の溶存酸素との反応は実際には起こらない
。本発明方法においては、金属パラジウムまたは白金を
含有する触媒床がシステム中の凝縮物ポンプと給水加熱
器の中間に配置され、室温で給水加熱器と接触する前に
溶存酸素が還流水性媒体から除去される。
次に、実施例を挙げて、本発明を例示するが、実施例中
、特に断わらない限り、「部」は「重量部］を意味する
。以下の実施例においては、測定精度が±ｔ ＰＰｂで
あるオルビスフェア（０ｒｂｉｓｐｈｅｒｅ）２７１３
ディジタル式溶存酸素分析器を使用して、溶存酸素含有
率を測定した。
、特に断わらない限り、「部」は「重量部］を意味する
。以下の実施例においては、測定精度が±ｔ ＰＰｂで
あるオルビスフェア（０ｒｂｉｓｐｈｅｒｅ）２７１３
ディジタル式溶存酸素分析器を使用して、溶存酸素含有
率を測定した。
Ｌｉ１
パラジウム含有ポリスチレン系アニオン交換樹脂である
レワティットＱＣ１０４５を５００１を充填した触媒床
収納カラムに入口酸素含有率１．５ ｐｐｍの水流を通
じた。水流の流量は１０００ ｍｌ／分であった。この
水波に、ヒドラジ ４ ン含有率２７．１５ ｐｐｍになるよう水中にヒドラジ
ンを溶解した液を１７１／分の注入率で補充タンクから
添加した。この結果、触媒カラムに入る処理流中のヒド
ラジン量は２．３ ｐｐｍになった。水流に加えた初期
圧力はゲージ圧１．０５ ｋｇ／ｃｍｉ（１５ｐｓｉｇ
）であり、速度可変ポンプを用いてカラム導入部で圧力
をゲージ圧７．０３ ｋｇ／ｃｍ’（１００ｐｓｉｇ）
に増大させ、触媒カラ１８出１１の水の圧力をゲージ圧
２．８１ ｋｇ／ｃｍ２−（４０ｐｓｉｇ）として。カ
ラムに入るヒドラジン含有水の温度は２３．８℃、出口
の温度は２４．３℃であった。初期状態においては、カ
ラムを出た水の酸素含有率は約１．７ ｐｐｍであった
。２０分間、カラムに通水を続けた後の入口酸素含有率
は１ ｐｐｍとなり、カラムを通過した水の酸素含有率
は０．００７５ ｐＰ腸（７，５ｐｐｂ）に減少した。
レワティットＱＣ１０４５を５００１を充填した触媒床
収納カラムに入口酸素含有率１．５ ｐｐｍの水流を通
じた。水流の流量は１０００ ｍｌ／分であった。この
水波に、ヒドラジ ４ ン含有率２７．１５ ｐｐｍになるよう水中にヒドラジ
ンを溶解した液を１７１／分の注入率で補充タンクから
添加した。この結果、触媒カラムに入る処理流中のヒド
ラジン量は２．３ ｐｐｍになった。水流に加えた初期
圧力はゲージ圧１．０５ ｋｇ／ｃｍｉ（１５ｐｓｉｇ
）であり、速度可変ポンプを用いてカラム導入部で圧力
をゲージ圧７．０３ ｋｇ／ｃｍ’（１００ｐｓｉｇ）
に増大させ、触媒カラ１８出１１の水の圧力をゲージ圧
２．８１ ｋｇ／ｃｍ２−（４０ｐｓｉｇ）として。カ
ラムに入るヒドラジン含有水の温度は２３．８℃、出口
の温度は２４．３℃であった。初期状態においては、カ
ラムを出た水の酸素含有率は約１．７ ｐｐｍであった
。２０分間、カラムに通水を続けた後の入口酸素含有率
は１ ｐｐｍとなり、カラムを通過した水の酸素含有率
は０．００７５ ｐＰ腸（７，５ｐｐｂ）に減少した。
丈ＪＪＬｕ
流量を５００ ＋＊ｌ／分とし、流れに加えた初期圧力
をゲージ圧１．０５ ｋｇ／ｃ鳳”（１５ｐｓｉｇ）、
カラ５ ム導入部での圧力をゲージ圧４．５７ ｋｇ／ｃ＋ｗ”
（８５ｐｓｉｇ）とした以外は、同様の操作を繰り返し
た。カラムに入るヒドラジン含有水の温度は２４．２℃
、出口温度は２４．７℃であった。操作初期においてカ
ラムを出た水の酸素含有率は０．８８ｐｐｍであった。
をゲージ圧１．０５ ｋｇ／ｃ鳳”（１５ｐｓｉｇ）、
カラ５ ム導入部での圧力をゲージ圧４．５７ ｋｇ／ｃ＋ｗ”
（８５ｐｓｉｇ）とした以外は、同様の操作を繰り返し
た。カラムに入るヒドラジン含有水の温度は２４．２℃
、出口温度は２４．７℃であった。操作初期においてカ
ラムを出た水の酸素含有率は０．８８ｐｐｍであった。
１０分間通水を続けた後の流入水の酸素含有率は１ ｐ
ｐｍとなり、カラムを出た水の酸素含有率は０．００３
４ ｐｐｍ（３，４ｐｐｂ）に減少していた。
ｐｍとなり、カラムを出た水の酸素含有率は０．００３
４ ｐｐｍ（３，４ｐｐｂ）に減少していた。
ｋム貞−１
この更に別の実施例は、システムから速度可変ポンプを
省いた以外は、実施例■と同様にして行なった例である
。システム内部の圧力バ、初期圧；ｊＪ ケ−シ圧１．
０５ ｋ’ｇ／ｃｍｚ（１５ｐｓｉｇ）、カラム導入部
でゲージ圧３．５２ ｋｇ／ｃｍ（５０ｐｓｉｇ）、カ
ラム出口でゲージ圧０．２８ｋｇ／ｃｍ′Ｌ（４ｐｓｉ
ｇ）であった。水流のヒドラジン含有率は０．２３０
ＰＰｍに調整され、カラムに入るヒドラジン含有水の温
度は２４．１’Ｃ＋、カラ１ 日 ム出口の水流の温度は２４．５℃であった。入口での水
の酸素含有率は０．１３１ ｐｐｍであり、初期状態で
のカラム出口における水の酸素含有率ｏ、９１ ｐｐ
ｍであった。６分間通水した後における流入水の酸素含
有率は０．０９３ ｐｐｍとなり、カラム出口の水の酸
素含有率は０．００３５ｐｐ■（３，５ｐｐｂ）に減少
した。
省いた以外は、実施例■と同様にして行なった例である
。システム内部の圧力バ、初期圧；ｊＪ ケ−シ圧１．
０５ ｋ’ｇ／ｃｍｚ（１５ｐｓｉｇ）、カラム導入部
でゲージ圧３．５２ ｋｇ／ｃｍ（５０ｐｓｉｇ）、カ
ラム出口でゲージ圧０．２８ｋｇ／ｃｍ′Ｌ（４ｐｓｉ
ｇ）であった。水流のヒドラジン含有率は０．２３０
ＰＰｍに調整され、カラムに入るヒドラジン含有水の温
度は２４．１’Ｃ＋、カラ１ 日 ム出口の水流の温度は２４．５℃であった。入口での水
の酸素含有率は０．１３１ ｐｐｍであり、初期状態で
のカラム出口における水の酸素含有率ｏ、９１ ｐｐ
ｍであった。６分間通水した後における流入水の酸素含
有率は０．０９３ ｐｐｍとなり、カラム出口の水の酸
素含有率は０．００３５ｐｐ■（３，５ｐｐｂ）に減少
した。
１竃Ｕ
樹脂１ リットルを使用して、これを直径５．０８ｃｍ
（２インチ）のカラムに充填し水の流量を１０００ ｍ
ｌ／分にして、パラジウム触媒を使用して実施例Ｉと同
様にして、一連の実験を行なった。直径３ ｍｍのガラ
ス・ビーズを充填した内径２．５４ ｃ鵬（１インチ）
、長さ２２．９ ｃ■（８インチ）のステンレス鋼製の
バイブに、まず最初に、ヒドラジンを添加した水を通じ
て、触媒と接触させる前にヒドラジンと水とを密に混合
させた。ヒドラジン添加箇所の下流で変速歯車ポンプに
より処理水流を加圧し混合７ させた。圧力は、初期水流にゲージ圧１．２７ｋｇ／ｃ
ｔａλ（１８ｐｓｉｇ）、カラム導入部でゲージ部７．
０３ ｋｇ／ｃ厘’（１００ｐｓｉｇ） 、触媒カラム
出口でゲージ圧１．４１ ｋｇｌｃｔｓ （２０ｐｓｉ
ｇ）の圧力をかけた。カラムに入る水の温度は２４〜２
５．５℃であり、カラム出口の水の温度は２４．２〜２
６℃であった。操作開始後の各時点における触媒カラム
に供給された水流のヒドラジン濃度、入口における水の
酸素含有率及び出口における酸素含有率を次頁に示す。
（２インチ）のカラムに充填し水の流量を１０００ ｍ
ｌ／分にして、パラジウム触媒を使用して実施例Ｉと同
様にして、一連の実験を行なった。直径３ ｍｍのガラ
ス・ビーズを充填した内径２．５４ ｃ鵬（１インチ）
、長さ２２．９ ｃ■（８インチ）のステンレス鋼製の
バイブに、まず最初に、ヒドラジンを添加した水を通じ
て、触媒と接触させる前にヒドラジンと水とを密に混合
させた。ヒドラジン添加箇所の下流で変速歯車ポンプに
より処理水流を加圧し混合７ させた。圧力は、初期水流にゲージ圧１．２７ｋｇ／ｃ
ｔａλ（１８ｐｓｉｇ）、カラム導入部でゲージ部７．
０３ ｋｇ／ｃ厘’（１００ｐｓｉｇ） 、触媒カラム
出口でゲージ圧１．４１ ｋｇｌｃｔｓ （２０ｐｓｉ
ｇ）の圧力をかけた。カラムに入る水の温度は２４〜２
５．５℃であり、カラム出口の水の温度は２４．２〜２
６℃であった。操作開始後の各時点における触媒カラム
に供給された水流のヒドラジン濃度、入口における水の
酸素含有率及び出口における酸素含有率を次頁に示す。
以 下 余 白
８
（訂） （ａ）初期水流の圧力をゲージ圧１．１２ ｋ
ｇ／ｃｍｉ（＋６ ｐｓｉｇ）にした。実験開始に先立
って、触媒床をヒドラジンで部分飽和させた。
ｇ／ｃｍｉ（＋６ ｐｓｉｇ）にした。実験開始に先立
って、触媒床をヒドラジンで部分飽和させた。
以下余白
１’１
本発明は、ヒドラジンと触媒床とを使用して水性媒体か
ら溶存酸素を除去する改良された方法を提供するもので
ある。発電プラント加熱器の中間゛に配設する。この結
果、給水加熱器に入る前に低温度の供給部端部において
酸素が取除かれるため、供給部の損傷が最小限に抑えら
れるという顕著な効果が得られる。酸素は給水加熱器に
入る前に取除かれるので、ヒドラジンと酸素の反応と、
給水加熱器の構成要素に含まれる銅と酸素の反応とは競
合することはない。従って、ヒドラジンの消費量は低減
し、高温度下におけるヒドラジンの分解も回避できる。
ら溶存酸素を除去する改良された方法を提供するもので
ある。発電プラント加熱器の中間゛に配設する。この結
果、給水加熱器に入る前に低温度の供給部端部において
酸素が取除かれるため、供給部の損傷が最小限に抑えら
れるという顕著な効果が得られる。酸素は給水加熱器に
入る前に取除かれるので、ヒドラジンと酸素の反応と、
給水加熱器の構成要素に含まれる銅と酸素の反応とは競
合することはない。従って、ヒドラジンの消費量は低減
し、高温度下におけるヒドラジンの分解も回避できる。
更に、銅の酸化物の生成も防止でき、この種の酸化物が
蒸気発生器に搬入される危険も予防される。
蒸気発生器に搬入される危険も予防される。
０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、水性媒体にヒドラジンを添加して水性媒体から溶存
酸素を除去する方法であって、ヒドラジンが溶存酸素と
反応するのに充分な時間、前記ヒドラジンを含有する前
記水性媒体を安定な担体物質上に分散させたパラジウム
又は白金の形の貴金属の有効量と接触させることを特徴
とする方法。 ２、ポリスチレン系アニオン交換樹脂上に貴金属を分散
させることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
方法。 ３．２０℃〜４０℃の温度範囲内で触媒と接触させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項に記
載の方法。 ４、貴金属との接触に先立って、ヒドラジンを含有する
水性媒体を密に混合することを特徴とする特許請求の範
囲第１項、第２項または第３項に記載の方法。 ５、ガラスの小球を充填したカラムに流すことにより、
ヒドラジンを含有する水性媒体を密に混合させることを
特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の方法。 ６、貴金属と接触させるために水性媒体にゲージ圧３．
５２〜１０．５ｋｇ／ｃｍ”の圧力を印加することを特
徴とする特許請求の範囲第１項〜第５項の何れかに記載
の方法。 ７、水性媒体の溶存酸素含有率が１０ｐｐ ｂ未満に減
少するのに充分な時間触媒と接触させることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項〜第６項の何れかに記載の方法
。 ８、溶存酸素含有率を約２ＰＰｂに減少させることを特
徴とする特許請求の範囲第７項に記載の方法。 ９、安定な相体物質がポリスチレン系アニオン交換樹脂
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第８項
の何れかに記載の方法。 １０、給水加熱装置と、蒸気発生器と、コンデンサと、
水性媒体を還流させるコンデンサーポンプとを有する蒸
気発生装置内部で水性媒体を還流させ、前記給水加熱器
の手前で前記水性媒体にヒドラジンを添加する特許請求
の範囲第１項〜第９項の何れかに記載の方法であって、
コンデンサ・ポンプを通過した後にヒドラジン含有水性
媒体を前記貴金属と接触させることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US53792483A | 1983-09-30 | 1983-09-30 | |
| US537924 | 1983-09-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097092A true JPS6097092A (ja) | 1985-05-30 |
| JPH0559795B2 JPH0559795B2 (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=24144689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59203973A Granted JPS6097092A (ja) | 1983-09-30 | 1984-09-27 | 水性媒体から溶存酸素を除去する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0140587B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6097092A (ja) |
| KR (1) | KR910009159B1 (ja) |
| DE (1) | DE3472551D1 (ja) |
| ES (1) | ES8603356A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62279844A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-12-04 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 巨大細孔性の弱塩基性陰イオン交換体の使用 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NO881045L (no) * | 1987-03-18 | 1988-09-19 | Mobil Oil Corp | Fremgangsmaate for fjerning av opploest gass fra en vaeske. |
| US5600692A (en) * | 1993-10-29 | 1997-02-04 | General Electric Company | Method for improving tenacity and loading of palladium on palladium-doped metal surfaces |
| US5500185A (en) * | 1994-07-29 | 1996-03-19 | Southern California Edison | Deoxygenation process |
| KR100975634B1 (ko) * | 2007-12-17 | 2010-08-17 | 한국화학연구원 | 팔라듐 첨착 스티렌계 음이온교환수지와 이의 제조방법 및이를 이용한 용존산소 제거방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5879590A (ja) * | 1981-11-05 | 1983-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | 溶存酸素の除去方法 |
| JPS58112433U (ja) * | 1982-10-27 | 1983-08-01 | アサノエレコ株式会社 | 流体混合装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE970310C (de) * | 1944-07-21 | 1958-09-04 | Bayer Ag | Verhinderung von Korrisionen in Dampfkesseln |
| GB786785A (en) * | 1955-02-09 | 1957-11-27 | Genatosan Ltd | Improvements in removing dissolved oxygen from water |
| BE565365A (ja) * | 1957-04-03 | |||
| DE1642494A1 (de) * | 1967-10-12 | 1972-02-17 | Maerkische Steinkohlengewerksc | Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von in Wasser geloestem Sauerstoff,insbesondere im Zuge der Speisewasseraufbereitung |
-
1984
- 1984-09-25 ES ES536226A patent/ES8603356A1/es not_active Expired
- 1984-09-27 JP JP59203973A patent/JPS6097092A/ja active Granted
- 1984-09-28 EP EP84306625A patent/EP0140587B1/en not_active Expired
- 1984-09-28 DE DE8484306625T patent/DE3472551D1/de not_active Expired
- 1984-09-29 KR KR1019840006057A patent/KR910009159B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5879590A (ja) * | 1981-11-05 | 1983-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | 溶存酸素の除去方法 |
| JPS58112433U (ja) * | 1982-10-27 | 1983-08-01 | アサノエレコ株式会社 | 流体混合装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62279844A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-12-04 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 巨大細孔性の弱塩基性陰イオン交換体の使用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES536226A0 (es) | 1985-12-16 |
| ES8603356A1 (es) | 1985-12-16 |
| DE3472551D1 (en) | 1988-08-11 |
| EP0140587A1 (en) | 1985-05-08 |
| EP0140587B1 (en) | 1988-07-06 |
| KR910009159B1 (ko) | 1991-10-31 |
| KR850002033A (ko) | 1985-05-06 |
| JPH0559795B2 (ja) | 1993-08-31 |
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