JPS6087262A - コハク酸イミド誘導体の製造法 - Google Patents

コハク酸イミド誘導体の製造法

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JPS6087262A
JPS6087262A JP11756984A JP11756984A JPS6087262A JP S6087262 A JPS6087262 A JP S6087262A JP 11756984 A JP11756984 A JP 11756984A JP 11756984 A JP11756984 A JP 11756984A JP S6087262 A JPS6087262 A JP S6087262A
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JP
Japan
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group
hydrochloride
piperazinyl
general formula
melting point
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Pending
Application number
JP11756984A
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English (en)
Inventor
Kikuo Ishizumi
石墨 紀久夫
Fujio Antoku
安徳 富士雄
Yukio Asami
幸男 浅見
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はコハク酸イミド誘導体の製造法に関する。更に
詳しくは、一般式〔■〕 (5) で表わされるピペラジン誘導体を縮合せしめることによ
り一般式〔■〕 で表わされるコハク酸イミド籾導体を製造する方法に関
する。
〔式中、 ■ RとRは互いに結合して一般式 (6) C式中、Aはメチレンまたはエチレン基を、R6および
R6は水素原子または両者で単結合を表わす。) で示される二価の基を表わし、R8およびR4は水素原
子を表わすか、または ■ R2とR8は互いに結合して一般式(式中 AIは
メチレンもしくはエチレン基、酸素原子、または互いに
結合せざる2個の水素原子を、R7およびR8は互いに
同一または相異なって水素原子または低級アルキル基を
表わし、R5およびR6は先と同じ意味を有する。) で示される二価の基を表わし、R1およびR4は互いに
同一または相異なって水素原子もしくは低級アルキル基
を表わすかまたは両者で単結合を表わす。
XおよびX′は互いに相異なり、一方が水素原子を、他
方が一般式 %式%) (式中、Yは脱離基を表わし、nは2.8゜4または5
なる整数を表わす。) で示される基を表わす。
R9は無置換またはハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基もしくはトリフルオロメチル基で置換さ
れたるフェニル基、無置換またはハロゲン原子で置換さ
れたる2−ピリジル基、または無置換またはハロゲン原
子で置換されたる2−ピリミジル基を表ワすか、または
ベンジル基、ジフェニルメチル基、アダマントイル基、
フロイル基または低級ヒドロキシアルキル基を表わす。
〕 。
上記一般式〔I〕において、低級アルキル基としては、
例えばメチル、エチル、n−プロピル、1so−プロピ
ル、n−ブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基を挙げ
ることができる。低級アルコキレ基としては、例えばメ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ基等
の炭素数1〜4のアルコキシ基を、低級ヒドロキシアル
キル基としては、例えばヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、ヒドロキシブチル基等の炭素数2〜4のヒド
ロキシアルキル基を挙げることができる。ハロゲン原子
としては、例えば弗素、塩素、臭素原子などを挙げるこ
とができる。
上記一般式自〕で表わされるコハク酸イミド誘導体は、
抗コンフリクト作用(特開昭58−126865.58
−218755.59−76059号公報)等の作用を
有することが知られている有用な化合物である。
それらの製法としては上記公開公報に記載の方法、すな
わち、コハク酸無水物誘導体と第一級アミン誘導体とを
反応せしめる方法が知られている。
(9) 本発明方法は、従来法とは異なり、アミン性またはイミ
ド性のN−アルキル化反応を特徴とする方法であり、水
沫により、前記式〔I〕で表わされるコハク酸イミド誘
導体を収率よで゛ く、効率的に製造すきることを見出し、本発明に至った
以下に本発明方法を反応経路に従って、詳細に説明する
CVL 1 〔Vn 1 〔反応式中、R’ 、R” 、R” 、R’ 、 R9
、Y。
nは先と同じ意味を有する〕 一般式[’IV] で表わされるイミド誘導体と一般式
〔v〕で表わされるピペラジン誘導体、または一般式(
:’vt) で表わされるイミド誘導体と一般式〔v■
〕 で表わされるピペラジン誘導体を適当な有機溶媒中
、好ましくは酸結合剤の存在下で反応させることにより
前記一般式〔I〕で表わされるコハク酸イミド誘導体を
製造することができる。本反応は室温ないしは加熱下で
反応させることが望ましい。
好ましい溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル等のm性ss、n−ブチルアルコール等
のアルコール類、アセトン等のケトン類等が挙げられ、
酸結合剤としては、例えば炭酸カリウム、重炭酸ナトリ
ウム、水素化ナトリウム等のアルカリまたはアルカリ土
類金属の炭酸塩、重炭酸塩または水素化物、トリエチル
アミン、ピリジン等の第三級アミン等を挙げることがで
きる。
さらに、本縮合反応においては、酸結合剤に加えて、ヨ
ウ化カリウム等の塩を加えてもよい。
Yで示される脱離基は、イミド誘導体またはアミン誘導
体との縮合反応に用いられる一般的脱離基であり、好ま
しくは塩素原子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子
、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニル
オキシ基等のアルキルまたはアリールスルホニルオキシ
基等である。
原料化合物〔lV’l 、 〔V’:] 、 (Vl’
)および〔vn’)は、公知化合物であるか、または下
記反応式は従って、公知化合物より誘導することができ
る。
rVm) [v) 〔vr〕 〔v■〕 〔反応式中、R1、R1、R8、R4、R9゜Y及びn
は先と同じ意味を有する〕 (1B) 上記一般式CI’)で表わされる本発明目的化合物の具
体例としては、例えば以下のようなコハク酸イミド誘導
体を挙げることができる。
(1) N−(4−[4−(2−ピリミジニル)−トゼ
ペラジニル)ブチル〕ビシクロ〔2゜2.1〕へブタン
−2,8−ジ−エンド−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)202−208℃ ■ N−(’4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピ
ペラジニル)ブチル)ビシクロr2.2.21オクタン
−2,8−ジカルボキシイミド 融点(塩酸塩)198−200℃ ■ N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−ピペラジ
ニル)ブチル〕−7−オキサビシクロr2.2.11へ
ブタン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)210−218°C ■ N−(8−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)プロピル〕ビシクロ(14) 11−2.2.11へブタ−5−エン−2,8−ジ−エ
キソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)209−212°C ■ N−CB−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)プロピル〕ビシクロC2,2,1〕へブタン
−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)216−217°C ■ N−CB−(4−(2−ピリジル)−1−ピペラジ
ニル)プロピル〕ビシクロ〔2゜2.1〕へブタ−5−
エン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)248−250°C 0N−CB−(4−(2−ピリジル)−1−ピペラジニ
ル)プロピル〕ビシクロ〔2゜2.1〕へブタン−2,
8−ジ−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)254−256°C ■ N−CB−[4−フェニル−1−ピペラジニル)プ
ロピル]ビシクロC2,2,11ヘプタン−2,8−ジ
−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩”)245−248°C ■ N−CB−(4−(2−クロロフェニル)−1−ピ
ペラジニル)プロピル〕−ビシクロr2.2.11へブ
タ−5−エン−2゜8−ジ−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)204−206℃ @) N−CB−(4−(2−クロロフェニル)−1−
ピペラジニル)プロピル〕ビシクロr2.2.1〕へブ
タン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)207−209°C ■ N−CB−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)プロピル〕ビシクロ〔2,2,11へブタ−
5−エン−2,8−ジ−エンド−カルボキシイミド 融点(塩酸塩)244−244.5℃ C) N−CB−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピ
ペラジニル)プロピル〕ビシクロr2.2.1]へブタ
ン−2,8−シ覗ンドーカルボキシイミド 融点(塩酸塩)228−280°C @N−C4−(4−フェニル−1−ピペラジニル)ブチ
ル〕ビシクロC2,2,1)ヘプタン−2,8−ジ−エ
ンド−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)219−221℃ @N−C4−(4−(2−ピリジル)−ピペラジニル)
ブチル〕ビシクロC2,2゜1〕へブタン−2,8−ジ
−エキソ−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)150−152°C @N−C4−(4−フェニル−1−ピペラジニル)ブチ
ル〕ビシクロ〔2,2,11へブタン−2,8−ジ−エ
キソ−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)229−281’0 ■ N−C4−(4−(2−ピリジル)−1−ピペラジ
ニル)ブチル〕ビシクロ〔2゜(17) 2.2〕オクタン−2,8−ジカルボキシイミド mp、(塩酸塩)202−205°C e N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−1:
’ペラジニル)ブチル〕−ビシクロ11−2.2.11
へブタン−2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチ
レンカルボキシイミド ml)、(塩酸塩”) 280−285°d[相] N
−r 8−(4−(2−ピリミジニル−1−ピペラジニ
ル)プロピル〕−ビシクロC2,2、1)へブタン−2
−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレンカルボキ
シイミド塩酸塩 mp、199−202℃ ■ N−CB−(4−(2−ピリジル)−1−ピペラジ
ニル)プロピル〕−ビシクロ〔2,2,11へブタン−
2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレンカルボ
キシイミド塩酸塩 (18) m、p、2 8 5−2 8 9℃ [相] N−〔8−(4−フェニルピペラジニル)プロ
ピル〕−ビシクロC2,2,11へブタン−2−エキソ
−カルボキシ−2−エンド−メチレンカルボキシイミド
塩酸塩 m、p、229−284°C ■ N−CB−(4−(2−クロロフェニル)−1−ピ
ペラジニル)プロピル〕−ビシクロ〔2,2,1’)へ
ブタン−2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレ
ンカルボキシイミド塩酸塩 m、1)、220−221°C [相] N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−
ピペラジニル)ブチルツービシクロC2,2,2”Jオ
クタ−5−エン−2−エキソ−カルボキシ−2−エンド
−メチレンカルボキシイミド塩酸塩 m、p、202−206°C @ N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)ブチル〕−ビシクロC2,2,2〕オクタン
−2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレンカル
ボキシイミド塩酸塩 m、p、245−247℃ @r N−C4−(4−(2−クロロフェニル)−1−
ピペラジニル)ブチルツービシクロ(2,2,21オク
タン−2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレン
カルボキシイミド塩酸塩 m、p、20 B−204°C @ N−CB−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)プロピル〕−ビシクロC2,2,21オクタ
ン−2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレンカ
ルボキシイミド塩酸塩 m、p、201−208℃ @ N−CB−(4−(2−ピリジル)−1−ピペラジ
ニル)プロピル〕−ビシクロC2,2,21オクタン−
2−エキソ−カルボキシ−2−エンド−メチレンカルボ
キシイミド塩酸塩 ル))プロピル〕−イシクロC2,2,2〕オクタン−
2−エキソ−カルボキシ−2一エンドーメチレンカルボ
キシイミド塩酸塩m、p、28 B−285”C @ N−〔4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)ブチルコシクロブタン−1,2−ジカルボキ
シミド m、p、 (塩酸塩):212−215℃(分解) @ N−(4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)ブチル〕−4−シクロヘキセン−1,2−ジ
カルボキシミド m、p、 (塩酸塩)二177−179°C@ N−C
3−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジニル)
ペンチル〕シクロヘキサン−1,2−ジカルボキシミド 融点(塩酸塩)180−182°C (21) [相] N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−
ピペラジニル)ブチル〕シクロヘキサンー1.2−ジカ
ルボキシピド m、p、 (塩酸塩):17者−181°C@ N−〔
5Lt4−(2−ピリミジニル)m、p、 (塩酸塩)
tso−182℃@N−(4−(4−フェニル−1−ピ
ペラm、p、 (塩酸塩)229−280°CoN’−
C4−(4−(2−メトキシフェニル)−1−ピペラジ
ニル)ブチルコシクロッ ヘキサン−1,2−ジカルボキシド m 、’p 、 (w!II塩)197−200°C[
相] N−C4−(4−(2−クロロフェニル)−1−
ピペラジニル)ブチル〕シクロヘキサンー1.2−ジカ
ルボキ% m、p、(塩酸塩)178−181°C(22) @ N−〔4−(4−(4−メチルフェニル)m、p、
 (塩酸塩)284−285°C[相] N−C4−(
4−(2−ピリミジニル)=1−ピペラジニル)ブチル
〕−1−シクロヘキセン−1,2、−ジカルボキシミド
m、p、 (塩酸塩)194二196°C@ N−(−
4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジニル)
ブチル)−4−メチル−4−シクロヘキセン−1,2−
ジカル、ヅ ボキンド m、p、 (塩酸塩)164−165.5℃@ N−C
4−(4−、(2−ピリジル)−1−ヒペラジニル)ブ
チル〕−4−メチルー4−シクロヘキセン−1,2−ジ
カルボキシミド m、p、 (塩酸塩):122°C(分解)@ N−C
4−(4−(2−ピリミジニJし)−1−ピペラジニル
)ブチル〕−4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボキシミド m、p、 (塩酸塩):156’−158°C@ N−
C4−(4−(2−ピリジル)−1−ピペラジニル)ブ
チル〕−4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボ
キシミドm、p、 (塩酸塩)125°C(分解)@ 
N−〔4,−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラ
ジニル)ブチル’)−8,6−シメチルシクロヘキサン
ー1,2−ジカルボキシミド m、p、 (塩酸塩)137°C(分解)@ N−C4
−(、4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジニル)
ブチル〕−4.5−ジメチルー4−シクロへギセンー1
.2−ジカルボキシミド m、p、(tfa酸塩)209〜211°C(Q+ N
−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジニ
ル)ブチル1−4.5−ジメチルシクロヘキサン−1,
2−ジカルボキシミド m、p、 (塩酸塩)、 225−227°C@ N−
c4−(4−C2−ピリミジニル)−1−ピペラジニル
)ブチル]−1,2−ジメチルシタロヘキサン−1,2
−ジカルシ ボキンド m、p、 (塩酸塩)208−210°C(分解)@ 
N−C2−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジ
ニル)エチルコシクロヘキサン−1,2−ジカルボキシ
イミド m、p、 (塩酸塩)218−220°C前述の各方法
により得られる一般式[rI’lで表わされる本発明の
目的化合物は、通常の化学的手段により単離精製するこ
とができる。
本方法によって得られる前記一般式〔■〕の化合物は、
アミン誘導体であるので、常法により下記のような所望
の塩に導くことができる。
医薬品として許容される酸付加塩を形成す(26) る酸としては塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸などの無機
酸または酢酸、酪酸、プロピオン酸、酒石酸、クエン酸
、マレイン酸、フマール酸、メタンスルホン酸などの有
機酸の中から適時選択することができる。
以下に参考例および実施例により本発明を説明するが、
本発明はもとより、これに限定されるものではない。
参考例1 2.8−ジメチル−1,3−ブタジェン10 fi (
0,122モル)、無水マレイン酸11.9F(0,1
22モル)及びベンゼン8〇−の混合液を室温で10時
間攪拌した。浮遊物を枦去し、沖液を減圧上留去し、収
量18.66F収率86.6%の表記化合物を得た。
融点7B−74℃ 参考例2 (26) 2−ジカルボン酸 無水4.5−ジメチル−4−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸10 fl (0,0555モル)、二酸
化白金150岬及びテトラヒドロフラン100−の混合
液を室温で8時間水添を行なった。浮遊物を沖去し、を
液を減圧上留去を行ない、定量的に表記化合物を得た。
参考例8 無水ビレクロ[”2.2.1〕へブタ−5−エン−2,
8−ジ−エキソ−カルボン酸無水ビシクロr2.2.1
)へブタ−5−ニンー2.8−ジ−エンド−カルボン酸
60.Ofを窒素気流下、190〜195°Cに1.5
時間加熱し、冷却後、反応物を、ベンゼンで4度、再結
晶を繰り返すことにより、99.6%純度の表記化合物
を得た。
融点146〜147°C (27) 参考例1.2あるいは8と同様にして以下の化合物を得
た。
O無水8.6−シメチルー4−シクロヘキセン−1,2
−ジカルボン酸 融点48−45℃ O無水8.6−シスチルシクロヘキサンー1.2−ジカ
ルボン酸 O無水1.2−ジメチル−4−シクロヘキセン−1,2
−ジカルボン酸 融点98−99°C O無水1.2−ジメチルシクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボン酸 IRし”m(ctrr ”): 1845 、1825
 。
ax 780 0 無水ビシクロr2.2.1〕へブタ−5−ニンー2
.8−ジ−エンド−カルボン酸融点162℃ (28) ○ 無水ビシクロ[2,2,1)へブタン−2,8−ジ
−エンド−カルボン酸 融点166−167℃ 0 無水ビシクロ〔2,2,11へブタン−2,8−ジ
−エキソ−カルボン酸 融点74−75°C O無水ビシクロr2.2.21オクタ−6−エン−2,
8−ジーエンドーカルボン酸融点144−147℃ 0 無水ビシクロ[2,2,2〕オクタン−2,8−ジ
−カルボン酸 融点179−182℃ O無水ビシクロ(2,2,11へブタン−2−エキソ−
カルボン酸−2−エンド−メチレンカルボン酸 融点158−154”C O無水ビシクロC2,2,2’Jオクタン−2−エキソ
−カルボン酸−2−エンド−メチレンカルボン酸 IR(nujol) 1840 、 1790 、 1
770a++ ’(29) 参考例4 シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸ミ上 ム シスー74−テトラヒドロフタルイミド2 Of (0
,182モル)、50%含水5%パラジウムカーボン2
f及びテトラヒドロフラン200mgの混合液を室温に
て8時間水添を行なった。浮遊物を沖去し、沖液を減圧
上留去を行ない定量的に表記化合物を得た。
参考例5 ヱ 無水1.2−シクロヘキサンジカルボン酸8N(19,
5ミリモル)と、29%アンモニア水8.4Nの混合液
を加温、内温!800〜190℃で2時間保温を行ない
定量的に表記化合物を得た。融点182−186°C(
80) 参考例4あるいは5と同様にして、以下の化合物を得た
0 ビシクロ〔2,2,1’)ヘプタ−5−エン−2,
8−ジ−エンド−カルボキシイミド 融点187.5−189℃ Oビシクロr2,2.1)へブタン−2゜8−ジ−エン
ド−カルボキシイミド IR(nujol) 8170 、 1755 、 1
7086R−’0 ビシクロ〔2,2,11へブタン−
2゜8−ジーエキソーカルボキシイミド 融点15B−154℃ 参考例6 シクロヘキサンー1.2−ジカルボキシミド1Of(6
5,8ミリモル)を乾燥ジメチルホルムアミド50sj
に溶かした溶液中に窒素ガス気流下60%水素化ナトリ
ウム2.6f(68,5ミリモル)を加え、その後、同
温度にて8時間攪拌を行なった。次いで、テトラメチレ
ンブロマイド70.5g(0,827モル)を−気に加
え8時間攪拌を行なった。反応終了後、反応液を水に空
け、酢酸エチルで抽出を行った。有機層を水で2回洗浄
を行ない更に、飽和食塩水で洗浄を行なった。分液後、
有機層へ硫酸マグネシウムを加え乾燥を行なっり後、溶
媒及び過剰のテトラメチレンブロマイドを留去し、19
yの表記化合物を得た。
参考例6と同様の操作を行ない以下に示した化合物を得
た。
0N−(J3−クロルプロピル)−4−シフ○ N−(
4−ブロモブチル)ビシクロ〔2゜2.1〕へブタン−
2,8−ジ−エンド−カルボキシイミド IR(Film) 1765 .1700m−’ON 
−(4−ブロモブチル)ビシクロ〔2゜2.1〕へブタ
ン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド I R(74JL/A法): 1765 、 1700
 、 1480゜1 B 953− ’ 参考例7 N−(α、α、α−トリフルオローm−トリル)ピペラ
ジン ジ(2−ブロモエチル)アミン、ハイドロ 1、ブov
イFl 5.6 f (0,05%Jl/)、8−アミ
ノベンズトリフルオライド24.2 F(0,15モル
)及びメチルエチルケトン5o−の溶液を4時間還流し
た。反応液を希苛性ソーダ水で中和を行ないエーテルで
抽出した。エーテル層を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧上留去し、蒸留
を行ない、7.2fの表記化合物を得た。
沸点180 140@010.8mHf参考例8 (88) 無水ピペラジン95f(1モル)をエチルアルコール4
75ydに溶かした溶液中に2−クロロピリミジン22
.91 (0,2モル)を投入し、その後8時間室温攪
拌を行なった。
反応終了後5%苛性ソーダ水及びクロロホルムを加え、
抽出を行なった。クロロホルム層を水で8回洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥を行なった後、溶媒を減圧上留去
した。残渣を蒸留し、20.8N(68,4%)の表記
化合物を得た沸点181−1B2°O/ 1.5 +m
HfmHf参 考−92−ピリミジニル)ピペラジン2f(12,2ミ
リモル)、アセトン2−11−ブロモ−3−クロルプロ
パン2.59 (15,9ミリモル)及び26%苛性ソ
ーダ1.94の混合液を6時間室温で攪拌した。反応終
了後、水に空は酢エチ抽出、有機層を飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥を行なった。溶(84) 媒を減圧上留去し、残渣として2.0f(68%)の表
記化合物を得た。
500 参考例9と同様の操作を行ない以下に示した化合物を得
た。
01−(8−クロロプロピル)−4−(2−ピリジル)
ピペラジン 0l−(8−クロロプロピル)−4−フェニルピペラジ
ン 0l−(2−クロルエチル)−4−(2−ピリミジニル
)ピペラジン 融点70−72℃ 実施例l N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジ
ニル)ブチル〕ビシクロ〔2゜2.1〕へブタン−2,
8−ジ−エキソ−カルボキシイミド N−(4−ブロムブチル)ビシクロ〔2゜2.11−・
\ブタンー2.8−ジーエキソーカルボキシイミド(7
0,Of)、1−(2−ピリミジニル)ピペラジン(8
4,8&)、無水炭酸カリウム粉末(82,2g)、ヨ
ウ化カリウム粉末(8,871)及び乾燥ジメチルホル
ムアミド(700mg)の混合物を攪拌下、90〜10
0°Cで8時間反応させた。冷却後、反応液を水中に注
ぎ酢酸エチルにて4回抽出し、抽出液を水洗及び飽和食
塩水洗浄した後、硫酸マグネシウムにて乾燥した。
溶媒留去後、得られた粗結晶を、n−ヘキサン、トルエ
ン混合液より再結晶することにより、目的物を得た。
融点1.12−118.5°C 本目的物は、塩基性物質であるため、一般的な方法によ
り、無機酸、有機酸等と、例えば、以下のような塩を形
成した。
1・塩酸塩、融点 286−287℃ 2 塩酸塩、融点 28B−285℃ クエン酸塩、融点 174−175°Cマレイン酸塩、
融点 154−155°Cフマール酸塩、融点 186
−187℃実施例2 N−〔8−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピラジニ
ル)プロピル〕−4−シクロヘキサン−1,2−ジカル
ボキシミド塩酸塩シクロヘキサン−1,2−ジカルボキ
シミド(6,50f)の乾燥ジメチルホルムアミド(6
5sd)中に室温攪拌下、60%水素化ナトリウムの鉱
油けん濁物(1,60f)を加えた後、80分攪拌を続
けた。
次いで、そこへ8−(4−(2−ピリミジニル)ピペラ
ジニル)プロピルクロリド (11,8of)の乾燥ジメチルホルムアミド溶液(8
0mg)を滴下後、室温にて、4.5時間攪拌を続けた
。溶媒を減圧留去後、残渣を(87) クロマト精製し、得られた油状物を塩酸塩化することに
より目的化合物を得た。
融点 180−182”C(塩酸塩) 実施例8 N−C4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペラジ
ニル)ブチル〕シクロヘキサンー1.2−ジカルボキシ
ミド塩酸塩 N−(4−ブロモブチル)シクロヘキサン−1,2−ジ
カルボキシミド(10,0Of)、1−(2−ピリミジ
ル)ピペラジン(4,75fI)、無水炭酸カリウム粉
末(8,00g)及び乾燥ジメチルホルムアミド(10
0m)の混合物を攪拌下、100〜110°Cで9時間
反応させた。溶媒を減圧留去後、残渣をクロマト精製し
、得られた油状物を塩酸塩化することにより、目的化合
物を得た。
融点 168−169℃ 実施例1.2および8の方法に準じて、以下の目的化合
物を得た。
(88) ON−C4−(4−(2−メチルフェニル)−1−ピペ
ラジニル)ブチル〕ビシクロC2,2,1]へブタン−
2,8−ジ−エンド−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)247−250℃ ON−C4−(4−(4−メトキシフェニル)−1−ピ
ペラジニル)ブチル〕ビシクロ〔2,2,1〕へブタン
−2,8−ジ−エンド−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)222−224°C ON −〔4−(4−(2−ピリミジニル)−1−ピペ
ラジニル)ブチル〕ビシクロr2.2.11へブタ−5
−エン2.8−ジ−エキソ−カルボキシイミド mp 、 (塩酸塩)259〜260°CON−〔4−
[4−(2−ピリジル)1−ピペラジニル)ブチルコシ
クロヘキサン−1,2−ジカルボキシミド mp、(塩酸塩)185−187°C o N−C4−(4−(2−メチルフェニル)−1−ピ
ペラジニル)ブチルコシクロヘキサン−1,2−ジカル
ボキシミド mp、(塩酸塩)208℃(分解) ON−C4−(4−(8・−クロロフェニル)−1−ピ
ペラジニル)ブチルコシクロヘキサン−1,2−ジカル
ボキシミド 融点(塩酸塩)187−192°C o N−C4−(4−(8−トリフルオロメチルフェニ
ル)−1−ピペラジニル)ブチルコシクロヘキサン−1
,2−ジカルボキシミド 融点(塩酸塩)178−180°C oN−(4−(4ニベンジル−1−ビペラmp 、 (
塩酸塩):25B−255°CoN−(4−(4−ジフ
ェニルメチル−1−ピペラジニル)ブチル)シクロヘキ
サン−1,2−ジカルボキシミド mp、(塩酸塩)22B−225℃ 0N−(4−(4−アダマントイル−1−mp、(塩酸
塩)+270−272°Co N−C4−(4(2−フ
ロイル)−i−ヒヘラジニル)フチル〕シクロヘキサン
ー1.2−ジカルボキシミド mp、(塩酸塩)199−200°C ON−C4−(4−(2−ヒドロキシエチル)−1−ピ
ペラジニル)フチル〕シクロヘキサンー1,2−ジカル
ボキシミド mp、(塩酸塩)250−252℃ ON−C4−(4−(8−クロロフェニル)−1−ピペ
ラジニル)ブチル〕ビシクロ〔2,2,1’:lヘプタ
ン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)21g−220°C ON−C4−(4−(8−クロロ−2−ピリジル)−1
−ピペラジニル)ブチルコシ(41) クロヘキサン−1,2−ジカルボキシミドmp、66−
88℃ :mp、(塩酸塩)1’8B−191°C o N−(4−(4−(5−クロロ−2−ピリジル)−
1−ピペラジニル)ブチルコシクロヘキサン−1,2−
ジカルボキシミドmp、102−108″C ON−〔4−(4−(8−クロル−2−ピリジル)−1
−ピペラジニル)ブチル〕ビシクロr2.2.1’)へ
ブタン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)196−208°C ON−〔4−[4−(5−クロル−2−ピリジル)−1
−ピペラジニル)ブチル〕ビシクロ〔2,2,1〕へブ
タン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイミド mp、(塩酸塩)181−184°C ON−(4−(4−(8−トリフルオルメチルフェニル
)−1−ピペラジニル)ブチル〕ビシクロr2.2.1
〕へブタン−2゜(42) 2.1〕へブタン−2,8−ジ−エキソ−カルボキシイ
ミド mp 、 (塩酸塩)210−212°Co N−〔4
−(4−(5−フルオル−2−ピリミジニル)−1−ピ
ペラジニル)ブチル〕ビシクロC2,2,IJヘプタン
−2゜8−ジ−エキソ−カルボキシイミド mp 、 (塩酸塩)250−251℃(48完) 第1頁の続き ■Int、C1,4識別記号 庁内整理番七470−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1) 一般式 %式% で表わされるピペラジン誘導体を縮合せしめることを特
    徴とする一般式 で表わされるコハク酸イミド誘導体の製造法。 〔式中、 ■ R1とR1は互いに結合して一般式C式中、Aはメ
    チレンまたはエチレン基で示される二価の基を表わし、
    R8およびR4は水素原子を表わすか、または ■ R2とR8は互いに結合して一般式R8 C式中、A’はメチレンもしくはエチレン基、酸素原子
    、または互いに結合せざる2個の水素原子を、Rおよび
    Rは互 いに同一または相異なって水素原子または低級アルキル
    基を表わし、R6およびR6は先と同じ意味を有する。 ) で示される二価の基を表わし、RおよびR4は互いに同
    一または相異なって水素原子もしくは低級アルキル基を
    表わすかまたは両者で単結合を表わす。 XおよびX′は互いに相異なり、一方が水素原子を、他
    方が一般式 %式%) (式中、Yは脱離基を表わし、nは2゜8.4または5
    なる整数を表わす。) で示される基を表わす。 Rは無置換またはハロゲン原子、低級 アルキル基、低級アルコキシ基もしくはトリフルオロメ
    チル基で置換されたるフェニル基、無置換またはハロゲ
    ン原子で置換されたる2−ピリジル基、または無置換ま
    たはハロゲン原子で置換される2−ピリミジル基を表わ
    すか、またはベンジル基、ジフェニルメチル基、アダマ
    ントイル基、フロイル基または低級ヒドロキシアルキル
    基を表わす、〕 (2) R”とR8が互いに結合して一般式で示される
    二価の基である特許請求の範囲第1項記載の製造法。 (8)Xが一般式 %式%) で示される基であり、X′が水素原子である特許請求の
    範囲第2項記載の製造法。 (4) 縮合反応が酸結合剤の存在下での縮合反応であ
    る特許請求の範囲第1項記載の製造法。
JP11756984A 1983-10-19 1984-06-07 コハク酸イミド誘導体の製造法 Pending JPS6087262A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0196096A2 (en) 1985-03-27 1986-10-01 Sumitomo Pharmaceuticals Company, Limited Imide derivatives, their production and use
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