JPS6086549A

JPS6086549A - 静電記録体

Info

Publication number: JPS6086549A
Application number: JP19408483A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Matsuura; 松浦　和夫; Katsuji Nakahara; 勝次中原; Masashi Hamaguchi; 浜口　昌司
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1983-10-19
Filing date: 1983-10-19
Publication date: 1985-05-16
Also published as: JPH0535423B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、電気信号を直接静電潜像に変換する静電記録
体に関する。ことに、静電記録体にトナー像を形成し、
その像を普通紙に転写したのち。

クリーニングし反復使用する記録方式、たとえばハード
コピー用原紙として普通紙を用いる複写機。

ファクシミリ受信機、プリンターなどの静電記録マスタ
ーフィルムとして有用な静電記録体に関する。

〔従来技術〕

従来の静電記録体として、絶縁性高分子フィルム（Ａ）
、導電層（Ｂ）、接着層（Ｃ）、誘電層（→を（Ａ）　
／（Ｂ）　／（９）　／　（り）の順に配列した静電記
録体が公知である。

一般に静電記録体の導電層として要求される表面電気抵
抗は１０５〜１０８Ω／口の範囲にある。

島状微粒子からなる導電層は、高抵抗領域（１０５〜１
０８Ω／口）で表面電気抵抗のバラツキが比較的少なく
、均一なものが得られ、かつ常温では湿度によシ表面電
気抵抗が実質的に影響される゛ことがなく、静電記録体
の導電層としてすぐれていることは公知である（たとえ
ば特公昭５Ｂ−２８５７５公報）。

これらの公知の静電記録体は、上記した静電記録マスタ
ーフィルムとして長期間にわたって、繰シ返し使用した
場合に、導電層の空気、水蒸気。

熱の環境下での表面電気抵抗の経時変化が大きい。

誘電層が記録電極ヘッドと接触して一摩耗する。トナー
のクリーニング性が悪い、誘電層の除電時の１制コロナ
性が不十分である。高湿下で帯電保持性が低下する。な
どのいずれかの欠点があシ、このことがかかる構成の静
電記録体の静電記録マスターフィルムとしての実用化の
大きな障害となっていた。

【発明の目的〕

本発明は、上記欠点のないもの、すなわち、（イ）導電
層の空気、水蒸気、熱の環境下での表面電気抵抗の経時
変化が小さく、（ロ）誘電層の記録電極ヘッドに対する
耐摩耗性がよく、（ハ）トナーのクリーニング性がよく
、に）誘電層の除電時の耐コロナ性がよく、（ホ）高湿
下での帯電保持性がよく、長期間にわたって、繰シ返し
使用しても画像特性の安定した静電記録体を提供せんと
するものである。

〔発明の構成〕

本発明は、上記目的を達成するだめに１次の構成、すな
わち、絶縁性高分子フィルム（Ａ）、導電層（Ｂ）、接
着層（Ｃ）、誘電層（Ｄ）を、　（Ａ）　／　（Ｂ）　
／　（Ｃ）　／　（Ｄ）の順に配列してなる静電記録体
において、該導電層（Ｂ）は２表面電気抵抗が１０５〜
１０８Ω／口の金属膜からなシ、該接着層（０）は、エ
マルジョン系水溶性ポリマを塗布固化せしめた層からな
り、該誘電層（Ｄ）は、絶縁性高分子バインダーに、平
均粒径が０１〜０．５μｍの無機フィラーと平均粒径が
６〜２０μｍの無機フィラーとを含有してなり、該誘電
層（Ｄ）の吸湿率が０．４チ以下であって、かつ該両無
機フィラーのモース硬度が６以上、吸湿率が０．４チ以
下である静電記録体、およびその静電記録体の絶縁性高
分子フィルム（Ｎと導電層（Ｅｌ）の間または導電層（
Ｂ）と接着層（Ｃ）との間に厚さ５〜１０００スの金属
酸化物薄層（Ｅ）が介在する静電記録体を特徴とするも
のである。

本発明における絶縁性高分子フィルム（Ａ）とは。

通常知られた熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が使用される
。かかるフィルム（Ａ）としては、ポリエチレン、ポリ
プロピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフ
タレート、ホリエチレｙ２−６ナフタレートなどのポリ
エステル、ポリカーボネート、ホリアミド、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンスルフィド、ボリフエニレンオキザ
イド、テトラフルオロエチレン、ポリメチルメタアクリ
レート。

ポリ塩化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、芳香族ポリアミ
ド、ポリアミドイミド、ポリイミドなど。

および、これらの混合物、共重合物やさらに架橋したも
のから成るシート状物である。中でも二軸延伸されたシ
ートは、平面性２寸法安定性にすぐれ最も適している。

絶縁性高分子フィルム（Ａ）の厚みとしては、特に限定
するものではないが、可撓性を有し、加工しやすい点で
２〜５００μ、好ましくは１０〜２００μ、最も好まし
くは２０〜１５０μが望ましい。

絶縁性高分子フィルム（Ａ）は１表面電気抵抗が。

１０１０Ω／口以上、好ましくは１０１２Ω／口以上で
あることが、導電層（Ｂ）形成時の表面電気抵抗の均一
性を得る点で望ましい。また絶縁性高分子フィルム（Ａ
）は、あらかじめ、易接着化、耐摩耗性付与、平面性改
良等の目的で、ＥＣ処理、グロー放電処理、アンカーコ
ート、粗面化加工などの前処理が施されていてもよい。

導電層（Ｂ）とは９表面電気抵抗が、１０５〜１０８Ω
／口の金属膜からなるものであれば特に限定されるもの
ではないが、かかる金属としては、ルラニウム、ロジウ
ム、パラジウム、イリジウム、白金からなる群から選ば
れた少なくとも１種以上の金属を主体としたものである
のが望捷しく、かかる望ましい金属膜中には、他の金属
拐料、たとえＩｒｆ、　、銅、’ＪｉＪ＝＋金、鉄、タ
ンタル、タングステン。

モリブデンなどが５重量％以下混入していてもよい。

なお、かかる金属膜の表面形態は特に限定されないが、
絶縁性高分子フィルム（Ａ）の上に金属粒子が島状に不
連続に点在しているもので、その金属粒子の平均サイズ
としては、　１０””〜１０−２平方ミクロンの範囲に
あることが特に好ましい。金属粒子の密度は面積分率で
示すと１５〜５０％であることが好ましい。

なお、導電層（Ｂ）を構成する金属粒子は、３０万倍程
度の電子顕微鏡によって写真撮影することができ、この
撮影像をもとに、イメージアナライザーコンピュータ（
Ｉｍａｎｃｏ社、　Ｑ、ＩＪＡＮＴＩＭＥＴ　７２０　
）を用いて９個々の粒子の粒子面積を容易かつ正確に測
定することができる。ここで言う、平均粒子面積は、測
定した個々の粒子の粒子面積の総和を測定した粒子数で
除した値で定義される値である。

絶縁性高分子フィルム（Ａ）上に金属膜を形成する方法
としては、スパッタリング、真空蒸着、イオンブレーテ
ィング、メッキなどを用いることができる。

なお、絶縁性高分子フィルム（Ａ）の上に導電層（Ｂ）
を形成したものを導電性フィルムという。

接着層（Ｃ）とは、エマルジョン系水溶性ポリマを塗布
固化せしめてなる層である。該エマルジョン系水溶性ポ
リマとは、水中に乳化した状態で存在するポリマのこと
でポリマ自体が水溶性でなくてもよく９通常知られたも
のが使用される。かかるポリマとしては、たとえば、エ
チレン系二重結合を有する単量体の単独または混合物を
乳化剤その他の添加剤と共に水中に乳化した状態で単独
重合または共重合して得られたものや、ボーリエステル
。

ポリウレタンなどがあげられる。

エチレン系二重結合を有する単量体としては。

通常知られたものが使用される。たとえば、アクリル酸
エステル系、メタクリル酸エステル系、スチレン系、酢
酸ビニル、ブタジェン、クロロブレン、塩化ビニル、塩
化ビニリデンなどがあげられる。これらのポリマの中で
は、導電性フィルムおよび誘電層（Ｄ）との接着性、１
１薬品性ｖ　１ｉｉＪ候性などがよいので、（メタ）ア
クリル酸エステル系共重合体が好ましく使用される。（
メタ）アクリル酸エステル系共重合体の中でも２反応性
モノマを含有し、これに架橋剤を加えて架橋したものが
、さらに導電層（Ｂ）の表面電気抵抗の経時上昇が小さ
くなり好ましい。

かかる反応性モノマとしては、官能基として。

たとえば、カルボキシル基（たとえば（メタ）アクリル
酸など）、水酸基（（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシ
エチルなど）、アミド基（（メタ）アクリルアミドなど
）、グリシジル基（（メタ）アクリル酸グリシジルなど
）、アミノ基（（メタ）アクリル酸２−ジエチルアミノ
エチルなど）などを有する化合物があげられる。これら
の反応性モノマに対する架橋剤としては、たどえば、ア
ミノ樹脂やエポキシ樹脂、さらにブロックドイソンアナ
ートなどから適宜選択される。さらに架橋促進剤などの
添加剤を加えてもよい。

本発明の接着層（６）の膜厚は、好ましくは０１〜５μ
ｍ、さらに好１しくけ０１〜２μｍであることが望まし
い。これよシ薄いと接着性が十分でない。これよシ厚い
と帯電保持性が悪い。

本発明の接着層（Ｃ）は、その接着層の上にさらに溶媒
可溶性ポリマからなる他の接着層を設けた積層型接着層
であってもよい。このような積層型接着層にするとエマ
ルジョン型水溶性ポリマからなる接着層単独の場合に比
べて帯電保持性が向上し。

より安定した画像特性が得られるので好丑しい。

溶媒可溶性ポリマとしては１通常知られたものが使用で
きる。たとえば、前記した熱可塑性樹脂や熱硬化性の中
から適宜選択される。これらの中で。

架橋型ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体系が、
接着性、耐薬品性などの点から好ましく使用される。

誘電層ＣＤ）とは、絶縁性高分子バインダーに、平均粒
径が０１〜０５μｍの無機フィラーと平均粒径が３〜２
０μｍの無機フィラーとを含有してなり、該誘電層（Ｄ
）の吸湿率が０．４チ以下で、かつ該両無機フィラーの
モース硬度が６以上、吸湿率が０．４％以下の層である
。

絶縁性高分子バインダーとは、熱可塑性樹脂。

熱硬化性樹脂などの周知の樹脂のうち、吸湿率が０、４
　％以下のものをさす。かかる絶縁性高分子バインダー
としては、ポリメチルペンテン、塩素化ポリエーテル、
アルキド樹脂、ポリスチレンおよびその共重合体、ポリ
エーテル−１・、ポリエステル、ポリ塩化ビニルおよび
その共重合体、　ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重
合体などや、熱。

光、酸素などにより硬化する硬化性樹脂、たとえば、フ
ェノール樹脂２反応性モノマを含有するポリ（メタ）ア
クリル酸エステル共重合体に架橋剤を加えて架橋したも
のなどがあげられる。これらの中でも１反応性モノマを
含有するポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体に架
橋剤を加えて架−橋したものが特に好ましい。かかる反
応性モノマとしては、官能基として、たとえば、カルボ
キシル基（たとえば、（メタ）アクリル酸など）、水酸
基（’（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルなど）
、アミド基（（メタ）アクリル酸アミドなど）、グリシ
ジル基（（メタ）アクリル酸グリシジル基など）、アミ
ノ基（（メタ）アクリル酸２−ジエチルアミンエチルな
ど）などを含有する化合物などがあげられる。これらの
反応性モノマに対する架橋剤としては、たとえば、アミ
ノ樹脂。

エポキシ樹脂、メラミン樹脂、イソシアナート類などか
ら適宜選択される。さらに架橋促進剤などの添加剤を加
えてもよい。

該絶縁性高分子バインダーは、繰り返し使用する際に、
コロナ放電、オゾンにさらされるので。

耐コロナ放電性、耐オゾン性のよいものが好１しく使用
される。このようなものとしては、上記の中でもポリカ
ーボネート、ポリエステル、ポリスチレン共重合体、架
橋型ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体などが特
に望ましい。

無機フィラーは、平均粒径が０．１〜０．５μｍ（微粒
子）、および平均粒径が６〜２０μｍ（粗粒子）を含有
していることが必要である。なお微粒子は０・１〜０３
μｍ、粗粒子は６〜１５μｍであることが好ましい。か
かる微粒子、粗粒子を必要とする理由は、記録電極ヘッ
ドによる放電を安定化するには、いわゆるパッシェンの
曲線から誘電層表面と記録電極ヘッドとの距離を適当に
する必要があシ、そのためには、平均粒径が３〜２０μ
ｍの粗粒子を使用するのが好−、＋　ｔ、い。また、ト
ナーのクリーニング性を良くするには、平均粒径が０１
〜０．５μｍの微粒子を使用するのが好ましい。

該無機フィラーとしては、たとえば、アルミナ（モース
硬度９）、ステアタイト（同８）、スピネル（同８）９
石英（同Ｚ５）、酸化チタン（同６）などが好ましく用
いられる。これらの中でも。

粗粒子としてはアルミナが好ましく用いられ、特にα型
結晶で、純度が９５重ｆｆｌチ以上で、アルカリ金属の
含有量が少ない方が好１しく使用される。

さらに、気孔率は小さいほどよく、実質的にＯであるこ
とが最も好ましい。また、微粒子としては。

上記したアルミナの他に、酸化チタン、特に、ルチル型
、アナターゼ型で、純度が９０重量％以上で、平均粒径
が０．１〜０．３μｍであるものが好１しく使用される
。

該無機フィラーの絶縁性高分子バインダーに対する割合
は特に限定されないが、絶縁性高分子バインダー：粗粒
子：微粒子が、１００：３〜３００二０．５〜１００（
重量部）であることが好ましく。

さらに好ましくは、１００：５〜１００：０．５〜５０
（重量部）であることが望ましい。

なお、上記した接着層（０）と誘電層（Ｄ）を積層した
層としては、吸湿率が０，４チ以下であるものが特に好
ましく使用される。

本発明において誘電層（Ｄ）は、単層の他に複数層に積
層されたものでもよい。

本発明において、接着層（０）および誘電層（Ｄ）の付
加方式は通常知られた方法が有効に使用される。

たとえば、刷毛塗９．浸漬塗り、ナイフ塗シ１口−ル塗
り、スプレー塗装、流し塗り１回転塗り（スピンーナー
、ホエラーなど）、するいはフィルムの付着などの中か
ら適宜選択される。

金属酸化物薄層（Ｉｎ）とは、酸化チタン、酸化硅素。

酸化インジウム、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化亜鉛
、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化タングステン
など、およびこれらの混合物からなる薄層である。金属
酸化物薄層（匂の厚さは、５〜と薄い場合には、導電層
（Ｂ）の表面電気抵抗の均一化と安定化に対する効果が
少なく、また、厚みが１０００Ａ以上では、可撓性が小
さく、クラック等が発生しやすいためか２表面粗９Ｃ抵
抗の安定性がかえって悪くなシ好ましくない。

金属酸化物薄層（Ｅ）の形成方法は、真空蒸着、スパッ
タリング、イオンブレーティング、化学蒸着などによっ
て行なうことができる。中でも金属材料をターゲットと
して用い、１０−′〜１０”−２）−ルの範囲の酸素分
圧下で行なう。反応性スパッタリングが金属酸化物薄層
（Ｅ）の均一化の点で最も適している。

さらに、金属酸化物薄層（Ｋ）の形成方法は塗工によっ
て行なうこともできる。たとえば、有機溶剤可溶性金属
化合物や水可溶性金属化合物を薄膜塗工して加熱するこ
とにょシ、金属酸化物薄層（＠を得ることができる。か
がる有機溶剤可溶性金属化合物としては、該金属のアル
コキシド、アシレート、キレートなどの単独または混合
物の中から適宜選択して使用される。水可溶性金属化合
物としては、該金属のハロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩な
どの単独または混合物の中から適宜選択して使用される
。

かかる金属酸化物の中でも、酸化テタレ、酸化インジウ
ム、酸化ジルコニウム、酸化錫が特に打首しく使用され
る。

該金属酸化物薄層（Ｅ）は、絶縁性高分子フィルム（Ａ
）、導電層（Ｂ）、接着層（Ｃ）に対して、　（Ａ）／
（Ｂ）の間。

または、　’　（Ｂ）　／　（０）の間に介在していれ
ばよいが、後者に介在゛している方が好ましく、さらに
好ましくは２両者に介在しているのが望丑しい。

本発明においては、導電層（Ｂ）の空気、水蒸気。

熱の環境下での表面電気抵抗の経時変化から、金属酸化
物薄層（Ｅ）が、絶縁性高分子フィルム（Ａ）と導電層
（Ｂ）、または、導電層（Ｂ）と接着層（０）の間に介
在している方が、介在しない場合よシ好ましい。

本発明において、導電層（１３）の少なくとも一端に。

該導電層（Ｂ）よシ表面電気抵抗の低い周知の導電材料
を設けて、アース電極とすることができる。

〔発明の効果〕

本発明は、特定の絶縁性１ｒｈ分ってフィルム（Ａ）、
導電層（Ｂ）、接着層（Ｃ）、誘電層（Ｄ）、金属酸化
物薄層（Ｋ）を、　（Ａ）　／　（Ｂ）　／　（Ｃり　
／　（Ｄ）の配列で積層したもの、および、　（Ａ）　
／　（Ｂ）　／　（Ｃ）　／　（Ｄ）の配列で積層した
ものの（〜／（Ｂ）間またはＣＢ）　／　（Ｃ）間に（
Ｋ）を介在させたことにより。

次のごときすぐれだ効果を得ることができたものである
。

導電層（Ｂ）の空気、水蒸気、熱の環境下での表面電気
抵抗の経時変化が小さく、導電層（Ｄ）の記録電極ヘッ
ドに対する耐摩耗性がよく、トナーのクリーニング性が
よく、誘電層（Ｄ）の除電時の耐コロナ性がよく、高湿
下での帯電保持性がよく、長期間にわたって、繰シ返し
使用しても画像特性の安定した静電記録体が得られるよ
うになった。

〔特性の測定方法、評価基準〕

ｆｉ＋　静電荷受容性、帯電保持性用ロ電機製作所製：静電複写紙試験装置（ＥＰＡ−ｓｐ
−４２８）を使用して、静電記録体に印加電圧：　＋５
　ｋＶで５秒間印加して静電荷受容電位（Ｖ、）をめ１
次いで、３０秒間放置ｘ１００　（％））から帯電保持
性をめた。

８０％以上であることが好ましい。

（２）　画像特性の評価静電記録体表面にマルチビン電極ヘッドによシ静電潜像
を形成させ９次いで静電潜像を乾式トナーによって顕像
化したあと普通紙に転写し。

複写画像を得た。静電記録体表面は残存トナーをクリー
ニング、除電して、繰シ返し使用した。

（３）表面電気抵抗導電性フィルム（幅５００ｍｌ１１）′の上に誘電層を
幅３　Ｄ　Ｄｍｍに塗工して得た静電記録体を長さ３０
０ｍｍで切シ取り、その切断線に直交し、かつ間隔が６
００ｍｍの２本の平行線を想定し、その２本の線ではさ
まれる区間を除く右と左にそれぞれ導電性ペーストを塗
布し、それを電極とする。この電極間の電気抵抗をケー
スレー製エレクトロメーター（クイプロ１　Ｄａ）を用
いて測定する。単位は、Ω／口で示す。

一般に導電層の表面電気抵抗の経時変化、すなわち初期
値に対する経時後の変化率が、３〜５倍以内であること
が好ましいといわれている。

（４）　吸湿率無機フィラーの場合は直Ｊ妾、訪電層の場合はガラス板
上に誘電層溶液を塗Ｉ　Ｌ　、十分に乾燥（架橋させる
ものは十分に架橋）したのち。

２０℃・６５．ｉＲＨ中で２４時間処理したのち重量を
測定しくＷ、　）　、次いで、熱風オーブン中１５０℃
で１５時間処理して乾燥したのち重量を測定しくＷ２）
。

２として算出する。

無機フィラーおよび誘電層の吸湿率は０４％以下である
ことが必要である。

（５）金属酸化物薄層の膜厚金属酸化物薄層を王水で溶解したのち、稀塩酸溶液をす
る。この溶液を１０２発光分析装置（第２精工舎製：タ
イプ５ｐｓ−１１ｏｏ）を用いて測定し、金属酸化物の
付着重量をめる。

付着重量とバルクの比重から１重量換算した膜厚を算出
し膜厚とする。

〔実施例〕

以下、実施例に基づいて本発明の一実＃Ｊ態様を説明す
る。本発明はこれに限定されるものではなハ。

実施例１〜６厚さ１００μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルム（東し■製：″ルミラー″２幅５００　ｍｍ　
）の上に白金をスパッタリングして１表面電気抵抗が、
はぼ１０６Ω／口の導電性フイルルを得た。こうして得
た導電性フィルムの白金からなる導電層は、電顕観察に
よると島状の不連続な粒子形態を有していた。この導電
性フィルムの上に自己架橋型アクリル型エマルジョンを
乾燥後の厚さが０５μｍになるように幅３００ｍｍに塗
工して接着層を設けたのち、ロールコータで表１に示し
た誘電層を塗工して（乾燥後の誘電層の重量はいずれも
８ｇ／ｍ２）、本発明の静電記録体（実施例１〜６）を
得だ。得られた静電記録体の緒特性（導電層の表面電気
抵抗（初期および５０℃・９０　％ＲＨで１００日後）
、誘電層（接着層を含む）の２０℃・６５％ＲＨにおけ
るイｉｆ電保持性。

クリーニング性、耐摩耗性、１万回繰シ返し後の２０℃
・９０　％ＲＨにおける画像）は表２のとおシであった
。

（なお本実施例で用いたアルミナは、いずれも純度が９
８．０重量係以上、気孔率はＯであった）実施例４実施例１において、導電性フィルムの白金層の上に、厚
さ２０Ａの酸化チタン層を反応性スパッタリングにより
形成した他は同様にして１本発明の静電記録体（実施例
４）を得た。なお１反応性スパッタリングは、金属チタ
ン（純度９９．９　％　。

幅７００ｍｍ、厚さ１０皿）をターゲットとし、直流マ
グネトロンスパッタ装置を用いて、アルゴンと酸素の混
合ガス（酸素１２体積係）を導入しながら６．ｘｌｏ”
”）−ルの圧力で行なった。得られた静電記録体の緒特
性は表２のとおりであった。

実施例５実施例４において、二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルムと白金膜との間に、厚さ２０Ａの酸化チタン
層を反応性スパッタリングにより形成した他は同様にし
て２本発明の静電記録体（実施例５）を得た。得られた
静電記録体の緒特性は表２のとおシであった。

実施例６実施例４において、二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トと白金膜との間に、厚さ５Ｑλの酸化インジウム−酸
化錫層を反応性スパッタリングにより形成した他は同様
にして９本発明の静電記録体（実施例６）を得た。なお
反応性スパッタリングは、インジウム−錫合金（錫：１
０重量％）をターゲットとして、マダイ・トロンスパッ
タ装置を用いて、アルゴンと酸素の混合ガス（酸素６０
体積％）を導入しながら、１ｘ１０””トールの圧力で
行なった。得られた静電記録体の諸特性は表２のとおり
であった。

比較例１〜５実施例１で得た導電性フィルムの上に接着層として熱架
橋型アクリル樹脂溶液（溶媒：酢酸ブチル／トルエン−
１／１重量比）を用いて、乾燥後の厚さが２μｍになる
ように幅６００ｍｍに塗工して接着層を設けたのち、ロ
ールコータで表１に示した誘電層を塗工して（乾燥後の
誘電層の重量はいずれも８ｇ／ｍ２）、比較例１〜５を
得た。　比較例１〜５の諸特性は表２のとおりであった
。

表２から２本発明の実施例１〜６は、比較例１〜５に比
べて、導電層の空気、水蒸気、熱の環境下での表面電気
抵抗の経時変化が小さく％（５０℃・９０％ＲＨで１０
０日後の経時上昇率が、比較例は約１１倍でちるのに対
して９本発明のものは１．１〜１．６倍で、きわめてす
ぐれているす、高湿下での帯電保持性がよく、トナーの
クリーニング性がよく、誘電層の記録電極ヘッドに対す
る劇摩耗性がよく：１万回繰り返し後の高湿下での画像
特性もよく、長期間にわたって、繰り返し使用しても画
像特性が安定した。すぐれた静電記録体であることは明
らかである。一方、比較例１〜５は。

接着層が熱架橋型アクリル樹脂溶液を塗工固化せしめた
ものであるために１本発明の静電記録体に比べて、導電
層の空気、水蒸気、熱の環境下での表面電気抵抗の経時
変化が大きいという共通した欠点がある。さらに、比較
例２，４．５では、微粒子を含まないためにトナーのク
リーニング性が悪く、比較例６では、誘電層（接着層を
含む）の吸湿率が０４係より太きいために高湿下での帯
電保持性が悪く、比較例４では、リン灰石のモース硬度
が５のために耐摩耗性が不十分である。

さらに接着性を測定したところ（カミソリ刃で２　ｍｍ
　角で２５ケのゴバンマスロを切り込み、スコッチテー
プ地５６で９０　剥離テストン、残ったマス目の数で判
定）、実施例１〜６はいずれも残存率が９５％以上で良
好であった。一方、比較例１〜５はいずれも残存率が３
０チ以下で不良であった。接着性の点からみても１本発
明の静電記録体はすぐれている。

年わ゛、比申支／／リ　タて・１之バイ　ンタ”−つ　
シソ　］　ン搾ｒｌ’ｊｒ、＠コ　ぐプ大（電・１・主
力・・るｆ分子Ｊｆ−めｔｚ　ｔ　ｌ珂神す砺工し夛友
りｆＭＩＩ針不良で−おる−

Claims

【特許請求の範囲】

（１）絶縁性高分子フィルム（Ａ）、導電層（Ｂ）、接
着層（Ｃ）、誘電層（Ｄ）を、　＜Ａ）　／（Ｂ）　／
（０）　／　＜功の順に配列してなる静電記録体におい
て、該導電層（Ｂ）は９表面電気抵抗が１０５〜１０８
Ω／口の金属膜からなシ。該接着層（０）は、エマルジョン系水溶性ポリマを塗布
固化せしめた層からなり、該誘電層（Ｄ）は、絶縁性高
分子バインダーに、平均粒径が０．１〜０．５μｍの無
機フィラーと平均粒径が３〜２０μｍの無機フィラーと
を含有してなり、該誘電層（Ｄ）の吸湿率が０．４チ以
下であって、かつ該両無機フィラーのモース硬度が６以
上、吸湿率が０４％以下であることを特徴とする静電記
録体。
（２）絶縁性高分子フィルム（Ａ）、導’ＩＩｉ層（Ｂ
）、接着層（Ｃ）、誘電層（Ｄ）を、　（Ａ）　／　（
Ｂ）　／　（０）　／　（功の順に配列してなる静電記
録体において、該導電層（Ｂ）は１表面電気抵抗が１０
５〜１０８Ω／”口の金属膜からなシ。該接着層（０）は、エマルジョン系水溶性ポリマを塗布
固化せしめた層からなシ、該誘電層（Ｄ）は、絶縁性高
分子バインダーに、平均粒径が０．１〜０５μｍの無機
フィラーと平均粒径が６〜２０μｍの無機フィラーとを
含有してなり、該誘電層（Ｄ）の吸湿率が０．４％以下
であって、かつ該両無機フィラーのモース硬度が６以上
、吸湿率が０．４チ以下であシ、該絶縁性高分子フィル
ム（Ａ）と該導電層（Ｂ）の間または該導電層（Ｂ）と
該接着層（０）との間に、厚さ５〜１０００Ｈの金属酸
化物薄層（Ｅ）が介在することを特徴とする静電記録体
。