JPS6086455A - 二結晶ｘ線スペクトロメ−タ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、分析すべきＸ線源に対し固定された支持装置
と、該支持装置に対しスペクトロメータ平面に垂直であ
って第１結晶を通る第１軸線を中飄　心に回動し得る第
１部材に固着された第１結晶と（前記第１部材により回
動自在に支持されスペクトロメータ平面に垂直な第２軸
線を中心に角変位し得る第２部材に固着された第２結晶
とを具え、前記第１及び第２結晶は前記第２軸線から同
−距離−にあり、更にスペクトロメータ平面に垂直であ
って前記第２結晶を通る第８軸線を中心に回動し得る検
出装置を具え、前記Ｘ線源、第１及び第２結晶及び検出
装置は、スペクト０メータの調整波長に対応するＸ線が
Ｘ線源から第１結晶に入射し、そこからブラックの反射
条件に従って第２結晶に・反射され、そこから同様に検
出装置に反射されるように相対的に配置し、更に前記第
１部材を第１軸線を中心に角度Δθだけ角°変位させる
と共に前記検出装置を第８軸線を中心に前記第２部材に
対し角度Δθだけ角変位させ、且つ前記第２部材を第２
軸線を中心に前記第１部材に対し角度２Δθだけ角変位
させる角変位手段を含むスペクトロメータ波長調整手段
を具える二結晶Ｘ線スペクトロメータに関するものであ
る。

本明細書において、スペクトロメータビームとはＸ線源
からのＸ線のうち第１及び第２結晶により検出装置へと
順次ブラッグ反射されるＸ線部分を意味し、スペクトロ
メータ平面とはスペクトロメータ中を通るスペクトロメ
ータビームの中心軸線を含む２個の結晶に直角な平面を
意味するものとする。

慣例のけい光Ｘ線分析用Ｘ線スペクトロメータは結晶の
順次の格子面からの反射に関するブラッグの条件を利用
するものであり、この条件は次式％式％ ここで、θは照角、即ち入射及び反射Ｘ線ビームと格子
面とのなす角、ｄは格子面の間隔、λは反射Ｘ線の波長
、ｎは整数である。

一般に使用されているＸ線スペクトロメータは二結晶ス
ペクトロメータであって、分析すベキＸ線ビームを第１
結晶に入射させ、第１結晶から第２結晶へと反射させ、
次いで第２結晶から検出器へと反射させる。両結晶にお
いては、スペクトロメータによりセットされた各結晶の
照角θに対しブラッグ条件を満足する波長λがブラッグ
反射される。両結晶は同一の高度に均一な単一結晶であ
って反射に使用する格子面に平行な主表面を有するもの
とし、斯る結晶の例としてはゲルマニウム又はシリコン
の単結晶があるが、他の波長範囲に対してはリチウムフ
ルオライド、ペンタエリトリトール、チタニウムアシッ
ドフタレート（ＴＡＰ）のような他の結晶を使用するこ
とができる。

スペクトル領域を走査するためには各結晶の向きを精密
に制御して、θの値及び従ってλの値の調整につれて第
２結晶の入射角が第１結晶からの反射角に同一に維持さ
れるようにする必要がある０更に、第２結晶と検出器を
第１及び第２結晶から反射されるビームにそれぞれ追従
させる必要がある。

２個の結晶を互に精密に調整する機械的問題を解決する
ために、頭書に記載した種類のスペクトロメータが「３
ｐｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａ　ＡＯｔａ　Ｊ　２７　Ｂ
（１９７２）第１８５〜１４２頁にヨーイチゴーシによ
り提案され、更に米国特許第８６８９７５９号明細書に
開示されている。これに開示されているスペクトロメー
タでは、第１及び第２結晶を固定支持する第１及び第２
部材を第２軸線を中心に回動自在に互に枢支して一種の
ヒンジを構成し、各結晶を第２軸線を含むそれぞれの半
径平面内又は該面に平行に位置するよう取付けている。

この構成の利点はスペクトロメータ波長を決定する両結
晶の相対的な向きの調整が第２軸線を中心とする上記の
相対的な角変位により行なわれ、この角変位を高精度に
する必要があるだけである点にある。しかし、この構成
は、検出器を第２結晶からの反射ビームに追従させるこ
とが照角θの限られた範囲内でしかできず、また散乱Ｘ
線が検出器に入射するのを阻止するために使用するソー
ラスリットのためのスペースを得るためにＸＩＩ！ビー
ム路を長くする必要があるという欠点がある。この欠点
は結晶の製造方法の改良の結果として今日人手し得るよ
うになった一層大きな結晶を使用しようとするときに一
層重大になる。

本発明の目的は、入射角を広い有効範囲に亘って変化し
得ると共にバックグラウンドＸ線強度を著しく低減し得
る上述した種類の二結晶Ｘ線スペクトロメータを提供す
ることにある。

本発明は上述した種類の二結晶Ｘ線スペクトロメータに
おいて、各結晶を対応する第１及び第２部材上に、結晶
の中心と第２軸線とを結ぶ方向に対し同一の角度ψだけ
互に反対方向に傾けて取付け、その角度ψは５０〜７０
度の範囲内の値としたことを特徴とする特 本発明は、上述した種類の二結晶スペクトロメータにお
いては２個の結晶を第２軸線からのそれぞれの半径線に
対し互に反対方向に特定範囲内の角度だけ傾けることに
より照角θの範囲を拡げることができると共に更にこの
手段によりスペクトロメータのサイズを実質的に増大す
る必要なしに縦横５　ｃｍまでの大きな結晶を使用して
検出強度を増大させることができることを確かめ、斯る
認識に基づいて為したものである。

本発明の一例においては、第１及び第２遮へいブレード
を設け、各遮へいブレードは対応する第１及び第２結晶
の関連する反射面に垂直な方向に、対応する第１又は第
３軸線を通る通路に沿って変位し得るよう配置し、これ
ら遮へいブレードはスペクトロメータ波長の調整に応答
して変位させてブレードの端縁がスペクトロメータビー
ム路のすぐ外側に維持されるようにする。

この遮へいブレードの構成は散乱Ｘ線による不所望なバ
ックグラウンドを著しく減少し得るコンパクトで効果的
な遮へい装置を提供する。

する。

先ず、本発明による二結晶Ｘ線スペクトルメータの原理
を第１及び第２図につき説明する。第１図はスペクトロ
メータの波長がその調整範囲の中心近くに調整されてい
る状態を示し、この状態では分析すべきＸ線源１からの
Ｘ線ビーム２は第１結晶８にθ−４５°の照角で入射す
る。前述のブラッグの反射条件、即ち ２ｄｓｉｎθ−ｎλ を満足する波長のＸ線は第２結晶４上に同一の照角θ（
−４５°）で反射され、これから検出装置５に向は反射
される。検出装置５はガスイオン化チャンバ又はツンチ
レーション検出器のような慣例の形態のＸ線検出器とす
ることができる。

第１結晶８はスペクトロメータ平面（即ち図紙面）に垂
直な第１軸線８を中心にＸ線源１に対し矢印６で示すよ
うに回動し得る第１部材（直線７で線図的に示しである
）上に固定する。第２結晶・５は、第１部材７により回
動自在に支持されてスペクトロメータ平面に垂直な第２
軸線９を中心に第１部材に対し矢印１２で示すように角
変位する第２部材（直線１１で線図的に示しである）上
に固定する。検出器５は第２部材１１により回動自在に
支持してスペクトロメータ平面に垂直であって第２結晶
を通る第３軸線１０を中心に矢印１３で示すように角変
位するようにする。軸線８と１０は軸線９から同一の距
離にある。

このスペクトロメータはスペクトロメータ波長λを調整
する手段（第１図には示してない）を設ける。この手段
は第１部材７を第１軸線を中心にΔθだけ変位させるこ
とにより第１結晶の照角θをΔθだけ変えることにより
達成する。ブラッグの反射条件を維持するために、第２
部材１１を第２軸線９を中心に第１部材７に対し２Δθ
だけ角変位させると共に検出器５を第８軸線を中心に第
２部材１１に対しΔθだけ角変位させる。

この点は米国特許第８６３９７５９号明細書に開示され
ているスペクトロメータにおいても同様２（−・である
が、この特許発明では２個の結晶を各結晶の中心と第２
軸線を結ぶ半径に平行に取付けているＯ 本発明のスペクトロメータにおいては、各結晶８．４を
対応する第１及び第２部材７．ｌｌ上に結晶の中心と第
２軸線９を結ぶ方向に対し同一の所定角度ψだけ互に反
対向に傾けて取付け、その角度ψを５０°〜７０°の範
囲内の値とする。

第１図に示す例では、ψの値は６０°である。

第１及び第２部材を表わす半径線７及び１１間の角度Ｗ
は ｙ−（ｉｓｏ−２ψ）＋２０ で与えられるため、この角度は、定数項（１８０−２ψ
）を除けばスペクトロメータ波長が照角θの調整により
調整されると２０だけ変化することになる。

第２図には、照角θを技術的に有用でない値θ−〇から
最大値θ−７５°まで１５°間隔で順次セットした場合
におけるスペクトロメータの各素子の配置を線図的に示
しである。第１位置（θ−Ｏｃにおける各素子は第１図
と同一の符号を用い、最終位置における各素子は同一符
号にダッシュをつけて示しである。また第２軸線９の軌
道を一点鎖線で示しである。

第８及び第４図は本発明スペクトロメータの一実施例の
正面図及び側面図であり、これら図では説明の便宜上装
置が照角θ−θ°にセットされている状態を示しである
ｇ尚、装置はθ−ＯＱではアライメントのため以外には
使用されない。

分析すべきＸ線源ｌはスペクトロメータの本体ケース２
０に固着される。ケース２０は気密封止端を有する円筒
状真空気密室を構成するため、スペクトロメータは真空
中或はヘリウム雰囲気中で動作させることができる。ス
ペクトロメータを通常のＸ線けい光分析に使用するとき
は、Ｘ線源は被検試料物質１５を具え、これをスペクト
ロメータケースの内部に必要に応じマイラー窓（図示せ
ず）を介して連通ずる真空或はヘリウム充填スペース内
に配置して分光結晶の汚染を避けるように、）　する。

試料１５には慣例のＸ線管１６からの比較的硬いｘｍを
、試料の汚染を避けるために気密ベリリウム窓（図示せ
ずンを介して又はＸ線管が排気スペース内に収納されて
いる場合にはマイラー窓を介して照射する。スペクトロ
メータは必要に応じＸ線ビームの照射により試料１５か
ら発生する一次Ｘ線を分析するのに用いることもできる
。

Ｘ線けい光分析のためのＸ線源及び試料の構成は公知で
あるので、これ以上説明しない。

Ｘ線源１からの分析すべきＸ線は、ケース２゜の開口を
貫通して延在しケース２ｏ及びＸ線源アセンブリ１の壁
と気密封止したコリメータ円筒スクリーン２６を経てス
ペクトロメータ内に入射する。スクリーン２６は上部プ
ラットホーム２３上に装着する。このプラットホームは
ベース２２及び連結支持バー２４と相まってスペクトロ
メータの支持装置２１を構成し、この支持装置はケース
２０に取付板２５により取付けられる。

分析すべきＸ１ｍはコリメータ２６により第１結晶８上
にコリメートされる。第１結晶８は、ベース２２と上部
プラットホーム２８に軸承されたシャフト２８上に固定
されスペクトロメータ平面（本例では水平面）に垂直で
あって結晶８を通る第１軸線８を中心に回転するホルダ
２７内に固定する。

ベース２２と上部プラットホーム２８との間の空間には
キャリア８ｏをシャフト２８に固定すると共にスラスト
ベアリング８４で支持する。このキャリア８ｏはシャフ
ト２８を通してこれに固定した主支持体８１と上部及び
下部支持アーム８２及び８３とを具え、このキャリア８
ｏと、シャフト２８と、結晶ホルダ２７とで第１及び第
２図に示す第１部材７を構成する。

別のシャフト３７をアーム３２．８８の外端に軸承して
第１及び第２図の第２軸線９に相当する垂直軸線を中心
に回転自在にする。このシャフト８７に上部及び下部ア
ーム８８及び８９を固定しこれらアームと円筒状軸受支
持ピラー４０及びシャフト４５とをもって第１部材７に
スラストベアリング４１及び４２により回動自在に支持
した第１及び第２図に示す第２部材１１を構成する。

シャフト４５は上部及び下部アーム８８．１３９の外端
に固定する。第２結晶４はボルダ４６に固定し、ホルダ
４６はシャフト４５の上端に固定して第１結晶８から反
射されるＸｉを受けるようにする。結晶８及び４は軸線
９に相当するシャフト８７から等距離にある。シャフト
４５は検出器支持アーム４８の回転軸として用い、この
アームをスラストベアリング４９上に支持してシャフト
４５を中心に回転し得るようにする。検出器５を支持ア
ーム４８上に取付けて第２結晶４から反射されたＸ線を
入力シールド５０（矩形断面のＸ線束を与える）を経て
受けるようにする。

スペクトロメータの波長選択は駆動モータ５４により制
御される。この駆動モータは慣例の構成の適当な制御回
路（図示せず）を具える慣例の直流モータとすることが
でき、第１部材７の主支持体８１上に取付ける。モータ
５４の出力軸にウオームギヤ５５を設け、これを第２部
材１１の一部を構成するシャフト８７に取付けた歯車５
６の歯・とかみ合わせる。第１及び第２部材７及び１１
間の角度Ｖ（第１図）はグラテイキュールディスク５Ｂ
及び関連する光学検知ヘッド５９により測定される。即
ち、このディスクと検知ヘッドは慣例の如く方向依存カ
ウントパルスを双方向カウンタ・（図示せず）に供給し
てこれにより角度Ｖの指示、従って当該結晶定数と関連
するスペクトロメータ波長の指示を発生するよう構成し
である。

歯車６２をシャフト３７の上部に取付けると共に第２部
材１１の上部アーム３８に固着する。第１軸線８を中心
とする別の歯車６８を上部プラットホーム２３に固着す
る。歯車６８を歯車６２とかみ合わせ、その直径を歯車
６２の２倍とする。

このようにすると、モータ５４の動作により第１及び第
２部材７反び１１間の角度１にΔＶの変化が発生すると
、歯車６２が第１結晶８を支持する第１部材１１を軸線
８を中心にΔＷ／２だけ回転してΔ１Ｆ／２に等しい照
角θの変化Δθを発生することになる。

更に別の小歯車６５をシャフト８７上に回転自８２に固
着する。更に別の大歯車６６を第８軸線１０を中心とす
るシャフト４５上に回転自在に取付けると共に検出器支
持アーム４８に固着する。

歯車６６を爵車６５とかみ合わせると共にその直径を歯
車６５の２倍とする。このようにすると、モータ５４の
動作により第１及び第２部材７及び１１間の角度１にΔ
１の変化が生ずると、歯車６６が検出器支持アーム４８
及び従って検出器５を軸線１０を中心にΔＶ’／２だけ
回転して第２結晶４に対する検出器の軸線の向きにΔθ
−ΔＦ／２の変化を生ずることになる。

このように、本発明においては第１及び第２結晶８，４
を対応する第１及び第２部材７．ｌｌ上に、それぞれの
結晶８，４の中心と第２軸線とを結ぶ対応する直［７’
、１１’に対し互に反対方向に同一の角度ψだけ傾けて
取付ける。角度ψは５０°〜７０°の範囲の値とし、本
例ではψ−６０゜である。

本例構成の利点は、照角θ−７５°にセットし・たスペ
クトロメータの各部の配置を示す第５図から明らかであ
る。第２結晶４及び検出器５の種々の中間位置は第２図
に示す通りであり、本例スペクトロメータはθ−０°か
らθ−７５°の範囲に亘って簡単且つ容易に調整するこ
とができる（この調整範囲は従来の構成では不可能であ
った）。

本発明の一例では、第１及び第２の遮へいブレード７０
．７１を設け、各遮へいブレードは対応する第１及び第
２結晶８，４の反射面に垂直な方向に、第１及び第２軸
線８．１０を通る通路７８７４に沿って変位し得るよう
に配置する。この遮へいブレード７０．７１の変位手段
はスペクトロメータ波長の調整に応答して変位させて各
遮へいフレードの結晶側の端縁がスペクトロメータビー
ムのうちＸ線源から第１結晶８及び第２結晶４において
ブラッグ反射されて検出器５に到達し得るビーム部分を
丁度さえぎらない位置に維持するように構成する。

本例テハ、この変位手段をスペクトロメータビーＡの通
路外に配置＆ｌれ、スペクトロメータビームの入射方向
に対する第１及び第２結晶の姿勢に応動するよう互に結
合したレバー形態のリンクシステム７８．８４，８５．
８６及び８７・をもって構成する。このリンクシステム
は第１部材７の一部をｍ成する結晶ホルダ２７のオーバ
ハング部上の、第１結晶３の前縁８０のスペクトロメー
タ平面に垂直な上方向投影点に対応する位置に一端をピ
ボット７９で枢支したロンドア８の形態の細長いリンク
部材を具える。このレッド７８の他端は第２部材１１の
一部を構成する結晶ホルダ４６のオーバハング部上に、
ロンドア８の長さ方向に摺動自在の回動可能スリーブ８
１により回動自在に取付ける。

このリンクシステムは更に２個の平行四辺形リンクを具
える。その第１平行四辺形リンクは一端を互に回動自在
に枢支したロッド８４とリンク部材８６を具え、第２平
行四辺形リンクは同様に一端を互に回動自在に枢支した
レッド８５とリンク部材８７を具える。リンク部材８６
の他端は支持装置２１のコリメータ円筒スクリーン２６
の上面・に回動自在に枢支すると共にリンク部材８７の
他端全検出器５のハウジングの上面に回動自在に枢支し
、両部支点はスペクトロメータビームの中心軸線の垂直
上方投影線上に位置するようにする。

ロッド８４及び８５の他端はそれぞれ第１及び第２部材
７及び１１の一部を構成する結晶ホルダ２７及び４６の
オーバハング部上の、第１及び第２結晶８及び４の隣接
端縁８２及び８８の垂直上方投影点に対応する位置に回
動自在に枢支する。

このリンク構成によれば各ロッド８４及び８５はスペク
トロメータビームの中心軸線に平行に保たれ、このこと
は照角θが３０°にセットされているとき（第６図）及
び６０°にセットされているとき（第７図）のリンクの
動作を示す第６及び第７図から明らかである。

第４図から明らかなようにロッド７８はロッド８４及び
８５より上方に位置し、第６図から明らかなようにロッ
ド７８はロッド８４と第１結晶３の前方で交差すると共
にロッド８５と第２結晶４の前方で交差する。これによ
り得られるシザー作・用を用いて対応する遮へいブレー
ド７０及び７１をそれぞれの結晶ホルダ２７及び４６の
関連する上部及び下部トラック７５．７３及び７６．７
４に沿って、これらブレードを対応するロッド対に圧接
するよう作用するはね（図示せず）の作用に抗して変位
させるようにする。

遮へいブレード７０又は７１と接触するロッド７８．８
４及び８５の各々の直線縁９０．９１及び９２をセット
バックしてこの直線縁がロッドの各端の枢支点を結ぶ直
線と一致するようにする〇これらロッドの結晶側の枢支
点はそれぞれの結晶の対応する端縁の上方に位置すると
共にロッド８４及び８５が平行四辺形リンクの一部を構
成するため、直線縁９１．９０及び９２はＸ線源１から
第］及び第２結晶３，４においてブラッグ反射されて検
出器５に通過し得るスペクトロメータビーム部分（矢印
９４で示す）の対応する境界線のすぐ外側に位置するよ
うになる。従って、交差側縁９１．９０及び９０．９２
に支持されたそれぞれの遮へいブレード７０．７１の縁
は、スペクト・シメータ波長がモータ５４により変化さ
れるにつれてスペクトロメータビームの前記部分のすぐ
外側に維持されることになる。

ブレード７０及び７１は不所望な散乱Ｘ線（バックグラ
ウンド）の十分な遮へい作用が得られるように重金属で
形成し、例えばスチール板上に支持したモリブデン又は
鉛で形成することができる。

遮へいブレード７０．７１を設けることにより散乱Ｘ線
が検出器５に入射するのを阻止する慣例の垂直方向配置
のソーラスリットが不要になる。

しかし、二結晶Ｘ線スペクトロメータにより与えられる
解像度は高いため、ビームバスの入力側に水平ソーラス
リットを設けてスペクトロメータ平面に精密に平行なパ
スを経て受信されるＸ線のみが検出されるようにするこ
とができる。これは、スペクトロメータ平面に対し約１
度以上の角度で走行するＸ線に対するブラッグの条件は
共平面Ｘ線に対するブラッグの条件から十分に相違して
達成し得る解像度を劣化し得ないためである０シザ一作
用によりブレード７０．７１を変位させるのは高い値の
θの使用時に困難になり得る。

この場合にはこれらブレードを変位させる他の手段を設
けることができ、例えばロッドの対応するエツジを検知
する装置を用いる簡単なサーボ系又は検知ヘッド５９に
より供給されるスペクトロメータ角度情報とブレードの
対応する位置とのルックアップテーブルを用いる簡単な
サーボ系を用いることができる。θの範囲がもつと狭い
範囲、例えば６０°までに制限されている場合には、ブ
レード７０．７１をロッド７８のみを用いて又は平行リ
ンク８４．８６及び８５．８７のみを用いて発生側方ス
ラストに抗して適切に支持すれば、ロッド８４．７８及
び７８．８５のシザー作用の使用を不要にすることがで
きる。これは、ロンドア８又は８４．８５の対応するエ
ツジ９０又は９１．９２がブレード通路７８及び７４に
沿って同一のθ値に対して同一の位置を占めるためであ
る０また１ブレードをリンクロッドで直接駆動するのが
望ましくない場合にはロッドエツジセンサを具える簡単
なサーボ系をθの全範囲に亘って使・用することができ
る。

遮へいブレード７０．７１をそれぞれの結晶８゜４の前
方に上述のように装着することにより、スペクトロメー
タはソーラスリットを用いて検出器を散乱Ｘ線から遮へ
いする従来のものより一層コンパクトにすることができ
る。このサイズ縮小はスペクトロメータの真空気密ケー
ス２０の製造コストを著しく低減する利点をもたらす。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明Ｘ線スペクトロメータの原理説明用ｌｌ
１１図、 第２図は照角及び従って波長の変化につれて変位する第
１図のスペクトロメータの種々の素子の相対位置を示す
線図、 第８図は本発明Ｘ線スペクトロメータの一実施例の平面
図、 第４図は第８図の装置の正面図、 第５図は最大照角にセットされた第８図の装置の平面図
、 第６及び７図は第８図の装置の小照角及び大照角におけ
るＸ線シールド駆動リンク機構を示す平面図である。 １・・・Ｘ線ｉ　２・・・Ｘ線ビーム ８・・・第１結晶　４・・・第２結晶 ５・・・検出器　７・・・第１部材 ８・・・第１軸線　９・・・第２軸線 １０・・・第８軸線　１１・・・第２部材１５・・・試
料　１６・・・Ｘ線管 ２０・・・ケース　２１・・・支持装置２６・・・コリ
メータ　２７．４６・・・結晶ホルダ３０、２８１２７
・・・第１部材 ８７、４０．４５．４８・・・第２部材５４・・・駆動
モータ ５４、５５．５６．６２．６３．６６・・・第１及び第
２部材の角変位装置 ７０、７１・・・遮へいブレード ７８、８４．８５．８６．８７・・・遮へいブレード変
位用リンク機構

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 Ｌ　分析すべきＸ線源に対し固定された支持装置と、該
   支持装置に対しスペクトロメータ平面に垂直であって第
   １結晶を通る第１軸線を中心に回動し得る第１部材に固
   着された第１結晶と、前記第１部材により回動自在に支
   持されスペクトロメータ平面に垂直な第２軸線を中心に
   角変位し得る第２部材に固着された第２結晶とを具え、
   前記第１及び第２結晶は前記第２軸線から同一距離にあ
   り、更にスペクトロメータ平面に垂直であって前記第２
   結晶を通る第８軸線を中心に回動し得る検出装−置を具
   え、前記Ｘ線源、第１及び第２結晶及び検出装置は、ス
   ペクトロメータの調整波長に対応するＸ線が）１１源か
   ら第１結晶に入射し、そこからブラックの反射条件に従
   って第２結晶に反射され、そこから同様に検出装置に反
   射されるように相対的に配置し、更に前記第１部材を第
   １軸線を中心に角度Δθだけ角変位させると共に前記検
   出装置を第８軸線を中心に前記第２部材に対し角度Δθ
   だけ角変位させ、且つ前記第２部材を第２軸線を中心に
   前記第１部材に対し角度２Δθだけ角変位させる角変位
   手段を含むスペクトロメータ波長調整手段を具える二結
   晶Ｘ線スペクトロメータにおいて、各結晶を対座する第
   １及び第２部材上に、結晶の中心と第２軸線とを結ぶ方
   向に対し同一の角度ψだけ互に反対方向に傾けて取付け
   、その角度ψは５０〜７０度の範囲内の値としたことを
   特徴とする二結晶Ｘ線スペクトロメータ０ ２、特許請求の範囲第１項記載のＸ線スペクトロメータ
   において、第１及び第２遮へいブレードを具え、各遮へ
   いブレードは対応する第１及び第２結晶の関連する反射
   面に垂直な方向に、第１軸線又は第３軸線を通る通路に
   沿って変位し得るよう配置してあり、且つこれら遮へい
   ブレードをスペクトロメータ波長の調整に応答して変位
   させて各遮へいブレードの端縁をＸｌｓ源から第１及び
   第２結晶においてブラッグ反射されて検出器に通過し得
   るスペクトロメータビーム部分の光路のすり外側に維持
   する変位手段を具えることを特徴とする二結晶Ｘ線スペ
   クトロメータ。 ＆　特許請求の範囲第２項記載のＸ線スペクトロメータ
   において、前記第１及び第２遮へいブレードは対応する
   トランクに沿って摺動し得るよう配置しであると共にス
   ペクトロメータビームの光路の外側に配置されたリンク
   機構により機械的に変位し得るようにしてあり、該リン
   ク機構はスペクトロメータビームの入射方向に対する前
   記第１及び第２部材の姿勢に応動するよう結合した少く
   とも１個のレバーを具えていることを特徴とする二結晶
   Ｘ線スペクトロメータ。 侃　特許請求の範囲第８項記載のＸ線スペクトロメータ
   において、前記リンク機構は、第１結晶のスペクトロメ
   ータビーム伝播方向に対な方向の投影点に対応する第１
   部材上の位置に一端を回動自在に枢支した細長いリンク
   部材を具え、その他端は第２結晶の後側の端縁の同様の
   垂直方向投影点に対応する第２部材上の位置に回動自在
   に枢支し、前記回動自在枢支部の一方は前記リンク部材
   に沿って長さ方向に摺動自在とし、前記リンク部拐を各
   遮へいブレードに摺動自在に連結して各ブレードがスペ
   クトロメータ波長の調整に応答して対応するトラックに
   沿って変位するようにしであることを特徴とする二結晶
   Ｘ線スペクトロメータ。 五　特許請求の範囲第３又は４項記載のＸ線スペクトロ
   メータにおいて、前記リンク機構は第１及び第２平行四
   辺形リンクを具え、各平行四辺形リンクは一端を互に回
   動自在に相互連結したロッドとリンク部材を具え、それ
   ぞれのロッドの他端を前記第１及び第２部材上の、前記
   第１及び第２結晶の隣接する端縁のスペクトロメータ平
   面に垂直な方向のそれぞれの投影点に対応する位置に回
   動自在に枢支し、前記リンク部材の他端をそれぞれスペ
   クトロメータビームの第１結晶へ向ｐ）　ビーム路部分
   及び第１結晶から第２結晶へと反射されるビーム路部分
   の中心軸線のスペクトロメータ平面に垂直な方向の投影
   線上におし）で前記支持装置及び前記検出器に回動自在
   に枢支して各ロッドがスペクトロメータビームの対応す
   るビーム路部分の縁に平行になるようにし各ロッドを対
   応する遮へい）ブレードに摺動自在に連結して各ブレー
   ドがスペクトロメータ波長の調整に応答して対応するト
   ラックに沿って変位するようにしであることを特徴と１
   −る二結晶ｘｍスペクトロメータ。 ＆　特ｉｆｆ請求の範囲第５項記載のＸ線スペクトロメ
   ータにおいて、前記遮へ１／）プレー　）−Ｇｔ対応す
   る結晶の方向にばねで押圧し、ｎｕ記細長いリンク部材
   と前記平行四辺形ＩＪンクカ１らの対応するロッドとを
   シザー状に交差させ、その交差ｊａｉｌｓに対応する遮
   へいブレードの前縁を当接して前記ブレードをスペクト
   ロメータ波長の調整に応答して前記はね押圧力に抗して
   変位させるようにしたことを特徴とする二結晶Ｘ線スペ
   クトロメータ。