JPS608277A - アミノメチルオキソオキサゾリジニルベンゼン誘導体 - Google Patents
アミノメチルオキソオキサゾリジニルベンゼン誘導体Info
- Publication number
- JPS608277A JPS608277A JP11471084A JP11471084A JPS608277A JP S608277 A JPS608277 A JP S608277A JP 11471084 A JP11471084 A JP 11471084A JP 11471084 A JP11471084 A JP 11471084A JP S608277 A JPS608277 A JP S608277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- cycloalkyl
- ylmethyl
- oxooxazolidin
- halogen atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスルフィド、スルホキシド、スルホンおよびス
ルホンアミドを含む新規なアミンメチルオキソオキサゾ
リジニルベンセン誘導体、それらを含有する薬学的組成
物、および細菌感染を軽減するためのそれらの使用に関
する。
ルホンアミドを含む新規なアミンメチルオキソオキサゾ
リジニルベンセン誘導体、それらを含有する薬学的組成
物、および細菌感染を軽減するためのそれらの使用に関
する。
現在のところ、好都合と考えられるすべての特徴を備え
た抗菌性生成物は何ら存在しない。
た抗菌性生成物は何ら存在しない。
細菌菌株による耐性が継続的に発達する。アレルギー反
応の減少および注射部位での刺激の減少、そしてより大
ぎい生物学的半減期(すなわちより長い生体内活性)が
抗菌性生成物にとって現在望ましい特徴である。
応の減少および注射部位での刺激の減少、そしてより大
ぎい生物学的半減期(すなわちより長い生体内活性)が
抗菌性生成物にとって現在望ましい特徴である。
米国特許第4,128./)54号明細!j′(197
8年12月5日)には、なかんずく、式 (式中AはR8(リユであり、XはCL、 Brまたは
Fであり、Rは01〜C3−アルキルでありそしてnは
0.1または2である)を有する化合物が公開されてい
る。これら化合物は植物のカビ性および細菌性疾患の制
御に有用であると記載されている。
8年12月5日)には、なかんずく、式 (式中AはR8(リユであり、XはCL、 Brまたは
Fであり、Rは01〜C3−アルキルでありそしてnは
0.1または2である)を有する化合物が公開されてい
る。これら化合物は植物のカビ性および細菌性疾患の制
御に有用であると記載されている。
米国再発行qを許第29.607号明細書(1978年
4月11日)には式 (式中RはH,F、 CH5またはCF5である)を有
する5−ヒドロキシメチル−3−R換−2−、tキサゾ
リジノンの誘導体が公開されている。かかる化合物は抗
うつ、精神安定、鎮静および消炎性質を有すると記載さ
れている。
4月11日)には式 (式中RはH,F、 CH5またはCF5である)を有
する5−ヒドロキシメチル−3−R換−2−、tキサゾ
リジノンの誘導体が公開されている。かかる化合物は抗
うつ、精神安定、鎮静および消炎性質を有すると記載さ
れている。
米国特許第4,250,318号明細書(1981年2
月10日〕には式 (式中R′はなかんず< p −n−oンチルアミノ基
、−8Ri基(ここでR1は01〜C5−アルキルであ
る)またはアセチルメチルチオ基である)を有する抗う
つ性化合物が公開されている。
月10日〕には式 (式中R′はなかんず< p −n−oンチルアミノ基
、−8Ri基(ここでR1は01〜C5−アルキルであ
る)またはアセチルメチルチオ基である)を有する抗う
つ性化合物が公開されている。
米国特許第4,340,606号明細書(1982年7
月20日)には一般式 (式中R1はCH3、C2H5、CF2H,CFx、ま
たはCF2CF2Hでありそして又はOR2(ここでR
2はHまたは鍾種のアシル部分である〕である)を有す
る抗菌剤が公開されている。
月20日)には一般式 (式中R1はCH3、C2H5、CF2H,CFx、ま
たはCF2CF2Hでありそして又はOR2(ここでR
2はHまたは鍾種のアシル部分である〕である)を有す
る抗菌剤が公開されている。
米国時fp第5,687,965MQLtLIliF
(1972年8月29日〕には式 〔式中−N(R1バR2)はそのアルキル部分が1〜5
個の炭素原子を有するジアルキルアミノ基であるか、ま
たは1〜5個の炭素原子を有するアルキル基によってま
たはピロリジノカルボニルメチル基によって置換されて
いることができる複素環式アミノ基であり、そしてR3
は下記の基、すなわち 1〜5個の炭素原子を有するアルコキシ基、ノ・ロゲン
原子、トリフルオロメチル基またはエステル化されうる
カルボキシル基、 01個またはそれ以上によって置換されていることがで
きるフエニ/l/基である〕を有する化合物が公開され
ている。
(1972年8月29日〕には式 〔式中−N(R1バR2)はそのアルキル部分が1〜5
個の炭素原子を有するジアルキルアミノ基であるか、ま
たは1〜5個の炭素原子を有するアルキル基によってま
たはピロリジノカルボニルメチル基によって置換されて
いることができる複素環式アミノ基であり、そしてR3
は下記の基、すなわち 1〜5個の炭素原子を有するアルコキシ基、ノ・ロゲン
原子、トリフルオロメチル基またはエステル化されうる
カルボキシル基、 01個またはそれ以上によって置換されていることがで
きるフエニ/l/基である〕を有する化合物が公開され
ている。
この特許にはこれら化合物が降圧、血管拡張、鎮痙、鎮
静、筋弛緩、鎮痛および消炎性質を有することが記載さ
れている。抗菌性質については何の記載もない。
静、筋弛緩、鎮痛および消炎性質を有することが記載さ
れている。抗菌性質については何の記載もない。
ベルギー特許第892,270号明細書(1982年8
月25日〕には式 (式中RはH,C1〜C4−アルキルまたはプロパルギ
ルであり、Arは場合によりハロゲンまたはトリフルオ
ロメチルによって置換されていてもよいフェニルであり
、nは0または1でありそしてXは−CH2CH2−1
−CH=C’H−、アセチレン基または−CH20−で
ある〕を有するモノアミンオキシダーゼ抑制剤が公開さ
れている。
月25日〕には式 (式中RはH,C1〜C4−アルキルまたはプロパルギ
ルであり、Arは場合によりハロゲンまたはトリフルオ
ロメチルによって置換されていてもよいフェニルであり
、nは0または1でありそしてXは−CH2CH2−1
−CH=C’H−、アセチレン基または−CH20−で
ある〕を有するモノアミンオキシダーゼ抑制剤が公開さ
れている。
W、A、Gregory氏の米国特許出願第417;5
69号(1982年9月15日出厘〕の一部継続出願で
ある米国特許出願第567.411号(1984年1月
5日出願9明細病、には式1 %式% す、R3およびR4は相互に独立してH1炭素原子1〜
4個を有するアルキルまたは炭素原子3〜8個を有する
シクロアルキルであり、R5はNR5R4またはOR5
であり、R6は炭素原子1〜4個を有するアルキルであ
り、R7は場合により1個またはそれ以上のハロゲンで
置換されていてもよい炭素原子1〜4個を有するアルキ
ルであり、R8およびR9は相互に独立して炭素原子1
〜4個を有するアルキルであるかまたは一緒に=CCH
=CHC02H。
69号(1982年9月15日出厘〕の一部継続出願で
ある米国特許出願第567.411号(1984年1月
5日出願9明細病、には式1 %式% す、R3およびR4は相互に独立してH1炭素原子1〜
4個を有するアルキルまたは炭素原子3〜8個を有する
シクロアルキルであり、R5はNR5R4またはOR5
であり、R6は炭素原子1〜4個を有するアルキルであ
り、R7は場合により1個またはそれ以上のハロゲンで
置換されていてもよい炭素原子1〜4個を有するアルキ
ルであり、R8およびR9は相互に独立して炭素原子1
〜4個を有するアルキルであるかまたは一緒に=CCH
=CHC02H。
キルであり、R12はH1炭素原子1〜5個を有するア
ルキル、C’H20HまたはCH25Hであり、XはC
L、 Brまたは工であり、2は生理学的に受答しうる
陽イオンであり、mは2または6であり、nは0または
1でありそしてpは3.4または5であり、そしてRI
Qが炭素原子1〜3個を有するアルキルである場合はR
1はまたCH35(0)q(ここでqは0.1または2
である〕であることもできる〕を有する抗菌剤また1ま
その桑学的に受容しうる塩のt−立体異性体、およびd
−およびt−立体異性体の混合物について公開されてい
る。
ルキル、C’H20HまたはCH25Hであり、XはC
L、 Brまたは工であり、2は生理学的に受答しうる
陽イオンであり、mは2または6であり、nは0または
1でありそしてpは3.4または5であり、そしてRI
Qが炭素原子1〜3個を有するアルキルである場合はR
1はまたCH35(0)q(ここでqは0.1または2
である〕であることもできる〕を有する抗菌剤また1ま
その桑学的に受容しうる塩のt−立体異性体、およびd
−およびt−立体異性体の混合物について公開されてい
る。
引用した文献またはいかなる既知文献も本発明の新規な
抗菌性化合物については何ら示唆していない。
抗菌性化合物については何ら示唆していない。
本発明の新規化合物は生体外お、よび生体内のいずれの
試験においても有用な抗菌活性を有する。詳細には、本
発明の局面の一つは式Iを有する化合物のt−立体異性
体、およびa−およびt−立体異性体の混合物、または
その薬学的に適当な塩に関する。ここで上式中Aは星5
R5 −NC0R4、−NS(0)nR,I 場合により1個
またはそれ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい
cl−C5−フルキルテアルカ、C2〜C5−アルケニ
ルまたはC5〜C8−シクロアルキルであり、Riは場
合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換され
ていてもよい01〜C4−アルキル、CN。
試験においても有用な抗菌活性を有する。詳細には、本
発明の局面の一つは式Iを有する化合物のt−立体異性
体、およびa−およびt−立体異性体の混合物、または
その薬学的に適当な塩に関する。ここで上式中Aは星5
R5 −NC0R4、−NS(0)nR,I 場合により1個
またはそれ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい
cl−C5−フルキルテアルカ、C2〜C5−アルケニ
ルまたはC5〜C8−シクロアルキルであり、Riは場
合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換され
ていてもよい01〜C4−アルキル、CN。
NR5R,5またはCO2R8、C2〜C4−アルケニ
ル、讐 0 −NR9Rl0.−N5、−NHCR4、−NZCR4
、−NX2− 、NH4I立してC1〜C2−アルキル
であるかまたは一緒になって−(CH2)Q−であり、
R4は場合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で
置換されていてもよい01〜C4−アルキルであり、R
5およびR6は相互に独立してH,01〜C4−アルキ
ルまたは03〜CB−シクロアルキルであり、R7は−
NR5R6または一〇R5であり、R8はHまたはC1
〜C4−アルキルであり、R9はH,Cj〜C4−アル
キルまたは03〜C8シクロアルキルであり、Rloは
H%01〜C4−アルキル、C2〜C4−アルケニル、
C3〜C4−シクロアルキル、−CH8または−NRH
R11aであり、R11およびR41aは相互に独立し
てHまたはC1〜C4−アルキルであるかまたは一緒に
なって−(CH2)r−であり、XはC1,Brまたは
工であり、YはH,F、 CL、 BrまたはNO2で
あるか、またはAとYとが一緒になって一〇(CH2)
to−であることができ、2は生理学的に受容しうる陽
イオンであり、nは0.1または2であり、pは0また
は1であり、qは3.4または5であり、rは4または
5であり、tは1.2または3であり、P120 ¥1
2 Bは−NH2、−N −C−R13、−N−8(0)u
R+ 4またはN3であり、R12はHl 自〜C10
−アルキルまたは05〜C8−シクロアルキルであり、
R13はHであるか、場合により1個またはそれ以上の
ハロゲン原子で直換されていてもよい01〜c4−アル
キルであるか、C2〜C4−アルケニル、C3〜C4−
シクルカ、α−アミノ酸例えばグリシン、L−7ラニン
、L−システィン、L−プロリンおよびD−アラニンに
由来するアミノアルキル基でアルか、−NR19R20
またはC(NI(2)R21R22であり鳥R14は場
合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換され
ていてもよい01〜c4−アルキルであり、R15はH
または場合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で
置換されていてもよい01〜C4−アルキルであり、R
16およびR17は相互に独立して01〜C4−アルキ
ルであるかまたは一緒になって−(CH2)m−であり
、RlBは01〜C,l−アルキルまたは07〜C11
−アラルキルであり、R19およびR20は相互に独立
してHまたはC1〜C4−アルキルであり、R21およ
びR22は相互に独立してHSCi〜C4−アルキル、
03〜c6−シクロアルキシ、フェニルまたは一緒にな
っチーCCH2)e−であり、Uは1または2であり、
■は0.1または2であり、mは2または6でありそし
て日ある場合はR1’2はHであり、 (4)Aが一〇Nである場合はBは−N3ではなく、そ
して (5) Aが(CH5)2CHである場合はBはHNC
OCH2C2てはない ものとする。
ル、讐 0 −NR9Rl0.−N5、−NHCR4、−NZCR4
、−NX2− 、NH4I立してC1〜C2−アルキル
であるかまたは一緒になって−(CH2)Q−であり、
R4は場合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で
置換されていてもよい01〜C4−アルキルであり、R
5およびR6は相互に独立してH,01〜C4−アルキ
ルまたは03〜CB−シクロアルキルであり、R7は−
NR5R6または一〇R5であり、R8はHまたはC1
〜C4−アルキルであり、R9はH,Cj〜C4−アル
キルまたは03〜C8シクロアルキルであり、Rloは
H%01〜C4−アルキル、C2〜C4−アルケニル、
C3〜C4−シクロアルキル、−CH8または−NRH
R11aであり、R11およびR41aは相互に独立し
てHまたはC1〜C4−アルキルであるかまたは一緒に
なって−(CH2)r−であり、XはC1,Brまたは
工であり、YはH,F、 CL、 BrまたはNO2で
あるか、またはAとYとが一緒になって一〇(CH2)
to−であることができ、2は生理学的に受容しうる陽
イオンであり、nは0.1または2であり、pは0また
は1であり、qは3.4または5であり、rは4または
5であり、tは1.2または3であり、P120 ¥1
2 Bは−NH2、−N −C−R13、−N−8(0)u
R+ 4またはN3であり、R12はHl 自〜C10
−アルキルまたは05〜C8−シクロアルキルであり、
R13はHであるか、場合により1個またはそれ以上の
ハロゲン原子で直換されていてもよい01〜c4−アル
キルであるか、C2〜C4−アルケニル、C3〜C4−
シクルカ、α−アミノ酸例えばグリシン、L−7ラニン
、L−システィン、L−プロリンおよびD−アラニンに
由来するアミノアルキル基でアルか、−NR19R20
またはC(NI(2)R21R22であり鳥R14は場
合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換され
ていてもよい01〜c4−アルキルであり、R15はH
または場合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で
置換されていてもよい01〜C4−アルキルであり、R
16およびR17は相互に独立して01〜C4−アルキ
ルであるかまたは一緒になって−(CH2)m−であり
、RlBは01〜C,l−アルキルまたは07〜C11
−アラルキルであり、R19およびR20は相互に独立
してHまたはC1〜C4−アルキルであり、R21およ
びR22は相互に独立してHSCi〜C4−アルキル、
03〜c6−シクロアルキシ、フェニルまたは一緒にな
っチーCCH2)e−であり、Uは1または2であり、
■は0.1または2であり、mは2または6でありそし
て日ある場合はR1’2はHであり、 (4)Aが一〇Nである場合はBは−N3ではなく、そ
して (5) Aが(CH5)2CHである場合はBはHNC
OCH2C2てはない ものとする。
それらの高い抗菌活性または合成の容易さ、またはその
両方ゆえに下記化合物すなわち(1)YがHであり、A
がパラ位で置換された−B C0)nR1、NO2、−
C−CH5または−aH(cHg)2であり、R1が場
合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換され
ていてもよい01〜C2−アルキルであるかまたはNR
5R6であり、R5がHまたはCH5であり、R6がH
またはCH5であり、nはR1がアルキルまたは置換ア
ルキルである場合は0.1または2であり、そしてR1
がNR5R,5である場合は2であるか、または (2)Bが−NH−C−R15であり、R15がH,C
’H5,0R18、CHCj!、2、CH2CLまたは
CH20R15であり、R15がHまたはC1〜C4−
アルキルでありそしてR18がC1〜C4−アルキルで
ある 式Iを有する化合物が好ましい。
両方ゆえに下記化合物すなわち(1)YがHであり、A
がパラ位で置換された−B C0)nR1、NO2、−
C−CH5または−aH(cHg)2であり、R1が場
合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換され
ていてもよい01〜C2−アルキルであるかまたはNR
5R6であり、R5がHまたはCH5であり、R6がH
またはCH5であり、nはR1がアルキルまたは置換ア
ルキルである場合は0.1または2であり、そしてR1
がNR5R,5である場合は2であるか、または (2)Bが−NH−C−R15であり、R15がH,C
’H5,0R18、CHCj!、2、CH2CLまたは
CH20R15であり、R15がHまたはC1〜C4−
アルキルでありそしてR18がC1〜C4−アルキルで
ある 式Iを有する化合物が好ましい。
高い抗菌活性ゆえに好ましいのは下記絶対配置
を有する式Iの化合物である。
高い抗菌活性ゆえにさらに好ましいのは下記絶対配置
。
。
を有する式Iの化合物である。これら絶対配置それらの
高い抗凸活性ゆえに好ましい化合物を詳細にあげれば以
下のとおりである。
高い抗凸活性ゆえに好ましい化合物を詳細にあげれば以
下のとおりである。
(4)−N−[3−[:4−(メチルスルホニル〕フェ
ニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕
カルバミン酸メチルエステル、(z) −N−[: s
−[: 4− (メチルチオ)フェニルシー2−オキソ
オキサゾリジン−5−イルメチル〕カルバミン酸メチル
エステル、 (z)−N−(3−c4−(メチルスルホニル)フェニ
ルシー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ホ
ルムアミド、 (イ)−N−(3−44−(メチルスルホニル〕フェニ
ル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミド、 (z) −N −[: 3−1: 4− (メチルチオ
)フェニル〕−2−オキシオキザゾリジン−5−イルメ
チル]アセトアミド、 (イ)−N−(3−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ルシー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミド、 (4)−N−(3−(4−(メチルスルフィニル)フェ
ニルツー2−オキソオキザゾリジン−5−イルメチル〕
アセトアミド、 (t)−2,2−ジクロロ−N−[:3−[4−(メチ
ルスルホニル)フェニルツー2−オキソオキザゾリジン
−5−イルメチル〕アセトアミド、(t) −N −C
3−(4−イソプロピルフェニル)−2−オキソオキサ
ゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド、 および <t) −N −[5−(4−アセチルフェニル)−2
−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミ
ド。
ニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕
カルバミン酸メチルエステル、(z) −N−[: s
−[: 4− (メチルチオ)フェニルシー2−オキソ
オキサゾリジン−5−イルメチル〕カルバミン酸メチル
エステル、 (z)−N−(3−c4−(メチルスルホニル)フェニ
ルシー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ホ
ルムアミド、 (イ)−N−(3−44−(メチルスルホニル〕フェニ
ル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミド、 (z) −N −[: 3−1: 4− (メチルチオ
)フェニル〕−2−オキシオキザゾリジン−5−イルメ
チル]アセトアミド、 (イ)−N−(3−[4−(アミノスルホニル)フェニ
ルシー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミド、 (4)−N−(3−(4−(メチルスルフィニル)フェ
ニルツー2−オキソオキザゾリジン−5−イルメチル〕
アセトアミド、 (t)−2,2−ジクロロ−N−[:3−[4−(メチ
ルスルホニル)フェニルツー2−オキソオキザゾリジン
−5−イルメチル〕アセトアミド、(t) −N −C
3−(4−イソプロピルフェニル)−2−オキソオキサ
ゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド、 および <t) −N −[5−(4−アセチルフェニル)−2
−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミ
ド。
本発明のもう一つの局面は式1a
(la)
(式中R12はI(、C1〜C1o−アルキルまたは0
3〜C8−シクロアルキルである)を有する新規中間体
のt−立体異性体およびd−およびt−立体異性体の混
合物に関する。
3〜C8−シクロアルキルである)を有する新規中間体
のt−立体異性体およびd−およびt−立体異性体の混
合物に関する。
本発明のも5一つの局面は式ib
’Ib)
(式中R12はH% 01〜C10−アルキルまたは0
3〜C8−シクロアルキルであり、R13はHであるか
、場合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換
されていてもよい01〜C4−アルキルであるか、C2
〜C4−アルケニル、C3〜C4−シフロアα二アミノ
酸例えばグリシン、L−アラニン、L−システィン、L
−プロリンおよびD−アラニンに由来するアミノアルキ
ル基であるか、−NR19R2oまたはC(NH2)R
21R22であり、R14は場合により1個またはそれ
以上のハロゲン原子で置換されていてもよい01〜c4
−アルキルであり、R45はHまたは場合により1個ま
たはそれ以上(7) ハロゲン原子で置換されていても
よい自〜C4−アルキルであり、R16およびR17は
相互に独立して01〜C4−アルキルであるかまたは一
緒になって−(CH2)m−であり、RlBは01〜C
4−アルキルまたt主c7〜C11−アラルキルであり
、R19およびR20は相互に独立してHまたはC1〜
C4−アルキルであり、R21およびR22は相互に独
立してH101〜C4−アルキル、03〜C6−シクロ
アルキル、フェニルまたは一緒になって−(CH2)8
−であり、mは2または6であり、Vは0.1または2
でありそしてθは2.6.4または5である)を有する
新規中間体のt−立体異性体およびd−およびt−立体
異性体の混合物にも関する。
3〜C8−シクロアルキルであり、R13はHであるか
、場合により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換
されていてもよい01〜C4−アルキルであるか、C2
〜C4−アルケニル、C3〜C4−シフロアα二アミノ
酸例えばグリシン、L−アラニン、L−システィン、L
−プロリンおよびD−アラニンに由来するアミノアルキ
ル基であるか、−NR19R2oまたはC(NH2)R
21R22であり、R14は場合により1個またはそれ
以上のハロゲン原子で置換されていてもよい01〜c4
−アルキルであり、R45はHまたは場合により1個ま
たはそれ以上(7) ハロゲン原子で置換されていても
よい自〜C4−アルキルであり、R16およびR17は
相互に独立して01〜C4−アルキルであるかまたは一
緒になって−(CH2)m−であり、RlBは01〜C
4−アルキルまたt主c7〜C11−アラルキルであり
、R19およびR20は相互に独立してHまたはC1〜
C4−アルキルであり、R21およびR22は相互に独
立してH101〜C4−アルキル、03〜C6−シクロ
アルキル、フェニルまたは一緒になって−(CH2)8
−であり、mは2または6であり、Vは0.1または2
でありそしてθは2.6.4または5である)を有する
新規中間体のt−立体異性体およびd−およびt−立体
異性体の混合物にも関する。
本発明のもう一つの局面は適当な薬学的担体および抗菌
的に有効作用量の式1の化合物からなる薬学的組成物に
関する。本発明のさらにもう一つの局面は抗菌的に有効
作用量の式■の化合物を哺乳動物に投与することからな
る哺乳動物の細菌感染軽減法にも関する。
的に有効作用量の式1の化合物からなる薬学的組成物に
関する。本発明のさらにもう一つの局面は抗菌的に有効
作用量の式■の化合物を哺乳動物に投与することからな
る哺乳動物の細菌感染軽減法にも関する。
式1.IaおよびIbの化合物は少くとも1個の偏光中
心を有し、従って2種類のそれぞれの異性体としてまた
はそれら両者の混合物として存在する。本発明は左旋性
異性体(4)、ならびにd−およびt−異性体を含有す
る混合物に関する。
心を有し、従って2種類のそれぞれの異性体としてまた
はそれら両者の混合物として存在する。本発明は左旋性
異性体(4)、ならびにd−およびt−異性体を含有す
る混合物に関する。
AがRIS(す。でありモしてnが1である場合にはも
う1個の偏光中心が存在しそして本発明はその中心での
ありうる異性体の両者にも関する。
う1個の偏光中心が存在しそして本発明はその中心での
ありうる異性体の両者にも関する。
基B中にもさらに偏光中心が存在できそして本発明は基
Bにおける全てのありうる立体異性体にも関する。
Bにおける全てのありうる立体異性体にも関する。
本発明の目的にとって、式!、IaおよびIbを有する
化合物のt−異性体は下記 H゛ に示される配置を有する化合物を意味することが意図さ
れる。
化合物のt−異性体は下記 H゛ に示される配置を有する化合物を意味することが意図さ
れる。
式(1)の化合物は下記のようにして合成されうる。
スキーム1
+塩基
上記スキーム中R2は4−トリル、フェニル、4−クロ
ロフェニル、C1〜C4−アルキルマタハハロアルキル
例えばトリフルオロメチルでありうる。
ロフェニル、C1〜C4−アルキルマタハハロアルキル
例えばトリフルオロメチルでありうる。
合成径路a)が用いられる場合は、基Aは−Hある場合
以外の任意の先に示された基でありうる。合成径路b)
が用いられる場合に基Aは−HであるかまたはAがR1
5(0)nでありそしてR1がNR9R10であり%R
9、R10% R11およびR11aがHとなれない場
合以外の任意の先に示された基でありうる。
以外の任意の先に示された基でありうる。合成径路b)
が用いられる場合に基Aは−HであるかまたはAがR1
5(0)nでありそしてR1がNR9R10であり%R
9、R10% R11およびR11aがHとなれない場
合以外の任意の先に示された基でありうる。
式(■)の化合物は溶媒+塩基中でかまたはピリジンの
ような塩基性有機溶媒中で適当なスルホニルハライドま
たはスルホン酸無水物と反応させることによりスルホネ
ートエステル(nl)に変換されうる。A基がスルホン
アミド水素を有する場合はピリジンまたは他の緩和な塩
基性溶媒例えばピコリンまたはコリジンを使用するのが
望ましい。溶媒としては1,2−ジメトキシエタン、ジ
オキサン、ビス−(2−メトキシエチル)エーテル、N
、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N、N−ジメ
チルアセトアミド(DMA Q )、アセトニトリルま
たはテトラメチレンスルホンが使用されうる。塩基とし
てはトリエチルアミン、N−メチルモルホリン、トリブ
チルアミンまたは複素環式塩基の1種が用いられうる。
ような塩基性有機溶媒中で適当なスルホニルハライドま
たはスルホン酸無水物と反応させることによりスルホネ
ートエステル(nl)に変換されうる。A基がスルホン
アミド水素を有する場合はピリジンまたは他の緩和な塩
基性溶媒例えばピコリンまたはコリジンを使用するのが
望ましい。溶媒としては1,2−ジメトキシエタン、ジ
オキサン、ビス−(2−メトキシエチル)エーテル、N
、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N、N−ジメ
チルアセトアミド(DMA Q )、アセトニトリルま
たはテトラメチレンスルホンが使用されうる。塩基とし
てはトリエチルアミン、N−メチルモルホリン、トリブ
チルアミンまたは複素環式塩基の1種が用いられうる。
化合物■はDMF、N−メチルピロリドン、DMAc、
スルホラン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素
、ヘキサメチル燐酸アミド(HMPA )等のような双
極性非プロトン性溶媒中で適当な触媒、例えばナトリウ
ムおよびカリウムアジドには18−クラウン−6そして
リチウムアジドには12−クラウン−4と共にナトリウ
ム、カリウム、リチウム、セシウムまたはルビジウムの
アジドと反応させうる。この反応は約60〜125℃で
実施され、好ましい温度は70℃〜90℃である。生成
物は構造(IV)を有するアジドである。
スルホラン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素
、ヘキサメチル燐酸アミド(HMPA )等のような双
極性非プロトン性溶媒中で適当な触媒、例えばナトリウ
ムおよびカリウムアジドには18−クラウン−6そして
リチウムアジドには12−クラウン−4と共にナトリウ
ム、カリウム、リチウム、セシウムまたはルビジウムの
アジドと反応させうる。この反応は約60〜125℃で
実施され、好ましい温度は70℃〜90℃である。生成
物は構造(IV)を有するアジドである。
このアジド(IV)は木炭上のパラジウムにおける水素
添加を含む任意の数種の方法により還元されうる。1.
3−プロパンジチオールおよびトリエチルアミンのよう
な塩基で処理することによりアジドを還元することも可
能である。アジドはまた硫化水素により、および三価燐
含有化合物例えばトリメチルホスフィンおよびトリメチ
ルホスファイトにより、およびメルカプタン例えばメル
カプト酢酸によってもアミンに還元されうる。水素を用
いる還元はAが水素である場合に最も良好に用いられう
るが、Aが6価硫黄含有基である場合にもうまくゆくで
あろう。
添加を含む任意の数種の方法により還元されうる。1.
3−プロパンジチオールおよびトリエチルアミンのよう
な塩基で処理することによりアジドを還元することも可
能である。アジドはまた硫化水素により、および三価燐
含有化合物例えばトリメチルホスフィンおよびトリメチ
ルホスファイトにより、およびメルカプタン例えばメル
カプト酢酸によってもアミンに還元されうる。水素を用
いる還元はAが水素である場合に最も良好に用いられう
るが、Aが6価硫黄含有基である場合にもうまくゆくで
あろう。
還元はエタノール、メタノール、1.2−9メトキシエ
タン、酢酸、トリフルオロ酢酸またはインプロパツール
のような溶媒を使用して実施される。溶液を存在する木
炭上のパラジウム触媒と共に周囲温度で攪拌しそしてガ
ラスフリットを通して水素を大気圧下に導入しうる。い
くつかの場合には還元は発熱性である。
タン、酢酸、トリフルオロ酢酸またはインプロパツール
のような溶媒を使用して実施される。溶液を存在する木
炭上のパラジウム触媒と共に周囲温度で攪拌しそしてガ
ラスフリットを通して水素を大気圧下に導入しうる。い
くつかの場合には還元は発熱性である。
1.3−プロパンジチオールを用いる還元は当量のトリ
エチルアミンを含有するメタノールまたは他のアルコー
ル溶媒中でN2発生が起るまで加温することにより実施
される。周囲温度では徐々に還元が起る。20℃〜10
0℃の温度が使用でき、40℃〜60℃が好ましい。ア
ジド(IV)をトリメチルホスフィンと加温するとN2
が迅速に発生する。この反応は1.2−ジメトキシエタ
ンまたはビス−(2−メトキシエチル)エーテル中で実
施できそして粗製中間体は水または酸で加水分解すると
所望のアミン(V)を生成する。
エチルアミンを含有するメタノールまたは他のアルコー
ル溶媒中でN2発生が起るまで加温することにより実施
される。周囲温度では徐々に還元が起る。20℃〜10
0℃の温度が使用でき、40℃〜60℃が好ましい。ア
ジド(IV)をトリメチルホスフィンと加温するとN2
が迅速に発生する。この反応は1.2−ジメトキシエタ
ンまたはビス−(2−メトキシエチル)エーテル中で実
施できそして粗製中間体は水または酸で加水分解すると
所望のアミン(V)を生成する。
アミノメチル化合物(V)はアミンをピリジンのような
塩基性溶媒中で酸のクロライドまたは無水物と反応させ
ることにより、またはTHFまたは1,2−ジメトキシ
エタンのような水温相性溶媒中で水酸化ナトリウムまた
はカリウムまたは炭酸ナトリウムまたはカリウムのよう
な水性塩基の存在下に反応させることによりアシル化さ
れる。反応の溶媒としてピリジンが使用される場合、酸
クロライドまたは無水物は0℃〜10℃で混合物中に添
加される。この反応は一30℃〜50℃で実施されうる
。トリフルオロメタンスルホニルクロライドまたは無水
物のような非常に反応性の高い酸クロライドまたは無水
物を用いる場合は、反応は好ましくは一60℃〜−40
℃で実施される。水性塩基を使用するアシル化は、温度
を一5℃〜20℃に保持しながら、テトラヒドロフラン
(THF)、1.2−ジメトキシエタンまたはジオキサ
ンのような水混和性溶媒中でアミン(V)を攪拌しそし
て酸クロライドまたは無水物が使用されるので混合物を
塩基性に保持するために1〜5 N NaOHを添加す
ることによりなされる。化合物(V)はまた遊離の酸を
N、N−ジシクロへキシルカルボジイミドを用いてアミ
ンと反応させるか、またはクロロ蟻酸エステルおよび第
三塩基例えばトリエチルアミンを用いて酸からはじめに
混合無水物を形成させ続いてア、ミンと反応させる任意
の標準的なペプチド合成法によってもアシル化されうる
。混合無水物法では、使用すべき酸をTHF、 DMF
または1,2−ジメトキシエタンのような溶媒中トリエ
チルアミンまたはN−メチルモルホリンのような第三塩
基の存在下に一30℃〜10℃でクロロ蟻酸エチルまた
はクロロ蟻酸イソブチルのようなりロロ蟻酸エステルと
反応せしめる。この混合物にアミン(V)を加えそして
混合物を一10℃で1〜5時間攪拌する。縮合剤として
N、N−ジシクロへキシルカルボジイミドが使用される
場合は、条件および溶媒は同一でありうるがしかしN−
ヒドロキシフタルイミドまたはN−ヒドロキシスクシン
イミドを添加するのがしばしば好都合である。
塩基性溶媒中で酸のクロライドまたは無水物と反応させ
ることにより、またはTHFまたは1,2−ジメトキシ
エタンのような水温相性溶媒中で水酸化ナトリウムまた
はカリウムまたは炭酸ナトリウムまたはカリウムのよう
な水性塩基の存在下に反応させることによりアシル化さ
れる。反応の溶媒としてピリジンが使用される場合、酸
クロライドまたは無水物は0℃〜10℃で混合物中に添
加される。この反応は一30℃〜50℃で実施されうる
。トリフルオロメタンスルホニルクロライドまたは無水
物のような非常に反応性の高い酸クロライドまたは無水
物を用いる場合は、反応は好ましくは一60℃〜−40
℃で実施される。水性塩基を使用するアシル化は、温度
を一5℃〜20℃に保持しながら、テトラヒドロフラン
(THF)、1.2−ジメトキシエタンまたはジオキサ
ンのような水混和性溶媒中でアミン(V)を攪拌しそし
て酸クロライドまたは無水物が使用されるので混合物を
塩基性に保持するために1〜5 N NaOHを添加す
ることによりなされる。化合物(V)はまた遊離の酸を
N、N−ジシクロへキシルカルボジイミドを用いてアミ
ンと反応させるか、またはクロロ蟻酸エステルおよび第
三塩基例えばトリエチルアミンを用いて酸からはじめに
混合無水物を形成させ続いてア、ミンと反応させる任意
の標準的なペプチド合成法によってもアシル化されうる
。混合無水物法では、使用すべき酸をTHF、 DMF
または1,2−ジメトキシエタンのような溶媒中トリエ
チルアミンまたはN−メチルモルホリンのような第三塩
基の存在下に一30℃〜10℃でクロロ蟻酸エチルまた
はクロロ蟻酸イソブチルのようなりロロ蟻酸エステルと
反応せしめる。この混合物にアミン(V)を加えそして
混合物を一10℃で1〜5時間攪拌する。縮合剤として
N、N−ジシクロへキシルカルボジイミドが使用される
場合は、条件および溶媒は同一でありうるがしかしN−
ヒドロキシフタルイミドまたはN−ヒドロキシスクシン
イミドを添加するのがしばしば好都合である。
さらに、これらアミンはジクロロ酢酸メチル、トリフル
オロ酢酸エチルまたは蟻酸n−ブチルのようなエステル
との反応によってもアシル化され5る。この方法では、
アミン(V)をエステルおよび溶媒例えば1,2−ジメ
トキシエタン、ビス−(2−メトキシエチル)エーテル
またはトルエン(ある場合にはエステルが溶媒として使
用されうる)と組み合せそしてこの混合物を薄層クロマ
トグラフィーのような分析により反応完結が示されるま
で還流加熱する。より反応性の高いエステル例えばp−
ニトロフェニルエステル、Rンタフルオロフェニル、エ
ステル、チオエステル、エノールエステル、N−ヒドロ
キシフタルイミドエステル、N−ヒドロキシスクシンイ
ミド巴ステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエス
テル、2,4.5− ) +7クロロフエニルエステル
オヨヒペンククロロフエニルエステルが使用されうる。
オロ酢酸エチルまたは蟻酸n−ブチルのようなエステル
との反応によってもアシル化され5る。この方法では、
アミン(V)をエステルおよび溶媒例えば1,2−ジメ
トキシエタン、ビス−(2−メトキシエチル)エーテル
またはトルエン(ある場合にはエステルが溶媒として使
用されうる)と組み合せそしてこの混合物を薄層クロマ
トグラフィーのような分析により反応完結が示されるま
で還流加熱する。より反応性の高いエステル例えばp−
ニトロフェニルエステル、Rンタフルオロフェニル、エ
ステル、チオエステル、エノールエステル、N−ヒドロ
キシフタルイミドエステル、N−ヒドロキシスクシンイ
ミド巴ステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエス
テル、2,4.5− ) +7クロロフエニルエステル
オヨヒペンククロロフエニルエステルが使用されうる。
さらに、他のアシル化剤例えばアシルアジド、アシルイ
ミダゾールおよびアシルホスフェートも使用されうる。
ミダゾールおよびアシルホスフェートも使用されうる。
合成径路b)が用いられる場合は、スルホネートエステ
ル(III)をDMF、 DMAc、 HMPA% N
−メチルピロリジノンまたはテトラメチレンスルホンの
ような双極性非プロトン性溶媒中でNaH,KHまたは
KOC4H9−tを用いて生成させたそのナトリウムま
たはカリウム塩の形態でアミドと反応せしめる。基調製
物中にスルホネートエステル@)を加えそしてこの混合
物を30℃〜150℃に加熱する。18−クラウン−6
のような触媒が使用されうる。加熱は3〜50時間継続
される。
ル(III)をDMF、 DMAc、 HMPA% N
−メチルピロリジノンまたはテトラメチレンスルホンの
ような双極性非プロトン性溶媒中でNaH,KHまたは
KOC4H9−tを用いて生成させたそのナトリウムま
たはカリウム塩の形態でアミドと反応せしめる。基調製
物中にスルホネートエステル@)を加えそしてこの混合
物を30℃〜150℃に加熱する。18−クラウン−6
のような触媒が使用されうる。加熱は3〜50時間継続
される。
スキーム1においては出発化合物CI+)はdt−(ラ
セミ化合物)またはt−異性体でありうる。
セミ化合物)またはt−異性体でありうる。
を−異性体は好ましいt−アミド(Vl)の前駆物質で
ある。
ある。
アシル化基がα−アミノ酸に由来しそしてR13がアミ
ノ官能を含有する場合は、そのアミノ官能分をベンジル
オキシカルボニル、第5ブチルオキシカルボニル、9−
フルオレニルメチルオキシカルボニルまたはフタロイル
のような普通に使用される保獲基の1種を用いて保獲す
ることが必要である。アシル化に続き、オキサゾリジノ
ン環が不活性である標準的方法の1iiにより保H’に
基を除去する。ベンジルオキシカルボニル基はメタノー
ル、DMF、酢酸、またはこれら溶媒の混合物のような
溶媒中で炭素上の10俤パラジウムまたはパラジウム黒
のような触媒(化合物1ミリモル当り触媒100〜50
0■)を使用して水素添加分解することにより除去され
ウル。あるいはまたベンジルオキシカルボニル基はその
化合物を酢酸中に溶解させ、酢酸中の4 N HBrの
等容量を加え、そしてこの溶液を室温に1〜5時間保持
することにより除去されうる。N−第3ブチルオキシカ
ルボニル基はトリフルオロ酢酸を用い室温で加水分解す
ることにより除去されうる。
ノ官能を含有する場合は、そのアミノ官能分をベンジル
オキシカルボニル、第5ブチルオキシカルボニル、9−
フルオレニルメチルオキシカルボニルまたはフタロイル
のような普通に使用される保獲基の1種を用いて保獲す
ることが必要である。アシル化に続き、オキサゾリジノ
ン環が不活性である標準的方法の1iiにより保H’に
基を除去する。ベンジルオキシカルボニル基はメタノー
ル、DMF、酢酸、またはこれら溶媒の混合物のような
溶媒中で炭素上の10俤パラジウムまたはパラジウム黒
のような触媒(化合物1ミリモル当り触媒100〜50
0■)を使用して水素添加分解することにより除去され
ウル。あるいはまたベンジルオキシカルボニル基はその
化合物を酢酸中に溶解させ、酢酸中の4 N HBrの
等容量を加え、そしてこの溶液を室温に1〜5時間保持
することにより除去されうる。N−第3ブチルオキシカ
ルボニル基はトリフルオロ酢酸を用い室温で加水分解す
ることにより除去されうる。
スキーム2記載の操作を用いて製造されうる式(1)の
化合物はAがHであるかまたはAがRI 5(0)nで
ありそしてR1がNR9RIQでありそしてひ、R10
、■(11およびR11aがHでありえない場合を除く
先に示された任意の基である化合物である。Lは任意の
適当な離脱性基例えば工、Br、C41ベンセンスルホ
ニルオキシ、4−)ルエンスルホニルオキシ、メタンス
ルホニルオキシまたはトリフルオロメタンスルホニルオ
キシでありうる。径路a)においては化合物(■)をエ
タノールのような溶媒中で50℃〜150℃でアンモニ
アまたはアミンと反応せしめる。アミンまたは溶媒が低
沸点である場合には、所望の温度に到達せしめるために
反応を密封容器中で実施する。
化合物はAがHであるかまたはAがRI 5(0)nで
ありそしてR1がNR9RIQでありそしてひ、R10
、■(11およびR11aがHでありえない場合を除く
先に示された任意の基である化合物である。Lは任意の
適当な離脱性基例えば工、Br、C41ベンセンスルホ
ニルオキシ、4−)ルエンスルホニルオキシ、メタンス
ルホニルオキシまたはトリフルオロメタンスルホニルオ
キシでありうる。径路a)においては化合物(■)をエ
タノールのような溶媒中で50℃〜150℃でアンモニ
アまたはアミンと反応せしめる。アミンまたは溶媒が低
沸点である場合には、所望の温度に到達せしめるために
反応を密封容器中で実施する。
溶媒はエタノール、DMF%DMAc1N−メチルピロ
リジノン、テトラメチレンスルホンまたは)IMPAで
ありうる。反応時間は1〜24時間である(■)が光学
活性(すなわちt−異性体)である場合は生成物を光学
的に活性である。生成物■のアシル化は前記スキーム1
の径路a)で記載されたようにして実施される。
リジノン、テトラメチレンスルホンまたは)IMPAで
ありうる。反応時間は1〜24時間である(■)が光学
活性(すなわちt−異性体)である場合は生成物を光学
的に活性である。生成物■のアシル化は前記スキーム1
の径路a)で記載されたようにして実施される。
スキーム2の径路b)に示される(■)とスルポンアミ
ドの陰イオンとの反応はDMFSDMAc、、 N−メ
チルビロリジノン、テトラメチレンスルポンまたはHM
PAのような極性溶媒中で実施される。
ドの陰イオンとの反応はDMFSDMAc、、 N−メ
チルビロリジノン、テトラメチレンスルポンまたはHM
PAのような極性溶媒中で実施される。
ある場合には18−クラウン−6のような触媒の使用が
反応を改善しうる。5o℃〜15(lの温度が用いられ
る。反応時間は2〜48時間の間を変動できる。
反応を改善しうる。5o℃〜15(lの温度が用いられ
る。反応時間は2〜48時間の間を変動できる。
あるいはまた、スルホンアミド(IX)はまたアミン(
■)をトリエチルアミンのような塩基またハヒリジンの
ような塩基性溶媒の存在下にスルホニルハライドと反応
させることによっても調製されうる〔径路C) )。
■)をトリエチルアミンのような塩基またハヒリジンの
ような塩基性溶媒の存在下にスルホニルハライドと反応
させることによっても調製されうる〔径路C) )。
スキーム6
(Vl: A=H)
(xn)
たはCH2N3ではない〕である式Iの化合物はスキー
ム3に示されるようにして調製されうる。
ム3に示されるようにして調製されうる。
スキーム3の径路a〕に示されるハロスルホン化(特に
クロロスルホン化〕は式■の化合物(式中人はHである
)を溶媒の不存在下に室温でりロロスルホン内々または
フルオロスルホン酸ニ加えることにより実用されうる。
クロロスルホン化〕は式■の化合物(式中人はHである
)を溶媒の不存在下に室温でりロロスルホン内々または
フルオロスルホン酸ニ加えることにより実用されうる。
温度は10℃〜100℃でありつる。好ましい温度は1
5℃〜35℃である。クロロスルホン酸またはフルオロ
スルホン酸に対し不活性な溶媒(例えば四塩化炭素、ニ
トロベンセンまたはフルオロカーボンが包含される〕が
使用されうるがニートクロロスルホン酸またはフルオロ
スルホン酸の使用が好ましい。
5℃〜35℃である。クロロスルホン酸またはフルオロ
スルホン酸に対し不活性な溶媒(例えば四塩化炭素、ニ
トロベンセンまたはフルオロカーボンが包含される〕が
使用されうるがニートクロロスルホン酸またはフルオロ
スルホン酸の使用が好ましい。
次にスルホニルクロライドまたはフルオライド(X)は
スキーム乙の径路b)の操作によりTHF 。
スキーム乙の径路b)の操作によりTHF 。
1.2−ジメトキシエタン、ジオキサン、ビス−(2−
メトキシエチル〕エーテルまたはDMFのような溶媒中
でアンモニア、モノまたはジ置換アミン、ヒドロキシル
アミンまたはヒドラジンと反応させうる。この反応は−
2(1〜40’Cで操作しうる。−10℃〜10℃が好
ましい。
メトキシエチル〕エーテルまたはDMFのような溶媒中
でアンモニア、モノまたはジ置換アミン、ヒドロキシル
アミンまたはヒドラジンと反応させうる。この反応は−
2(1〜40’Cで操作しうる。−10℃〜10℃が好
ましい。
スルホニルクロ2イドまたはフルオライド(X)はスキ
ーム3径路C)に示されるようにアセトンおよび水の混
合物中でナトリウムアジドまたはカリウムアジドと反応
してスルホニルアジド(Xfl)を生成しうる。アセト
ニトリル、DMF、L2−ジメトキシエタン、THFま
たはジメチルスルホキシドのような他の水混和性溶媒が
アセトンの代りに使用されうる。ナトリウムアジドの水
溶液をアセトンに加え、この混合物を水浴中冷却し、ス
ルホニルハライド(X)を加え、そしてこの混合物を室
温となさしめる。反応は一10’C〜20℃で実施され
うる。好ましい温度は一5℃〜10℃である。
ーム3径路C)に示されるようにアセトンおよび水の混
合物中でナトリウムアジドまたはカリウムアジドと反応
してスルホニルアジド(Xfl)を生成しうる。アセト
ニトリル、DMF、L2−ジメトキシエタン、THFま
たはジメチルスルホキシドのような他の水混和性溶媒が
アセトンの代りに使用されうる。ナトリウムアジドの水
溶液をアセトンに加え、この混合物を水浴中冷却し、ス
ルホニルハライド(X)を加え、そしてこの混合物を室
温となさしめる。反応は一10’C〜20℃で実施され
うる。好ましい温度は一5℃〜10℃である。
スルホニルクロライド(X)はスキーム3径路((1)
に示されるように幾通りかの方法で還元されうる。酢酸
、無水酢酸および酢酸す) IJウムの熱混合物に添加
された亜鉛金属を使用するとS−アセテート(xIII
)が良好な収率で得られる。
に示されるように幾通りかの方法で還元されうる。酢酸
、無水酢酸および酢酸す) IJウムの熱混合物に添加
された亜鉛金属を使用するとS−アセテート(xIII
)が良好な収率で得られる。
これは混合物の還流温度で実施されるが500〜120
℃で実施することもできる。あるいはまた、スルホニル
・・ライドは酢酸中の亜鉛を使用することにより還元さ
れてメルカプタン0GV)を生成しうる。還元はまたジ
クロロメタン、ベン七ンまたはトルエンのような不活性
溶媒中で0℃〜50℃好ましくは20℃〜30℃におい
て攪拌しながらトリメチルシリル沃化物、またはトリメ
チルシリルクロライドと沃化ナトリウムとの混合物のよ
うな沃化物を使用して実施することもできる。この還元
によりジスルフィドが生成し次にこのものをメタノール
のようなアルコール溶媒中で水素化硼素ナトリウムによ
り還元する。
℃で実施することもできる。あるいはまた、スルホニル
・・ライドは酢酸中の亜鉛を使用することにより還元さ
れてメルカプタン0GV)を生成しうる。還元はまたジ
クロロメタン、ベン七ンまたはトルエンのような不活性
溶媒中で0℃〜50℃好ましくは20℃〜30℃におい
て攪拌しながらトリメチルシリル沃化物、またはトリメ
チルシリルクロライドと沃化ナトリウムとの混合物のよ
うな沃化物を使用して実施することもできる。この還元
によりジスルフィドが生成し次にこのものをメタノール
のようなアルコール溶媒中で水素化硼素ナトリウムによ
り還元する。
このジスルフィドはまたジチオトレイトールによりまた
は亜鉛および酢酸により還元することもできる。生成物
はメルカプタン(X[V)である。
は亜鉛および酢酸により還元することもできる。生成物
はメルカプタン(X[V)である。
所望の場合はメルカプタンをハライドR1−Lでアルキ
ル化してスルフィド(XV)となすことかできる。この
反応は炭酸カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリ
ウムエトキサイドまたはカリウム第三ブトキサイドのよ
うな塩基を使用して実施できる。アルキル化はジメチル
スルホキシド中水酸化す) IJウムを用いてなされ5
る。
ル化してスルフィド(XV)となすことかできる。この
反応は炭酸カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリ
ウムエトキサイドまたはカリウム第三ブトキサイドのよ
うな塩基を使用して実施できる。アルキル化はジメチル
スルホキシド中水酸化す) IJウムを用いてなされ5
る。
スキーム乙の反応は(Vl、) (A=H)のt−異性
体、を用いて出発して好ましいt−形の生成物(前記し
た好ましい配置)を生成しうる。
体、を用いて出発して好ましいt−形の生成物(前記し
た好ましい配置)を生成しうる。
スキーム4
0に3 (′″)
スキーム4径路a)のニトロ化は1当量の硝酸を含有す
る濃硫酸に式(M)(A=H)の化合物を添加すること
により実施される。硝酸は硝酸カリウムのような塩の形
態で添加されうる。ニトロ化混合物を約−5℃に冷却し
、添加期間中0℃以下に保持しそして次に室温まで上昇
せしめる。ニトロ化は一り0℃〜15Cで30分〜18
0分間にわたり実施されうる。
る濃硫酸に式(M)(A=H)の化合物を添加すること
により実施される。硝酸は硝酸カリウムのような塩の形
態で添加されうる。ニトロ化混合物を約−5℃に冷却し
、添加期間中0℃以下に保持しそして次に室温まで上昇
せしめる。ニトロ化は一り0℃〜15Cで30分〜18
0分間にわたり実施されうる。
スキーム4で示されるニトロ化において若干のオルトニ
トロ化ならびに2,4−ジニトロ化合物形成が起ること
が見出された。これら生成物は分取用クロマトグラフィ
ーおよび/または結晶化を用いることにより単離されう
る。オルトニトロ化合物は酢酸中硝酸アセチル生成によ
るニトロ化により比較的多量に生成されうる。ジニトロ
化合物は比較的高いモル比のニトロ化剤を用いることに
より容易に生成されうる。
トロ化ならびに2,4−ジニトロ化合物形成が起ること
が見出された。これら生成物は分取用クロマトグラフィ
ーおよび/または結晶化を用いることにより単離されう
る。オルトニトロ化合物は酢酸中硝酸アセチル生成によ
るニトロ化により比較的多量に生成されうる。ジニトロ
化合物は比較的高いモル比のニトロ化剤を用いることに
より容易に生成されうる。
ニトロ化合物(x■、現、罵)はラネーニッケル触媒お
よびヒドラジンな使用することにより、または触媒とし
て木炭上のパラジウムを使用してパール(Parr)振
柵器中10〜50ボンドの水素圧下に接触水素添加する
ことにより還元されうる。生成物はアニリン(XK)で
ある。このアニリン(XIX)はピリジンまたはトリエ
チルアミンまたはN−メチルモルホリンのような有機塩
基の存在下にアシルハライドまたはアシル無水物を使用
して、またはテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシ
エタンまたはDMFのような有機溶媒中で水性水酸化ナ
トリウムを使用してアシル化されうる。4−ジメチルア
ミノピリジンのような触媒が使用されうる。同様な方法
でアニリンはスルホニルハライドと反応してスルホンア
ミドを形成しうる。次に、アミド(XX)およびスルホ
ンアミド(XXu)は塩基および適当なアルキルハライ
ド、アルキルスルホネートまたはスルフェートエステル
を用いてアルキル化されうる。
よびヒドラジンな使用することにより、または触媒とし
て木炭上のパラジウムを使用してパール(Parr)振
柵器中10〜50ボンドの水素圧下に接触水素添加する
ことにより還元されうる。生成物はアニリン(XK)で
ある。このアニリン(XIX)はピリジンまたはトリエ
チルアミンまたはN−メチルモルホリンのような有機塩
基の存在下にアシルハライドまたはアシル無水物を使用
して、またはテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシ
エタンまたはDMFのような有機溶媒中で水性水酸化ナ
トリウムを使用してアシル化されうる。4−ジメチルア
ミノピリジンのような触媒が使用されうる。同様な方法
でアニリンはスルホニルハライドと反応してスルホンア
ミドを形成しうる。次に、アミド(XX)およびスルホ
ンアミド(XXu)は塩基および適当なアルキルハライ
ド、アルキルスルホネートまたはスルフェートエステル
を用いてアルキル化されうる。
B1が−NX2、−NH4I、 −NXZまたは−N=
El (0)、R2R3である化合物はスキーム5に示
されるようにして製造されうる。
El (0)、R2R3である化合物はスキーム5に示
されるようにして製造されうる。
(漁)
スキーム5のa)の部分は希酸溶液または酢酸の添加に
よりpHを6〜7に保持しながらスルホンアミド(XI
:R9、RjQ=H)を1.3〜2 Nのナトリウムま
たはその他の次亜ノ・ロゲン酸塩(2当量〕に添加する
ことにより実施される。この反応は一20℃〜50℃で
実施されうる。20℃〜30℃の室温で良好に進行する
。反応は60分〜2時間で完結する。スキーム5径路b
)のノ)ロアミドの金属塩(XXV)を61、NA製す
るには、溶液を塩基性に保持しそしてほぼ等測量の次亜
ハロゲン酸塩を使用する。
よりpHを6〜7に保持しながらスルホンアミド(XI
:R9、RjQ=H)を1.3〜2 Nのナトリウムま
たはその他の次亜ノ・ロゲン酸塩(2当量〕に添加する
ことにより実施される。この反応は一20℃〜50℃で
実施されうる。20℃〜30℃の室温で良好に進行する
。反応は60分〜2時間で完結する。スキーム5径路b
)のノ)ロアミドの金属塩(XXV)を61、NA製す
るには、溶液を塩基性に保持しそしてほぼ等測量の次亜
ハロゲン酸塩を使用する。
スルフィルイミン(調)はハロアミド(XXV)をアル
コール−水混合物中で50℃〜70℃において適当なス
ルフィドと反応させることにより調製される。これらの
生成物は相転移触媒系中で次亜塩素酸陰イオンのような
酸化剤を使用して酸化することによりスルホキシイミン
に変換されうる。この酸化は2倍過剰の水性Na0Ct
を室温で添加しながら混合溶媒(酢酸エチルおよびジク
ロロメタン〕中で(罵)をテトラ−n−ブチルアンモニ
ウムブロマイドと措拌することにより実施される。
コール−水混合物中で50℃〜70℃において適当なス
ルフィドと反応させることにより調製される。これらの
生成物は相転移触媒系中で次亜塩素酸陰イオンのような
酸化剤を使用して酸化することによりスルホキシイミン
に変換されうる。この酸化は2倍過剰の水性Na0Ct
を室温で添加しながら混合溶媒(酢酸エチルおよびジク
ロロメタン〕中で(罵)をテトラ−n−ブチルアンモニ
ウムブロマイドと措拌することにより実施される。
N−アルキルハロアミド(流)の調製〔スキーム5工1
e))は1当量の次亜ハロヶ゛ン酸塩を使用する以外は
スキーム5径路a〕の操作を用いて実施される。
e))は1当量の次亜ハロヶ゛ン酸塩を使用する以外は
スキーム5径路a〕の操作を用いて実施される。
120
BかN−C−R15(式中R15はCH2NH2である
)である式■のグリシンアミドおよびR15がCH2N
3である化合物の代替合成法はスキーム乙に示される。
)である式■のグリシンアミドおよびR15がCH2N
3である化合物の代替合成法はスキーム乙に示される。
スキーム6
(XXIX)
グリシンアミド(XXXI)はクロロアセチルまたはブ
ロモアセチルまたはヨードアセチル化合物(罵)を形成
させ、続いてこれらをジメチルスルホキシドまたは他の
双極性非プロトン性溶媒中でナトリウムアジドど反応さ
せてアジドアセチル化合物(XXX)となすことにより
調製されうる。
ロモアセチルまたはヨードアセチル化合物(罵)を形成
させ、続いてこれらをジメチルスルホキシドまたは他の
双極性非プロトン性溶媒中でナトリウムアジドど反応さ
せてアジドアセチル化合物(XXX)となすことにより
調製されうる。
次にこのアジドアセチル化合物をパラジウム触媒を用い
水素により、または1,3−プロノミンジチオールおよ
びトリエチルアミン、チオグリコール酸または硫化水素
のような任意の他の還元法により還元できる。生成物は
クリシンアミド物はスキーム7に示されるようにして得
られる。
水素により、または1,3−プロノミンジチオールおよ
びトリエチルアミン、チオグリコール酸または硫化水素
のような任意の他の還元法により還元できる。生成物は
クリシンアミド物はスキーム7に示されるようにして得
られる。
スキーム7
ケトン(XXXII )とヒドロキシルアミンまたをま
ヒドラジンとの反応により相当するオキシムまたはヒド
ラゾン誘導体(XXXII[)が得られる。この反応は
エタノール中のピリジンなる溶媒混合物中で50℃ない
し温媒混合物の沸点までの温度で実施される。
ヒドラジンとの反応により相当するオキシムまたはヒド
ラゾン誘導体(XXXII[)が得られる。この反応は
エタノール中のピリジンなる溶媒混合物中で50℃ない
し温媒混合物の沸点までの温度で実施される。
アミド(XXXV)はニトリル(XXXIV)を塩基性
過酸化水素を用いて加水分解することにより調製されう
る。反応は水性アルコール 〜60℃において遂行される。置換アミド(XXXVI
I)はエステル(夏用)のアミノリンス(加アミン分解
)により調製されうる。低沸点アミンでは、反応は加圧
下に実施されうる。高沸点アミンでは、アミンと(XX
XVI)との混合物を所望の場合はアルコール性または
極性非プロトン性溶媒中で50℃〜150℃において攪
拌する。
過酸化水素を用いて加水分解することにより調製されう
る。反応は水性アルコール 〜60℃において遂行される。置換アミド(XXXVI
I)はエステル(夏用)のアミノリンス(加アミン分解
)により調製されうる。低沸点アミンでは、反応は加圧
下に実施されうる。高沸点アミンでは、アミンと(XX
XVI)との混合物を所望の場合はアルコール性または
極性非プロトン性溶媒中で50℃〜150℃において攪
拌する。
槽造(V,lを有する化合物の代替合成法はスキーム8
に示されるようにして実施される。
に示されるようにして実施される。
スキーム8
スキーム8においては、AはHであるか、またはAがR
lS(0)nである場合はR1はN3とはなりえず、そ
してR1がNR9R1 0である場合はR9、Rlol
RNおよびR11aはHとはなりえない場合以外p任意
の前記された基でありうる。Lは工、Br。
lS(0)nである場合はR1はN3とはなりえず、そ
してR1がNR9R1 0である場合はR9、Rlol
RNおよびR11aはHとはなりえない場合以外p任意
の前記された基でありうる。Lは工、Br。
Ct,ベンゼンスルホニルオキシ、4−)/l/エンス
ルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシまr.:、ハ
) リフ #オロメタンスルホニルオキシのような任意
の適当な離脱基でありうる。反応はDMF 、 DMA
c 、 N−メチルピロリジノン、テトラメチレンスル
ホンまたは)IMPAのような双極性非プロトン性溶媒
中で25℃〜150℃に加熱することにより実施される
。次に7タルイミド基をアルコール中で20℃〜50℃
において5〜30時間ヒドラジンで処理し続いて酸を用
いて中性pHK調整することにより除去する。代替法で
ははじめに(XXX!4)を硫化ナトリウムと反応させ
、次にN,N−ジシクロへキシルカルボジイミドを用い
て脱水し、続いてヒドラジンと反応させそして次に希酸
で処理する。この最後の方法は非常に緩和である。
ルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシまr.:、ハ
) リフ #オロメタンスルホニルオキシのような任意
の適当な離脱基でありうる。反応はDMF 、 DMA
c 、 N−メチルピロリジノン、テトラメチレンスル
ホンまたは)IMPAのような双極性非プロトン性溶媒
中で25℃〜150℃に加熱することにより実施される
。次に7タルイミド基をアルコール中で20℃〜50℃
において5〜30時間ヒドラジンで処理し続いて酸を用
いて中性pHK調整することにより除去する。代替法で
ははじめに(XXX!4)を硫化ナトリウムと反応させ
、次にN,N−ジシクロへキシルカルボジイミドを用い
て脱水し、続いてヒドラジンと反応させそして次に希酸
で処理する。この最後の方法は非常に緩和である。
AがーS(0)R1または一日(0)2R1である化合
物はスキーム9に示されるようにして調製されうる。
物はスキーム9に示されるようにして調製されうる。
スキーム?
8e02 −)H2O2
のテトラブチルアンモニウム (XL)過沃素酸塩
イ′S造CXXXIX)C式中R12およびR13は前
記定義のとおりである)を有するスルフィドは1当量の
酸化剤を用いることにより構造(XL)を有するスルホ
キシドに酸化されうる。好ましい酸化剤は過酸化水素を
含有する二酸化セレンの水溶液である。使用されつる他
の酸化剤にはピリジン−水混合物中のヨードベンゼンジ
クロライド、または還流クロロホルム中のテトラブチル
アンモニウム過沃素酸塩が包含される。m−クロロ過安
息香酸または過酢酸のような強力な酸化剤が使用されう
る。か(して得られた異なる量のスルフィド、スルホキ
シドおよびスルホンヲ含有する混合物は慣用の操作例え
ばクロマトグラフィーにより分離されうる。
記定義のとおりである)を有するスルフィドは1当量の
酸化剤を用いることにより構造(XL)を有するスルホ
キシドに酸化されうる。好ましい酸化剤は過酸化水素を
含有する二酸化セレンの水溶液である。使用されつる他
の酸化剤にはピリジン−水混合物中のヨードベンゼンジ
クロライド、または還流クロロホルム中のテトラブチル
アンモニウム過沃素酸塩が包含される。m−クロロ過安
息香酸または過酢酸のような強力な酸化剤が使用されう
る。か(して得られた異なる量のスルフィド、スルホキ
シドおよびスルホンヲ含有する混合物は慣用の操作例え
ばクロマトグラフィーにより分離されうる。
m−クロロ過安息香酸のような強力な酸化剤の2当量を
使用するとスルホン(XL工〕を生ずる。
使用するとスルホン(XL工〕を生ずる。
出発物質として必要とされるアルコール(If)および
ハライド(■〕はオキサゾリドンの任意の多数の標準的
製法により容易に入手しうる[Chem。
ハライド(■〕はオキサゾリドンの任意の多数の標準的
製法により容易に入手しうる[Chem。
Rev、J第67巻第197〜246頁(1967年)
参照]。
参照]。
これら方法のうち、調製される種々の化合物にとって注
目すべき2穏類の概要をスキーム1゜に示す。
目すべき2穏類の概要をスキーム1゜に示す。
スキーム10
式iの化合物の桑学的に適当な塩は画業上知られた多数
の方法で調製されうる。R1の定義において、2により
示される陽イオンにはアルカリおよびアルカリ土類金属
のイオン例えばK。
の方法で調製されうる。R1の定義において、2により
示される陽イオンにはアルカリおよびアルカリ土類金属
のイオン例えばK。
Mg、 Ca 、 Li 、Naおよびテトラアルキル
アンモニウムが包含される。Bが−NH2である場合ま
た&t、 R1[1カアミノ基を含有しそしてAが8(
0)nNXZでない場合は、桑学的に適する塩には酢酸
、塩酸、硫酸、Qi iL’2 sコハク酸、フマル酸
、アスコルビン酸およびグルタル酸で処理することで生
ずる塩が包含される。
アンモニウムが包含される。Bが−NH2である場合ま
た&t、 R1[1カアミノ基を含有しそしてAが8(
0)nNXZでない場合は、桑学的に適する塩には酢酸
、塩酸、硫酸、Qi iL’2 sコハク酸、フマル酸
、アスコルビン酸およびグルタル酸で処理することで生
ずる塩が包含される。
実施例 1
(dt)−5−アジドメチル−3−[:4−(メチルス
ルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン(工:
A= 4−CH3802、B=N3)の製造A、(at
)−5−ヨードメチル−3−(4−(メチルスルホニル
)フェニルツー2−オキサゾリジノンの製造 2−ブタノン30〇−中(d/!、) −5−クロロ−
メチ/I/−3−(4−(メチルスルホニル〕フェニル
)−2−:)rキ”jゾリジ/ン50 F (545ミ
リモル)および沃化ナトリウム100Fの混合物を一夜
還流する。これを冷却し、そして氷水1tに注ぐ。沃素
の黄色が完全に消えるまで亜硫酸ナトリウムを加え、そ
の混合物を濾過し、そして水洗するとヨードメチル化合
物61.7 f (m、p。
ルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン(工:
A= 4−CH3802、B=N3)の製造A、(at
)−5−ヨードメチル−3−(4−(メチルスルホニル
)フェニルツー2−オキサゾリジノンの製造 2−ブタノン30〇−中(d/!、) −5−クロロ−
メチ/I/−3−(4−(メチルスルホニル〕フェニル
)−2−:)rキ”jゾリジ/ン50 F (545ミ
リモル)および沃化ナトリウム100Fの混合物を一夜
還流する。これを冷却し、そして氷水1tに注ぐ。沃素
の黄色が完全に消えるまで亜硫酸ナトリウムを加え、そ
の混合物を濾過し、そして水洗するとヨードメチル化合
物61.7 f (m、p。
175.5〜177℃)が得られる。この物質をアセト
ニトリル370−から再結晶すると44.8 f (m
、p−177、5〜179℃)が得られる。
ニトリル370−から再結晶すると44.8 f (m
、p−177、5〜179℃)が得られる。
B、無水ジメチルアセトアミド(DMAc) 150
ml中(clA) −5−ヨードメチル−3−(4−(
メチルスルホニル)フェニル)−2−オキf ソI7
’;ノン7.6?C20ミリモル〕およびナトリウムア
ジド42の混合物を125℃でろ時間加熱する。
ml中(clA) −5−ヨードメチル−3−(4−(
メチルスルホニル)フェニル)−2−オキf ソI7
’;ノン7.6?C20ミリモル〕およびナトリウムア
ジド42の混合物を125℃でろ時間加熱する。
つぎにそれを氷水に注ぐ。生成物をクロロホルムで3回
抽出し、抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃
縮すると半固体状のば一ストが得られる。この生成物を
エーテルとともに攪拌し、濾過しそして乾燥する。収量
4.7 f。これをアセトニトリル14づから再結晶す
るとアジドメチル化合物2.29 (m、p。152.
5〜153.5℃)が得られる。
抽出し、抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃
縮すると半固体状のば一ストが得られる。この生成物を
エーテルとともに攪拌し、濾過しそして乾燥する。収量
4.7 f。これをアセトニトリル14づから再結晶す
るとアジドメチル化合物2.29 (m、p。152.
5〜153.5℃)が得られる。
実施例 2
(Z)−S−アジドメチル−3−[4−(メチルスルホ
ニル)フェニル〕−2−オキサソリジノン(工: A
= 4−MeSO2、B=N3)の製造A、(t15−
ヒドロキシメチル−ろ−〔4−(メチルスルホニル)フ
ェニル〕−2−オキサゾリジノン、4−メチルベンセン
スルホネート(工 : A = 4−MeSO2、B
= O8O2C6H4Me ) の製造 ピリジン(無水)30d中体)−5−ヒドロキシメチル
−5−C4−Cメチルスルホニルンフェニル〕−2−オ
キサゾリジノン5.001の溶液を0〜5℃で攪拌し、
そしてピリジン10m1中p−トルエンスルホニルクロ
IJ 1−’ 5.7 tの溶液を徐々に加える。添加
が終了した時点でその混合物を1時間攪拌するとこの混
合物は結晶化して半固体状の塊を与える。水数滴を加え
ると発熱する。その混合物を氷水混合物に注ぎ、濾過し
、そして水洗する。生成物の収量は4.02 r(m、
p、187.1−18a6℃)である。
ニル)フェニル〕−2−オキサソリジノン(工: A
= 4−MeSO2、B=N3)の製造A、(t15−
ヒドロキシメチル−ろ−〔4−(メチルスルホニル)フ
ェニル〕−2−オキサゾリジノン、4−メチルベンセン
スルホネート(工 : A = 4−MeSO2、B
= O8O2C6H4Me ) の製造 ピリジン(無水)30d中体)−5−ヒドロキシメチル
−5−C4−Cメチルスルホニルンフェニル〕−2−オ
キサゾリジノン5.001の溶液を0〜5℃で攪拌し、
そしてピリジン10m1中p−トルエンスルホニルクロ
IJ 1−’ 5.7 tの溶液を徐々に加える。添加
が終了した時点でその混合物を1時間攪拌するとこの混
合物は結晶化して半固体状の塊を与える。水数滴を加え
ると発熱する。その混合物を氷水混合物に注ぎ、濾過し
、そして水洗する。生成物の収量は4.02 r(m、
p、187.1−18a6℃)である。
B、ジメチルホルムアミド20−中(4−5−ヒドロキ
シメチル−3−(4−(メチルスルホニ/L/)フェニ
ル〕−2−オキサゾリジノン、4−メチルベンセンスル
ホネー)&5fおよびナトリウムアジド22の混合物を
90〜100℃に加熱する。1時間後その混合物を冷却
し、氷水で希釈し、生成物を結晶し、濾過し、そして充
分に水洗する。収量1.25 t (m、p、 146
.5〜14a5℃)。
シメチル−3−(4−(メチルスルホニ/L/)フェニ
ル〕−2−オキサゾリジノン、4−メチルベンセンスル
ホネー)&5fおよびナトリウムアジド22の混合物を
90〜100℃に加熱する。1時間後その混合物を冷却
し、氷水で希釈し、生成物を結晶し、濾過し、そして充
分に水洗する。収量1.25 t (m、p、 146
.5〜14a5℃)。
この生成物をメタノールから結晶化するとm、p。
14a9〜1494℃の生成物が得られる。
実施例 6
(t)−4−[5−(アジドメチル〕−2−オキシオキ
サゾリンン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド(工:
A = 4−H2NSO2、B−N3)の製造A、(
t)−4−(5−(ヒドロキシメチル)−2−オキソオ
キサゾリジン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド、4
−メチルベンゼンスルホネート(工: A = 4−H
2NSO2、B<SO2SO2C6HJの製造 無水ピリジン50td中(/、)−4−[5−(ヒドロ
キシメチルノー2−オキソオキサゾリジン−3−イル〕
ベンゼンスルホンアミド15.61f(50ミリモル)
の混合物を一5〜0℃で攪拌しながらビリシン25d中
4−メチルベンゼンスルホニルクロリド9.53 Fの
溶液を筒用する。この反応物を放置して室温まで昇温せ
しめ、そして6時間攪拌する。つぎにそれを氷水に注ぎ
、結晶性生成物を濾過し、充分に水洗し、そして乾燥す
る。生成物の収量は19.Of(m−p、215.5〜
217.5℃)である。
サゾリンン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド(工:
A = 4−H2NSO2、B−N3)の製造A、(
t)−4−(5−(ヒドロキシメチル)−2−オキソオ
キサゾリジン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド、4
−メチルベンゼンスルホネート(工: A = 4−H
2NSO2、B<SO2SO2C6HJの製造 無水ピリジン50td中(/、)−4−[5−(ヒドロ
キシメチルノー2−オキソオキサゾリジン−3−イル〕
ベンゼンスルホンアミド15.61f(50ミリモル)
の混合物を一5〜0℃で攪拌しながらビリシン25d中
4−メチルベンゼンスルホニルクロリド9.53 Fの
溶液を筒用する。この反応物を放置して室温まで昇温せ
しめ、そして6時間攪拌する。つぎにそれを氷水に注ぎ
、結晶性生成物を濾過し、充分に水洗し、そして乾燥す
る。生成物の収量は19.Of(m−p、215.5〜
217.5℃)である。
B、ジメチルホルムアミド75−中(t)−4−C5−
(ヒドロキシメチル)−2−オキソオキサゾリジン−5
−イル〕ベンセンスルホンアミド、4−メチルベンゼン
スルホネー) 1a75F(44ミリモル)およびナト
リウムアジド52の混合物を6時間50Cで加熱する。
(ヒドロキシメチル)−2−オキソオキサゾリジン−5
−イル〕ベンセンスルホンアミド、4−メチルベンゼン
スルホネー) 1a75F(44ミリモル)およびナト
リウムアジド52の混合物を6時間50Cで加熱する。
この段階ではその反応は約半分しか終わっていないので
、さらにすl・リウムアジド(2f)を加え、その反応
物を50℃で6時間、ついで60℃で1時間加熱する。
、さらにすl・リウムアジド(2f)を加え、その反応
物を50℃で6時間、ついで60℃で1時間加熱する。
それを氷水に注ぎ、濾過し、充分に水洗し、そして乾燥
する。収量11.24 t (m、p、 1 !19.
1〜140.1℃)。これをアセトニトリル50−から
再結晶すると生成物6.19 (m、p、 159.5
〜14α1℃)が得られる。
する。収量11.24 t (m、p、 1 !19.
1〜140.1℃)。これをアセトニトリル50−から
再結晶すると生成物6.19 (m、p、 159.5
〜14α1℃)が得られる。
実施例1〜6に記載された操作を使用すると以下のアジ
ドを製造することができる。
ドを製造することができる。
表 1
実施例 A m、p・(℃) 異性体
4 4−CH3S 97.4〜98.2t5 4−C1
(3CO101〜102 dt実施例 1゜ Cdt) −5−アミノメチル−3−(4−(メチルス
ルホニル〕フェニル〕−2−オキザゾリジノントリフル
オロ酢酸塩(A −4−cH5so2 、B = NH
2−cir5co2H)の製造 トリフルオロ酢酸75−中(dt)−5−アジドメチル
−3−C4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オ
キサゾリジノン1.1fの溶液および10%パラジウム
−炭末0.51を(約50psigの)水素圧下で1時
間振盪する。この混合物を濾過し、そして濃縮すると生
成物o、8?(m、p、 158〜170℃(分解)〕
が得られる。
(3CO101〜102 dt実施例 1゜ Cdt) −5−アミノメチル−3−(4−(メチルス
ルホニル〕フェニル〕−2−オキザゾリジノントリフル
オロ酢酸塩(A −4−cH5so2 、B = NH
2−cir5co2H)の製造 トリフルオロ酢酸75−中(dt)−5−アジドメチル
−3−C4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オ
キサゾリジノン1.1fの溶液および10%パラジウム
−炭末0.51を(約50psigの)水素圧下で1時
間振盪する。この混合物を濾過し、そして濃縮すると生
成物o、8?(m、p、 158〜170℃(分解)〕
が得られる。
実施例 11
(t) −5−アミノメチル−3−1:4−(メチルス
ルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン(工:A
−4−Mθso2、B−NH2)の製造メタ/−#30
tRt中(I−) −5−7シトメチル”5−C4−(
メチルスルホニル〕フェニル〕−2−オキサゾリジノン
3.4El(0,0117モル)、1.3−プロパンジ
チオール11fnlおよびトリエチルアミン15mgの
混合物を40〜50℃に加温するとかなりの速度で窒素
の発生が生起する。
ルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン(工:A
−4−Mθso2、B−NH2)の製造メタ/−#30
tRt中(I−) −5−7シトメチル”5−C4−(
メチルスルホニル〕フェニル〕−2−オキサゾリジノン
3.4El(0,0117モル)、1.3−プロパンジ
チオール11fnlおよびトリエチルアミン15mgの
混合物を40〜50℃に加温するとかなりの速度で窒素
の発生が生起する。
窒素の発生が止んだのちその溶液を減圧下で濃縮し、残
留物をエーテルとともに攪拌し、固体外を濾過し、そし
て乾燥する。収量3.09 y (m−p−137〜1
42℃)。これを無水アルコール約200me K 還
流しながら溶解しくいくらかの褐色固体外は溶解しない
)、そして熱時p過する。この生成物を結晶化すると生
成物2.461 (m、p、 146.6〜14Z1℃
)が得られる。
留物をエーテルとともに攪拌し、固体外を濾過し、そし
て乾燥する。収量3.09 y (m−p−137〜1
42℃)。これを無水アルコール約200me K 還
流しながら溶解しくいくらかの褐色固体外は溶解しない
)、そして熱時p過する。この生成物を結晶化すると生
成物2.461 (m、p、 146.6〜14Z1℃
)が得られる。
実施例 12
(t) −4−C5−(アミノメチル)−2−オキソオ
キサゾリジン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド(I
: A = 4−H2NSO2、B=NH2〕の製造
メタノール30ゴおよびトリエチルアミン5ゴ中(4)
−4−(5−(アジドメチル)−2−オキソオキサゾリ
ジン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド4.5f(1
5,1ミリモル)の懸濁物を攪拌し、そして1,3−プ
ロパンジチオール5mlを加える。窒素が発生し始めた
時点でその混合物を加温還流する。15分間で固体外は
すべて溶解するがさらに30分間加熱を続行する。窒素
気流中でメタノールを蒸発させ、残留物にエーテルを加
えると固体外が結晶化する。濾過した固体外を乾燥する
。収量5.019 (m、p。148〜151;1℃)
。酸を加えることによりこれを水30m1に溶解し、濾
過し、濃水酸化アンモニウムで強塩基性となし、そして
濾過すると生成物1.329 (m、p。
キサゾリジン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド(I
: A = 4−H2NSO2、B=NH2〕の製造
メタノール30ゴおよびトリエチルアミン5ゴ中(4)
−4−(5−(アジドメチル)−2−オキソオキサゾリ
ジン−3−イル〕ベンゼンスルホンアミド4.5f(1
5,1ミリモル)の懸濁物を攪拌し、そして1,3−プ
ロパンジチオール5mlを加える。窒素が発生し始めた
時点でその混合物を加温還流する。15分間で固体外は
すべて溶解するがさらに30分間加熱を続行する。窒素
気流中でメタノールを蒸発させ、残留物にエーテルを加
えると固体外が結晶化する。濾過した固体外を乾燥する
。収量5.019 (m、p。148〜151;1℃)
。酸を加えることによりこれを水30m1に溶解し、濾
過し、濃水酸化アンモニウムで強塩基性となし、そして
濾過すると生成物1.329 (m、p。
151.7〜152.4℃)が得られる。
C1oH131Jso4sに対する元素分析値c HN
計算値 44.27 4.83 15.49実測値 4
4.00 5.0615.2144.13 4.85
15.21 実施例 16 (z) −s−アミノメチル−3−(4−(メチルスル
ホニル〕フェニル〕−2−オキサゾリジノン(工:A=
4−MoSO2、B=NH2)の製造1.2−ジメトキ
シエタン25−中の(A−5−アジドメチル−3−(4
−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジ
ノン2.0 Or (6,75ミリモル)を窒素下で攪
拌しながら1.2−ジメトキシエタン5炉ε中のrツメ
チルホスフィン6.2mgを加える。この混合物は昇温
し急速に窒素を発生ずる。その混合物を濃縮すると褐色
のガム状物が残留する。このガム状物を水とともに攪拌
すると固体分は結晶化する。希酢酸を加えてpH4にす
ることによりこれを水に溶解し、漣過しそしてその水溶
液を濃水酸化アンモニウムで塩基性にする。生成物(m
、p、 129〜132.8℃)の収量は0.94Fで
ある。
4.00 5.0615.2144.13 4.85
15.21 実施例 16 (z) −s−アミノメチル−3−(4−(メチルスル
ホニル〕フェニル〕−2−オキサゾリジノン(工:A=
4−MoSO2、B=NH2)の製造1.2−ジメトキ
シエタン25−中の(A−5−アジドメチル−3−(4
−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジ
ノン2.0 Or (6,75ミリモル)を窒素下で攪
拌しながら1.2−ジメトキシエタン5炉ε中のrツメ
チルホスフィン6.2mgを加える。この混合物は昇温
し急速に窒素を発生ずる。その混合物を濃縮すると褐色
のガム状物が残留する。このガム状物を水とともに攪拌
すると固体分は結晶化する。希酢酸を加えてpH4にす
ることによりこれを水に溶解し、漣過しそしてその水溶
液を濃水酸化アンモニウムで塩基性にする。生成物(m
、p、 129〜132.8℃)の収量は0.94Fで
ある。
実施例 14
v)−5−アミノメチル−5−C4−Cメチルチオ)フ
ェニルツー2−オキサゾリジノン(工:A = 4−M
eS 、 B −NH2)の製造メタノール15〇−中
(A−5−アジドメチル−3−[:4−(メチルチオ)
フェニルツー2−オキサゾリジノン30.3t(115
ミリモル)、1.3−プロパンジチオール13.1dお
よびトリエチルアミン1 a2tdの混合物を50℃で
8時間攪拌する。
ェニルツー2−オキサゾリジノン(工:A = 4−M
eS 、 B −NH2)の製造メタノール15〇−中
(A−5−アジドメチル−3−[:4−(メチルチオ)
フェニルツー2−オキサゾリジノン30.3t(115
ミリモル)、1.3−プロパンジチオール13.1dお
よびトリエチルアミン1 a2tdの混合物を50℃で
8時間攪拌する。
つぎにそれを濃縮する。残留物を水性くえん酸とともに
攪拌し、濾過し、そしてr液を濃水酸化アンモニウムで
塩基性にする。生成物を濾過する。収量16.51/
(m、p、 160〜b実施例10〜14の操作を使用
することによりつぎのアミンを製造することカー11−
t ル。
攪拌し、濾過し、そしてr液を濃水酸化アンモニウムで
塩基性にする。生成物を濾過する。収量16.51/
(m、p、 160〜b実施例10〜14の操作を使用
することによりつぎのアミンを製造することカー11−
t ル。
表 2
15 4−CH3CO1’15〜116dt16 3−
CH3COdt 17 4−(CR2)2CH104,1〜105.1
61酢酸塩18 4−CF5dt 19 4−CH2Odt 20 4−NCeLt 実施例 21 (t) −N −(3−(4−(メチルスルホニル〕フ
ェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イル、II
チル〕ホルムアミド(工: A = 4−MeSO4、
B = NHcHo )の製造 dJ=’i N2エチル2.5mgを含有する2−プロ
ア4ノール10−中v)−5−アミノ−メチ、+1/−
3−(4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オキ
サゾリジノン1.00 ? (3,70ミリモル)の溶
液を24時間加熱還流する。この混合物を冷却し、そし
てエーテルで希釈すると物質0.96fが得られ、それ
をアセトニトリル95ゴから再結晶すると生成物0.6
5 f (m、p、 190〜191.6℃〕が得られ
る。
CH3COdt 17 4−(CR2)2CH104,1〜105.1
61酢酸塩18 4−CF5dt 19 4−CH2Odt 20 4−NCeLt 実施例 21 (t) −N −(3−(4−(メチルスルホニル〕フ
ェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イル、II
チル〕ホルムアミド(工: A = 4−MeSO4、
B = NHcHo )の製造 dJ=’i N2エチル2.5mgを含有する2−プロ
ア4ノール10−中v)−5−アミノ−メチ、+1/−
3−(4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オキ
サゾリジノン1.00 ? (3,70ミリモル)の溶
液を24時間加熱還流する。この混合物を冷却し、そし
てエーテルで希釈すると物質0.96fが得られ、それ
をアセトニトリル95ゴから再結晶すると生成物0.6
5 f (m、p、 190〜191.6℃〕が得られ
る。
実施例 22
(4)−2,2−ジクロロ−N−(3−(4−(メチル
スルホニル)フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−
5−イルメチル)アセトアミド(工: A = 4−M
eSO2、B = NHCOCHC’t2)の製造(A
−5−アミノメチル−5−C4−Cメチルスルホニル)
フェニルツー2−オキサゾリジノン2.DCl(7,4
ミリモ/I/)、メチルジクロロアセテ−)2rnlお
よびエタノール10−の混合物を窒素下で5時間還流す
る。この混合物を減圧下で濃縮し、つぎにエーテルとと
もに攪拌し、そして濾過する。収I)Pc 2.729
(m、p、 174.0〜181.9°)。
スルホニル)フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−
5−イルメチル)アセトアミド(工: A = 4−M
eSO2、B = NHCOCHC’t2)の製造(A
−5−アミノメチル−5−C4−Cメチルスルホニル)
フェニルツー2−オキサゾリジノン2.DCl(7,4
ミリモ/I/)、メチルジクロロアセテ−)2rnlお
よびエタノール10−の混合物を窒素下で5時間還流す
る。この混合物を減圧下で濃縮し、つぎにエーテルとと
もに攪拌し、そして濾過する。収I)Pc 2.729
(m、p、 174.0〜181.9°)。
これを酢酸で酸性にした水とともに攪拌し、濾過しそし
て水洗する。収量2.6 Or (m、p−194,5
〜196.1℃)。これを沸騰している70%エタノー
ル/酢酸でnl性にした水に溶解し、冷却し、そしてE
過する。生成物の収量は1.65 f (m、p。
て水洗する。収量2.6 Or (m、p−194,5
〜196.1℃)。これを沸騰している70%エタノー
ル/酢酸でnl性にした水に溶解し、冷却し、そしてE
過する。生成物の収量は1.65 f (m、p。
203.3〜204.3℃〕である。
C13H14CL2N205Sに対する元素分析値計算
値 40.95 3.70 7.35実施例 23 Gff)−N−(3−[4−(メチルスルホニル)フェ
ニル〕−2−オキソオキザゾリジン−5−イルメチル)
アセトアミド(工: A −4−MeSO4、B =
NHCOCH3)の製造 ピリジン1〇−中のII/1.)−5−アミノメチル−
3−(4−(メチルスルホニル)フェニルクー2−オキ
サゾリジノン2.0C1(7,4ミリモル)を水浴中で
冷却しながら無水酢酸0.72mを加える。
値 40.95 3.70 7.35実施例 23 Gff)−N−(3−[4−(メチルスルホニル)フェ
ニル〕−2−オキソオキザゾリジン−5−イルメチル)
アセトアミド(工: A −4−MeSO4、B =
NHCOCH3)の製造 ピリジン1〇−中のII/1.)−5−アミノメチル−
3−(4−(メチルスルホニル)フェニルクー2−オキ
サゾリジノン2.0C1(7,4ミリモル)を水浴中で
冷却しながら無水酢酸0.72mを加える。
この混合物を10〜20分間攪拌し、ついで氷水で希釈
する。生成物を濾過し、そして水洗する(m、p、 1
91.9〜192.90)。アセトニトリルから再結晶
したのち生成物1.01 f(m、p、 192.7−
193.2℃〕が得られる。
する。生成物を濾過し、そして水洗する(m、p、 1
91.9〜192.90)。アセトニトリルから再結晶
したのち生成物1.01 f(m、p、 192.7−
193.2℃〕が得られる。
Cj 3H16N205Sに対する元素分析fF計算値
49,99 5.16EL97実施例 24 (4−N−(3−114−(アミンスルホニル)フェニ
ルツー2−オキシオキサゾリンン−5−イルメチル〕ホ
ルムアミド(工: A = 4−H2NSO2、B =
NHCHO)の製造 ジメチルホルムアミド30−中(4−(5−(アミノメ
チル)−2−オキソオキサゾリジン−3−イル〕ペンセ
ンスルホンアミド2.00f(7,57ミリモル)、n
−プチルホルメーニト2−および1.4−ジアゾビシク
ロ[2,2,2)オクタン(DABCO)0.5fの混
合物を90〜100℃で約24時間加熱する。それを減
圧下で濃縮し、そして残留物を水10m1とともに攪拌
する。生成物を結晶化する( 2.6 t、 m、p、
184.5〜186.5 ’C)。これを水中の70
係エタノールから再結晶し、ついでアセトニトリルから
(IV結晶する。この生成物は191〜192℃で融解
(分解)する◇ 実施例 25 (A)−N−(3−[4−(メチルスルホニル)フェニ
ルツー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチルコメ
タンスルホンアミド(1:A=4−Me80+、B =
NH802Me )の製造無水ピリジン5〇−中(L
t)−5−アミノメチル−3−114−(1)’チルス
ルホニル)フェニルクー2−オキサゾリジノン1.0O
f(3,70ミリモル)の溶液を水浴中で攪拌しながら
メタンスルホニルクロリド(2,3d)を徐々に加える
。添加完了後水3滴を加え、そしてその混合物を濃縮す
る。
49,99 5.16EL97実施例 24 (4−N−(3−114−(アミンスルホニル)フェニ
ルツー2−オキシオキサゾリンン−5−イルメチル〕ホ
ルムアミド(工: A = 4−H2NSO2、B =
NHCHO)の製造 ジメチルホルムアミド30−中(4−(5−(アミノメ
チル)−2−オキソオキサゾリジン−3−イル〕ペンセ
ンスルホンアミド2.00f(7,57ミリモル)、n
−プチルホルメーニト2−および1.4−ジアゾビシク
ロ[2,2,2)オクタン(DABCO)0.5fの混
合物を90〜100℃で約24時間加熱する。それを減
圧下で濃縮し、そして残留物を水10m1とともに攪拌
する。生成物を結晶化する( 2.6 t、 m、p、
184.5〜186.5 ’C)。これを水中の70
係エタノールから再結晶し、ついでアセトニトリルから
(IV結晶する。この生成物は191〜192℃で融解
(分解)する◇ 実施例 25 (A)−N−(3−[4−(メチルスルホニル)フェニ
ルツー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチルコメ
タンスルホンアミド(1:A=4−Me80+、B =
NH802Me )の製造無水ピリジン5〇−中(L
t)−5−アミノメチル−3−114−(1)’チルス
ルホニル)フェニルクー2−オキサゾリジノン1.0O
f(3,70ミリモル)の溶液を水浴中で攪拌しながら
メタンスルホニルクロリド(2,3d)を徐々に加える
。添加完了後水3滴を加え、そしてその混合物を濃縮す
る。
残留物を水とともに攪拌し、そしてその溶液が酸性にな
るまで濃塩酸数滴を加える。沈殿を濾過し、水洗し、そ
して乾燥する。収量は0.77f (m、p、 216
.7〜220.70 )である。これをアセトニトリル
/水(4:1)から再結晶すると生成物0.51 t
(m、p、 219.7〜220.7℃)が得られる。
るまで濃塩酸数滴を加える。沈殿を濾過し、水洗し、そ
して乾燥する。収量は0.77f (m、p、 216
.7〜220.70 )である。これをアセトニトリル
/水(4:1)から再結晶すると生成物0.51 t
(m、p、 219.7〜220.7℃)が得られる。
実施例 26
(イ)−N−(3−[4−(メチルスルホニル)フェニ
ルツー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル)カ
ルバミン酸、メチルエステル(I: A = 4−Me
SO2、B = NHCO2Me )の製造テトラヒド
ロフラン50 me中(t)−5−アミノメチル−3−
[4−(メチルスルホニル)フェニル〕−2−オキザゾ
リジノン5.41f(0,02モル〕の混合物を水浴中
で指押しながらテトラヒドロンラン10+rJ中メチル
クロロホルメート2−の溶液を加えるが、その間2N水
酸化ナトリウムを用いてpHを10〜11に保持する。
ルツー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル)カ
ルバミン酸、メチルエステル(I: A = 4−Me
SO2、B = NHCO2Me )の製造テトラヒド
ロフラン50 me中(t)−5−アミノメチル−3−
[4−(メチルスルホニル)フェニル〕−2−オキザゾ
リジノン5.41f(0,02モル〕の混合物を水浴中
で指押しながらテトラヒドロンラン10+rJ中メチル
クロロホルメート2−の溶液を加えるが、その間2N水
酸化ナトリウムを用いてpHを10〜11に保持する。
メチルクロロホルメートを全部加えたのちその混合物を
45分間杷押押る。有機溶媒を減圧下で除去し、残留物
を水で希訳し、pHを7にし、固体分を沖過し、そして
水洗する。収量6.5y(m、p。
45分間杷押押る。有機溶媒を減圧下で除去し、残留物
を水で希訳し、pHを7にし、固体分を沖過し、そして
水洗する。収量6.5y(m、p。
210〜211℃)。これをアセトニトリルから再結晶
すると生成物15 f (m、p、 214−215℃
〕が得られる。もう1回再結晶した試料は216.9〜
2116℃で融解する。
すると生成物15 f (m、p、 214−215℃
〕が得られる。もう1回再結晶した試料は216.9〜
2116℃で融解する。
C15H1606N2Bに対する元素分析値CHN
計算値47.55 4.91 a53
5
Ca 、] D =417±0.4″’ (c=1アセ
トニトリル中)同様の方法で適当なアシルハライド、イ
ンシアネート、クロロホルメートエステルまたは二のア
ミンと反応させることによりっぎの化合物が製造される
。
トニトリル中)同様の方法で適当なアシルハライド、イ
ンシアネート、クロロホルメートエステルまたは二のア
ミンと反応させることによりっぎの化合物が製造される
。
表3
274−CH31302,H−CH2CH5195,8
〜19Z1t284−CH5SO2,H、−CF323
9.6〜240.3 1294−CH5SO2,HCH
2CH45208,1〜208.7 1実がQ例A、Y
R15m、p、(℃) 暴性庄304−い3so2.
HC(CH3ハ 1723〜172.9 131 4
−CH3S、 HCH5166,7〜167.1 7!
。
〜19Z1t284−CH5SO2,H、−CF323
9.6〜240.3 1294−CH5SO2,HCH
2CH45208,1〜208.7 1実がQ例A、Y
R15m、p、(℃) 暴性庄304−い3so2.
HC(CH3ハ 1723〜172.9 131 4
−CH3S、 HCH5166,7〜167.1 7!
。
3 2 4−CH,8,H0CH5140,5〜141
.5 I33 4−CH5El、H0CH2CH514
0〜142 I34 4−cH5so2.a C6H5
221,6〜221.9 tろ5 4−CH,[+02
. HNHCH3197,8〜198.7 1664(
均■、 HCHg 205〜207 dl37 3−C
H3CO,HCH3145−146dl38 4−(C
H5)2CH,HCH3142,7−143,3dl3
94−(cHす2CH,H0CH5107,8〜108
.3 dl40 4−C3ly、S、 TT CH=C
H2172〜174 dl41 4−CF3. HCH
3179,0〜179.8 dl424−(ゴハ、 H
oCH5153,3〜153.6 dl43 4−cH
50,HocH3 444−130+ HCH5149,0〜149.6
dl45 4−H2h+so2. HOCH3229,
9〜230.5 1464−四3N[侶02. HCH
5181,5〜182 I47 4−(CH)5so2
. HCHCHCl2484−CH2C1−1−CI2
1ヨ02.Hcn2ocH3実施例AIY R13m、
p、(℃) 異性体494シN)1302. HCHB
r250 4−C’H5ON(C!H5)E102.H
OC’2H5514−(■5)2CH5,HCH311
8,9〜119.4 I52 4−(CH5)2CH,
H0CHy、 129.0−129.3 155 4−
CH,N0N(CH5)302.HCHCl254 4
−n−C4H9N(302,HCH=H2564−H2
団田o2.HCH(OCH3)257 4−C’H,8
02,HCH2CH5164,6〜165.6 158
4−(1?3S、 HO−C’4H9−I59 4−
Nc、HCH5153〜154 tu60 4−CF2
I[0,HCH=CH2614−CH2=四−CH21
3,HCH。
.5 I33 4−CH5El、H0CH2CH514
0〜142 I34 4−cH5so2.a C6H5
221,6〜221.9 tろ5 4−CH,[+02
. HNHCH3197,8〜198.7 1664(
均■、 HCHg 205〜207 dl37 3−C
H3CO,HCH3145−146dl38 4−(C
H5)2CH,HCH3142,7−143,3dl3
94−(cHす2CH,H0CH5107,8〜108
.3 dl40 4−C3ly、S、 TT CH=C
H2172〜174 dl41 4−CF3. HCH
3179,0〜179.8 dl424−(ゴハ、 H
oCH5153,3〜153.6 dl43 4−cH
50,HocH3 444−130+ HCH5149,0〜149.6
dl45 4−H2h+so2. HOCH3229,
9〜230.5 1464−四3N[侶02. HCH
5181,5〜182 I47 4−(CH)5so2
. HCHCHCl2484−CH2C1−1−CI2
1ヨ02.Hcn2ocH3実施例AIY R13m、
p、(℃) 異性体494シN)1302. HCHB
r250 4−C’H5ON(C!H5)E102.H
OC’2H5514−(■5)2CH5,HCH311
8,9〜119.4 I52 4−(CH5)2CH,
H0CHy、 129.0−129.3 155 4−
CH,N0N(CH5)302.HCHCl254 4
−n−C4H9N(302,HCH=H2564−H2
団田o2.HCH(OCH3)257 4−C’H,8
02,HCH2CH5164,6〜165.6 158
4−(1?3S、 HO−C’4H9−I59 4−
Nc、HCH5153〜154 tu60 4−CF2
I[0,HCH=CH2614−CH2=四−CH21
3,HCH。
62 3.4−OCH20−CH5156−157dl
。
。
63 4−c74c’lio、HCH(OC%)264
4−CH2FB、 HEICH3654−cc4so
、 HCH2CH2−8(0)2CH4−CH2Br8
02.H8−C4H9−rq実施例CY R45m−p
−(’C) 4%41体674−α1t、SO2,HC
H2C4195,1〜195.9 t68 4−(CH
5)S、T(NHCOCOC’I(、142,9−14
3,51694−CH3O2,HCH=CH2180−
183dl70 4−CH5so2. H0CH2CH
2CH3170〜173 (1t71 4−cu5s、
H<1 197〜199 dl72 4−CH5So、
、、、 H<l 210〜211 dl73 4−CH
5E、 HCH(OCE0289〜90 dl744−
CHうSO2,HCH(OCH5)2 175〜178
dl75 4−CH3S、 HcH(OC2H5)2
6 B −69dl76 4−CH3SO2,HNH2
146−149dl774イH5SO2,HσI(押(
2)C6Hg ’HC6250dlまたつぎりスルホン
アミドを製造することもでとる。
4−CH2FB、 HEICH3654−cc4so
、 HCH2CH2−8(0)2CH4−CH2Br8
02.H8−C4H9−rq実施例CY R45m−p
−(’C) 4%41体674−α1t、SO2,HC
H2C4195,1〜195.9 t68 4−(CH
5)S、T(NHCOCOC’I(、142,9−14
3,51694−CH3O2,HCH=CH2180−
183dl70 4−CH5so2. H0CH2CH
2CH3170〜173 (1t71 4−cu5s、
H<1 197〜199 dl72 4−CH5So、
、、、 H<l 210〜211 dl73 4−CH
5E、 HCH(OCE0289〜90 dl744−
CHうSO2,HCH(OCH5)2 175〜178
dl75 4−CH3S、 HcH(OC2H5)2
6 B −69dl76 4−CH3SO2,HNH2
146−149dl774イH5SO2,HσI(押(
2)C6Hg ’HC6250dlまたつぎりスルホン
アミドを製造することもでとる。
宍 4
78 1 −CF5 Hj −CE(。
79 0−C’H5I(2−CF。
80 2 −CH4H2−C5H7z
実施例 81
(4−2,2−ジクロロ−N−[5−(:4−(アミノ
スルホニル)フェニル]−2−オキソオキザゾリジン−
5−イルメチル)アセトアミド(工: A = 4−H
2NSO2、B = NHCOCHC12)の製造A、
(4−5−ヒドロキシメチル−6−フェニル−2−オキ
サゾリンノノー、4−メチルベンゼンスルホネー) (
I : A=H,B=O8O2C6H4Me )の製造 無水ピリジン25〇−中(4−5−ヒドロキシメチ/l
’−3−フェニル−2−オキサゾリンノノ51、!M’
の混合物を窒素下水浴中で攪拌しながらヒリジン50m
A中p−)ルエンスルホニルクロリド532の溶液を加
える。添加後冷却を止め、その混合物を1時間放置し、
つぎに水数部を加える(水が過剰のp−)ルエンスルホ
ニルクロリドと反応するのでその温度は39℃に上昇す
る)。この反応混合物を氷水に注ぎ、白色固体分を濾過
し、充分に水洗し、そして乾燥する。生成物の収量は7
0.0f(m、p、146.3〜147.8℃)である
。この生成物はさらに精製することなく使用される。
スルホニル)フェニル]−2−オキソオキザゾリジン−
5−イルメチル)アセトアミド(工: A = 4−H
2NSO2、B = NHCOCHC12)の製造A、
(4−5−ヒドロキシメチル−6−フェニル−2−オキ
サゾリンノノー、4−メチルベンゼンスルホネー) (
I : A=H,B=O8O2C6H4Me )の製造 無水ピリジン25〇−中(4−5−ヒドロキシメチ/l
’−3−フェニル−2−オキサゾリンノノ51、!M’
の混合物を窒素下水浴中で攪拌しながらヒリジン50m
A中p−)ルエンスルホニルクロリド532の溶液を加
える。添加後冷却を止め、その混合物を1時間放置し、
つぎに水数部を加える(水が過剰のp−)ルエンスルホ
ニルクロリドと反応するのでその温度は39℃に上昇す
る)。この反応混合物を氷水に注ぎ、白色固体分を濾過
し、充分に水洗し、そして乾燥する。生成物の収量は7
0.0f(m、p、146.3〜147.8℃)である
。この生成物はさらに精製することなく使用される。
B、(バー5−アジドメチル−3−フェニル−2−オキ
サゾリジノン(工: A=HSB=N3 )の製造 ジメチルホルムアミド35 nt中(6)−5−ヒドロ
キシメチル−3−フェニル−2−オキサゾリジノン、4
−メチルベン七ンスルホネート5.0Of(14,4ミ
リモル〕、ナトリウムアジド2.12および18−クラ
ウン−615’の混合物を100℃で3時間加熱する。
サゾリジノン(工: A=HSB=N3 )の製造 ジメチルホルムアミド35 nt中(6)−5−ヒドロ
キシメチル−3−フェニル−2−オキサゾリジノン、4
−メチルベン七ンスルホネート5.0Of(14,4ミ
リモル〕、ナトリウムアジド2.12および18−クラ
ウン−615’の混合物を100℃で3時間加熱する。
この混合物を氷水に注ぎ、そして濾過する。乾燥収量は
2.47 t (m、p、71.5〜72.5℃)であ
る。これをジエチルエーテルから再結晶すると生成物1
.449 (m、p、 72.5〜73℃)が得られる
。
2.47 t (m、p、71.5〜72.5℃)であ
る。これをジエチルエーテルから再結晶すると生成物1
.449 (m、p、 72.5〜73℃)が得られる
。
a、(Z)−ミーアミノメチル−3−フェニル−2−オ
キサゾリジノン(工:A=H,B=NH2)の製造 メタノール150ゴ中v)−5−アジドメチル−3−フ
エニ/I/ −2−オキサゾリジノン37. Of(1
70ミリモル)、トリエチルアミン26 me、1.3
−プロパンジチオール19.5 mlの混合物を50℃
に加温する。窒素を発生する(2時間後に3.9tと測
定される)。溶媒を除去し、エーテルとともに424拌
することにより残留物を結晶化する(粗収量28.67
)。この物質はさらに精製することなく使用される。
キサゾリジノン(工:A=H,B=NH2)の製造 メタノール150ゴ中v)−5−アジドメチル−3−フ
エニ/I/ −2−オキサゾリジノン37. Of(1
70ミリモル)、トリエチルアミン26 me、1.3
−プロパンジチオール19.5 mlの混合物を50℃
に加温する。窒素を発生する(2時間後に3.9tと測
定される)。溶媒を除去し、エーテルとともに424拌
することにより残留物を結晶化する(粗収量28.67
)。この物質はさらに精製することなく使用される。
D、(1;I−2,2−ジクoローN−(5−7エ=ル
ー2−オキザソ゛リジンー5−イルメチル)アセトアミ
ド(工:A−H,B±NHCOCI((:!t2)の製
造 4−ジメチルアミノビはリジン1tを含有するメチルジ
クロロアセテート45イおよヒ1,2−ジメトギシエタ
ン45 rne中(/!、) −5−アミノメチル−6
−フェニル−2−オキサゾリジノン12、sy<64.
5ミIJモル〕の溶液を4時間還流する。それt濃縮し
、残留物を酢酸エチルとともに攪拌し、生成物を結晶化
し、濾過し、そして乾燥する。
ー2−オキザソ゛リジンー5−イルメチル)アセトアミ
ド(工:A−H,B±NHCOCI((:!t2)の製
造 4−ジメチルアミノビはリジン1tを含有するメチルジ
クロロアセテート45イおよヒ1,2−ジメトギシエタ
ン45 rne中(/!、) −5−アミノメチル−6
−フェニル−2−オキサゾリジノン12、sy<64.
5ミIJモル〕の溶液を4時間還流する。それt濃縮し
、残留物を酢酸エチルとともに攪拌し、生成物を結晶化
し、濾過し、そして乾燥する。
収量は9.18 ? (tn、p、 142.3〜14
4.8℃〕である。
4.8℃〕である。
これをエタノールから71J結晶し、熱時沖過し、そし
て冷却すると7.469 (m、p、 150.3〜1
51.3℃)が得られる。
て冷却すると7.469 (m、p、 150.3〜1
51.3℃)が得られる。
E、クロロスルホン酸15m1を冷却し、窒素下で攪拌
しながら(/、)−2,2−ジクロロ−N−(5−フェ
ニル−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミドa77g(2a9ミリモル)を加える。その
酸から塩化水素が発生し、固体分が溶堺する。1時間後
にこの酸溶液をよく攪拌しながら氷に注ぎ、濾過し、窒
素下で沖紙上1時間乾燥する。この固体分をテトラヒド
ロフラン50d中の濃水酸化アンモニウム25m1の混
合物に加える。4分間攪拌したのち生成する混合物を減
圧下で濃縮する。水を加え、生成物を濾過し、水洗し、
そして乾燥する。収量9、139 (m、p、 2.0
8〜209℃)。これを70%エタノール/水から再結
晶すると6.659 (tn、p、214.8〜215
.4℃)が得られる。つぎにそれをアセトニトリルから
再結晶すると6.54 ? (m、p、 216.5〜
2115℃つが得られる。
しながら(/、)−2,2−ジクロロ−N−(5−フェ
ニル−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミドa77g(2a9ミリモル)を加える。その
酸から塩化水素が発生し、固体分が溶堺する。1時間後
にこの酸溶液をよく攪拌しながら氷に注ぎ、濾過し、窒
素下で沖紙上1時間乾燥する。この固体分をテトラヒド
ロフラン50d中の濃水酸化アンモニウム25m1の混
合物に加える。4分間攪拌したのち生成する混合物を減
圧下で濃縮する。水を加え、生成物を濾過し、水洗し、
そして乾燥する。収量9、139 (m、p、 2.0
8〜209℃)。これを70%エタノール/水から再結
晶すると6.659 (tn、p、214.8〜215
.4℃)が得られる。つぎにそれをアセトニトリルから
再結晶すると6.54 ? (m、p、 216.5〜
2115℃つが得られる。
実施例 82
(t) −N−(3−[4−(アミンスルホニル)フェ
ニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕
アセトアミド(工: A = 4−H2NSO2、B
= NHCOCH3)の製造 A、(イ)−N−(6−フェニル−2−オキサゾリジン
−5−イルメチル)アセトアミド(工: A=H,B=
NHCOCH3)の製造無水ピリジン50rnl中(t
)−5−アミノメチル−3−フェニル−2−オキサゾリ
ジノン12.5r(/、5.0ミリモル〕の溶液を攪拌
しながら無水酢酸7 mlを加える。この混合物を一夜
放置し、つぎに濃縮する。残留物を水とともに攪拌し、
固体分を濾過し、そして乾燥する。収量1o、2り(m
、p、 ’+ 22.4〜124.5℃)。これをエタ
ノールから再結晶すると5.02r(m、p、126.
8〜1213℃)が得られる。二番晶が得られそれをニ
ゲシールから再結晶すると5.08 f (m、p、1
2ス3〜127.8℃)が得られる。
ニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕
アセトアミド(工: A = 4−H2NSO2、B
= NHCOCH3)の製造 A、(イ)−N−(6−フェニル−2−オキサゾリジン
−5−イルメチル)アセトアミド(工: A=H,B=
NHCOCH3)の製造無水ピリジン50rnl中(t
)−5−アミノメチル−3−フェニル−2−オキサゾリ
ジノン12.5r(/、5.0ミリモル〕の溶液を攪拌
しながら無水酢酸7 mlを加える。この混合物を一夜
放置し、つぎに濃縮する。残留物を水とともに攪拌し、
固体分を濾過し、そして乾燥する。収量1o、2り(m
、p、 ’+ 22.4〜124.5℃)。これをエタ
ノールから再結晶すると5.02r(m、p、126.
8〜1213℃)が得られる。二番晶が得られそれをニ
ゲシールから再結晶すると5.08 f (m、p、1
2ス3〜127.8℃)が得られる。
B、(A−N−[3−フェニル−2−オキソオキサゾリ
ジン−5−イルメチル)アセトアミド7、91 ? (
35,8ミリモル)を用いて出発し、実施例81E!の
クロルスルホン化およびアミド化の方法を使用する。生
成物の収量は6.85 f (m、p。
ジン−5−イルメチル)アセトアミド7、91 ? (
35,8ミリモル)を用いて出発し、実施例81E!の
クロルスルホン化およびアミド化の方法を使用する。生
成物の収量は6.85 f (m、p。
236.4〜236.6℃)である。
実施例 83
(/−) −N −[3−(4−アジドスルホニルフェ
ニル)−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕
アセトアミド(工: a = 4−N5so2−1B=
NH−COCH5)の製造 (t)−N −(5−フェニル−2−オキソオキサゾリ
ジン−5−イルメチル)アセトアミド5.0f(21,
3ミリモル)ヲクロルスルホン酸25−に加え、2時間
jニー拌し、氷に注ぎ、濾過し、そして充分に洗浄する
。濾過器上で生成物を吸引乾燥したのち、ナトリウムア
ジド2.01を水5m1!に溶解し、これをアセトン5
−で希釈することにより製造された溶液に上記の生成物
を加える。その混合物を2時間攪拌し、アセトンを減圧
下で蒸発させる。残留物を水で希釈し、そして濾過する
と生成物5.81 ? [m、p、 102〜104℃
(分カ了)〕が得られる。これをエタノールから再結晶
すると物り15.OS’ [:m、p、 122.5〜
123.4℃(分解)〕が得られる。
ニル)−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕
アセトアミド(工: a = 4−N5so2−1B=
NH−COCH5)の製造 (t)−N −(5−フェニル−2−オキソオキサゾリ
ジン−5−イルメチル)アセトアミド5.0f(21,
3ミリモル)ヲクロルスルホン酸25−に加え、2時間
jニー拌し、氷に注ぎ、濾過し、そして充分に洗浄する
。濾過器上で生成物を吸引乾燥したのち、ナトリウムア
ジド2.01を水5m1!に溶解し、これをアセトン5
−で希釈することにより製造された溶液に上記の生成物
を加える。その混合物を2時間攪拌し、アセトンを減圧
下で蒸発させる。残留物を水で希釈し、そして濾過する
と生成物5.81 ? [m、p、 102〜104℃
(分カ了)〕が得られる。これをエタノールから再結晶
すると物り15.OS’ [:m、p、 122.5〜
123.4℃(分解)〕が得られる。
実施例74〜76に記載されたクロルスルホン化を使用
するとつぎの化合物が製造される。
するとつぎの化合物が製造される。
表5
84 H2N OC’H5229,9〜230.5 t
86 N30CH5107,0〜107.5 187
CH30NHC’H2CH5 88H2NNH0CH2CH。
86 N30CH5107,0〜107.5 187
CH30NHC’H2CH5 88H2NNH0CH2CH。
実施例 89
(t)−N −(3−[4−(メチルスルフィニル)フ
ェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル
〕アセトアミド(工: A = 4−MeSO。
ェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル
〕アセトアミド(工: A = 4−MeSO。
B = NHCO,CHg )の製造
メタノール200d中の<t)) −N−(3−(4−
(メチルチオ)フェニルクー2−オキシオキザゾリジン
−5−イルメチル)アセトアミド5.619(20ミリ
モル)を0℃で攪拌しながら、水5゜−中のオキ、ラン
(Oxone (2KH805−KHSO3・K2SO
4) 〕12.3S’の溶液をゆっくりと加える。添加
終了時に薄層クロマトグラフィーにより測定するとスル
フィドは全部消費されており、生成物はスルホキシドお
よびスルホンの混合物である。過剰のオキランを還元す
るためにその溶液をメチルスルフィド12−とともに加
熱し、減圧下で濃縮すると生成物2.0 ? (m、p
、 1 B &6〜189.9℃〕が得られる。これを
70係エタノール−水から再結晶すると上記スルホキシ
ド1.5 f (m、p、 193.7〜197℃)が
得られる。
(メチルチオ)フェニルクー2−オキシオキザゾリジン
−5−イルメチル)アセトアミド5.619(20ミリ
モル)を0℃で攪拌しながら、水5゜−中のオキ、ラン
(Oxone (2KH805−KHSO3・K2SO
4) 〕12.3S’の溶液をゆっくりと加える。添加
終了時に薄層クロマトグラフィーにより測定するとスル
フィドは全部消費されており、生成物はスルホキシドお
よびスルホンの混合物である。過剰のオキランを還元す
るためにその溶液をメチルスルフィド12−とともに加
熱し、減圧下で濃縮すると生成物2.0 ? (m、p
、 1 B &6〜189.9℃〕が得られる。これを
70係エタノール−水から再結晶すると上記スルホキシ
ド1.5 f (m、p、 193.7〜197℃)が
得られる。
実施例 90
(z) −N −(3−(4−(メチルスルフィニル)
フェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕カルバミン酸メチルエステル(工: A = 4−
CH45O、B = NHCO2CH3)の製造実施例
32の化合物から出発して実施例89の操作を使用する
と上記の表題化合物(m−p。
フェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕カルバミン酸メチルエステル(工: A = 4−
CH45O、B = NHCO2CH3)の製造実施例
32の化合物から出発して実施例89の操作を使用する
と上記の表題化合物(m−p。
150.5〜159.5℃)が製造される。
実施例 91
(eLt) −N−へキシル−N−(3−[4−(メチ
ルスルホニル〕フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン
−5−イルメチル〕アセトアミド(工: A = 4−
MeSO2、B −N(C,SHl g )COCH5
)の製造a、(at)−5−(ヘキシルアミノメチル)
−3−[:4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−
オキサゾリジノン(工: A’=MeSO2、B =
N3CH5、)の製造 (at) −5−ブロモメチル−3−C4−(メチルス
ルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン(21,
92f)をヘキシルアミン50m1およびN、N−ジメ
チルホルムアミド25−の混合物に加える。この混合物
を窒素下で急激に攪拌しながら一夜80℃に加熱し、放
置して室温まで冷却する。その混合物を急激に攪拌しな
がら水に注ぎ、生成物を集取し、そしてエタノールおよ
びジエチルエーテルで洗浄する。粗生成物の乾燥M量は
6.259であり、それをアセトニトリルから再結晶す
ると(d7)−5−(ヘキシルアミノメチル)−3−[
:4−(メチルスルホニルウフェニル〕−2−オキサゾ
リジノン4.71(m−p−132〜b B、ピリジン5Ome中(dt)−5−(ヘキシルアミ
ノメチル)−3−[:4−(メチルスルホニル)フェニ
ル〕−2−オキザゾリジノン6.4tの溶液に無水酢酸
1.8 mlを加える。この混合物を室温で一夜指押す
る。その混合物を蒸発させ、そして残留物を水性希塩酸
で摩砕する。生成物を集取し、充分に水洗すると乾燥後
粗生成物6.42が得られる。これを水性エタノールか
ら再結晶すると(dt) −N−へキシル−N−(3−
[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2−オキソオ
キサゾリジン−5−イルメチル)アセトアミド2.6?
(m、p、 125〜124℃)が得られる。
ルスルホニル〕フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン
−5−イルメチル〕アセトアミド(工: A = 4−
MeSO2、B −N(C,SHl g )COCH5
)の製造a、(at)−5−(ヘキシルアミノメチル)
−3−[:4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−
オキサゾリジノン(工: A’=MeSO2、B =
N3CH5、)の製造 (at) −5−ブロモメチル−3−C4−(メチルス
ルホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン(21,
92f)をヘキシルアミン50m1およびN、N−ジメ
チルホルムアミド25−の混合物に加える。この混合物
を窒素下で急激に攪拌しながら一夜80℃に加熱し、放
置して室温まで冷却する。その混合物を急激に攪拌しな
がら水に注ぎ、生成物を集取し、そしてエタノールおよ
びジエチルエーテルで洗浄する。粗生成物の乾燥M量は
6.259であり、それをアセトニトリルから再結晶す
ると(d7)−5−(ヘキシルアミノメチル)−3−[
:4−(メチルスルホニルウフェニル〕−2−オキサゾ
リジノン4.71(m−p−132〜b B、ピリジン5Ome中(dt)−5−(ヘキシルアミ
ノメチル)−3−[:4−(メチルスルホニル)フェニ
ル〕−2−オキザゾリジノン6.4tの溶液に無水酢酸
1.8 mlを加える。この混合物を室温で一夜指押す
る。その混合物を蒸発させ、そして残留物を水性希塩酸
で摩砕する。生成物を集取し、充分に水洗すると乾燥後
粗生成物6.42が得られる。これを水性エタノールか
ら再結晶すると(dt) −N−へキシル−N−(3−
[4−(メチルスルホニル)フェニル]−2−オキソオ
キサゾリジン−5−イルメチル)アセトアミド2.6?
(m、p、 125〜124℃)が得られる。
実施例 92
(dt) −N−へキシル−N−(3−114−(メチ
ルスルホニル)フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン
5−イルメチル)カルバミン酸メチルエステル(工:
A = 4−MeSO2、B−N(C6H1すco2c
H3)の製造 実施例91Bと同様の方法で実施例91Aの生成物をメ
チルクロロホルメートと反応させるとCtlt) −N
−へキシル−N−(3−1:4−(メチルスルホニルウ
フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕カルバミン酸メチルエステル(m、p、 126〜
127℃)が得られる。
ルスルホニル)フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン
5−イルメチル)カルバミン酸メチルエステル(工:
A = 4−MeSO2、B−N(C6H1すco2c
H3)の製造 実施例91Bと同様の方法で実施例91Aの生成物をメ
チルクロロホルメートと反応させるとCtlt) −N
−へキシル−N−(3−1:4−(メチルスルホニルウ
フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕カルバミン酸メチルエステル(m、p、 126〜
127℃)が得られる。
実施例 93
(dt) −N−シクロヘキシル−N −(3−[:4
−(メチルスルホニルウフェニル〕−2−オキソオキサ
ゾリジン−5−イル)メチルアセトアミド(工: A
= 4−MeSO2、n=N(C6H11)COCH3
)A、(az)−5−(シクロへキシルアミノメチル)
−4−[4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オ
キサゾリジノン(工:A=4−MeBO2、B = N
HC6H11) (d、t) −5−ヒドロキシメチル−5−(4−(メ
チルスルホニル)フェニルシー2−オキ? 7’ +7
ジノン4−メチルベンゼンスルホネート(15t)をシ
クロヘキシルアミン6o−およびN、N−ジメチルホル
ムアミド50rneの混合物に加え、そして窒素下で急
激に攪拌しながら一夜7o℃に穏和に加熱する。この混
合物を放置して室温まで冷却し、そしてつぎに水に注ぐ
。生成物が沈殿するのでそれを集取し、そして乾燥する
(収′j7i: 7.43 y)。
−(メチルスルホニルウフェニル〕−2−オキソオキサ
ゾリジン−5−イル)メチルアセトアミド(工: A
= 4−MeSO2、n=N(C6H11)COCH3
)A、(az)−5−(シクロへキシルアミノメチル)
−4−[4−(メチルスルホニル)フェニルツー2−オ
キサゾリジノン(工:A=4−MeBO2、B = N
HC6H11) (d、t) −5−ヒドロキシメチル−5−(4−(メ
チルスルホニル)フェニルシー2−オキ? 7’ +7
ジノン4−メチルベンゼンスルホネート(15t)をシ
クロヘキシルアミン6o−およびN、N−ジメチルホル
ムアミド50rneの混合物に加え、そして窒素下で急
激に攪拌しながら一夜7o℃に穏和に加熱する。この混
合物を放置して室温まで冷却し、そしてつぎに水に注ぐ
。生成物が沈殿するのでそれを集取し、そして乾燥する
(収′j7i: 7.43 y)。
上記で得られた固体分(3,75t)を水性希塩酸に溶
解し、酢酸エチルで洗浄し、そして濃水酸化アンモニウ
ムを加えて沈殿させることにより精製する。この純粋な
生成物を水洗し、そして乾燥すると(at)−5−(シ
クロへキシルアミノメチル)−3−(4−(メチルスル
ホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン1.1 S
’(m、p。
解し、酢酸エチルで洗浄し、そして濃水酸化アンモニウ
ムを加えて沈殿させることにより精製する。この純粋な
生成物を水洗し、そして乾燥すると(at)−5−(シ
クロへキシルアミノメチル)−3−(4−(メチルスル
ホニル)フェニルツー2−オキサゾリジノン1.1 S
’(m、p。
154〜155℃)が得られる。
B、ピリジン25−中(az) −5−(シクロへキシ
ルアミノメチル)−3−(4−(メチルスルホニルウフ
ェニル〕−2−オキサゾリジノン2.561の溶液に無
水酢酸2nd!、を加え、そしてその混合物を窒素下室
源で一夜攪拌する。この混合物を蒸発させ、そして残留
物を水性希塩酸で摩砕する。このガム状残留物を酢酸エ
チルに溶解し、飽和の水性炭酸水素す) IJウムおよ
び食塩水で洗浄し、そして硫酸ナトリウムで乾燥する。
ルアミノメチル)−3−(4−(メチルスルホニルウフ
ェニル〕−2−オキサゾリジノン2.561の溶液に無
水酢酸2nd!、を加え、そしてその混合物を窒素下室
源で一夜攪拌する。この混合物を蒸発させ、そして残留
物を水性希塩酸で摩砕する。このガム状残留物を酢酸エ
チルに溶解し、飽和の水性炭酸水素す) IJウムおよ
び食塩水で洗浄し、そして硫酸ナトリウムで乾燥する。
蒸発させると固体分が得られ、それを酢酸エチル−ジエ
チルニーデルで摩砕し、そして集取すると(clt)
−N−シクロヘキシル−N−(6−(4−(メチルスル
ホニル〕フェニル)−2−オキソオキサゾリジン−5−
イルメチル〕アセトアミド2.289 (m、p、 1
49〜151℃)が得られる。
チルニーデルで摩砕し、そして集取すると(clt)
−N−シクロヘキシル−N−(6−(4−(メチルスル
ホニル〕フェニル)−2−オキソオキサゾリジン−5−
イルメチル〕アセトアミド2.289 (m、p、 1
49〜151℃)が得られる。
上記の操作を使用することによりつぎの化合物が製造さ
れる。
れる。
表6
94 1 −CF5 yC9H19−)i p) −9
52ニーC41−+9 −CH3H(/り−9’6 1
−C2H5−CH3−0鄭1s (/り−q72−C
H=−c13−OCH51s2!〜155(aff)一
実施例 98 C1) −N −[3−(4−ニトロフェニル)−2−
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド
(工:A=4−NO2、B = NHCOCH3)の製
造濃硫酸30−を乾燥窒素下で攪拌しながら一10℃に
冷却し、(4−N−(5−フェニル−2−オキサゾリジ
ン−5−イルメチル)アセトアミド59(21,3ミリ
モル)を加える。固体分が全部溶解した時点で硝酸カリ
ウム2.2fを−10゜〜0℃で加える。つぎにこの混
合物を放置すると2時間で室温まで昇温する。その混合
物を氷に注ぎ、生成物を濾過し、充分に水洗し、そして
乾燥する。収量は5.479である。クロロホルム/メ
タノール(9:1)で溶出したシリカゲルプレート上の
薄層クロマトグラムはRf=0.37にp−ニトロ化合
物のスポットを、そしてRf=0.28に0−二トロ化
合物のスポットを示す。この生成物をアセトニトリルか
ら再結晶すると2.15f (m、p、 194.5〜
195.0℃)が得られ、それは薄層クロマトグラムで
p−ニトロ生成物である1個リスボンドを示ず。
52ニーC41−+9 −CH3H(/り−9’6 1
−C2H5−CH3−0鄭1s (/り−q72−C
H=−c13−OCH51s2!〜155(aff)一
実施例 98 C1) −N −[3−(4−ニトロフェニル)−2−
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド
(工:A=4−NO2、B = NHCOCH3)の製
造濃硫酸30−を乾燥窒素下で攪拌しながら一10℃に
冷却し、(4−N−(5−フェニル−2−オキサゾリジ
ン−5−イルメチル)アセトアミド59(21,3ミリ
モル)を加える。固体分が全部溶解した時点で硝酸カリ
ウム2.2fを−10゜〜0℃で加える。つぎにこの混
合物を放置すると2時間で室温まで昇温する。その混合
物を氷に注ぎ、生成物を濾過し、充分に水洗し、そして
乾燥する。収量は5.479である。クロロホルム/メ
タノール(9:1)で溶出したシリカゲルプレート上の
薄層クロマトグラムはRf=0.37にp−ニトロ化合
物のスポットを、そしてRf=0.28に0−二トロ化
合物のスポットを示す。この生成物をアセトニトリルか
ら再結晶すると2.15f (m、p、 194.5〜
195.0℃)が得られ、それは薄層クロマトグラムで
p−ニトロ生成物である1個リスボンドを示ず。
実施例 99
(t)−N−[3−(2,4−ジニトロフェニル)−2
−オキソオギザゾリジンー5−イルメチル〕アセトアミ
ド(工: A = 4−NO2、Y = 2−NO2、
B−Ni(COCl2 )の製造 (7) −N −(3−フェニル−2−オキサゾリジン
−5−イルメヂル)アセトアミド157を用いて出発し
実2#i例98に示されたニトロ化をくりt1≧ζず。
−オキソオギザゾリジンー5−イルメチル〕アセトアミ
ド(工: A = 4−NO2、Y = 2−NO2、
B−Ni(COCl2 )の製造 (7) −N −(3−フェニル−2−オキサゾリジン
−5−イルメヂル)アセトアミド157を用いて出発し
実2#i例98に示されたニトロ化をくりt1≧ζず。
粗生成物(9,82f )の結晶化母液を濃縮し、ウォ
ータース社の[Pro]−+500Jおよびシリカゲル
カラムを1史用し、クロロホルム/メタノール(9:1
)で溶出するプレパラテイブクロマトダラフイーにより
精製する。速(移動する成分は純粋ブCp−異性体であ
る。遅く移動する生成物1.02 t (m、p、 1
42.2〜142.6℃)は2.4−ジニトロ化合物で
ある。
ータース社の[Pro]−+500Jおよびシリカゲル
カラムを1史用し、クロロホルム/メタノール(9:1
)で溶出するプレパラテイブクロマトダラフイーにより
精製する。速(移動する成分は純粋ブCp−異性体であ
る。遅く移動する生成物1.02 t (m、p、 1
42.2〜142.6℃)は2.4−ジニトロ化合物で
ある。
実施例 100
(t) −N −[5−(2−ニトロフェニル)−2−
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド
(]: : A= 2−NO2、B −NHCOCH3
)の製造濃硫酸90ゴを乾燥窒素下で攪拌しながら硝酸
カリウム11りを加える。この混合物は昇温するのでそ
れを水浴中で0〜10℃に冷却しながら(t)−N −
(3−フェニル−2−オキサゾリジン−5−イルメチル
)アセトアミド23.4F(0,10モル)を徐々に加
える。1時間攪拌したのち出発化合物が残留しているこ
とが薄層クロマトグラムにより示される。さらに硝酸カ
リウム3グを加え、そして攪拌を2時間続行する。この
反応物を氷水に注ぎそして生成物をクロロホルムで抽出
する。抽出液な濃縮し、残留物(205’)をウォータ
ーズ社のljrθp 500を使用するプレ/ミラライ
ブクロマトグラフィーにより分画する。
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド
(]: : A= 2−NO2、B −NHCOCH3
)の製造濃硫酸90ゴを乾燥窒素下で攪拌しながら硝酸
カリウム11りを加える。この混合物は昇温するのでそ
れを水浴中で0〜10℃に冷却しながら(t)−N −
(3−フェニル−2−オキサゾリジン−5−イルメチル
)アセトアミド23.4F(0,10モル)を徐々に加
える。1時間攪拌したのち出発化合物が残留しているこ
とが薄層クロマトグラムにより示される。さらに硝酸カ
リウム3グを加え、そして攪拌を2時間続行する。この
反応物を氷水に注ぎそして生成物をクロロホルムで抽出
する。抽出液な濃縮し、残留物(205’)をウォータ
ーズ社のljrθp 500を使用するプレ/ミラライ
ブクロマトグラフィーにより分画する。
?P’ 1分画t−j、 2.8 S’ (m、p、
130−136℃)である。
130−136℃)である。
実施例 101
(7)−N−[3−(4−アミノフェニル)−2−メキ
ソオキザゾリジンー5−イh・メチル〕アセトアミF
(I : A=4−H2N%B = NHCOCJ )
の製造(カーN−[3−(4−ニトロフェニル)−2−
オキシオキザゾリジンー5−イルメチル〕アセトアミド
5.00g(17,9ミリモル)、無水エタノール50
rnP:t、りよびラネーニッケル触媒32の混合物を
1覧拌し、且つ50℃に加熱しながら無水エタノール2
0づで希釈1−た95チヒドラジン5 mlを徐々に加
える。その温度は還流温度まで」二列し、気体を発生ず
る。30分間還流したのちその溶液をい過し、そして濃
縮するとガラス状物質が得られ、それは結晶化する。こ
れをアセトニトリルとともに攪拌し、そして濾過する。
ソオキザゾリジンー5−イh・メチル〕アセトアミF
(I : A=4−H2N%B = NHCOCJ )
の製造(カーN−[3−(4−ニトロフェニル)−2−
オキシオキザゾリジンー5−イルメチル〕アセトアミド
5.00g(17,9ミリモル)、無水エタノール50
rnP:t、りよびラネーニッケル触媒32の混合物を
1覧拌し、且つ50℃に加熱しながら無水エタノール2
0づで希釈1−た95チヒドラジン5 mlを徐々に加
える。その温度は還流温度まで」二列し、気体を発生ず
る。30分間還流したのちその溶液をい過し、そして濃
縮するとガラス状物質が得られ、それは結晶化する。こ
れをアセトニトリルとともに攪拌し、そして濾過する。
収量3.42 t (m、p、 147.5−148.
3℃)。
3℃)。
実施例 102
(4)−N−(3−[:4−アセチルアミノ)フェニル
ツー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセ
トアミド(工: A = 4−CH5CCMH%B=N
[(C虹5)の製造 テトラヒドロンラン5−およびトリエチルアミン5rn
l中の上記のアニリン(実施例99)0.957、無水
酢酸2艷、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)
0.01 rおよびジメチルアセトアミド10m1を加
温し、つぎに減圧下で濃縮し、水を加え、白色固体分を
濾過し、そして水洗すると0.565’ (m、p、
224.1〜224.9℃(分解ン〕が得られる。
ツー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセ
トアミド(工: A = 4−CH5CCMH%B=N
[(C虹5)の製造 テトラヒドロンラン5−およびトリエチルアミン5rn
l中の上記のアニリン(実施例99)0.957、無水
酢酸2艷、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)
0.01 rおよびジメチルアセトアミド10m1を加
温し、つぎに減圧下で濃縮し、水を加え、白色固体分を
濾過し、そして水洗すると0.565’ (m、p、
224.1〜224.9℃(分解ン〕が得られる。
これをアセトニトリル50−から再結晶すると0.44
f [m、p、 225.5〜225.8℃(分解)
〕が得られる。
f [m、p、 225.5〜225.8℃(分解)
〕が得られる。
実施例 106
(z) −N −(5−[4−(メチルスルホニルアミ
ノ)フェニルクー2−オキシオキサゾリンン−5−イル
メチル)アセトアミド(工: A=CH5−8t)2−
NH−1B = −NH−COCH3)の製造 ピリジン5−中上記のアニリン(実施例99)1.24
SF(5ミ17モル)の溶液を窒素下水/アセトン浴中
で債拌しながらメタンスルホニルクロリド0.4 ml
)を加える。濃赤色を呈し固体分が分離する。その混合
物を1時間攪拌し、水で希釈し、そして塩酸で酸性にす
る。これを減圧下で濃縮し、残留物をアセトニトリルと
ともに攪拌し、そして濾過する。収量[1,5[1t
(m、p、 22!L5〜224.4℃)。この固体分
は完全に水溶性である。
ノ)フェニルクー2−オキシオキサゾリンン−5−イル
メチル)アセトアミド(工: A=CH5−8t)2−
NH−1B = −NH−COCH3)の製造 ピリジン5−中上記のアニリン(実施例99)1.24
SF(5ミ17モル)の溶液を窒素下水/アセトン浴中
で債拌しながらメタンスルホニルクロリド0.4 ml
)を加える。濃赤色を呈し固体分が分離する。その混合
物を1時間攪拌し、水で希釈し、そして塩酸で酸性にす
る。これを減圧下で濃縮し、残留物をアセトニトリルと
ともに攪拌し、そして濾過する。収量[1,5[1t
(m、p、 22!L5〜224.4℃)。この固体分
は完全に水溶性である。
実施例 104
(7)−N−(3−114−(アセチルチオ〕フェニル
〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルiの製造 (j)−N−(3−フェニルオキシオキサゾリンン−5
−イルメチル)アセトアミド10.07(0,0427
モル)を0℃に冷却したクロロスルホン酸40−に窒素
下で加えることによりそ七をクロロスルホン化する。こ
の混合物を1.5時間攪拌し、氷に注ぎ、白色固体分を
濾過し、充分に水洗し、そして乾燥する。収量は15
f(rn、p。
〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルiの製造 (j)−N−(3−フェニルオキシオキサゾリンン−5
−イルメチル)アセトアミド10.07(0,0427
モル)を0℃に冷却したクロロスルホン酸40−に窒素
下で加えることによりそ七をクロロスルホン化する。こ
の混合物を1.5時間攪拌し、氷に注ぎ、白色固体分を
濾過し、充分に水洗し、そして乾燥する。収量は15
f(rn、p。
1、lS4.9〜135.9℃〕である。
上記のスルホニルクロリドを酢酸180−1無水酢酸6
0tnlおよび無水酢酸すトリウム302の混合物に加
え、その混合物を75℃に加熱し、そして亜鉛末を徐々
に加える。その温度は還流温度まで上昇する。亜鉛をも
はや消費しなくなるまで加える(169)。つぎに1時
間半還流を続行する。この冷却した混合物を濾過し、そ
して濃縮する。残留物をテトラヒドロフランとともに1
111.(拌し、濾過し、濃縮し、そしてエーテルで希
釈すると10.1 r(m、p、 130〜180℃)
が得られる。これを熱アセトニトリルに溶解し、濾過し
、濃縮しそして冷却すると5.57 f(m、p、13
8.5〜139.1℃)が得られる。
0tnlおよび無水酢酸すトリウム302の混合物に加
え、その混合物を75℃に加熱し、そして亜鉛末を徐々
に加える。その温度は還流温度まで上昇する。亜鉛をも
はや消費しなくなるまで加える(169)。つぎに1時
間半還流を続行する。この冷却した混合物を濾過し、そ
して濃縮する。残留物をテトラヒドロフランとともに1
111.(拌し、濾過し、濃縮し、そしてエーテルで希
釈すると10.1 r(m、p、 130〜180℃)
が得られる。これを熱アセトニトリルに溶解し、濾過し
、濃縮しそして冷却すると5.57 f(m、p、13
8.5〜139.1℃)が得られる。
実施例 105
(t)−N−[3−(4−メルカプトフェニル)−2−
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド
(工:A=4−H8%B = NHCOCH3)の製造 無水エタノール20岱e中の(t)−N −(3−(4
−(アセチルチオ〕フェニル〕−2−オキソオキザゾリ
ジン−5−イルメチル〕アセトアミド4.1fを25℃
で4FM拌しながらピロリジン5−を加える。その温度
は40℃に上昇し、固体外は全部溶解する。攪拌を1時
間続行し、その混合物を濃縮し、水で希釈し、そして濾
過すると132f(:m、p、205〜209℃(分解
)〕が得られる。
オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミド
(工:A=4−H8%B = NHCOCH3)の製造 無水エタノール20岱e中の(t)−N −(3−(4
−(アセチルチオ〕フェニル〕−2−オキソオキザゾリ
ジン−5−イルメチル〕アセトアミド4.1fを25℃
で4FM拌しながらピロリジン5−を加える。その温度
は40℃に上昇し、固体外は全部溶解する。攪拌を1時
間続行し、その混合物を濃縮し、水で希釈し、そして濾
過すると132f(:m、p、205〜209℃(分解
)〕が得られる。
実施例 106
(4)−N −(3−C4−(シアノメチルチオ)フェ
ニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル)
アセトアミド(工: A =4−HミCCH25゜B
= NHCOCH3)の製造 ジメチルホルムアミド中粉末状炭酸カリウム1.52の
懸濁物を乾燥窒素下で攪拌し11−、がら(バーN−(
3−(4−メルカプトフェニル)−2−オキソオキサゾ
リジン−5−イルメチル〕アセトアミド2.5 f (
9,4ミリモル)を加える。これにクロロアセトニトリ
ルQ、65tneを加える。1時間攪拌後との混合物を
濃縮する。残留物をジクロロメタンに溶解し、そして1
0インチのシリカゲルカラムでクロマトグラフィーを行
う。
ニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル)
アセトアミド(工: A =4−HミCCH25゜B
= NHCOCH3)の製造 ジメチルホルムアミド中粉末状炭酸カリウム1.52の
懸濁物を乾燥窒素下で攪拌し11−、がら(バーN−(
3−(4−メルカプトフェニル)−2−オキソオキサゾ
リジン−5−イルメチル〕アセトアミド2.5 f (
9,4ミリモル)を加える。これにクロロアセトニトリ
ルQ、65tneを加える。1時間攪拌後との混合物を
濃縮する。残留物をジクロロメタンに溶解し、そして1
0インチのシリカゲルカラムでクロマトグラフィーを行
う。
(90%ジクロロメタン、10%メタノールで溶出して
〕速く移動するスポット(収量0.07Or)を酢酸エ
チルから再結晶すると6.0 my [m、p、90.
4℃(メトラーの融点測定装置を使用〕〕が得られる。
〕速く移動するスポット(収量0.07Or)を酢酸エ
チルから再結晶すると6.0 my [m、p、90.
4℃(メトラーの融点測定装置を使用〕〕が得られる。
実施例 107
(t) −N −(5−(4−(アセチルチオ)フェニ
ルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル)カ
ルバミン酸(工: A = 4−CH5CO−8−1B
=NHCOOCH5)の製造 (t)−(3−フェニル−2−オキソオキサゾリジン−
5−イルメチル)カルバミン酸メチルエステル12.0
?(48ミリモル)を窒素下で一10℃に冷却したクロ
ロスルホン酸60−に加える。
ルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル)カ
ルバミン酸(工: A = 4−CH5CO−8−1B
=NHCOOCH5)の製造 (t)−(3−フェニル−2−オキソオキサゾリジン−
5−イルメチル)カルバミン酸メチルエステル12.0
?(48ミリモル)を窒素下で一10℃に冷却したクロ
ロスルホン酸60−に加える。
固体外は徐々に溶解する。添加には30分を要する。こ
の混合物を放置して昇温せしめると10℃で極めて速い
塩化水素の発生が生起し、固体外は全部溶解する。20
〜25℃で攪拌を2時間続行し、つぎに氷上で反応を静
め、固体外を濾過し、充分に水洗し、そして窒素気流中
で乾燥する。収量は14.6 t (m、p、 155
.4℃(メトラー装置)〕である。
の混合物を放置して昇温せしめると10℃で極めて速い
塩化水素の発生が生起し、固体外は全部溶解する。20
〜25℃で攪拌を2時間続行し、つぎに氷上で反応を静
め、固体外を濾過し、充分に水洗し、そして窒素気流中
で乾燥する。収量は14.6 t (m、p、 155
.4℃(メトラー装置)〕である。
上記のスルホニルクロリド(9F、33.7ミリモルン
を酢酸145−1無水酢酸50m1!および無水酢酸ナ
トリウム142の混合物に加え、そして充分に攪拌しな
がら亜鉛末12fを加える。その混合物を1時間攪拌し
、冷却し、濾過し、そして濃縮する。残留物を水ととも
に攪拌し、そして濾過すると4.41が得られる。これ
をアセトニトリルから再結晶すると3.22 f (m
、p、156.4〜156.8℃)が得られる。
を酢酸145−1無水酢酸50m1!および無水酢酸ナ
トリウム142の混合物に加え、そして充分に攪拌しな
がら亜鉛末12fを加える。その混合物を1時間攪拌し
、冷却し、濾過し、そして濃縮する。残留物を水ととも
に攪拌し、そして濾過すると4.41が得られる。これ
をアセトニトリルから再結晶すると3.22 f (m
、p、156.4〜156.8℃)が得られる。
実施例 108
(4)−[5−(4−メルカプトフェニル)−2−オキ
ソ−オキサゾリジン−5−イルメチル〕カルバミン酸メ
チルエステル(工: A = 4−He%B= NHC
OOCH3)の製造 無水エタノール10me中(/、)−(3−(4−アセ
チルチオ)フェニルシー2−オキソオキサゾリジン−5
−イルメチル)カルバミン酸、メチルエステル2.00
f(6,17ミリモル)の混合物を窒素下で攪拌しなが
らピロリジン2ゴを加え、つぎに30分間還流し、減圧
下で濃縮し、水で希釈し、そして酢酸で酸性にする。白
色固体分を沖過し、水洗し、そして乾燥する。収量1.
7f (m、p、 131.7〜132.6℃)。
ソ−オキサゾリジン−5−イルメチル〕カルバミン酸メ
チルエステル(工: A = 4−He%B= NHC
OOCH3)の製造 無水エタノール10me中(/、)−(3−(4−アセ
チルチオ)フェニルシー2−オキソオキサゾリジン−5
−イルメチル)カルバミン酸、メチルエステル2.00
f(6,17ミリモル)の混合物を窒素下で攪拌しなが
らピロリジン2ゴを加え、つぎに30分間還流し、減圧
下で濃縮し、水で希釈し、そして酢酸で酸性にする。白
色固体分を沖過し、水洗し、そして乾燥する。収量1.
7f (m、p、 131.7〜132.6℃)。
実施例 109
(dt) −2−アミノ−N−(3−(4−(1−メチ
ルエチル〕−フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−
5−イルメチル)アセトアミド(工: A = 4−
(CH3)2CH、B 、、−NHCOCH2NH2)
の製造A、m水ジメチルスルホキシドS o i中、(
az) −2−クロロ−N−15−[4−(1−メチル
エチル)フェニルシー2−オキソオキサゾリジン−5−
イルメチル)アセトアミド5f(16,1ミリモル)お
よびナトリウムアジド1.52の溶液を乾燥窒素下で5
時間攪拌し且つ90℃に加熱する。この混合物を減圧下
で濃縮し、そして残留物を水とともに攪拌する。一部結
晶した固体分を分離し、そして放置すると固化する(収
量5、El)。これを酢酸エチルから再結晶すると54
t [m+、、p、 122.4〜12五4 (分解)
〕が得られる。
ルエチル〕−フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−
5−イルメチル)アセトアミド(工: A = 4−
(CH3)2CH、B 、、−NHCOCH2NH2)
の製造A、m水ジメチルスルホキシドS o i中、(
az) −2−クロロ−N−15−[4−(1−メチル
エチル)フェニルシー2−オキソオキサゾリジン−5−
イルメチル)アセトアミド5f(16,1ミリモル)お
よびナトリウムアジド1.52の溶液を乾燥窒素下で5
時間攪拌し且つ90℃に加熱する。この混合物を減圧下
で濃縮し、そして残留物を水とともに攪拌する。一部結
晶した固体分を分離し、そして放置すると固化する(収
量5、El)。これを酢酸エチルから再結晶すると54
t [m+、、p、 122.4〜12五4 (分解)
〕が得られる。
クロロホルム/メタノール(9:1)を使用して得られ
たシリカゲルの薄層クロマトグラムにより、これは出発
化合物および所望の生成物の混合物であることが示され
る。さらに精製することなくつぎの段階でこれを使用す
る。
たシリカゲルの薄層クロマトグラムにより、これは出発
化合物および所望の生成物の混合物であることが示され
る。さらに精製することなくつぎの段階でこれを使用す
る。
B、エタノール50−5水5−および酢酸5−中(4)
−2−アジド−N−(3−[4−(1−メチルエチル〕
フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕アセトアミドの10チのパラジウム炭末0.5tを
含有する懸濁物を攪拌しながら、分散管を用いてその溶
液に水素を通じる。3時間反応を続行し、その溶液を濾
過し、濃縮し、残留物を水とともに攪拌し、そして濃水
酸化アンモニウムで塩基性にするとガム状の固体分が得
られる。これを酢酸エチルで抽出し、硫酸す) IJウ
ムで乾燥し、そして濃縮する。残留物をエーテルととも
に攪拌し、そして沖過する。収量1.4 f (m、p
、 82〜92℃)。これを酢酸エチル10trlおよ
びトリエチルアミン数滴から再結晶すると0.84f(
m、p、−105〜107℃)が得られる。
−2−アジド−N−(3−[4−(1−メチルエチル〕
フェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕アセトアミドの10チのパラジウム炭末0.5tを
含有する懸濁物を攪拌しながら、分散管を用いてその溶
液に水素を通じる。3時間反応を続行し、その溶液を濾
過し、濃縮し、残留物を水とともに攪拌し、そして濃水
酸化アンモニウムで塩基性にするとガム状の固体分が得
られる。これを酢酸エチルで抽出し、硫酸す) IJウ
ムで乾燥し、そして濃縮する。残留物をエーテルととも
に攪拌し、そして沖過する。収量1.4 f (m、p
、 82〜92℃)。これを酢酸エチル10trlおよ
びトリエチルアミン数滴から再結晶すると0.84f(
m、p、−105〜107℃)が得られる。
実施例 110
t−2−アジド−N−(3−(4−メチルスル*=#)
フェニルシー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕アセトアミド(工:A−4−,CH3SO2、B=
NHCOCH2N、 )の製造実施例109 Aのアジ
ド置換においてt−2−クロロ−N−(3−[4−(メ
チルスルホニル)フェニルシー2−オキソオキサゾリジ
ン−5−イルメチル)アセトアミドを置換すると上記の
表題化合物(m、p、 1 B &8〜189.8℃)
が得られる。
フェニルシー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチ
ル〕アセトアミド(工:A−4−,CH3SO2、B=
NHCOCH2N、 )の製造実施例109 Aのアジ
ド置換においてt−2−クロロ−N−(3−[4−(メ
チルスルホニル)フェニルシー2−オキソオキサゾリジ
ン−5−イルメチル)アセトアミドを置換すると上記の
表題化合物(m、p、 1 B &8〜189.8℃)
が得られる。
実施例 111
N−[3−(4−アセチルフェニル)−2−オキソオキ
サゾリジン−5−イルメチル〕アセトP、H アミドオキシム(工: A −4−CH5C’ 、 B
=NHC’0CH3)N−[3−(4−アセチルチオニ
# ) −2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル
〕アセトアミド(L16F)をピリジン20−およびエ
タノール20−の混合物に溶解し、そしてヒドロキシル
アミン塩酸塩52を加える。この混合物を窒素下で2時
間還流する。室温まで放冷したのち溶媒を蒸発させ、そ
して残留物を水性希塩酸で摩砕する。固体分を集取し、
そして水洗する。水性エタノールから再結晶すると純粋
なN−C3−(4−アセチルフェニル)−2−オキソオ
キサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミドオキシム
1.6 f (m、p、 213〜215℃〕が得られ
る。
サゾリジン−5−イルメチル〕アセトP、H アミドオキシム(工: A −4−CH5C’ 、 B
=NHC’0CH3)N−[3−(4−アセチルチオニ
# ) −2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル
〕アセトアミド(L16F)をピリジン20−およびエ
タノール20−の混合物に溶解し、そしてヒドロキシル
アミン塩酸塩52を加える。この混合物を窒素下で2時
間還流する。室温まで放冷したのち溶媒を蒸発させ、そ
して残留物を水性希塩酸で摩砕する。固体分を集取し、
そして水洗する。水性エタノールから再結晶すると純粋
なN−C3−(4−アセチルフェニル)−2−オキソオ
キサゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミドオキシム
1.6 f (m、p、 213〜215℃〕が得られ
る。
実施flJ112
N−[3−(4−アセチルフェニル)−2−オB =
NHCOCH3) 実施例111の操作においてヒドロキシルアミン塩酸塩
をメトキシルアミン塩酸塩で置きかえるとN−[3”(
4−アセチルフェニル)−2−オキシオギサゾリジンー
5−イルメチル〕アセトアミドオキシムメチルエーテル
1.89 (m、p。
NHCOCH3) 実施例111の操作においてヒドロキシルアミン塩酸塩
をメトキシルアミン塩酸塩で置きかえるとN−[3”(
4−アセチルフェニル)−2−オキシオギサゾリジンー
5−イルメチル〕アセトアミドオキシムメチルエーテル
1.89 (m、p。
208〜211℃)が得られる。
本発明の抗菌剤は活性剤を哺乳動物体内の薬剤作用部位
と接触せしめるような任意の手段により投与することが
できる。それらは薬剤とともに、個々の治療剤としてか
または治療剤を組み合わせて使用できる通常の方法によ
り投与することができる。それらは単独で投与すること
ができるが、一般的には選ばれた投与経路および標準的
な薬学上の実際に基づいて選ばれた薬学的担体とともに
投与される。
と接触せしめるような任意の手段により投与することが
できる。それらは薬剤とともに、個々の治療剤としてか
または治療剤を組み合わせて使用できる通常の方法によ
り投与することができる。それらは単独で投与すること
ができるが、一般的には選ばれた投与経路および標準的
な薬学上の実際に基づいて選ばれた薬学的担体とともに
投与される。
勿論、投与される薬量は既知の因子たとえば特定薬剤の
薬力学的特性およびその投与方法および投与経路、患者
の年令、健康状態および体重、症状の性質および程度、
同時治療の種類、治療の回数および所望される効果によ
り変わるであろう。通常活性成分の1日あたりの投与量
は体重時あたり約5〜20mWでありうる。通常本発明
のより活性な化合物を使用する場合1日あたりに9あた
り5〜15q好ましくは5〜15■を1日に2〜4回の
分割投与量でかまたは持続性放出形態で投与するのが所
望の結果を得るために効果的である。これらの薬剤はま
た非経口的に投与することもできる。
薬力学的特性およびその投与方法および投与経路、患者
の年令、健康状態および体重、症状の性質および程度、
同時治療の種類、治療の回数および所望される効果によ
り変わるであろう。通常活性成分の1日あたりの投与量
は体重時あたり約5〜20mWでありうる。通常本発明
のより活性な化合物を使用する場合1日あたりに9あた
り5〜15q好ましくは5〜15■を1日に2〜4回の
分割投与量でかまたは持続性放出形態で投与するのが所
望の結果を得るために効果的である。これらの薬剤はま
た非経口的に投与することもできる。
体内投与に適当な投薬形態(組成物)は単位あたり約t
omg〜約500mgの活性成分を含有する。
omg〜約500mgの活性成分を含有する。
これらの薬学的組成物中には活性成分は通常組成物の総
重量に基づいて約0.5〜95重量%の量で存在するの
であろう。
重量に基づいて約0.5〜95重量%の量で存在するの
であろう。
活性成分は固体状の投薬形態でたとえばカプセル剤、錠
剤および粉末としてか、または液体状の投薬形態でたと
えばエリキシール剤、シロップ剤および懸濁物として投
与することができる。それはまた滅菌された液体状の投
薬形態で非経[1的に投与することもできる。
剤および粉末としてか、または液体状の投薬形態でたと
えばエリキシール剤、シロップ剤および懸濁物として投
与することができる。それはまた滅菌された液体状の投
薬形態で非経[1的に投与することもできる。
七うチンカプセルは活性成分および粉末状担体たとえば
乳糖、蔗糖、マンニトール、殿粉、セルロース誘導体、
ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸などを含有す
る。圧縮錠剤を製造するために同様の希釈剤を使用する
ことができる。錠剤およびカプセル剤は両方とも薬物を
長時間にわたって継続的に放出せしめるための持続放出
性生成物として製造することができる。
乳糖、蔗糖、マンニトール、殿粉、セルロース誘導体、
ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸などを含有す
る。圧縮錠剤を製造するために同様の希釈剤を使用する
ことができる。錠剤およびカプセル剤は両方とも薬物を
長時間にわたって継続的に放出せしめるための持続放出
性生成物として製造することができる。
圧縮錠剤はすべての不快な味を隠蔽し、そして錠剤を大
気から保護するために糖で被覆するかまたは剤皮で被覆
することができ、また腸管で選択的に崩壊せしめるため
に腸溶剤皮で被覆することができる。
気から保護するために糖で被覆するかまたは剤皮で被覆
することができ、また腸管で選択的に崩壊せしめるため
に腸溶剤皮で被覆することができる。
経口投与のための液体状投慾形態は患者の服用性を増す
ために着色剤および香味剤を含有することができる。
ために着色剤および香味剤を含有することができる。
一般的に水、適当な油状物、食塩水、水性デキストロー
ス(グルコース)、および関連した糖溶液およびグリコ
ールたとえばプロピレングリコールまたはポリエチレン
グリコールは非経口的溶液のための適当な担体である。
ス(グルコース)、および関連した糖溶液およびグリコ
ールたとえばプロピレングリコールまたはポリエチレン
グリコールは非経口的溶液のための適当な担体である。
非経口的に投与するための溶液は好ましくは活性成分の
水溶性の塩、適当な安定剤および必要な場合には緩衝性
物質を含有する。単独でかまたは組み合わせて使用され
る酸化防止剤たとえば硫酸水素ナトリウム、亜硫酸ナト
リウム、またはアスコルビン酸は適当な安定剤である。
水溶性の塩、適当な安定剤および必要な場合には緩衝性
物質を含有する。単独でかまたは組み合わせて使用され
る酸化防止剤たとえば硫酸水素ナトリウム、亜硫酸ナト
リウム、またはアスコルビン酸は適当な安定剤である。
またくえん酸およびその塩およびナトリウムEDTAも
使用される。さらに非経口的溶液は防腐剤たとえばベン
ザルコニウムクロリド、メチル−またはプロピル−パラ
ベンおよびクロロブタノールを含有スることもできる。
使用される。さらに非経口的溶液は防腐剤たとえばベン
ザルコニウムクロリド、メチル−またはプロピル−パラ
ベンおよびクロロブタノールを含有スることもできる。
適当な蘂学的担体に関してはこの分野の標準的な鵜考テ
1であるA、 0sO1氏著r Remington’
sPharmaceutical 5ciences
Jに記載されている。
1であるA、 0sO1氏著r Remington’
sPharmaceutical 5ciences
Jに記載されている。
本発明の化合物を投与するための有用な薬学的投薬形態
はつぎのように説明することができる。
はつぎのように説明することができる。
カプセル剤
多数の単位カプセルはそれぞれ標準的な2個1組の硬質
ゼラチンカプセルに粉末状の活性成分75■、乳糖15
0■、タルク24wvおよびステアリン酸マグネシウム
6■を充填することにより製造される。
ゼラチンカプセルに粉末状の活性成分75■、乳糖15
0■、タルク24wvおよびステアリン酸マグネシウム
6■を充填することにより製造される。
軟質ゼラチンカプセル
大豆油中活性成分の混合物を製造し、陽置換ポンプを使
用してセラチンに注入し、活性成分75qを含有する軟
質ゼラチンカプセルを生成する。それらのカプセルを洗
浄しそして乾燥する。
用してセラチンに注入し、活性成分75qを含有する軟
質ゼラチンカプセルを生成する。それらのカプセルを洗
浄しそして乾燥する。
錠剤
多数の錠剤は通常の方法により薬量単位が活性成分75
所ハコロイド状二酸化珪素0.2■、ステアリン酸マグ
ネシウム5■、微品性セルロース250巧、とうもろこ
し殿粉11ηおよび乳糖9a87Fi?であるように製
造される。味を良くするためかまたは吸収を遅くするた
めに適当なコーティングを飾すことができる。
所ハコロイド状二酸化珪素0.2■、ステアリン酸マグ
ネシウム5■、微品性セルロース250巧、とうもろこ
し殿粉11ηおよび乳糖9a87Fi?であるように製
造される。味を良くするためかまたは吸収を遅くするた
めに適当なコーティングを飾すことができる。
注射剤
注射により投与するために適当な非経口的組成物は10
容+i1 %プロ上0レンゲリコールおよび水中で1
.5重7 %の活性成分をイも1拌することにより製造
される。この溶液を塩化ナトリウムで等張にし、そして
滅菌する。
容+i1 %プロ上0レンゲリコールおよび水中で1
.5重7 %の活性成分をイも1拌することにより製造
される。この溶液を塩化ナトリウムで等張にし、そして
滅菌する。
11静濁物
水性懸洞物は経口投与のために各5 ml中に微#ll
1分割された7占件成分75mハナトリウムカルボキシ
メチルセルロース200mg、安息香酸ナトリウム5■
、ソルビトール溶液(米国薬局方)1.01およびバニ
リン0.025−が含まれるように製造される。
1分割された7占件成分75mハナトリウムカルボキシ
メチルセルロース200mg、安息香酸ナトリウム5■
、ソルビトール溶液(米国薬局方)1.01およびバニ
リン0.025−が含まれるように製造される。
本発明の新規な化合物はβ−ラクタマーゼを生産するス
タフィロコッカス・アウレウス(日taphyloco
ccus aureus)分離菌を含めてグラム陰性菌
およびダラム陽性菌に対して生物学的に活性であること
が試験結果により示される。
タフィロコッカス・アウレウス(日taphyloco
ccus aureus)分離菌を含めてグラム陰性菌
およびダラム陽性菌に対して生物学的に活性であること
が試験結果により示される。
これらの薬剤は呼吸器系、胃腸系、性尿器系、中枢神経
系、血液、間質体液、軟組織および骨の感染症を含めて
人および動物の両方の細菌感染症を治療するために有用
であると考えられる。
系、血液、間質体液、軟組織および骨の感染症を含めて
人および動物の両方の細菌感染症を治療するために有用
であると考えられる。
表7に示されるように式Iの化合物は試験管内で抗菌作
用を示す。ミュラー−ヒントンのブロスを用いる標準的
な微小希釈法(Theodore B。
用を示す。ミュラー−ヒントンのブロスを用いる標準的
な微小希釈法(Theodore B。
Conrath氏著rHandbook of Mic
rotiter ProceduresJグイナテツク
社1972年発行)はスタフイロコマウス・エビデルミ
ゾイス(5taphylococcu日epiderm
iais )およびエシェリヒア・コリ(Escher
ichia coli)の試験菌に対する24時間最小
阻害濃度(MIC)を決定するために使用される。
rotiter ProceduresJグイナテツク
社1972年発行)はスタフイロコマウス・エビデルミ
ゾイス(5taphylococcu日epiderm
iais )およびエシェリヒア・コリ(Escher
ichia coli)の試験菌に対する24時間最小
阻害濃度(MIC)を決定するために使用される。
上記と同様の操作を使用し実施例90の化合物を用いて
行われた試験管内での試験はスタフィロコッカス・アウ
レウスまたはエシェリヒア・コリに対して防除作用を示
さt、かった。しかしながら実施例90の化合物はさら
に高濃度でかまたは異t「つだ条件下で防除作用を示す
ものと信じる。生体内でも抗菌作用を示すことがわかっ
た(実施例8および9参照)。
行われた試験管内での試験はスタフィロコッカス・アウ
レウスまたはエシェリヒア・コリに対して防除作用を示
さt、かった。しかしながら実施例90の化合物はさら
に高濃度でかまたは異t「つだ条件下で防除作用を示す
ものと信じる。生体内でも抗菌作用を示すことがわかっ
た(実施例8および9参照)。
これらの化合物の生体内での活性は表8および9に要約
されたデータにより例示される。
されたデータにより例示される。
生体内での有効性の測定は感染を引き起こす微生物の培
養物を対照動物において7日以内に一90〜100%の
死亡を引き起こすように希釈してマウスの腹腔内に接種
することにより行われる。
養物を対照動物において7日以内に一90〜100%の
死亡を引き起こすように希釈してマウスの腹腔内に接種
することにより行われる。
使用される希釈剤はイー・コ!J (E、 C011)
に対してはトリブチカーゼ−大豆ブロスであり、そして
スタフィロコッカス・アウレウス感染に対しては5%水
性の豚の胃粘素である。上記の化合物は経口投与の場合
0.25%水性メトセル[Methocel、ダウケミ
カル社のヒドロキシプロピルメチルセルロースE15プ
レミアム〕に、また皮下投与の場合5チジメチルスルホ
キシドを含有する滅菌蒸留水(フイツシャーサイエンテ
ィフィク社製品〕に溶解するかまたは懸濁する。それら
のマウスに感染時に、そして感染の4時間後に再び投与
する。試験終了まで毎日死亡率を記録し、そしてリード
ーメンチの方法[L、 G、 ReedおよびH,Mu
ench両氏著rAmerican Journal
ofHygiene を第27巻第493−497頁(
1938年〕参照〕により50%有効投与量ED5Qを
計算する。
に対してはトリブチカーゼ−大豆ブロスであり、そして
スタフィロコッカス・アウレウス感染に対しては5%水
性の豚の胃粘素である。上記の化合物は経口投与の場合
0.25%水性メトセル[Methocel、ダウケミ
カル社のヒドロキシプロピルメチルセルロースE15プ
レミアム〕に、また皮下投与の場合5チジメチルスルホ
キシドを含有する滅菌蒸留水(フイツシャーサイエンテ
ィフィク社製品〕に溶解するかまたは懸濁する。それら
のマウスに感染時に、そして感染の4時間後に再び投与
する。試験終了まで毎日死亡率を記録し、そしてリード
ーメンチの方法[L、 G、 ReedおよびH,Mu
ench両氏著rAmerican Journal
ofHygiene を第27巻第493−497頁(
1938年〕参照〕により50%有効投与量ED5Qを
計算する。
人における想定された治療水準は体MKgあたり5〜2
0■を1日に2〜4回の分割投与量で経口投与すること
により得られる。重篤であるかまたは生命の危険性のあ
る感染症の場合には投与量を増大することができる。
0■を1日に2〜4回の分割投与量で経口投与すること
により得られる。重篤であるかまたは生命の危険性のあ
る感染症の場合には投与量を増大することができる。
表7
試験管内でのブロス希釈による最小阻害濃度微小希釈ブ
ロスにおけるMIC(μm/−)2 6.3 >100
.0 3 25.0 >100.0 4 >200.0 )200.0 5 200.0 >200.0 7 100.0 )200.0 10 50.0 >100.0 11 >100.0 >100.0 12 >100.0 )100.0 15 )200.0 )200.0 17 )200.0 )200.0 21 6.3 100.0 22 2.4 9.4 23 3.2 25.0 24 )100.0 )100.0 25 100.0 )100.0 26 6.3 100.0 27 6.3 50.0 28 12.5 50.0 29 12.5 100.0 30 200.0 >200.0 31 3.9 )200.0 52 12.5 >200.0 33 50.0 )200.0 54 25.0 )200.0 35 25.0 200.0 36 25.0 )200.0 67 20口、0 >200.0 38 9.4 )200.0 39 12.5 >200.0 40 12.5 >200.0 41 12.5 >200.0 42 100.0 >200.0 44 100、O>200.0 45 37.5 >200.0 46 12.5 >200.0 513.1 >200.0 5豐 6.3 >200.0 57 12.5 10[)、[] 59 100.0 >200.0 67 3.2 2.5 68 100.0 >200.0 69 9.4 150.0 70 50、(] >]20]、] 07 50.0 )200.0 72 25.0 200.0 73 ン200.0 >200.0 74 100.0 >200.0 75 >20(]、G )20[1,076200,0
>200.0 77 >200.0 >200.0 81 12.5 50.0 82 25.0 100.0 B3 200.0 200.0 84 57.5 >200.0 85 12.5 >200.0 86 200.0 >200.0 87 9.4 166.7 90 18.8 >200.0 91 >200.0 >200.0 92 >20[1,O>200.0 93 >200.0 >200.0 97 >200.0 >200.0 9B 2.4 200.0 99 200.0 >200.0 1 DO200,0>200.0 101 100.0 >2oo、0 102 200.0 >200.0 105 200.0 >200.0 104 >200.0 >200.0 105 32.0 >32.0 106 3.2 〉200.0 107 >20[]、0 >200.0108 >20
0.0 >200.0 109 50.0 >200.0 110 6.5 、 50.0 111 50.0 >200.0 112 50.0 >200.0 表8 感染を引ぎ起こす微生物 BD5oBD50 2 7、5 N 、 T。
ロスにおけるMIC(μm/−)2 6.3 >100
.0 3 25.0 >100.0 4 >200.0 )200.0 5 200.0 >200.0 7 100.0 )200.0 10 50.0 >100.0 11 >100.0 >100.0 12 >100.0 )100.0 15 )200.0 )200.0 17 )200.0 )200.0 21 6.3 100.0 22 2.4 9.4 23 3.2 25.0 24 )100.0 )100.0 25 100.0 )100.0 26 6.3 100.0 27 6.3 50.0 28 12.5 50.0 29 12.5 100.0 30 200.0 >200.0 31 3.9 )200.0 52 12.5 >200.0 33 50.0 )200.0 54 25.0 )200.0 35 25.0 200.0 36 25.0 )200.0 67 20口、0 >200.0 38 9.4 )200.0 39 12.5 >200.0 40 12.5 >200.0 41 12.5 >200.0 42 100.0 >200.0 44 100、O>200.0 45 37.5 >200.0 46 12.5 >200.0 513.1 >200.0 5豐 6.3 >200.0 57 12.5 10[)、[] 59 100.0 >200.0 67 3.2 2.5 68 100.0 >200.0 69 9.4 150.0 70 50、(] >]20]、] 07 50.0 )200.0 72 25.0 200.0 73 ン200.0 >200.0 74 100.0 >200.0 75 >20(]、G )20[1,076200,0
>200.0 77 >200.0 >200.0 81 12.5 50.0 82 25.0 100.0 B3 200.0 200.0 84 57.5 >200.0 85 12.5 >200.0 86 200.0 >200.0 87 9.4 166.7 90 18.8 >200.0 91 >200.0 >200.0 92 >20[1,O>200.0 93 >200.0 >200.0 97 >200.0 >200.0 9B 2.4 200.0 99 200.0 >200.0 1 DO200,0>200.0 101 100.0 >2oo、0 102 200.0 >200.0 105 200.0 >200.0 104 >200.0 >200.0 105 32.0 >32.0 106 3.2 〉200.0 107 >20[]、0 >200.0108 >20
0.0 >200.0 109 50.0 >200.0 110 6.5 、 50.0 111 50.0 >200.0 112 50.0 >200.0 表8 感染を引ぎ起こす微生物 BD5oBD50 2 7、5 N 、 T。
6 29.5 >120.0
4 43.3 N、T。
11 29.9 47.4
12 179、ON、T。
15 40、ON、T。
17 44.4 N、T。
2’1 7.330.3
22 j4.2 71.1
2人 3.3 14.0
24 74.5 N、T。
25 >560.ON、T。
26 1.7 56.2
27 ao 37.0
2B 71.3 N、T。
29 88.7 N、T。
50 >120.ON、T。
31 3.5 19.6
32 3.5 70.9
33 12.2 >120.0
34 >120 N、T。
37 62.9 N、T。
1 9.1 >120.0
39 6.1 >120.0
40 5五1 N、T。
41 5.3 )120..0゜
42 45.5 N、T。
44 30.3 N、7゜
45 )120.ON、T。
46 15.8 62.5
51 6.4 62.9
52 4・9 )120.0
57 10.8 39.0
59 4.3 N、T。
62 18、I N、T。
67 42.5 >120.0
68 48、ON、T。
69 12.0 B5.0
70 51.7 N、T。
71 )120.ON、T。
72 >120.ON、T。
73 59.5 N、T。
74 96.6 N、T。
75 13.0.9 N、7゜
81 >360.0 >360.0
82 17、2 29.7
83 15.3 10.5
84 )120.ON、T。
85 25.9 N、T。
86 16.1 >120.0
89 五3 11.1
90 2.5 55.9
91 31.3 N、T。
92 27.6 N、T。
95 48.4 )120.0
97 62、ON、T。
9B 2.0 29.8
99 3a4 N、T。
100 21.0 >120.0
101 20.2 >120.0
102 56.9 N、T。
103 62.9 N、T、 1
104 4.4 24.8 1
105 5.7 17.0 。
107 3.0 82.2 2
108 4.5 >120.0 2
109 58.9 N、T、 2
110 11.4 56.5 2
111 6.5 71.5 2
112 5.1 105.3 3
1 ED5o=50%有効投与量(’i’/’g) 3
2 N、T、=試験されなかった 3 表93 3・ 感染を引き起こす微生物 3□ 1 L ”D50 1D50 4 5 41.2 N、T。
2 N、T、=試験されなかった 3 表93 3・ 感染を引き起こす微生物 3□ 1 L ”D50 1D50 4 5 41.2 N、T。
4:
2 89、8 N、 T。
5 24.9 N、T。
7 24.9 N、T。
2 N、T・ 11.8
3 N、T、 N、T。
4 N、T、 N、T。
5 83.6 )100.0
6 N、T、 40.7
0 57.4 >120.0
1 >4.4 N、T。
2 )4.4 N、T。
3 B6 N、T。
4 49.6 N、T。
6 7.4 )120.O
B 4.8 60.4
? 5・5 )120.0
1 6、I N、T。
2 20.9 N、T。
57 N、T 。 12.9
67 1a6 99.0
71 69.3 N、T。
72 15.2 N、T。
76 70.9 N、T・
77 67、I N、T。
81 14.4 62.7
82 9.6 11.7
83 N、T、 12.5
84 9.6 N、T。
85 j4.9 N、T。
86 7.2 >120.(1
89>4.4 N、T。
91 29.3 N、T。
92 46.6 N、T。
93 16.5 >120.0
97 35.6 N、T。
98 >13.0 40.0
1 DO21゜5 N、T。
101 10.3 N、T。
103 9.7 N、T。
104 )2.5 N、T。
105 >13.0 、 57.2
107 )4.4 N、T。
108 >4.4 N、T。
109 19.6N、T。
110 >13.0 25.0
1 EDso750%有’Xh m 4量(wvAy
)2 N、T、=試験されなかった 特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース・
アンド・コンパ二一
)2 N、T、=試験されなかった 特許出願人 イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース・
アンド・コンパ二一
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 〔ここで上式中、Aは−NO2、−8(0)nR1、〒
5 −Ns (0)nR4場合により1個またはそれ以上の
ハロゲン原子で置換されていてもよい01〜c5−アル
キルであるか、C2〜C5−アルケニルまたはC5〜C
8−シクロアルキルであり、R1は場合により1個また
はそれ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい01
〜C4−アルキル、CN、 NR5R6またはCO2R
8、C2〜C4−アルケニNR9Xまたは−NXZであ
り、R2およびR5は相互に独立してC1〜C2−アル
キルであるかまたは一緒になって−(CH2)(1−で
あり、R4は場合により1個またはそれ以上のハロゲン
原子で置換されていてもよい01〜C4−アルキルであ
り、R5およびR6は相互に独立してH,(1〜C4−
アルキルまたは03〜CB−シクロアルキルであり、R
7は−NR5R6または一0R5であり、R8はHまた
はC1〜C4−アルキルであり、R9はH1C1〜C4
−アルキルまたは03〜C8シクロアルキルであり、R
10はH,C1〜c4−アルキル、C2〜C4−アルケ
ニル、C3〜C4−シクロアルキル、−oRBまたは−
NR11R11aであり、R11およびR11aは相互
に独立してHまたはC1〜C4−アルキルであるかまた
は一緒rなって−(CH2)r−でありXはCL、 B
rまたは工であり、YはH,F、CL。 BrまたはNO?であるか、またはAとYとが一緒にな
って一〇(CI(2)tO−であることができ、2は生
理学的に受容しうる陽イオンであり、nは0.1または
2であり、pは0または1であり、qは5.4または5
であり、rは4まであり、R12はH,C7〜C11−
アルキルまたは03〜C8−シクロアルキルであり、R
13はHであるか、場合により1個またはそれ以上のハ
ロゲン原子で置換されていてもよい01〜C4−アルキ
ルであるか、C2〜C4−アルケニル、C3〜C4−シ
クロアルキル、フェニル、−CH20R15、−CH(
OR16)OR17% −CH2Cl(0)VR14、
CR1、、、−0RI Q、−8R14、−CH2N5
であるか、α−アミノ酸例えbi クリシン、L−アラ
ニン、L−システィン、−L−プロリンおよびD−アラ
ニンに由来するアミノアルキル基であるか、−NR19
R20であるかまたはC(NH2)R21R22であり
、R14は場合により1個またはそれ以上のハロゲン原
子で置換されていてもよい01〜C4−アルキルであり
、R15はHまたは場合により1個またはそれ以上のハ
ロゲン原子で置換されていてもよい01〜C4−アルキ
ルであり、R16およびR17は相互に独立して01〜
C4−アルキルであるかまたは一緒になって−(CH2
)m−であり、R18は01〜C4−アルキルまたはC
7〜C11−アラルキルであり、R19およびR20は
相互に独立してHまたはC1〜C4−アルキルであり、
R21およびR22は相互に独立してH%01〜C4−
アルキル、03〜C6−シクロアルキル、フェニルまた
は一緒になって−(CH2)s−であり、Uは1または
2であり、■は0.1または2であり、mは2または6
でありそしてSは2.3.4または5でである場合はR
12はHであり、 (4)Aが一〇Nである場合はBは−N3ではなく、そ
して (5)Aが(CI5 )2cr+である場合はBはHN
C’0CH2C2ではない ものとする〕を有する化合中のt−立体異性体、および
d−およびt−立体異性体の混合物、またはその薬学的
に適当な塩。 2) YがI(であり、Aがパラ位で置換された一No
2、−3(0)nR1または−8(0)2−N=S
(0)、R2R5であり、R1が場合により1個または
それ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい01〜
C4−アルキルであるか、C2〜C4−アルケニル、−
NR9RI Q 。 −N3、−NX2、−NR9Xまたは−yxtであり、
R2およびR5が相互に独立して01〜C2−アルキル
であるかまたは一緒になって−(CH2)、−であり、
R9がH,C1〜C4−アルキルまたは03〜C8−シ
クロアルキルであり、RloがH,C1〜C4−アルキ
ル、C2〜C4−アルケニル、C5〜C4−シクロアル
キル、−ouBまたは−NR11RNaであり、XがC
L、 Brまたは工であり、2が生理学的に受容しうる
陽イオンであり、R8がHまたはC1〜c4−アルキル
であり、R11およびRNaが相互に独立してHまたは
C1〜C4−アルキルであるかまたは一緒になって−(
CH2)r−であり、nが0.1または2であり、pが
0または1であり、qが3.4または5であり、rが4
または5であり、・が−11H・、オ′−8−胎、濤り
も(。児R・・またはR5であり、R12がHl 自〜
C10−アルキルまたは03〜C8−シクロアルキルで
あり、R15が■)であるか、場合により1個またはそ
れ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい01〜C
4−アルキルであるか、C2〜C4−アルヶニ/l/、
C,、〜C4−シクロアルキル、フェニル、−CH20
R15、−CH(OR1g )OR14、−CH20R
j)vR14、−oRj 8、−13B14であるか、
α−アミノ酸例えばグリシン、L−アラニン、L−シス
ティン、L−ゾロリンおよびD−アラニンに由来するア
ミノアルキル基であるかまたは−NR1,R2oであり
、R14が場合により1個またはそれ以上のハロゲン原
子で置換されていてもよい01〜輸−アルキルであり、
R15がHまたは場合により1個またはそれ以上のハロ
ゲン原子で置換されていてもよい01〜C4−アルキル
であり、R16およびR17が相互に独立して01〜c
4−アルキルであるかまたは一緒になって−(CH2)
m−であり、R18がC1〜C4−アルキルまたは07
〜C’11−アラルキルであり、R19が1(−J:た
は01〜C4−アルキルであり、R20i”−Hまたは
C1〜C4−アルキルであり、Uが1または2であり、
■が0.1または2であり、そしてmが2または5であ
るがただし H5 (1)AがCI(3S−である場合はBは−N−CO2
CH3ではなく、 120 (3)AがH2N5O2−でありそしてBが−N−cR
13である場合はR12はHである t−立体異性体およびd−およびt−立体異性体の混合
物についての前記特許請求の範囲第1項記載の化合物ま
たはその薬学的に適当な塩。 3) YがHであり、Aがパラ位で置換された−5(o
)nBj、NO2、−C−CH5または一〇H(CHI
)2であり、R1が場合により1個またはそれ以上のハ
ロゲン原子で1直換されていてもよいC1〜C2−アル
キルであるかまたはNR5:R6であり、R5がHまた
はCH5であり、R6がHまたはCH3であり、nはR
1がアルキルまたは置換アルキルである場合は0.1ま
たは2であり、そしてR1がNR5R,5である場合は
2である前記特許請求の範囲第1項記載の化合物。 4) Bが−NH−C−R15であり、R13がHSC
H5、ORj (3、cHct2、cH2ctまたはC
H20Rj 5であり、R15がHまたはC1〜C4−
アルキルでありそしてRlBが01〜C4−アルキルで
ある前記特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5)下記の立体化学的配置 (式中人は一〇 (o)ca5、−8−CH3、−El
(0)2CH,、E102NH2、−COC’H5また
は−CH(CH3)2である)を有する前記特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 6)下記の立体化学的配置 7) Eが一走−Lca5、−i−g−ocH5または
一?r−L cHct2である前記特許請求の範囲第5
項記載の化合物。 8)<t)−N−〔5−C4−Cメチルスルホニル)フ
ェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメヂル
〕カルバミン酸メチルエステルである前記性a′[請求
の範囲第1項記載の化合物。 9) G/−)−N−1j−[:4−(メチルチオ)フ
ェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル
〕カルバミン酸メチルエステルである前記特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 10) (t)−N −(3−114−(メチルスルホ
ニル)フェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イ
ルメチル〕ホルムアミドである前記特許請求の範囲第1
項記載の化合物。 1リ (バーN−[:3−(4−(メチルスルホニル)
フェニルクー2−オキソオキザゾリジン−5−イルメチ
ル〕アセトアミドである前記特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 12)(イ)−N−[:3−[:4−(メチルチオ〕フ
ェニル〕−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル
〕アセトアミドである前記特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 15) (t)−N−[3−[:4−(アミノスルホニ
ル)フェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イル
メチル〕アセトアミドである前記特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 14)(イ)−N−C3−C4−Cメチルスルフィニル
)フェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメ
チル〕アセトアミドである前記特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 15) (A−2,2−ジクロロ−N −C3−[:
4−(メチルスルホニル)フェニルクー2−オキソオキ
サゾリジン−5−イルメチル〕アセトアミドである前記
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 16) (7−)−N−[: 3− (4−イソプロピ
ルフェニルクー2−オキソオキサゾリジン−5−イルメ
チル〕アセトアミドである前記特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 17) (t) −N −(3−(4−アセチルフェニ
ル)−2−オキソオキサゾリジン−5−イルメチル〕ア
セトアミドである前記特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 18)式1a (Ia) (式中R42はHSC1〜C1o−アルキルまたはC3
〜C8−シクロアルキルである)を有する化合物のt−
立体異性体およびd−およびt−立体異性体の混合物。 19)弐1b (式中R12はH%c1〜c1じアルキルまたはC3〜
C8−シクロアルキルであり、R13はHであるか場合
により1個またはそれ以上のハロゲン原子で置換されて
いてもよいC1〜C4−フルキルであるか、C2〜C4
−アルケニル、C3〜C4−シクロアルキル、フェニル
、−cH2oR15、−CH(OR16)OR17、−
CH2B (0)vR+ 4、CR15、−OR1日、
−5U1.であるか、α−アミノ酸例えばグリシン、L
−アラニン、L−システィン% L −フロリンおよび
D−アラニンに由来するアミンアルキル基であるか、−
NRI 9R20またはC(NH2)R21R22であ
り、R14は場合により1個またはそれ以上のハロゲン
原子で置換されていてもよいc1〜C4−アルキルであ
り、R15はHまたは場合により1個またはそれ以上の
ハロゲン原子で置換されていてもよい01〜C4−アル
キルであり、R16およびR17は相互に独立して01
〜C4−アルキルでカ)るかまたは−緒になって−(C
H2)tn−であり、R18は01〜C4−アルキルま
たは07〜C11−アラルキルであり、R19およびR
20は相互に独立してHまたはC1〜C4−アルキルで
あり、R21およびR22は相互に独立してH,C1〜
C4−アルキル、03〜C6−シクロアルキル、フェニ
ルまたは一緒になって−(cH2)8−であり、mは2
または3であり、■は0.1または2でありそして8は
2.3.4または5である)を有する化合物のt−立体
異性体およびd−およびt−立体異性体の混合物。 20)適当フ、’C桃学的担体および抗菌的に有効作用
琢の前記特ft’F請求の範囲第1〜17項のいずれか
一つに記載の化合物からなる薬学的組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US50189783A | 1983-06-07 | 1983-06-07 | |
US501897 | 1983-06-07 | ||
US578332 | 1984-02-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS608277A true JPS608277A (ja) | 1985-01-17 |
Family
ID=23995466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11471084A Pending JPS608277A (ja) | 1983-06-07 | 1984-06-06 | アミノメチルオキソオキサゾリジニルベンゼン誘導体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS608277A (ja) |
HU (1) | HU196771B (ja) |
ZA (1) | ZA844265B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS638217U (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-20 | ||
JP2003518106A (ja) * | 1999-12-21 | 2003-06-03 | オーソ−マクニール・フアーマシユーチカル・インコーポレーテツド | 抗菌薬としてのピペリジニルオキシおよびピロリジニルオキシフェニルオキサゾリジノン類 |
WO2007116960A1 (ja) * | 2006-04-06 | 2007-10-18 | Research Foundation Itsuu Laboratory | 炭素環を有するオキサゾリジノン誘導体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5551064A (en) * | 1978-06-09 | 1980-04-14 | Delalande Sa | Novel aryloxazolidinone*oxazolidinethione* pyrrolidinone*pyrrolidine and thiazolidinone* their manufacture and their therapeutic application |
JPS5551604A (en) * | 1978-10-09 | 1980-04-15 | Fuji Shoji Kk | Wire structure for reinforcement of rubber state soft material |
-
1984
- 1984-06-06 JP JP11471084A patent/JPS608277A/ja active Pending
- 1984-06-06 ZA ZA844265A patent/ZA844265B/xx unknown
- 1984-06-06 HU HU513284A patent/HU196771B/hu not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5551064A (en) * | 1978-06-09 | 1980-04-14 | Delalande Sa | Novel aryloxazolidinone*oxazolidinethione* pyrrolidinone*pyrrolidine and thiazolidinone* their manufacture and their therapeutic application |
JPS5551604A (en) * | 1978-10-09 | 1980-04-15 | Fuji Shoji Kk | Wire structure for reinforcement of rubber state soft material |
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JPS638217U (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-20 | ||
JP2003518106A (ja) * | 1999-12-21 | 2003-06-03 | オーソ−マクニール・フアーマシユーチカル・インコーポレーテツド | 抗菌薬としてのピペリジニルオキシおよびピロリジニルオキシフェニルオキサゾリジノン類 |
WO2007116960A1 (ja) * | 2006-04-06 | 2007-10-18 | Research Foundation Itsuu Laboratory | 炭素環を有するオキサゾリジノン誘導体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA844265B (en) | 1986-01-29 |
HU196771B (en) | 1989-01-30 |
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