JPS6081824A - 露光装置用搬送装置 - Google Patents

露光装置用搬送装置

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JPS6081824A
JPS6081824A JP58189198A JP18919883A JPS6081824A JP S6081824 A JPS6081824 A JP S6081824A JP 58189198 A JP58189198 A JP 58189198A JP 18919883 A JP18919883 A JP 18919883A JP S6081824 A JPS6081824 A JP S6081824A
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JP
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reticle
slider
carrier
exposure
pins
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JP58189198A
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Inventor
Takeshi Naraki
剛 楢木
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体装置例えばIC,LSIなどの製造用
のフォトマスクやレチクルを露光装置にセットするため
の搬送装置に関する。
〔発明の背景〕
LSIなどの半導体装置の製造において、そのフォトリ
ングラフイ一工程では複数の回路パターン毎のフォトマ
スクまたはレチクルが用いられる。
これらのマスクまたはレチクルは、コンタクト方式では
転写すべき半導体ウェハ上に密着され、プロキシミテイ
方式ではウェハ表面かられずかに離して重ねられ、ウェ
ハ表面のフォトレジストニ回路パターンを焼付けるため
に露光を受ける。ひとつのLSIチップの製造には数種
類以上の回路パターン、すなわち複数枚のマスクまたは
レチクルが必要であり、これt露光焼付けのたびに交換
していくことになる。
従来よQ1露光装置にマスクやレチクルZセットするの
に、枚数が比較的少なければ手動セットで、多数枚の場
合には自動セットで行なっている。
例えば手動セットの一例として特開昭57−85236
号公報には、レチクルに設けられでい6アライメントマ
ークとレチクルステーションc86台>に設けられてい
る目印とを目視で合わせてレチクルをステーション上に
正しく載せるというプリアライメントを行なうようにし
た露光装置用搬送装置が示されているが、この方式では
目視によるためプリアライメント精度が悪く、特にレチ
クルにペリクルが付いた場合は、プリアライメント精度
不良のためにレチクルを露光位置等へ搬送している際中
にペリクルフレームが搬送系やアライメント系などの機
械系と干渉を起す恐れが多い。そこで、プリアライメン
ト精度を高くするための別の手動セット方式として、マ
スクまたはレチクルの二辺を固定位置決めビンに当接さ
せてプリアライメントを行なうものも考えられたが、オ
ートレチクルローダン併用する場合、この固定位置決め
ビンとオートレチクルローダとが干渉を起し、このため
手動セット位置と同一位置で自動セットすることが極め
て困難となった。また露光終了後にレチクルを取出す場
合、固定位置決めビンとの干渉を避けるために特別に考
慮してレチクルを搬送しなげればならないという欠点も
ある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、手動でのセット時に高いプリアライメ
ント精度が得られ、しかも自動セットを同一位置で併用
しても機械的干渉を一切生じない露光装置用搬送装置を
提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明の露光装置用搬送装置においては、前記目的を達
成するために、レチクルまたはマスクをセットするため
のセット位置と、露光焼付けのための露光位置との間で
レチクルまたはマスクを搬送するものにおいて、前記セ
ット位置にレチクルまたはマスフッ位置決めするための
位置決め部材をレチクルまたはマスクの周縁と接触可能
に且つ必要時にレチクルまたはマスクの搬送経路外に退
避できるように設けてあり、これによって手動セット時
tこ固定位置決めビンと同等のプリアライメント精度が
得られるように、またオートレチクルローダ等ビ手動セ
ット位置と同一位置に対して適用して自動セットに併用
しても一切の干渉を起さずにローディングが行なえるよ
うになっている。
〔発明の実施例〕
本発明はレチクルまたはフォトマスクのいずれをも被搬
送対象とするが、以下の実施例では便宜上レチクルを被
搬送物とする場合について説明する。
まずはじめに露光装置におけるレチクルの搬送動作′4
を第1図と共に述べると、自動セットの場合、レチクル
Rは例えば特開昭58−95812号公報に示されたよ
うな収納ケース1に収納され、これらケースを複数段積
重ねたレチクルライブラリ縄が所定位置にセットされる
。各ケースの一端面には内部のレチクルR−i水平状態
のまま取Q出せるように扉が設けられておシ、扉が閉じ
た状態ではケース1は内部を密閉状態に保ち得るように
なされている。レチクルライブラリRLからは必要とす
るレチクルが予じめ決められた位置’R4から取)出さ
れる。
すなわち位置用にあるケース2の扉が自動的に開かれ、
内部のレチクルが位置R1□からB、まで水平に引き出
され、次いで画直方向に上昇されて位置11゜でレチク
ル懸架用のキャリヤCXに受け渡される。
この工うなキャIJヤαによる自動搬送装置は例えば特
開昭57−6493UJ@公報に工っで既に知られてい
る。キャリヤαに受け渡されたレチクルは、露光装置に
セットされる前に、位置R,から位置B4に移動され、
自動異物検査装置PDによってレチクル上の異物の検査
を受ける。このような自動異物検査装置は例えば特開昭
58−62543号公報に示されている。この自動異物
検査装置PDによってレチクルの表裏面がレーザースポ
ットで走介され、付着した異物から生じる散乱光の指向
性と、レチクル上の回路パターンから生じる散乱光の指
向性との違いから、異物の付着の有無や付着位置などが
検出される。この検査で合格したレチクルは再び位置地
からX方向にキャリヤαによって移動され、位置Riy
x通って露光装置本体のレチクル搬送部2のセット位置
用に受け渡される。尚検査不合格のレチクルは途中の位
置R3でZ方向に降下され、元のケースに戻される。
さてセット位置用にレチクルを受け渡したキャリヤαは
元の方向に退避し、レチクルは搬送部2によってセット
位置からY方向へ露光位置へまで移動され、露光装置本
体の所定位置に位置決めされる。例えば露光装置が縮小
投影形のものであれば、位置R@においてレチクルの中
心は露光系の投影レンズの光軸tに合致するように位置
決めされる。
本発明は前記レチクル搬送部2の改良に関するものでお
り、その実施例を示せば第2図の通υである。すなわち
第2図は本発明による改良を加えたレチクル搬送部2の
平面図であり、そのA−A線矢視図である第6図と共に
説明すると、搬送部2は露光装置本体に固定されたベー
ス6を含み、ベース3の片側の本体からはみ出た部分が
前記セット位置焉として設定されてお)、この部分のベ
ース3上には、丁度セット位置にあるレチクルR1の四
隅をその上に載せて支承するように四本の同一高さの角
柱4a、4b、4c、4dが固設されている。また角柱
上に載置されセット位置へにあるレチクル凡の少なくと
も二辺の周縁Iこ当接するように、前記ベース6の前記
片側部分には複数の位置決め部材としての位置決めビン
5a、5b、5c、5d、5eが設けられている。第2
図におい℃位置決めビン5aはレチクルR7のY方向の
位置決め用のピンで、その外周面にはレチクルR1の右
辺(第2図)が当接し、また位置決めビン5b、5c、
5d、5eはX方向の位置決め用のピンで、ピン5bと
50とが外周面でレチクルの上辺(第2図)と当接し、
ピンシと50とが外周面でレチクルの下辺(第2図)で
当接する。
これらの位置決めピンは、所望時に搬送部2でのレチク
ルHの移動経路外・\退避できるように。
例えばレチクルR1がビンの上に載ったときにはその荷
重によシ沈み込む↓うになされている。位置決めピン5
a〜5Cの具体例は第5図に示す通りであシ、ベース6
に固設された筒部材50の内部に上下方向に摺動可能な
ロッド51が挿入され、ロッド51の先端に合成樹脂製
の円筒状頭部52が固定され、頭部52と筒部材50と
の間にはね56が配設されている。ばね56は、頭部5
2に何の荷重も加わっていないとぎには頭部52yその
頂面52aが角柱4a〜4dより高くなるように弾発付
勢しておシ、また頭部52に何等かの荷重が下向きに加
わったときにはその荷重によって撓んで頭部52が角柱
4a〜4d以下のレベルに沈み込むようにしである。こ
の際、ロッド51は筒部材50内で摺動するが、ロッド
51をリニアボールベアリング等で支承して、上下方向
(スラスト方向)には直線性の良い、ヒステリシスの無
い動ぎをするように、またそれと直交する方向には一切
の移動ンしないような構造とするのが良い。
ベース6上にはまた、Y方向に延びる二本の平行なガイ
ドレール6a、6bがベース3に対して上下方向(2方
向)に昇降可能に設けられ、これらガイドレール6a、
6b間には、レールに沿ってY方向に移動可能なスライ
ダー7が両レールをまたぐように配置されている。この
スライダー7は、角柱4a〜4dに載置されたレチクル
搬送部その上面に受けとって、これを露光位置R4+ま
で搬送するものでら)1図示の例では真中がくりぬかれ
た口字状の平面形状を有する枠体状のものである。スラ
イダー7の(シぬぎ部分は、第2図に示すように位置R
1において角柱4a〜4dお工び位置決めビン5a〜5
eが露呈するに足勺る広さのものであり、このくシぬき
部分に張り出すように、レチクルR1の相対する二辺の
縁部な下から吸着する真空吸着溝などの吸着部7a、7
bがスライダー7に一体形成されている。
前記セット位U R,からガイドレールに沿ってY方向
に離れた露光位置R4には、レチクルステージ8がベー
ス6に対してXおよびY方向に移動可能に、且つ中心Q
まわりに水平回動可能に配置さ江このレチクルステージ
8の上面の縁部には、その上にレチクルR,ヲ載置して
保持するための四つの突部8a、8b、8c、8dが設
けられている。このレチクルステージ8もステージと同
様に真中がくりぬかれた枠状体からなり、く、りぬぎ部
分はレチクルR1の回路パターン等、実質的な露光有効
領域であシ、各突部8a〜8dはこのくりぬき部分の周
縁部でレチクルステージから支承するものであるので1
図示の例では第2図に破線で示すようにレチクルR,Y
その上辺と下辺でそれぞれ二個所ずつ吸着するための吸
着部(真空吸着溝など)80a〜80dを上面に有して
いる。尚、ステージ8とスライダー7のこれらの吸着部
は、いずれもY方向に細長く形成されているが、レチク
ルRにおけるこれら吸着部の対応個所は、第2図におい
て吸着部8aと8bの吸着対応部の丁度間に吸着部7a
の吸着対応部が入シ、吸着部8Cと田の吸着対応部の丁
度間に吸着部九の吸着対応部が入るような位置関係にな
っている。
第6図のスライダー7の上方に示されている投光器9と
受光器10のベアは、セット位置R6の角柱4a〜4d
の上にレチクルRがあるかないかを検出するためのもの
で、投光器9からの光のレチクルR1による反射光の有
無を受光器10で検出するようにしである。
前述ガイドレール6a 、6bの上下動の駆動系や、ス
ライダー7のY方向移動の駆動系については特開昭57
−85236号公報と同様の偏心カムによる上下動駆動
機構やベルトによるスライダー駆動機構が適用でき、本
実施例では説明の冗長ン避けるためこれらについては省
略しである。
さてレチクル几は、第2および6図からも判る(11) ように、その周辺部の限定された部分のみで角柱4a〜
4d、スライダー7、或いはステージ8に支持されるよ
うになっている。これは、レチクルR1の転写有効領域
に傷をつげないようにするためだけでなく、レチクルR
5の上面または下面(パターン面)に防塵用の薄膜(ペ
リクル)ビ付したペリクル付きレチクルの搬送にも使用
できる工うにするためである。ペリクル付きのレチクル
の構成は第4図に示すとうりであり、レチクルR1の下
面にはクロム等で描かれた回路パターンrpが形成され
、この回路パターンrpY取シ囲むように高さ数ミリメ
ートルのフレーム几がレチクルB、に接着されている。
そしてこのフレームt1の下端面、すなわち回路パター
ンrpからフレームの高さだけ間隔ンあげた位置にペリ
クルPが均一にはられている。第4図の例ではレチクル
R1の下面にしかペリクルが設けられていないが、上面
側にも同様なペリクルを設けることもある。勿論これら
ペリクルの張設置こ先車ってレチクルRの表面は異物検
査装置PDによって異物の付着のないことが充分に確認
されて(12) いる。先に述べた角柱4a〜4d、吸着部7a、7bお
よび突部8a〜8dは、ペリクル付ぎレチクルがスライ
ダー7に受け渡され、そして移動する際に、そのフレー
ムnとの機械的干渉を起こさないような位置・寸法で設
けられている。
さて第6図は以上のような構成のレチクル搬送部2の移
動制御系のブロック図で、全体のシーケンス制御はCP
rJ 、メモリ、インターフェース等ヲ含む主制御回路
100によって果される。主制御装置100によって制
御されるのは、ガイドレール6a。
6bYZ方向に昇降させるモータ101と、スライダー
7をレール6a、6bに沿ってY方向に往復移動させる
モータ102と、レチクルステージ8をX方向にシフト
移動させるモータ107お工びY方向にシフト移動させ
るモータ108と、ステージ8をその中心Qまわシに回
動させるモータ109である。また主制御回路1[+[
1には、フォトカプラ106によってガイドレール6a
 、 6bの上限位置の検出信号が入力され、同じく下
限位置の検出信号がフォトカプラ104から入力される
。さらにスライダー7がフロント位置(第2図、第3図
の状態の位置)にあることt検出するフォトカプラ10
5と、同じくリア位置(レチクルステージ8の直上の位
置)にあることを検出する7オトカブラ106とからも
主制御回路100に信号が与えられている。尚、キャリ
ヤCXなどその他の関連部分の制御系どの情報のやシと
9(コミュニケーション)のために、これら他の制御系
と主制御回路100とはパスライン110によって接続
されている。
レチクル搬送部2の作動ン説明すれば、第7図。
第8図および第9図のフローチャー)V参照し、て、ま
ス最初にスライダー7がフロント位置ζこ位置するよう
フォトカプラ105の出力信号S4ヲ用いて初期位置状
態がとられる。ステップ200でガイドレール6a、6
bがスライダー7を載せたまま下方に移動するようにモ
ータ101を駆動する。ステップ2]1でフォトカプラ
104からの信号S3をモニターし、ガイドレールが下
限位置に連I−たときステラη印に進む。ステップ20
2でモータ101の駆動を停止するが、ガイドレールを
信号S3が発生した時点で直ちに正確に止めることは難
かしいので、若干オーバーランさせたのちに逆方向、す
なわち上昇方向に微動させて再び信号S3が発生する位
置でモータ101を停止させる。このようにしてスライ
ダー7が70ント位置で下限位置に持ち来たされ、角柱
4a〜4dおよび位置決めピン5a〜5Cがスライダー
7の上面より上に突出した状態とな〕、レチクルのセッ
トの準備がととのう。
ここで手動セットでレチクルRを搬送部2にセットする
場合は、レチクルR′12tその端縁が位置決めピン5
a、5b、5cの周面に当るよ5にして角柱4a〜4d
の上に載置する。尚、ピン5d 、5eはこのときのレ
チクルRの端縁とは接しないように微少量の隙間があく
ように設けられている。つまり、ピン5a〜5eで囲ま
れた領域の内部で角柱4a〜4d上にレチクルR,−装
置けばプリアライメントが果されるようになっている。
自動セットの場合は、前記ステップ202の終了後にス
テップ203に進み、ステップ206でキャリヤ(X(
第1図)がレチクルR’Y懸架状態で搬送しく15) てぎて、スライダー7の上方の受渡し位置に定位置停止
される。これらの動作は、パスライン110を介してキ
ャリヤαの制御系とのコミュニケーションを行なうこと
で果される。
次にステップ204に進み、スライダー7が上昇するよ
うにモータ101を駆動してガイドレール1m。
6bを上昇させ、ステップ205で7オトカブラ106
からの信号S、をモニターし、レール6a#6bが上限
位置に達したときにステップ206でモータ101の駆
動を停止し、レール6a、6bがオーバーランしたのち
に引ぎ続きスライダー7が下方へ微少移動するようにモ
ータ101を逆転させてレール6a、6bを戻し、再び
信号S2が生じたとぎにモータ101を停止させてスラ
イダー7を正確に定位置停止させる。
尚、第7図でステップ204乃至206ヲ破線で囲んで
あるが、これはスライダー7の上昇動作を実行する段階
を示したものである。
スライダー7が上昇位置に正確に停止したのちステップ
207においてキャリヤαがレチクルR1?スライダー
7に受け渡す。この場合、レチクルR(16) はスライダー7の吸着部7a、7b上に所定のプリアラ
イメント精度で吸着される。次いでステラη任でレチク
ルRを載せ几スライダー7は−レール6a。
6bの降下によって下方へ移動され、ステップ209で
キャリヤCXがX方向に逼迫される。
ここで自動セットの場合、ステップ206でレチクルR
1’キャリヤαで懸架すると、キャリヤαに対してレチ
クルRが位置決めされる。ところがキャリヤ0Xがステ
ップ207でレチクルR,?+?スライダー7に渡し、
スライダー7がステップ208で下降すると、スライダ
ー7に載置されていたレチクルRはスライダー7が下限
位置に達したとぎには角柱4a〜4d上に載置されるこ
とになシ、このときにレチクルRが必ずしも五本の位置
決めピン5a〜5eのどれにも接触せずに角柱上に載置
されるとは限らない。例えばレチクルRが第2図に示し
た位置よルもXまたはY方向にわずかにずれて受け渡さ
れると、スライダー7がステップ208で下降した際に
、レチクル凡の周辺部分がピy 5b、5cまたは−の
頂面上にのりあげることになる。これは自動セットの場
合のプリアライメント精度としては間Mはないが、あく
までレチクルR・は水平に載置されなければならず、本
発明では位置決めピン5a〜5eはレチクルR1がその
頂面上にのりあげれば第5図に示した頭部52がばね5
3な撓めて沈み込へ従ってレチクルR2はピンに触れて
も角柱4a〜4d上に水平に載置され、ピン5a〜5e
が邪魔になることはない。
以上のようにして手動セットまたは自動セットによシレ
チクルRが搬送部2のセット位置、すなわち角柱4a〜
4d上に予じめ定められたプリアライメント精度の範囲
内で正確にセットされ、以下、ステップ210からの露
光位置・\の搬送が行なわれる。
すなわちステップ210で下限位置にあるガイドレール
6a、6b %:上昇させてスライダー7を上方へ移動
させ1手動またはステップ208で角柱4a〜4d上に
載置されていたレチクルB、ヲスライダー7上の吸着部
7a、7b上にすくい上げ、ステップ211で吸着部7
a、7bによるレチクル凡の吸着をはじめ、ステップ2
12で図示しないバキュームセンサ等による前記吸着動
作の確認が行なわれる。この場合、ステップ211と2
12はスライダー7へのレチクル凡の吸着動作を実行す
るステップである。
次いでステップ213でそ一タ102?ll−駆動して
スライダー7をY方向にステージ8へ向けて移動させ、
ステップ214で7オトセンサ106から信号s5が生
じたときtこステップ215でモータ102の駆動を停
止する。このとぎスライダー7は慣性にニジ少しオーバ
ーランをして止まるので、ステプ7215ではさらにモ
ータ102’&逆転させ、スライダー7を送9込み(ロ
ード)方向と逆方向に微動させて、再び信号S、が生じ
る位置にスライダー7を正確に位置決めする。これでレ
チクルRはステージ8の直上に位置することになる。次
いでステップ216でスライダー7の(つまシレール6
a、6bの)下降動作が行なわれるが、ステップ215
でのスライダー7の位置決め後、このステップ216の
開始までの間に吸着部7a、7bによるレチクルの吸着
は解除されている。ステップ216でのスライダー7の
下(19) 降に際して、吸着部7&と7bは下降に伴ってステージ
8の突部8a 、 8bの間と、8c、8dの間にそれ
ぞれ入シ込み、スライダー7のどの部分もステージ8に
接触しないようになっている。スライダー7が下降しぎ
るとレチクルR1は突部8a〜8d上に載置され、次い
で第5図のステップ217で$80a〜80dによるレ
チクルHの吸着が行なわれる。この吸着がバキュームセ
ンサーなどで確認されればステップ218でレチクルの
露光位置でのアライメントが行なわれる。これは例えば
露光光軸に対して固定位置関係の図示しないレテクルア
ライメン)X微mカレチクルR1上に付された特定のア
ライメントマークを検出するようにそ一タ107,10
8,109を駆動制御してステージ8 k X、Y方向
および中心Qまわシに回動させて行なう。尚、この場合
のステージ8の移動および回動は、いずれにせよ微少な
ものであって、ステージ8とその突部8a〜8dおよび
レチクルR5が、スライダー7のくりぬき部分の内部で
これと接触することなく動ける範囲の動作で充分である
。このよ5なアライメントが済めば、ス(2]) テップ219でステージ8を吸着等によりベース6に固
定し、搬送部の片道の動作、すなわちレチクルの搬入セ
ットから露光位置への位置決めまでの動作が終了する。
この後、露光装置によってレチクルの回路パターンが露
光され、下方のウェハ(図示せず)に転写・焼付けられ
る。
露光完了後のレチクルの搬出(アン・ロード)は第9図
に示し次ステツプにニジ行なわれる。すなわち、まずス
テップ220で溝80a〜80dによるレチクル凡の吸
着を解除し、ステップ221でスライダー7yal−上
昇させ、ステップ222で突部8a〜8d上のレチクル
R,Yスライダー7上に受け渡してその吸着部7a、7
bによシレチクルを吸着する。次いでステップ223で
モータ102を駆動してスライダー7をアンロード方向
に移動させ、ステップ224で7オトセンサ105から
の信号S4ヲ受けとったとぎにステップ225でモータ
102を一旦停止させ、スライダー7のオーバーランを
戻すためにモータIC2を逆転させてスライダー7をロ
ード方向に微動させ、再び信号S4が生じる位置にスラ
イダー7を位置決めする。この位置は角柱4a〜4dす
なわちセット位置上にあり、ステップ226で吸着部7
a、7bによる吸着ン解除したのちスライダー7を下降
してレチクルRを角柱4a〜4d上に載置する。このと
きも最初の搬入時のプリアライメント状態に対して位置
ずれをもって載置されることがあり、従ってレチクル凡
の下面周辺部に位置決めピン58〜5eのどれかが接触
することがあるが、本発明ではビン5&〜5eが上方か
らの荷重でその頭部を角柱4a〜4dの高さ以下に沈み
込ませるようになっているので、レチクルR1は水平状
態で角柱上に載置されることになる。
手動セットの場合は前記ステップ226の終了時点でレ
チクルR1を角柱4a〜4d上から手でとり出せばよく
、ま”た自動セットでキャリヤ■を用いる場合には、次
のステップ227で受光器10からの信号Slによ)角
柱4a〜4d上のセット位置にレチクルRが存在するか
否かを確認したのち、ステプ7228でキャリヤCXヲ
セット位置上方の受取シ位置(ステップ207での受け
渡し位置と同じ)に持ち来fc、1゜キャリヤCXが受
取り位置に来たら、ステップ229でスライダー7を上
昇させ(レール6a、6b ’に上昇させる)、ステッ
プ230でキャリヤαにスライダー7上のレチクル′F
LY:渡し、キャリヤα自体の制御ステップによってレ
チクルを元のケースに戻U一方スライダー7はこのとぎ
下方へ移動して(ステップ251)、キャリヤはの移動
に対して退避するようにする。
尚1本発明では位置決めピン5a〜5eはその頭部が沈
み込むようになってお)、従って各ピンの頭部52の沈
み込みを接点信号として電気的にとり出し、これを用い
てレチクルR1のセット時のプリアライメント不良を警
報表示するようにしてもよい。
また実施例においては位置決めピンが上からの荷重によ
って沈み込むものであったが、これは例えばロッド51
の下端をエアーシリンダ構造または電磁ソレノイドブラ
ンジャ構造にして、エアー信号または電気信号による操
作でロッド51Y:強制的に下方ノ\移動させ、所望時
に位置決めピンを(25) 沈み込ませる構成にして、その動作を主制御回路による
シーケンス制御中に組込むようにしてもよいし、手動セ
ットの場合のレチクル搬入時のみピンを突出させてそれ
以外のときはピンを強制的に沈み込ませておくようにし
てもよい。
さらに本発明において位置決めピン5本に限るものでは
なく、レチクルの手動セット時のプリアライメントに必
要最低限の水数以上あればよい。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、レチクルまたはフ
ォトマスクなどを露光装置の搬送部に手動でセットする
場合にセット位置周囲の位置決め部材としてのピン5a
〜5e ylI−利用して予じめ決められたセット位置
に高いプリアライメント精度でセットでき、そのため露
光位置l\の搬送中の位置精度がスタート時点から高く
でき、露光位置でのファインアライメントの負担を軽減
することができる。
ま7′j露光位置からセット位置へレチクルを戻す場合
に位置決め部材が邪魔になることがなく、例(24) えロード時の位置に対してアンロード時の位置がずれて
いても、位置決め部材が干渉してレチクルの姿勢を変え
尺)損傷を与えたシすることもなく、従って自動搬送装
置による搬入搬出時にレチクルを取〕損ねたル、レチク
ルに損傷を与えたシする恐れもないから、自動搬送装置
による自動セットを同じセット位置に対して行なうよう
にしてもレチクルに損傷を与えるような機械的干渉は全
く生じることがない。
【図面の簡単な説明】
第1図は露光装置におけるレチクルの搬送動作を示す模
式図、第2図は本発明の実施例を示す平面図、第6図は
第2図のA−A線矢視図、第4図はペリクル付きレチク
ルの断面図、第5図は位置決めピンの詳細構造ン例示す
る断面図、第6図は搬送動作の制御系の構成例ン示すブ
ロック図、第7.8および9図はそれぞれ搬送動作ステ
ップのフローチャートである。 図中、1はケース、2は搬送部、6はベース、4a〜4
dは角柱、5&〜5eは位置決めピン、6a、6bはガ
イドレール、7はスライダー、7a、7bは吸着部。 8はレチクA/ステージ、8a〜8dは突部、80a〜
80dは吸着、9は投光器、10は受光器、50は筒部
材、51はロッド%52は頭部、52aは頂面、56は
ばね、100は主制御回路、IQl、102はモータ、
103.104,105,106はフォトセンサ、10
7,108はシフトモータ、109は回動そ一タ、11
Gはパスライン、R,ハレチクル、RLはレチクルライ
ブラリ、FDは異物検査装置、CXはキャリヤを示す。 尚、各図中同一符号は同効部分ケ示すものとする。 代理人弁理士 木 村 三 朗 矛8図 オq題

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レチクルまたはマスク等の被搬送物をセットする
    ためのセット位置と、露光焼付けのための露光位置との
    間で前記被搬送物を搬送するものにおいて、前記被搬送
    物の周縁と接触することにエフ前記被搬送物を位置決め
    する位置決め部材が前記セット位置に設けられ、前記位
    置決め部材は所望時に前記被搬送物の搬送経路外へ退避
    可能になされていることを特徴とする露光装置用搬送装
    置。
  2. (2)前記位置決め部材は、被搬送部が載ったときに沈
    み込むようにばねで支承された上下動可能な位置決めビ
    ンからなることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
    載の露光装置用搬送装置。
JP58189198A 1983-10-12 1983-10-12 露光装置用搬送装置 Pending JPS6081824A (ja)

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