JPS607630A - Improved molding stamper and manufacture thereof - Google Patents

Improved molding stamper and manufacture thereof

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JPS607630A
JPS607630A JP59119236A JP11923684A JPS607630A JP S607630 A JPS607630 A JP S607630A JP 59119236 A JP59119236 A JP 59119236A JP 11923684 A JP11923684 A JP 11923684A JP S607630 A JPS607630 A JP S607630A
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JP
Japan
Prior art keywords
stamper
information
nickel
layer
electroless nickel
Prior art date
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Pending
Application number
JP59119236A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
マイケル・ミカエルチツク
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Discovision Associates
Original Assignee
Discovision Associates
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/16Curved printing plates, especially cylinders
    • B41N1/20Curved printing plates, especially cylinders made of metal or similar inorganic compounds, e.g. plasma coated ceramics, carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/10Moulds; Masks; Masterforms

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
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  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学的に読み取り可能な情報保持部材の複製に
使用する金属スタンバ−に関する。更に詳しくは、本発
明は、エンコードされた表面を規定する硬化物質で形成
されたスタンパ−を利用した射出成形処理によって行わ
れる、光学的に読み取り可能な情報保持部材の複製に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a metal stamper for use in replicating optically readable information bearing members. More particularly, the present invention relates to the reproduction of optically readable information bearing members by an injection molding process utilizing a stamper formed of a hardened material that defines an encoded surface.

本発明による改良されたスタンパ−及びかかるスタンパ
−を製造する方法は、・形状が任意でありそしてミクロ
ンザイズの不連続を持つプラスチックの情報保持表面の
製造と関連して用いることができる。しかし、理解し易
いように、先行技術及び本発明の説明に、例示的にデス
ク状の情報保持部材を用いる。本発明の改良には、スタ
ンパ−とプラスチックとの界面の特性が含まれる。・こ
の点において、本発明の概念はほぼ任意の形状の情報を
保持するプラスチック物の射出成形に広く適用される。
The improved stamper according to the invention and the method of making such a stamper can be used in connection with the production of plastic information-bearing surfaces of arbitrary shape and having micron-sized discontinuities. However, for ease of understanding, a desk-shaped information holding member is used as an example in the description of the prior art and the present invention. Improvements of the present invention include the properties of the stamper-plastic interface. - In this respect, the inventive concept is broadly applicable to the injection molding of plastic objects carrying information of almost arbitrary shape.

プラスチックの射出成形処理により光学的にNflTh
み取り可能な情報保持部材を複製すると、とは周知であ
る。かかる処理においては、液状プラスチックをデスク
状金型に注入し、エンコードされたスタンパ−表面と堅
固な背板との間で加圧する。このスタンパ−表面は一般
的に・はニッケルで形成され、オーデオ、ビデオ及び/
又はデジデル情報を保持している。液状プラスチックは
、硬化され、冷却され、ついで、エンコードされたニッ
ケル表面より離型される。従来技術はスタンバ−材料と
してニッケルを使用している。理由は、ニッケルが次の
ような特有の構造的な性質を持っているからである。そ
の−は、射出成形処理の成形段階と跡型段階とにおける
疲労に耐えるに十分な固さを持っていることである。そ
の二はニッケル金属の大量の電解処理が非常に容易に行
えることである。
Optically NflTh due to plastic injection molding process
It is well known to reproduce readable information bearing members. In such a process, liquid plastic is injected into a disk-shaped mold and pressurized between an encoded stamper surface and a rigid backing plate. This stamper surface is typically made of nickel and is used for audio, video and/or
Or holds DigiDel information. The liquid plastic is cured, cooled, and then demolded from the encoded nickel surface. The prior art uses nickel as the stumpbar material. The reason is that nickel has the following unique structural properties. The key is that it is sufficiently stiff to withstand fatigue during the molding and molding stages of the injection molding process. Second, electrolytic treatment of large quantities of nickel metal can be carried out very easily.

その三は拐料コストが比較的易いことである。その四は
処理制御とパラメータの8′F容範囲が広いことである
。その五は腐食とは無縁であることである。
Third, the cost of kidnapping is relatively low. Fourth, the processing control and parameter ranges are wide. Fifth, it is free from corrosion.

ビデオデスク用のスタンバ−の製造方法は米国特許第4
,211,017号に記載されている。この特許はヤ<
゛ゲー、1\ンイー氏の名前で1980年7月8日に発
行されたものであり、本発明の譲り受け人に譲渡されて
いる。バンダー氏の特許は銅とニッケルで作られた多層
スタンバ−である。金属層にはスパッタリング蒸着、蒸
着、あるいは無電解溶液からの付着(メッキ)が適用さ
れる。始めにエンコードされた情報を含むエンコードさ
れたフォトレジスト「マトリクス」表面は、まず、無電
解処理によシ銀メッキされる。この無電解処理は鏡面を
作るときのそれと類似している。銀フィルムは導電性を
得るに十分な厚みに蒸着されている。
The method for manufacturing stand bars for video desks is patented in US Patent No. 4.
, No. 211,017. This patent is
゛Game, 1\ Published July 8, 1980 in the name of Mr. Nyi and is assigned to the assignee of this invention. Mr. Bander's patent is a multilayer stambar made of copper and nickel. The metal layer is applied by sputter deposition, vapor deposition or deposition from an electroless solution (plating). The encoded photoresist "matrix" surface containing the initially encoded information is first plated with silver using an electroless process. This electroless process is similar to that used to create mirror surfaces. The silver film is deposited to a sufficient thickness to provide electrical conductivity.

この厚みは約0.01〜2ミル(0,002〜0.05
 mm)の範囲の低い方の値に近い。これにより、つぎ
の電気メツキ処理が行える。ニッケル/銅層は電気メツ
キ処理されて約3〜30ミル(0,076〜0.762
關)の厚みとされる。最後の層にプラスチック成形がな
されて、ニッケル層となる。
This thickness is approximately 0.01 to 2 mils (0.002 to 0.05
close to the lower value of the range (mm). This allows the next electroplating process to be performed. The nickel/copper layer is electroplated to about 3-30 mils (0.076-0.762
It is considered to be the thickness of The last layer is plastic molded and becomes the nickel layer.

ニッケルスタンバ−で形成された複製は、その透過光を
観察すればオレンジ色の斑点がr7!1.察されるもの
と思われる。これは、「表面の汚れ」のように見え、射
出成形処理中に発生す2汀グローイング効果(plow
ing effect ) Jと呼はiする表面歪に基
因する。複製の表面の不達続件を顕微鏡写へで観察する
と、情報トラックを規定す゛る隆起があたかも耕されて
、あるいはあたかも隆起が鋭利な物体と衝突して切り取
られているようになっている。
If you observe the transmitted light of a replica made of nickel stambar, you will see orange spots r7!1. It seems likely that this will be noticed. This looks like "surface dirt" and is caused by the glow effect (plow) that occurs during the injection molding process.
ing effect) J is due to the surface strain caused by i. Microscopic examination of the discontinuities on the surface of the reproduction shows that the ridges defining the information tracks appear to have been plowed out, or as if they had been cut off by a collision with a sharp object.

ブローイング(耕す)はこのような意味で用いられてい
る。ニッケルスタンバ−で形成されたデスクを種々試験
した結果、視覚で確認できるこの「ブローイング効果」
とデスク情報の再生性能との間には直接的な相関性が認
められた。これとの関連で、「情報保持部材を射出成形
するスタンノ(−及びその方法」と題する米国特許出願
がある。このIr¥許出願はギ:、+)−スしイ1−ン
氏の名前で、本願と同時に出願され、本願の譲受人に譲
渡されている。
Blowing is used in this sense. As a result of various tests on desks made of nickel stumber, this "blowing effect" can be visually confirmed.
A direct correlation was observed between this and desk information playback performance. In this connection, there is a US patent application entitled "Stanno (- and method for injection molding information bearing members)". This Ir\\ patent application is filed under the name of Mr. , which was filed at the same time as the present application and has been assigned to the assignee of the present application.

この出願では、ニッケルスタンバ(−の情報保持面に形
成される相似層(conformal 1ayer )
 としてクロムを使用呟スタンバ−とプラスチック間の
界面を改良してデスク性能を大巾に改善している。
In this application, a conformal layer formed on the information-retaining surface of the nickel standber (-)
By using chrome as a material and improving the interface between the stand bar and the plastic, desk performance has been greatly improved.

本願明細書では力Aト、ン氏の出願を、かかる界面の改
良による硬度の改良とn[P型持性が良い技術を示す参
考文献として掲げる。ニッケルスタンバ(−で形成され
た複製を可視的に目、つ電子的に観察すると、もつとも
「汚れた」部分に「オレンジピール」効果が見られる。
In the present specification, the application by Mr. A. Ng is cited as a reference document showing a technique that improves hardness by improving the interface and has good n[P type retention. Visually and electronically observing a replica made with nickel stamba (-) reveals an ``orange peel'' effect in the otherwise ``dirty'' areas.

この「オレンジピール」なる用語は、情報保持面に読み
取り光ビームが到達する前に、通過しなければならない
’I’fT報保持デスクの外部表面の形状を指しでいる
。目が粗いが、均一である表面欠陥はオレンジの皮の表
1f11に似ている。
The term "orange peel" refers to the shape of the external surface of the information-bearing desk through which the reading light beam must pass before reaching the information-bearing surface. The rough but uniform surface defects resemble those of an orange peel.

「オレンジピール」効果により、デスク表面の屈折係数
がばらつき、トラッキング制御を損なう。
The "orange peel" effect causes variations in the refractive index of the desk surface, impairing tracking control.

デスクの走行特性が十分でないことの理由は「〕。The reason why the running characteristics of the desk are not sufficient is ``〕.

ローインク」効果と「オレンジピール」効果との相互作
用より生じていると考えられる。
This is thought to be caused by the interaction between the "low ink" effect and the "orange peel" effect.

射出成形デスクで見られるある種の欠陥はスタンバ−の
[ブックリング(waff 1 ing) JにJ二る
。この「ブックリング」効果は、スクンノ(−の剛力を
超えた成形力による表面の永久的な徂さとして観察され
る。実際に、従来のニッケルスタンプ(−は強度が不十
分であり、物理的に引き延ばさjtあるいは歪曲されて
いささか均一に分布した局在領域をなしている。このた
め、1.000 Aメー−ダーのt″!き出しの浅い彫
り型を持ったワツフル形状を呈する。この「ブックリン
グ」は、はんの1,2回の型締めの後に15ミル(0,
38mm)のニッケルスタンバ−で観察された。本発明
による改良されたニッケルスタンバーでは硬度が増して
、もちろん厚みと関連してζ「ワッフリング」効果をほ
ぼ解決した。
Certain defects found in injection molded desks are listed in Stanber's [Waffling J to J2]. This "bookring" effect is observed as a permanent stiffening of the surface due to forming forces exceeding the stiffness of the nickel stamp (-).In fact, traditional nickel stamps (-) are insufficiently strong and physically It is elongated or distorted to form localized areas that are somewhat uniformly distributed. Therefore, it exhibits a Watsuful shape with a shallow chiseling of 1.000 A medar. "Bookring" is made by 15 mil (0,
38 mm) was observed using a nickel stump bar. The improved nickel stambar according to the invention has increased hardness and, of course, in relation to thickness, substantially eliminates the ζ "waffling" effect.

射出成形ビデオデスクと関連した他の問題は、プラスチ
ック材料が鋳型の入口から出口にキャビティに沿って移
動する時のプラス−y、スフの不十分な硬化にある。プ
ラスチック材料がキャビティに沿って押し込まれる時、
冷たい鋳型壁がその材料の硬化を僅かながら不十分なも
のとする。このため、薄い外皮が形成される。この外皮
は、同じ灸件下にあるか、プラスチック矛(その下に流
れる時、外皮はその位置を変えてキャビティに充満する
が、あるいは薄く剥がれて溶融プラスチックと共に移動
する。この結果、成形品の表面が粗くなり、また成形品
の表面に沿っての応力点がランダムで不均一となる。こ
のような理由がら、スタンパ−は成形品の情報を表わす
形状を保持するに十分な硬度を持つエンコードされた表
面を持っこと、さらには「ワッフリ/グ」及び射出され
たプラスチックの不十分な積層を最少化するがあるいは
除去するような特性を持つ必要がある。本発明はこの必
要を満たすものである。さらに、光学的に読み取り可能
な情報保持部材のオーデオ及びビデオ特性の改良が必要
である。かかる特性の改良は、マスタースタンパ−とス
タンプされたものとの界面でのクリーナ離型を介しての
「ブローイング」及び「オレンジビール」効果を減少さ
せるか、それをなくすことで、なされている。
Another problem associated with injection molded video desks is insufficient curing of the plastic material as it moves along the cavity from the entrance to the exit of the mold. When the plastic material is pushed along the cavity,
The cold mold walls cause the material to harden slightly insufficiently. Because of this, a thin outer skin is formed. When this casing is under the same moxibustion condition or flows under the plastic spear (the casing changes its position and fills the cavity, or it flakes off and moves with the molten plastic. The surface becomes rough and the stress points along the part's surface are random and non-uniform.For this reason, the stamper must be encoded with sufficient hardness to retain the shape representing the part's information. The present invention satisfies this need. Additionally, there is a need for improvements in the audio and video properties of optically readable information-bearing members.Such properties can be improved through cleaner demolding at the interface between the master stamper and the stamped material. This has been done by reducing or eliminating the "blowing" and "orange beer" effects of

本発明は、従来技術のもつあらゆる問題点をほぼ解決し
ている。このため、スタンパ−を改良し、信号特性を改
善し、光学的に読み取り可能な情報保持部材の複製率を
高めている。この改善は、射出成形により発生する有害
な表面欠陥を除去することで、なされる。
The present invention substantially solves all the problems of the prior art. For this reason, stampers have been improved to improve signal characteristics and increase the reproduction rate of optically readable information bearing members. This improvement is made by eliminating deleterious surface defects caused by injection molding.

さらに詳しくは、本発明は次のような組成物を用いて成
形表面に温度障壁を形成するだめの方法と手段を提供す
る。この組成物は、表面のにltlかな情報を保持する
に十分な硬度を有し、さらに低い熱伝導度を有し、鋳型
の射出プラスチックの未成熟積層を最少とするか、ある
いは除去している。
More specifically, the present invention provides methods and means for forming a temperature barrier on a molded surface using a composition as follows. The composition has sufficient hardness to retain the surface integrity and also has low thermal conductivity to minimize or eliminate immature build-up of injected plastic in the mold. .

温度障壁を力えるために選ばれた材料は純粋のニッケル
よりも潤滑特性が改良されている。さらに、この材料は
純粋のニッケルに対し115ないし1/100の熱伝導
度を有している。これにより、射出プラスチックが、実
質的な硬化を始める前に、キャビティを満たす。さらに
、この新しいスタンパ−材料は、スタンパ−のr PJ
f#型」特性を改良している。この改良姉よって、信号
の再生品質が良くなり、スタンパ−に付随する欠陥を減
少させてスタンパ−の歩留才りを高めている。この新し
いスタンパ−材料は、非常に固く、シたがって、射出成
形の処理中の応力の下で純粋ニッケルよりも非常に長い
寿命を有する。この結果、純粋ニッケルのスタンパ−の
2ないし5倍の歩留まりを持つ。
The material chosen to enforce the temperature barrier has improved lubrication properties over pure nickel. Furthermore, this material has a thermal conductivity of 115 to 100 times lower than that of pure nickel. This causes the injected plastic to fill the cavity before it begins to substantially harden. In addition, this new stamper material improves the r PJ of the stamper.
f# type" characteristics have been improved. This improvement improves signal reproduction quality, reduces defects associated with stampers, and increases stamper yield. This new stamper material is very hard and therefore has a much longer life under the stresses during the injection molding process than pure nickel. As a result, the yield is 2 to 5 times that of a pure nickel stamper.

簡単に言うなら、本発明は、スタンパ−の情報保持面を
規定するニッケル/リン化ニッケル合金(以下、無電解
ニッケルと言う)と、好ましくはモリブデン、クロム、
タングステン、銅、あるいはニッケル又は前述のハンV
−氏の特許のニッケル/銅の合成層で形成されるバッキ
ング層とで構成される改良されたスタンパ−を含む。
Briefly, the present invention combines a nickel/nickel phosphide alloy (hereinafter referred to as electroless nickel) that defines the information-retaining surface of the stamper with preferably molybdenum, chromium,
Tungsten, copper, or nickel or the aforementioned Han V
and a backing layer formed from a nickel/copper composite layer of his patent.

前述の7−LAトン氏の米国特許出願では、滑らかで、
固い情報保持面が、クロムを現在使われているニッケル
スタンパ−のエンコードされた情報保持面に付着させる
ことで得られる。ニッケルスタンバ−はフォトレジスト
 マスターマトリクスに厚い層を積層することで得られ
る。しかし、本発明は以下の点でこの特許出願の発明と
は異なる。まず、スタンパ−/鋳型界面に対して選ばれ
る材料が異なる。さらに、本発明の無電解ニッケル°は
フォトレジスト マスターマトリクスに直接に付着され
、そして固いバッキング層が与えられる。マスターマト
リクスより合成スタンパ−を剥がして、露出される情報
保持面は無電解ニッケルで形成されたものである。この
点に関して、現在使われているニッケルスタンバ−の情
報保持面にクロムを付着させることで得られる;zj、
、、l守発明の表面不連続の明瞭度の低さは、その不連
続を形成する縁に丸みを与えて、成形された製品の「ブ
ローイング」効果を減少させるという利点を、もたらし
ているように思われていた。本発明においては、最終的
なスタン・パーの情報保持面がマスターマトリクスに直
接に形成されるので、鋭角な縁を丸める付着層はない。
In the above-mentioned 7-LA Tong U.S. patent application, smooth,
A hard information-retaining surface is obtained by depositing chromium onto the encoded information-retaining surface of currently used nickel stampers. Nickel stunbar is obtained by depositing thick layers on a photoresist master matrix. However, the present invention differs from the invention of this patent application in the following points. First, the materials chosen for the stamper/mold interface are different. Additionally, the electroless nickel of the present invention is deposited directly onto the photoresist master matrix and provides a hard backing layer. When the synthetic stamper is peeled off from the master matrix, the information-retaining surface that is exposed is made of electroless nickel. In this regard, it is possible to achieve this by attaching chromium to the information-retaining surface of the currently used nickel stump bars;
The less distinct surface discontinuities of the invention appear to provide the advantage of rounding the edges forming the discontinuities, reducing the "blowing" effect of the molded product. It seemed like In the present invention, the information bearing surface of the final stamper is formed directly onto the master matrix, so there is no adhesive layer rounding off sharp edges.

しかし11.成形製品の走行特性が改善され、「ブロー
イング」効果が減少し、スタンバ−の成形製品の離型特
性が改善されている。成形処理の種々のパラメータの改
善は、潤滑性が良いこと、熱伝導度が低いこと、滑らか
であること、標準的なニッケルスタンバ−に較べて格段
に硬度が増していること等の、無電解ニッケルの独得な
特性によってもたらされる。無重力了ニッケルの非常に
優れた滑らかさと熱伝導特性とはガラスあるいはセラミ
ックの鋳型及び被覆を使用することですでに達成可能で
あった。無電解ニッケルのスタンバ−の情報保持面を形
成することで、成形品の表面平滑性は、これまでの標準
的なニッケルスタンバ−のそれよりもはるかに優れてい
る。さらに、光学的に読み取り可能なデスクを製造する
場合、歩留まりは非常に重要である。本発明によれば、
歩留まりは従来のものと較べて2ないし5倍改良されて
いる。したがって、射出成形機の坊形盤に温度障壁とし
て無電解ニッケルを使用することは当業の分野に多大な
貢献をなすものである。
But 11. The running properties of the molded product are improved, the "blowing" effect is reduced, and the mold release properties of the molded product of the stubber are improved. Improvements in various parameters of the forming process include better lubricity, lower thermal conductivity, smoothness, and significantly increased hardness compared to standard nickel stumber. Due to the unique properties of nickel. The exceptional smoothness and thermal conductivity properties of weightless nickel were already achievable using glass or ceramic molds and coatings. By forming the information-retaining surface of the electroless nickel stumpbar, the surface smoothness of the molded product is far superior to that of conventional standard nickel stumpbars. Furthermore, yield is very important when manufacturing optically readable desks. According to the invention,
The yield is improved by a factor of 2 to 5 compared to the conventional method. Therefore, the use of electroless nickel as a temperature barrier in the molding plate of an injection molding machine represents a significant contribution to the art.

本発明によれば、ニッケル/リン化ニッケルの無電解メ
ッキ層はエンコードされたフォトレジストマスターマト
リクスに付着される。かかる無電解処理において被覆面
を導電性とする必要はないが、無電解ニッケル層を付着
させる方法の初期の段階で、エンコードされたマスター
マトリクスをパラジウムまたは金の塩を含む溶液に浸し
、レジストに核の層を形成する。ついで、この核の層7
/ は触媒として作用し、付着を促進する。つまり、この触
媒作用によって、無電解メッキ溶液が自由に接触する全
面に無電解ニッケルの層が均一に形成される。これにつ
いては、米国特許第2,939゜804号を参照された
boこの明細眉には、熱可塑性材料にニッケル被覆を行
うための前処理について記載されている。この特許では
、全屈銅の薄い非連続的な被覆を、まず、熱可塑性材料
の上に付着させる。銅被覆されたものを、ついでパラジ
ウム溶液に浸す。この溶液では、少)ンのノくラジウム
が絹とIf>きかわる。このり11ノ(ラジウム被覆は
つぎに適用されるニッケルv目“(1溶γj′y、を活
性化すな4〕ち触媒化する。金属表面にニッケルを無電
解メッキする方法は−ブ牌ニゲ方ニーΩ−香A:□’)
” V大−y−9(t−グ゛7−ハ2つ11戸ぐ−〕・
入゛へσ′プラVつ一?沈1955勾、グ2.05−2
06に記載されている。BurnIIand Brad
ley氏の述べている無↑!j、M’Nメッキ技術は、
スチール、アルミニウム、費4同、 ゛g鋼、ステンレ
ススチールといった多様な基礎金1rlの表面被饅を含
む。1\11 >l”友びつ・うl”)−氏の無電解ニ
ック゛ルメツキの使用は、基礎材料に比較的非孔゛Lq
の保護層を形成するためである。これは、腐食環境にお
ける保護と基(Q材料に固い表面を与えるために行われ
る。本発明では、無電解付着ニッケルのさらに他の′l
−41′性を考慮している。
According to the present invention, an electroless plated layer of nickel/nickel phosphide is deposited on an encoded photoresist master matrix. Although it is not necessary for the coated surface to be electrically conductive in such an electroless process, the encoded master matrix is soaked in a solution containing palladium or gold salts and applied to the resist at an early stage in the method for depositing the electroless nickel layer. Forms a nuclear layer. Next, layer 7 of this nucleus
/ acts as a catalyst and promotes adhesion. In other words, due to this catalytic action, a layer of electroless nickel is uniformly formed on the entire surface that is freely in contact with the electroless plating solution. In this regard, reference is made to US Pat. No. 2,939.804, which describes a pretreatment for nickel coating of thermoplastic materials. In this patent, a thin discontinuous coating of fully curved copper is first deposited over a thermoplastic material. The copper coating is then immersed in a palladium solution. In this solution, a small amount of radium exchanges with silk. The radium coating is then applied to activate or catalyze the nickel (1 melt γj′y).The method for electroless plating nickel on the metal surface is Knee Ω - Incense A: □')
”V large-y-9 (t-gu 7-ha 2 11 doors-)
Into σ′ plastic V one? Shin 1955, Gu 2.05-2
It is described in 06. Burn II and Brad
Nothing Mr. Ley said↑! j, M'N plating technology is
Includes surface coatings of various base metals such as steel, aluminum, aluminum, steel, and stainless steel. 1\11 >l"Tomobitsu・Ul") -'s use of electroless nickel removal creates relatively non-porous coatings on basic materials.
This is to form a protective layer. This is done for protection in corrosive environments and to give a hard surface to the material.
-41' nature is considered.

つまり、純粋ニッケルの硬+crを増すことに加えて、
P′4滑性、平滑性、熱伝導度といった11¥性を考慮
している。無電解ニッケル層を用い、無電解ニッケル層
の厚みと同様に付着層のニッケルとリンの死出を制御し
、そして電気(”J’ If金に!Sの〕(ツキング層
を加えることで、例えば、ビデオデスクの複四vに伴う
種々の問題を解決した。表面欠陥と信号の劣化はこの分
野では容易に観察可能である。し力)し、かかる欠陥の
正確な原因は不明であって、理論的なモデルを作る事が
できない状態である。言うならば、どの物理的な特性が
どの欠陥に影響を与え、各欠陥を、少なくするためどの
ノ(ラメータを調整しなければならないかが、わからな
い。さらに、分析処理の難しさが、ある物理特性を他の
物理時tI゛に対して変化させるときの、相互の影響に
よってさらに高められている。
In other words, in addition to increasing the hardness + cr of pure nickel,
11 properties such as P'4 lubricity, smoothness, and thermal conductivity are taken into consideration. By using an electroless nickel layer, the thickness of the electroless nickel layer as well as the loss of nickel and phosphorus in the deposited layer can be controlled, and the electrical For example, we have solved various problems associated with video desk duplexes.Surface defects and signal degradation are easily observable in this field, and the exact cause of such defects is unknown. , it is not possible to create a theoretical model.In other words, it is difficult to determine which physical characteristics affect which defects, and which parameters should be adjusted to reduce each defect. , is not known. Furthermore, the difficulty of the analytical process is further increased by the mutual influence when varying one physical property with respect to another physical time tI.

本発明は、基礎金属に対する保設被色としてではなく、
熱可塑性情報保持部材が成形される活性表面としての、
無電解イて1着ニッケル/リン化ニッケルの新規な使用
を含むものである。スタンノ(−形成処理を制御するこ
とで、無電解ニッケル層の最適リン成分と、その最適厚
みと、その・(ツキングシートとが得られ、これにより
、非常圧固く、平滑で、潤滑性の良い表面が得られ、ま
たその熱伝導度により、鋳型に入り、鋳型壁を・重過す
る]。
The present invention is not intended as a retention color coating for base metals;
as the active surface on which the thermoplastic information-bearing member is molded;
It involves the novel use of electroless first-coat nickel/nickel phosphide. By controlling the stanno(-formation process), an optimal phosphorus content of the electroless nickel layer, its optimal thickness, and its thickness can be obtained, resulting in an extremely hard, smooth, and lubricating layer. Because of the good surface it provides and its thermal conductivity, it enters the mold and overwhelms the mold walls].

ラスチック側斜の未熟な積層が妨げられる。Immature lamination of the plastic side slope is prevented.

すでに述べたように、熱可塑性材料を薄いデスク形状忙
成型する場合の問題の一つは、比較的に熱い液状プラス
チックの冷却が不十分であることである。そして、これ
は鋳型の壁が比較的冷たいことに起因する。プラスチッ
ク材料が鋳型中ヤビティに入る時、鋳型壁による冷却に
よって、プラスチックと鋳型との界面にフィルムを形成
する。
As previously mentioned, one of the problems with molding thermoplastic materials into thin disk shapes is the insufficient cooling of the relatively hot liquid plastic. And this is due to the relatively cold walls of the mold. As the plastic material enters the mold cavity, cooling by the mold walls forms a film at the plastic-mold interface.

この界面で、鋳型キャビティの壁の一つを表わすエンコ
ードされたスタンパ−の表面を複製する。
This interface replicates the surface of the encoded stamper representing one of the walls of the mold cavity.

フィルムがいったん形成されると、フィルムの下の液状
プラスチックの本体の連続的な移動によって、フィルム
層に亀裂が発生する。これによって、フィルムの一部が
、冷却したプラスチックの薄片として選ばれる。この結
果、デスク完成品の表面が歪み、さらに成型デスクを使
用するときの再生信号が歪む。
Once the film is formed, the continuous movement of the body of liquid plastic beneath the film causes cracks to develop in the film layer. A portion of the film is thereby selected as a cooled plastic flake. As a result, the surface of the finished desk product is distorted, and the reproduction signal when the molded desk is used is also distorted.

もちろん、この問題は、スタンパ−の情報表面がデスク
の対応面に複製され、プラスチックが鋳型より無傷のま
ま剥がれるように冷却されるということに基因する。こ
の問題に対する解決策の一つは、鋳型壁の周囲に冷却及
び加熱用の流体を制御して循環させることである。゛し
かじ、これは大量生産を行なう場合、不利である。射出
成型用圧力に耐える必要があるため、鋳型キャビティの
壁は非常に厚く、短時間での冷却及び加熱は困難である
。このため、生産効率が制限される。さらに、たとえ、
スタンパ−〇裏当てに対する鋳型の隣接壁が急速に冷却
及び加熱したとしても鋳型、キャビティの面の一つは、
15ミル〜40ミル(Q、381〜1.016m+n)
程度の厚いスタンパ−でなければならない。このため、
特に、溶融プラスチックと界面しているスタンパ−゛自
身の温度の安定までには、長い時間を必要とする。
This problem, of course, is due to the fact that the stamper's informational surface is replicated onto the corresponding surface of the desk and cooled so that the plastic peels intact from the mold. One solution to this problem is the controlled circulation of cooling and heating fluids around the mold walls. However, this is disadvantageous when mass production is carried out. Because of the need to withstand injection molding pressures, the walls of the mold cavity are very thick and difficult to cool and heat in a short period of time. This limits production efficiency. Furthermore, even if
Even if the adjacent wall of the mold to the stamper backing cools and heats rapidly, one of the surfaces of the mold cavity will
15 mils to 40 mils (Q, 381 to 1.016m+n)
The stamper must be of a certain thickness. For this reason,
In particular, it takes a long time for the temperature of the stamper itself, which is in contact with the molten plastic, to stabilize.

本発明は、以下を前提として成り立つ。すなわち、鋳型
壁と溶融プラスチックとの間の温度障壁がキャビティ内
の壁の温度特性改良に役立つ。そして、この温度障壁が
良好なレプリカ、つまり、「オレンジビール」「ブロー
イング」あるいは「ワツフリング」効果とは無縁にスタ
ンパ−の形状を上り正確に複製する良好な形状と表面を
持つデスクを力える。スタンパ−に非金ハ材料を使用す
れば、七の熱伝導性圧おいて、プラスチック材料が鋳型
キャビティを通過する時、その未熟な薄層形成を、確実
に防け“る。しかし、非金属の熱伝達が非常に遅りので
、溶融プラスチックが硬化するまで、非常に長い時間を
必要とする。さらに、熱プラスチツクデスクの射出成型
用のスタンパ−の形成に使用できる。周知の非金属表面
は、その特性として、非常に軟らかく及び/゛又は壊れ
易く、さらに射出成型用の圧力ですぐに損傷′及び/又
は破損する。
The present invention is based on the following premises. That is, the temperature barrier between the mold wall and the molten plastic helps improve the temperature characteristics of the walls within the cavity. This temperature barrier then forces a good replica, ie, a desk with a good shape and surface that accurately replicates the shape of the stamper, free of "orange beer""blowing" or "watzfling" effects. The use of non-metallic materials in the stamper reliably prevents the formation of a premature thin layer of plastic material as it passes through the mold cavity at a thermally conductive pressure of 7 degrees. Because the heat transfer is very slow, the molten plastic requires a very long time to harden.In addition, it can be used to form stampers for injection molding of thermoplastic desks.Known non-metallic surfaces As a characteristic, they are very soft and/or brittle and are easily damaged and/or broken by the pressure of injection molding.

本発明は無電解ニッケルを用いてこの問題を解決してい
る。この無電解ニッケルは、半金属化合物のような温度
特性を有し、さらE金属−の強度を持っている。
The present invention uses electroless nickel to solve this problem. This electroless nickel has temperature characteristics like a semimetal compound, and also has the strength of an E metal.

無電解ニッケルの微細柘”造は、基盤金属表面上に、平
行に良く結合された多数の積層として付着されているこ
とを特徴としている。各薄層内には、基礎全屈に垂直な
柱状4?¥造休がある。この微細溝゛造により、無電解
ニッケルはその熱伝導率が純粋なニッケル及びもつとも
純粋な金1iのそれの115ないし1/10となった。
Electroless nickel microstructures are characterized by being deposited on the base metal surface as a number of parallel, well-bonded stacks. Within each thin layer are columnar structures perpendicular to the base metal surface. Due to this fine groove structure, the thermal conductivity of electroless nickel is 115 to 1/10 that of pure nickel and even pure gold 1i.

上述のキ;リースVトン出願では、スタンパ−面をクロ
ム面とすることKより、工業規格の純粋外ニッケルスタ
ンパ−よりも硬度を改善している。しかし、無電解ニッ
ケルは、付着されると、純粋ニッケルより硬くなり、以
後の加熱ステップで硬化すると、クロムの硬度に近づき
、好ましい伝熱特性を有し、クロムにはない潤滑特性を
持つ。すなわち、スタンパ−表面にワックスあるいはS
lを型剤を必要とする射出成型処理は、無電解ニッケル
を使用することで、避けられる。理由は無電解ニッケル
は固有の潤滑特性をもっているからである。
In the above-mentioned application, the stamper surface is made of chromium, which improves the hardness compared to the industrial standard non-pure nickel stamper. However, once deposited, electroless nickel is harder than pure nickel, approaches the hardness of chromium when hardened in a subsequent heating step, has favorable heat transfer properties, and has lubricating properties not found in chromium. That is, wax or S is applied to the surface of the stamper.
Injection molding processes that require molding agents can be avoided by using electroless nickel. The reason is that electroless nickel has inherent lubricating properties.

従来ノスタンパ〜形成処理は、フォトレジストの薄層が
与えられる0、64cmのデスク状ガラス板で開始され
る。ついで、フォトレジストの層をレーザビームで選択
的に露光し、17i報を書き込む。
Traditionally, the nostamping process begins with a 0.64 cm disc-shaped glass plate that is provided with a thin layer of photoresist. The layer of photoresist is then selectively exposed to a laser beam to write the 17i information.

現像後、この層には微小ピットの形の情報が現れる。数
Aの厚みを持つ薄膜が記録表面に真空蒸着される。つい
で、真空蒸着されたニッケル層上に、さらにニッケルが
電解によりイ」着される。この膜厚は射出成型処理中の
圧力に耐えるに十分な厚さ、通常は15ミル(0,38
1mm )以上とされている。
After development, information in the form of tiny pits appears in this layer. A thin film with a thickness of several amps is vacuum deposited on the recording surface. Further nickel is then electrolytically deposited on the vacuum-deposited nickel layer. This film thickness is sufficient to withstand the pressure during the injection molding process, typically 15 mils (0.38 mm)
1mm) or more.

ガラス板はニッケルより佑饋1Gされ、エンコードされ
たニッケル表面を露出する。このニッケル表面には巾が
約0.6ミクロンで、プレーナー基部表面よりの高さが
約0.6〜2ミクロンの微小隆起のトラックが形成され
ている。これは第1図の拡大図に図示されている。デス
ク2はプレーナー基部表面4を有している。プレーナー
基部表面4からは円状トラックを形成する一連の隆起6
が突きでている。本発明の改良点はより薄い基部層18
で支持された無電解ニッケル情報保持層16の形成にあ
る。第2図は部分断面を示し、゛ガラス基板8は良く研
磨された上部表面9に接着されたフォトレジストの薄層
10を備えている。
The glass plate is coated with 1G of nickel to expose the encoded nickel surface. The nickel surface has a track of microridges approximately 0.6 microns wide and approximately 0.6 to 2 microns high above the planar base surface. This is illustrated in the enlarged view of FIG. The desk 2 has a planar base surface 4. From the planar base surface 4 is a series of ridges 6 forming a circular track.
is sticking out. The improvement of the present invention is that the base layer 18 is thinner.
The process consists in the formation of an electroless nickel information holding layer 16 supported by . FIG. 2 shows a partial cross-section, in which a glass substrate 8 is provided with a thin layer 10 of photoresist adhered to a highly polished top surface 9. FIG.

変調された光ビームで露光され、現像された後、ガラス
基板8はプレーナー表面14より突きでた一連のフォト
レジスト突起部12を担持している。
After being exposed to a modulated light beam and developed, the glass substrate 8 carries a series of photoresist protrusions 12 protruding from the planar surface 14.

これを第3図に示し、以下マスターマトリクスと言う。This is shown in FIG. 3 and is hereinafter referred to as the master matrix.

このマスターマトリクスからそれと相補的なエンコード
面を持つスタンパ−が形成される。
A stamper having an encoding surface complementary to the master matrix is formed from this master matrix.

マスターマトリクスの情報保持表面を触媒化するために
、マスターマトリクスは、銅塩を含有する溶液に浸漬さ
れ、マトリクス表面上に薄い非連続的な銅層を得る。溶
液中の銅は金属状態に還元され、浸漬されたマスターマ
トリクスをメッキする。この処理の予備ステップについ
ては、」二記の米国特許第2,939.804号を参照
さhたい。銅被覆が十分にマスターマトリクスに適用さ
れた後、パラジウムあるいは金の塩を含む溶液にそれを
浸す。この結果、銅被覆の一部が酸化され、溶液中に溶
出し、一方パラジウムあるいけ金の塩は一部が金属状態
に還元され、銅被覆と結合する。この目的は約100 
ppmの塩化パラジウム溶液を用いることで満たされる
To catalyze the information-bearing surface of the master matrix, the master matrix is immersed in a solution containing copper salts to obtain a thin discontinuous copper layer on the matrix surface. The copper in the solution is reduced to a metallic state and plated the immersed master matrix. For preliminary steps in this process, see US Pat. No. 2,939,804. After the copper coating has been fully applied to the master matrix, soak it in a solution containing palladium or gold salts. As a result, some of the copper coating becomes oxidized and dissolves into the solution, while some of the palladium or metal salt is reduced to its metallic state and binds to the copper coating. This purpose is about 100
filled using ppm palladium chloride solution.

マスターマトリクスはパラジウムで処理したので、銅と
パラジウムの混合された被覆となり、これはニッケル被
覆処理に対する準備である。
The master matrix was treated with palladium, resulting in a mixed coating of copper and palladium, which is preparation for the nickel coating process.

触媒被覆されたマスターマトリクスを、ついで、清浄し
、脱1オン化しさらに極小濾過した水ですすぐ。さらに
、水、酸、緩fi″tj7ilL還元剤、ニッケル塙で
モト1合した無電解メッキ槽に入れる。好ましくは、マ
スターマトリクスを循環槽に入it、回転し、無電力1
メツキ作用の均−比を図る。
The catalyst coated master matrix is then rinsed with cleaned, de1ionized and microfiltered water. Further, the master matrix is placed in an electroless plating bath containing water, acid, a mild reducing agent, and a nickel pot. Preferably, the master matrix is placed in a circulation bath, rotated, and then placed in an electroless plating bath.
Aim for an even ratio of plating action.

無電解メッキ槽の処方をし1、下に掲げる゛。The prescription for the electroless plating tank is listed below.

塩化ニック′ル 4、 oz/gal (30!i’/L)NiCI2.
6F鳳20 次亜リン酸ナトリ、ウド 1.3 oz/gal (105’/A)NiH2PO
2、I20 クエン酸ナトリウム 1.8oy、/gal C14!:’//−)、?VI
rL、C6H5015〜L/2 ■I20フルオロホウ
酸 IIBF+、(50q!j) (4F/1)PII 4
.0−5.5 温度 194”F(90℃) 付着速度 約0.2ミル(0,005*m)/時無電解
付着したニッケル/リン化ニッケルの層16を備えたマ
スターマトリクス8を厚14に示ゴー。
Nickel chloride 4, oz/gal (30! i'/L) NiCI2.
6F Otori 20 Sodium hypophosphite, Udo 1.3 oz/gal (105'/A) NiH2PO
2, I20 Sodium citrate 1.8oy, /gal C14! :'//-),? VI
rL, C6H5015~L/2 ■I20 fluoroboric acid IIBF+, (50q!j) (4F/1) PII 4
.. 0-5.5 Temperature 194"F (90C) Deposition Rate Approximately 0.2 mils (0,005*m)/hr Master matrix 8 with a layer 16 of electrolessly deposited nickel/nickel phosphide to a thickness 14 Go to show.

銅/パラジウム又は銅/金の層は[?、I示していない
The copper/palladium or copper/gold layer [? , I not shown.

理由は、図示の他の層と比較して非常に薄い力λらであ
る。
The reason is that the force λ et al. is very thin compared to the other layers shown.

スタンバ−表面の熱伝導率及びメタン、ニー1、の温度
勾配は重要な物理特性である。つ1す、メタンパー材料
として無電解ニッケルを使用したj烏合の利点がこれら
の特性に依存する。した力;つて、ニッケルのリンに対
する比率、メッキ処理の温度/時間の関係、無電解ニッ
ケルのタツキ層の厚さはすべて変動できる。これらを調
整して、所与、の鋳型及び所与の熱可塑性月1に対する
所望の?17.r隻特性、射出成型処理と関連した温度
と圧ツノを一部えることができる。
The thermal conductivity of the stanbar surface and the temperature gradient of methane, knee 1, are important physical properties. First, the advantages of using electroless nickel as a methane material depend on these properties. The applied force; the ratio of nickel to phosphorus, the temperature/time relationship of the plating process, and the thickness of the electroless nickel tack layer can all be varied. Adjust these to obtain the desired value for a given mold and a given thermoplastic month 1. 17. Some of the temperature and pressure characteristics associated with the injection molding process can be considered.

代表的には、無電解ニッケル被但シ1、リン化ニッケル
の形で4ないし10係のリンヲ食む。また、この被覆は
、市販のジェネラル アメリカく トランスボーティジ
ョン コーポレイション[カニゲン」処理でもって、0
.0005 on (0,0002インチ)7時の速度
で付着できる。無電解ニッケルメッキ処理の付着速度が
遅いため、リン化ニッケルのスタンパ−の完全な厚みを
形成することは、経済的でなく、また実際的でもない。
Typically, 1 part electroless nickel is used, and 4 to 10 parts phosphorous is used in the form of nickel phosphide. This coating can also be coated with a commercially available General American Transplantation Corporation [Kanigen]
.. 0005 on (0,0002 inches) can be deposited at a speed of 7 o'clock. Due to the slow deposition rate of electroless nickel plating, it is neither economical nor practical to form the full thickness of a nickel phosphide stamper.

従って、無電解メッキ処理により、比較的薄いが十分な
厚さの無電解リン化ニッケルが付着されたマトリクスは
、標準的なガルバニック処理を施される。この処理は、
より柔い及び/又は便利で経済的な電気メツキ金屑支持
体を有する無電解ニッケル層となるようにバッキングを
形成するためである。電気メツキ金属は、クロム、ニッ
ケル、モリブデンl 鉄1 fl’l lタングステン
のグループから選ぶことができる。
Therefore, a matrix having a relatively thin but sufficient thickness of electroless nickel phosphide deposited by electroless plating is subjected to standard galvanic processing. This process is
This is to form the backing to be an electroless nickel layer with a softer and/or more convenient and economical electroplated gold support. The electroplating metal can be selected from the group of chromium, nickel, molybdenum, iron, tungsten.

このようにして、メッキされたものが、第5図に示され
ている。図示のように無電解ニッケル層は、比較的に厚
い電気メッキの金ルSのバッキング層1Bで覆われてい
る。ニッケルの711.気付着に関する総合的な解説は
上述のバーンズ 及−久 ブラッド〇−の出版物の19
1−205頁に記載されている。
A plated plate in this manner is shown in FIG. As shown, the electroless nickel layer is covered with a relatively thick backing layer 1B of electroplated gold. Nickel 711. A comprehensive explanation of awareness can be found in publication 19 of the above-mentioned book by Burns Tokihisa Brad.
It is described on pages 1-205.

無電解ニッケルはどのような厚みにも無電解付着できる
。が、スタンパ−の全厚み、実際例は0.5〜10ミル
(0,0127〜0.254鮒)の厚みにメッキするの
が通常である。すでに、述べたように、付着の固有の特
性により、大巾なイ」着は不必要である。電気付着され
たバッキング材fSllBは、合成スタンパ−が15〜
40ミル(0,381〜1.016問)程度の厚みとな
るまで、加えることができる。ある応用例では、5ミル
(0,127mm ) ないしそれ以上のオーダーの無
電解ニッケルの厚みの場合、非金属のバッキング材料の
付着も考えられる。
Electroless nickel can be electrolessly deposited to any thickness. However, it is usual to plate the stamper to a total thickness of 0.5 to 10 mils (0.0127 to 0.254 mm) in actual practice. As already mentioned, due to the inherent properties of the deposits, large-width deposits are unnecessary. The electrodeposited backing material fSllB has a synthetic stamper of 15~
It can be added to a thickness of about 40 mils (0.381 to 1.016 questions). In some applications, for electroless nickel thicknesses on the order of 5 mils (0.127 mm) or more, the deposition of non-metallic backing materials is also contemplated.

成形されている製品及びスタンパ−の所望の温度特性に
依存して、無電解ニッケル層は0.5〜10ミル(0,
0127〜0.254 rqm )の範囲の厚みに被色
できる。また、電気付着金相バッキング層は5〜40ミ
ル(0,127〜1.016wn辺厚みとすることがで
きる。極端な例として、スタンパ−のエンコードされた
層のみを約1ミクロンの厚みに無電解ニッケルメッキす
ると、十分厚い層としての利点が得られ、また、約15
分で付着可能であると考えられる。無電解ニッケル層の
推奨てきる最少の厚みは0.5ミル(0,0127間)
である。
Depending on the product being formed and the desired temperature characteristics of the stamper, the electroless nickel layer may be between 0.5 and 10 mils (0.5 to 10 mils).
It can be colored to a thickness in the range of 0.0127 to 0.254 rqm). Alternatively, the electrodeposited gold phase backing layer can be 5 to 40 mils (0.127 to 1.016 wn side thick).As an extreme example, only the encoded layer of the stamper can be approximately 1 micron thick. Electrolytic nickel plating provides the advantage of a sufficiently thick layer, and approximately 15
It is thought that it can be attached in minutes. The minimum recommended thickness of the electroless nickel layer is 0.5 mil (0.0127 mm).
It is.

例として、無電解ニッケルの推奨でき′る最少厚みをも
った好適なスタンパ−では、無電解ニッケルの厚みl−
10,5ミル(0,0127mII+)てあ′9、その
上ニ硬いニッケルバッキングが30ミル(0−76’2
問)の厚さにメッキ付着されている。無電解ニッケル層
の最大の必要厚みとしてV」2.35ミル(0,E38
9mm )のモリブデン厚みをもった5ミル(0,12
7mm)の無電解ニッケル層が好適である。
As an example, for a preferred stamper with the minimum recommended thickness of electroless nickel, the electroless nickel thickness l-
10,5 mil (0,0127 mII+)
Q) The plating is applied to the thickness of . The maximum required thickness of the electroless nickel layer is V'2.35 mil (0,E38
5 mil (0.12 mm) molybdenum thickness
An electroless nickel layer of 7 mm) is preferred.

化学蒸着法により、硬いニッケルあるいはモリブデン層
を付着するのも、好ましbo例え”ば、比較的硬いモリ
ブデンの付着は、モリブデンへキザカルボニルを化学蒸
着することで達成できる。これにより、無電解ニッケル
を付着する速度よりも非當に小さな時間で全体の厚みが
30ミル(0,762罷)オーダのスタンパ−を′形成
できる。マスターマトリクスよf)第6図に示すスタン
パ−を分離し7’CTlk VC、ニッケル/リン化ニ
ッケル層のエンコードされた表面を熱処理により硬化で
きる。この点について、付着は4〜10%のリンとその
残余をニッケルとし、付着されたときアモルファ* t
ri造となる。熱処理により、リン化ニッケルがニッケ
ル格子構造に形成されるため沈殿し、硬化する。
It is also preferable to deposit a hard nickel or molybdenum layer by chemical vapor deposition.For example, deposition of relatively hard molybdenum can be achieved by chemical vapor deposition of dicarbonyl onto molybdenum. It is possible to form a stamper with a total thickness on the order of 30 mils (0,762 strips) in a time that is much smaller than the speed at which the master matrix is deposited. CTlk VC, the encoded surface of the nickel/nickel phosphide layer can be hardened by heat treatment. In this regard, the deposition is with 4-10% phosphorus and the balance nickel, and when deposited is amorphous*t
It will be rebuilt. Upon heat treatment, nickel phosphide forms a nickel lattice structure, precipitates and hardens.

この硬度はかかる結晶化の程度でき寸り、その最大値は
約400℃の温度で得られる。より長い期間を400℃
よりも高い温度のもとに置くことで、リン化ニッケルと
ニッケル結晶の共沈が行なわれる。これにより展性が向
上するが、硬度が問題となる。実際には、モニター剃切
1下におりで、こわれやすい無電解ニッケルは370〜
510℃の範囲で1時間加熱により展性が出てくる。か
かる熱処理後に硬度はメッキの場合の480 、V P
 Hから850VPI(に改良される。だが、480V
PH値は、たいていの電気付着工)′ケルよりも太きい
This hardness is determined by the degree of crystallization, and its maximum value is obtained at a temperature of about 400°C. 400℃ for a longer period
Co-precipitation of nickel phosphide and nickel crystals occurs by placing it under a higher temperature. This improves malleability, but hardness becomes a problem. Actually, the fragile electroless nickel under the monitor razor blade 1 is 370 ~
It becomes malleable by heating in the range of 510°C for 1 hour. After such heat treatment, the hardness is 480 in the case of plating, V P
Improved from H to 850VPI (but 480V
The pH value is higher than that of most electroadhesives.

以上、射出成型に使用され為、改良されたスタンパ−に
ついて記載した。スタンパ−用のエンコードされた情報
保持層として、無11′T、解ニツケルを使用すること
で、次のような改良が得られる。まず、硬度が改良され
る。これにより、純粋のニツケルスクンバーの2ない1
〜5倍の寿命を持つこととなる。tだ、「ワツフリング
効果」が排除された。「j滑特性が良好になった。これ
により、成型品のtlを型が改良された。この結果とし
て、「オレンジビール」と、「ブローイング」効果が排
除される。熱伝導率が低い。これにより溶融プラスチッ
クが成型キャビティを満たすときの溶融プラスチックの
硬化の未熟さが解決された。無正解ニッケル層上 付着に自然な滑性を力える。この点で、滑材をは、じき
がちなりロムとは異なる。
In the above, an improved stamper for use in injection molding has been described. The use of non-11'T, nickel as an encoded information-bearing layer for the stamper provides the following improvements. First, hardness is improved. This makes pure nickel skumber 2 and 1
The lifespan will be ~5 times longer. Yes, the "Wazfling effect" has been eliminated. The tl of the molded product has been improved. As a result, the "orange beer" and "blowing" effects are eliminated. Low thermal conductivity. This solved the premature curing of the molten plastic when it filled the mold cavity. Adds natural lubricity to the adhesion on the nickel layer. In this respect, lubricants tend to be different from ROMs.

好適な実施例について、本発明を記述してきたが、本発
明はその要旨の範囲内で種々変形、変更などが可能であ
る。
Although the present invention has been described in terms of preferred embodiments, various modifications and changes can be made within the scope of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

281図は光学的に読み取り可能な情報保持デスクを形
成する情報保持面の部分的な拡大図である。 第2図はフォトレジスト層の現伊;前のフォトレジスト
を付着した支持体を示す部分断面図である。 第3図はフォトレジスト層の現像後の第2図の付着支持
体を示す部分断面図である。第4図は第3図の支持体の
現像されたフォトレジスト表面に初期無電解メッキされ
た、ニッケル/リン化ニッケルの層を示す。第5図は無
正解ニッケル層上にバッキングマテリアルをイ」着によ
り付加したことを示し、第6図は支持体より剥離後の無
電解ニッケル/バッキング層合成スタンパ−を示す。 符号の説明
FIG. 281 is a partially enlarged view of an information bearing surface forming an optically readable information bearing desk. FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the support to which the photoresist has been deposited before the photoresist layer is applied. FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the attachment support of FIG. 2 after development of the photoresist layer. FIG. 4 shows an initial electroless plated layer of nickel/nickel phosphide on the developed photoresist surface of the support of FIG. FIG. 5 shows that a backing material is applied onto the non-containing nickel layer by I-deposition, and FIG. 6 shows the electroless nickel/backing layer composite stamper after it has been peeled off from the support. Explanation of symbols

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)光学的に読み取り可能な情報保持部材を形成できる
改良されたスタンパ−を製造する方法において、表面に
不連続の形で情報を保持する支持体にマスター情報保持
表面を形成する段階と、支持体の全情報保持面に無電解
ニッケルの被覆を、次亜リン酸ナトリウムを含むニッケ
ルメッキ槽で、形成する段階と、上記メッキ槽の次亜リ
ン酸ナトリウムの分量を調節し、上記被覆に所定の熱伝
導率すなわち、0.0060−0.0080 Cal/
6n/see /”Fを与える段階と、上記被覆にバク
キング材料を付着し、上記支持体の情報保持表面と補完
的な情報保持表面を持つ合成メタ/パーを形成する段階
と、上記支持体より形成された合成スタンパ−をはずす
段階とからなることを/l?徴とするスタンバ−を製造
する方法。 2)上記メッキ段階が無電解ニッケル被覆を0.5〜1
0ミル(0,0127〜0.254 mm )の厚さに
無電解メッキすることを含み、上記付着段階はバッキン
グ金属層を約5〜40ミル(0,127〜1.016關
)の厚さに電着することを含むことを特徴とする特許請
求の範囲第1)項に記載の方法。 3)上記電着された金属はクロム、ニッケル。 モリブデン、鉄、タングステンの中から選択されるもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第1)項に記載
の方法。 4)上記情報保持表面はフォトレジス)/Qを含み、上
記支持体はガラスで形成されており、上記表面の不連続
はフォトレジスト層におけるミクロン大のビットであり
、上記の方法は、上記メッキ段階の触媒として作用する
パラジウノ・と金からなるグループより選択された金属
の核の比較的薄い層を付着させることで、上記フォトレ
ジスト層の表面を触媒化する段階を、上記無’i’i解
メッキ段r1々の前に、さらに含むことを特徴とする特
許請求の範囲第1)項に記載の方法。 5)上記付着段階は無電解ニッケルの被(夏上にモリプ
\デンヘキザ力ルボニルを化学蒸着することを含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第1)項に記載の方法。 6)上記無電解ニッケルはニッケルリン化合物の形で4
−8重量%の範囲のリンを含有していることを特徴とす
る特許請*の範囲第1)項に記載の方法。 7)約400℃以下の温度でスタンパ−を加熱シ、40
°ロツクウ工ル硬度C,!=70°ロックウェル硬度C
との間の硬さに上記被覆を硬化させる段階を、上記分離
段階の後に、さらに含むことを特徴とする特許請求の範
囲第1)劇に記載の方法。 8)上記メッキ段階は、1〜8ミクロンの厚さに破切を
無電解“メッキすることを含み、さらに上記付着段階は
バッキング金属層を、約5〜40ミル(0,4/27〜
1.Or’6 mm )の厚きに電着することを含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1)項に記載の方法・ 9)光学的に読み取り可能な情報保持部材を形成できる
改良公れたスタンパ−を製造する方法において、表面に
不連続の形で情報を保持する支持体にマスタ情報保持表
面を形成する段階と、支持体の全情報保持面に無電解ニ
ッケルの被色をニッケルメッキする段階と、上記被覆に
バッキング材料′を付着し、上記支持体の情報保持表面
と補完的な情報保持表面を持つ合成スタンパ−を形成す
る段階と、上記メッキと付着の段階で上記被色と上記バ
ッキング材料の厚みをtt’J整して、合成スタンバ−
と同じ厚みを持つニッケルの伝熱比の115〜1/10
0の被覆の情報保持面で所定の伝熱比を有するスタンパ
−を形成する段階と、上記支持付より形成された合成ス
タンパ−をはずす段階とからなることを特徴とするスタ
ンパ−を製造する方法0 10)光学的に読み取り可能な情報保持部材を形成でき
るスタンパ−において、その−面に情報保持面を持つ比
較的薄い無電解ニッケルと、該無電解ニッケルは所定の
熱伝導率すな′わち、0.0060= 0.0080C
a 1 /crrv’ see / ”Fを与えるよう
なリン成分を有しており、上記無電解ニッケルの非情報
保持面に分子レベルで結合された比較的薄いノ(ツキン
グ層とを備えることを特f;・(とするスタンノく−。 11)上記無電解ニッケル層は0.5〜10ミル(0,
0127〜0.254m)の範囲の厚みを有し、上記ノ
;ツキング層は約5〜40ミル(0,127〜1.01
6調)のqみを有する金属層であることを特徴とする特
許請求の範囲第10)項に記載のスタンノ(−012)
 上記金JRハクロム、ニッケル、モルフアン。 鉄、タングステンの中から選択されるものであることを
4′イ徴とする特許請求の範囲第11)項に記載のスタ
ンパ−0 13)上記無電解ニッケル層の情報保持面は、ツクラジ
ウムと金とのグループよりフ■択された金ハの核の層を
有していることを特徴とする特許請求の範囲第10)項
に記奸叉のスタンパ−014)上記無電解ニッケルt」
、ニッケルリン化合物の形で4−8重量%の範囲のリン
を含有していることを特徴とする特許請求の範囲第1)
項に記載のスタンパ−0 15)上記無電解ニッケル層の硬度は40’ロツクウ工
ル硬度Cと70°ロツクウ工ル硬度Cとの間におること
を特徴とする特許請求の範囲第1)項(C記載のスタン
パ−6 16)上記メッキ無電解メッキ層は、1〜8ミクロンの
厚みを有し、上記バッキング層は約5〜40ミル(0,
127〜1.016 am)の厚さの全屈を含むことを
特徴とする特許請求の範囲第1())項に記載のスタン
パ−0 17)光学的に読み取り可能な情報保持部材を形成でき
るスタンパ−において、その−面に情報保持面を持つ比
較的薄い無電解ニッケルと、上記無電解ニッケルの非情
報保持面に分子レベルで結合された比較的薄いバッキン
グ層とを備え、上記無電解ニッケル層と上記バッキング
層との厚みは、合成スタンパ−と同じ厚みを持つニッケ
ルの伝熱比の115〜1/100の被瀉の情報保持面で
所定の伝熱比を持つに十分な相対的かつ釦合せられたJ
7みであることを特徴とするスタンノ々−018)光学
的に読み取り可能な情報保持部側を形成できる改良され
たスタンノ々−を製造する方法において、表面に不連続
の形で情報を保持する支持体にマスター情報保持表面を
形成する段階と、支持体の全情報保持面に無電解ニッケ
ルの被覆を、メッキ槽で、形成する段階と、上記支持体
より形成された合成スタンバ−をはずす段階と、約40
0℃以下の温度でスタンパ−を加熱し、上記スタンパ−
を40°ロツクウ工ル硬度Cと70’ロツクウ工ル硬度
Cとの間の硬さに硬化させる段階とからなることを特徴
とするスタンパ−を製造する方法。 19)上記メッキ段階は無電解ニッケル被覆を5〜40
ミル(0,127〜1.016叫)の範囲の厚さに無′
MX、解メッキすることを含むことを特徴とする特許請
求の範囲第18)項に記載の方法。 20)上記情報保持表面はフォトレジスト層を含み、上
記支持体はガラスで形成されており、上記表面の不連続
はフォトレジスト層におけるミクロン大のビットであり
、上記の方法は、上記メッキ段階の触媒として作用する
パラジウムと金からなるグループより選択された金弯の
核の比較的薄い層を付着させることで、上記フォトレジ
スト層の表面を触媒する段階を、上記無電解メッキ段階
の前に、さらに含むことを特徴とする特許請求の範囲第
18)項に記載の方法。 21)光学的に読み取り可能なl’ff報保持部イ」を
形成できるスタンパ〜において、その−面に情報保持面
を持つ無電解ニッケルを備え、該無電解ニッケルは5〜
4oミル(0,127〜1.0 ] 、(3mm)ノ範
囲の厚さを有することを特徴とする特許請求の範囲1)
項に記載のスタンパ−0 22)光学的に読み取り可能な情報保持部材を形成でき
る改良されたスタンパ−を製造する方法において、表面
に不連続の形で情報を保持する支持体にマスター情報保
持表面を形成する段階と、支持体の全情報保持面に無電
解ニッケルの被(σを、メッキ槽で、形成する段階と、
上記支持体、より形成された合成スタンパ−をはずす段
階と、上記被覆にバッキング材料を付着し、上記支持体
の(77報保持表面と相補的な情報保持表面を持つ合成
スタンパ−を形成する段階と、上記支持体より形成され
た合成スタンパ〜をはずす段階と、さらに約400℃以
下の温度でスタンパ−を加熱し、上記スタン、、ニー4
40°ロツクウエル硬11Cドア0°ロツクウ工ル硬度
Cとの間の硬さに硬化させる段階とからなることを特徴
とするスタンパ−を製造する方法。 23)光学的に読み取り可能な情報保持部材を形成でき
るスタンパ−において、その−面に情報保持面一を持つ
比較的薄い無電解ニッケルと、該無電解ニッケル上40
°ロツクウエル?ZiCと70°ロツクウ工ル硬度Cと
の間の硬さを有し、さらに上記無電解ニッケルの非情報
保持面に分子レベルで結合された比較的薄いバッキング
層とを備えることを特徴とする特許請求の範囲1)項に
記載のスタンパ−0
[Claims] 1) A method of manufacturing an improved stamper capable of forming an optically readable information-bearing member, comprising: applying a master information-bearing surface to a support that retains information in a discontinuous manner on the surface; a step of forming an electroless nickel coating on all information-retaining surfaces of the support in a nickel plating tank containing sodium hypophosphite, and adjusting the amount of sodium hypophosphite in the plating tank. The coating has a predetermined thermal conductivity, that is, 0.0060-0.0080 Cal/
applying a backing material to the coating to form a synthetic meta/par having an information-bearing surface complementary to that of the support; A method for manufacturing a stamper comprising the step of removing the formed synthetic stamper. 2) The plating step removes the electroless nickel coating by 0.5 to 1.
The deposition step includes electroless plating the backing metal layer to a thickness of about 5 to 40 mils (0.127 to 1.016 mm). A method according to claim 1, characterized in that the method comprises electrodepositing on a. 3) The metals electrodeposited above are chromium and nickel. The method according to claim 1), characterized in that the material is selected from molybdenum, iron and tungsten. 4) the information bearing surface comprises a photoresist)/Q, the support is formed of glass, the discontinuities in the surface are micron-sized bits in the photoresist layer, and the method The step of catalyzing the surface of the photoresist layer by depositing a relatively thin layer of a core of a metal selected from the group consisting of palladium and gold acts as a catalyst for the step of catalyzing the photoresist layer. The method according to claim 1), further comprising, before each deplating stage r1. 5) The method of claim 1, wherein the step of depositing comprises chemical vapor deposition of molybdenylcarbonyl onto an electroless nickel coating. 6) The above electroless nickel is in the form of a nickel phosphorus compound.
The method according to claim 1), characterized in that it contains phosphorus in the range -8% by weight. 7) Heat the stamper at a temperature of about 400℃ or less.
°Rock hardness C,! =70°Rockwell hardness C
A method according to claim 1, further comprising, after the separating step, the step of curing the coating to a hardness between . 8) The plating step includes electrolessly plating the fracture to a thickness of 1 to 8 microns, and the deposition step includes depositing a backing metal layer of about 5 to 40 mils (0.4/27 to
1. The method according to claim 1), characterized in that the method comprises electrodeposition to a thickness of 6 mm); 9) Improvements capable of forming an optically readable information holding member. A method for manufacturing a stamper comprising the steps of forming a master information-retaining surface on a support that retains information in a discontinuous manner on the surface, and nickel-plating an electroless nickel coating on all information-retaining surfaces of the support. applying a backing material to the coating to form a synthetic stamper having an information-retaining surface complementary to that of the support; The thickness of the above backing material is adjusted to tt'J, and a synthetic stambar is made.
115 to 1/10 of the heat transfer ratio of nickel with the same thickness as
A method for manufacturing a stamper comprising the steps of: forming a stamper having a predetermined heat transfer ratio on an information-retaining surface of a coating of 0.0 and removing the synthetic stamper formed from the support. 0 10) A stamper capable of forming an optically readable information retaining member includes a relatively thin electroless nickel having an information retaining surface on its surface, and the electroless nickel having a predetermined thermal conductivity. 0.0060 = 0.0080C
a 1 /crrv' see / "F, and is characterized by having a relatively thin bonding layer bonded to the non-information retaining surface of the electroless nickel at a molecular level. 11) The electroless nickel layer has a thickness of 0.5 to 10 mil (0,
0.127 to 0.254 m);
Stanno (-012) according to claim 10), which is a metal layer having a q value of 6).
The above gold JR hachrome, nickel, morphan. 13) The information retaining surface of the electroless nickel layer is selected from iron and tungsten. Claim 10) The above-mentioned electroless nickel stamper is characterized in that it has a core layer of gold selected from the group of
, containing 4-8% by weight of phosphorus in the form of a nickel-phosphorous compound (claim 1)
15) The hardness of the electroless nickel layer is between 40'-rotural hardness C and 70'-rotural hardness C. (Stamper-6 according to C 16) The plated electroless plating layer has a thickness of 1 to 8 microns, and the backing layer has a thickness of about 5 to 40 mils (0,
17) An optically readable information holding member can be formed. The stamper includes a relatively thin electroless nickel having an information-retaining surface on its side, and a relatively thin backing layer bonded to the non-information-retaining surface of the electroless nickel at a molecular level, The thicknesses of the layer and the backing layer are relative and sufficient to have a predetermined heat transfer ratio on the information-retaining surface of the target, which is 115 to 1/100 of the heat transfer ratio of nickel having the same thickness as the synthetic stamper. Buttoned J
018) A method for producing an improved stun plate capable of forming an optically readable information-retaining portion side, which retains information in a discontinuous manner on its surface. a step of forming a master information holding surface on the support; a step of forming an electroless nickel coating on all information holding surfaces of the support in a plating bath; and a step of removing the synthetic stand bar formed from the support. and about 40
Heating the stamper at a temperature of 0°C or less,
A method for producing a stamper, comprising the step of hardening the stamper to a hardness between 40° and 70' rotary hardness C. 19) The above plating step is an electroless nickel coating of 5 to 40
Available in thicknesses ranging from 0.127 to 1.016 mils
19. A method according to claim 18, characterized in that it comprises MX and deplating. 20) the information-bearing surface comprises a photoresist layer, the support is formed of glass, the discontinuities in the surface are micron-sized bits in the photoresist layer, and the method catalyzing the surface of the photoresist layer by depositing a relatively thin layer of gold-containing nuclei selected from the group consisting of palladium and gold to act as a catalyst, prior to the electroless plating step; 19. The method of claim 18, further comprising: 21) A stamper capable of forming an optically readable l'ff information holding part A' is provided with electroless nickel having an information holding surface on its - side, and the electroless nickel is
Claim 1) having a thickness in the range of 40 mils (0.127 to 1.0 mm).
22) A method for manufacturing an improved stamper capable of forming an optically readable information-bearing member, wherein a master information-bearing surface is provided on a support that retains information in a discontinuous manner on the surface. a step of forming an electroless nickel coating (σ) on all information-retaining surfaces of the support in a plating bath;
removing a synthetic stamper formed from the support; and applying a backing material to the coating to form a synthetic stamper having an information-retaining surface complementary to the information-retaining surface of the support. and removing the synthetic stamper formed from the support, further heating the stamper at a temperature of about 400° C. or less, and removing the synthetic stamper formed from the support.
A method for producing a stamper comprising the step of hardening the stamper to a hardness between 40° Rockwell hardness 11C and 0° Rockwell hardness C. 23) In a stamper capable of forming an optically readable information holding member, a comparatively thin electroless nickel having an information holding surface on its - side, and a 40 mm
°Rockwell? A patent characterized in that the invention has a hardness between ZiC and 70° rock hardness C, and further comprises a relatively thin backing layer bonded to the non-information retaining surface of the electroless nickel at a molecular level. Stamper 0 according to claim 1)
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