JPH05339774A - Production of stamper - Google Patents

Production of stamper

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JPH05339774A
JPH05339774A JP14400592A JP14400592A JPH05339774A JP H05339774 A JPH05339774 A JP H05339774A JP 14400592 A JP14400592 A JP 14400592A JP 14400592 A JP14400592 A JP 14400592A JP H05339774 A JPH05339774 A JP H05339774A
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JP
Japan
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stamper
layer
disk
master
duplicate
Prior art date
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Pending
Application number
JP14400592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Kishi
俊法 貴志
Michiyoshi Nagashima
道芳 永島
Fumiaki Ueno
文章 植野
Kenji Takamoto
健治 高本
Hisaki Miyamoto
寿樹 宮本
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To produce the stamper having high transfer accuracy by forming conductive layers on a duplicated disk, removing the duplicated disk from the conductive layers and using the conductive layers as a stamper. CONSTITUTION:The duplicated disk (replica) 4 is produced from an optical master disk 1. The conductive layers (Ni layers) 5, 6 consisting of a conductive material are formed on the duplicated disk 4. The duplicated disk 4 is removed from the conductive layers 5, 6. The conductive layers 5, 6 are thus formed as the stamper 7. PMMA, PC or glass is used as the substrate material for the duplicated disk. The conductive layers are formed by electroless plating on the duplicated disk. As a result, the stamper having the same rugged shape as the rugged shape of the optical master disk is produced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ディスク表面の材質に
依存することなく、良好な剥離性を有する光ディスク原
盤のスタンパの製造方法、また光ディスク原盤と同じ凹
凸形状をもつスタンパの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a stamper for an optical disk master having good releasability without depending on the material of the disk surface, and a method for manufacturing a stamper having the same concavo-convex shape as the optical disk master.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のスタンパの製造方法を図2を用い
て説明する。
2. Description of the Related Art A conventional stamper manufacturing method will be described with reference to FIG.

【0003】図2は、従来のスタンパの製造方法を工程
順に示したものである。同図において、a,b,c,d
は、それぞれ光ディスク原盤,光ディスク原盤表面への
第1層形成工程,第1層上への第2層形成工程,光ディ
スク原盤からのスタンパ剥離工程を示している。
FIG. 2 shows a conventional stamper manufacturing method in the order of steps. In the figure, a, b, c, d
Shows the optical disc master, the first layer forming process on the optical disc master surface, the second layer forming process on the first layer, and the stamper peeling process from the optical disc master.

【0004】まず、ディスク原盤表面に凹凸形状を形成
することにより、信号を記録された光ディスク原盤1
に、スパッタリング法などの方法を用いて、Ni層5を
50〜60nm程度形成させる(b)。次に前記Ni層
5をカソード電極としてNiメッキを行う(c)。メッ
キ厚は約300μmとする。次に形成されたNiメッキ
を行う(c)。メッキ厚は約300μmとする。次に形
成されたNi層(5,6)を光ディスク原盤から剥離し
(d)、必要な場合はNi層の裏面を鏡面研磨すること
により、スタンパ7を得る。
First, an optical disk master 1 on which a signal is recorded by forming an uneven shape on the surface of the disk master.
Then, the Ni layer 5 is formed to a thickness of about 50 to 60 nm by using a method such as a sputtering method (b). Next, Ni plating is performed using the Ni layer 5 as a cathode electrode (c). The plating thickness is about 300 μm. Next, the formed Ni plating is performed (c). The plating thickness is about 300 μm. Next, the formed Ni layers (5, 6) are peeled off from the optical disk master (d), and the back surface of the Ni layer is mirror-polished if necessary to obtain the stamper 7.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のN
iスタンパ製造方法では、光ディスク原盤表面が金属な
どからなる場合、光ディスク原盤とその上に形成したN
i層との剥離性が悪い。また、剥離できた場合にも、ピ
ット形状の変形などのドロップアウト発生率が高く、高
い転写精度が得られない。
However, the conventional N
In the i stamper manufacturing method, when the surface of the optical disc master is made of metal or the like, the optical disc master and the N formed on it are
The peelability from the i layer is poor. Further, even when peeling is possible, the dropout occurrence rate such as the deformation of the pit shape is high, and high transfer accuracy cannot be obtained.

【0006】本発明は上記従来技術の課題に鑑み、光デ
ィスク原盤より、原盤表面の材質に依存せず、ドロップ
アウトの発生を抑制してスタンパを製造する方法、ま
た、光ディスク原盤と同じ凹凸をもつスタンパをドロッ
プアウトの発生を抑制して製造する方法を提供すること
を目的とする。
In view of the above-mentioned problems of the prior art, the present invention is a method for manufacturing a stamper from an optical disk master that does not depend on the material of the master surface, suppresses the occurrence of dropout, and has the same unevenness as the optical disk master. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a stamper while suppressing the occurrence of dropout.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、光ディスク原盤より複製ディスク(レプリ
カ)を作製する工程、前記複製ディスク上に導電性物質
からなる導電性層を形成する工程、および前記複製ディ
スクを前記導電性層より除去する工程を、逐次行い、前
記導電性層をスタンパとする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a step of producing a duplicate disc (replica) from an optical disc master and a step of forming a conductive layer made of a conductive substance on the duplicate disc. , And the step of removing the duplicate disk from the conductive layer are sequentially performed to use the conductive layer as a stamper.

【0008】好ましくは、複製ディスク上に導電性層を
形成する工程において、第1層として導電性物質からな
る層を形成した後、第1層上にメッキ処理によって金属
層(第2層)を形成することが望ましい。
Preferably, in the step of forming the conductive layer on the duplicate disc, after forming a layer made of a conductive material as the first layer, a metal layer (second layer) is formed on the first layer by plating. It is desirable to form.

【0009】好ましくは、導電性層として少なくともN
i(ニッケル)あるいはTi(チタン)のいずれかを含
む物質を用いることが望ましい。
Preferably, at least N is used as the conductive layer.
It is desirable to use a substance containing either i (nickel) or Ti (titanium).

【0010】好ましくは、複製ディスクを作製する工程
において、複製ディスクの基板材料としてPC(ポリカ
ーボネイト)、あるいはPMMA(ポリメチルメタアク
リレート)を用いることが望ましい。
Preferably, it is desirable to use PC (polycarbonate) or PMMA (polymethylmethacrylate) as the substrate material of the duplicate disc in the step of producing the duplicate disc.

【0011】好ましくは、複製ディスク上に無電解メッ
キによって導電性物質からなる導電性層を形成すること
が望ましい。
It is preferable to form a conductive layer made of a conductive material on the duplicate disk by electroless plating.

【0012】好ましくは、ディスク原盤表面が金属から
なることが望ましい。
It is preferable that the surface of the master disk be made of metal.

【0013】[0013]

【作用】上記方法によって、光ディスク原盤より複製デ
ィスクを作製し、その上に導電性層を形成すれば、複製
ディスクと導電性層との付着力が強固でないため、複製
ディスクと導電性層との剥離性が良好となる。
When a duplicate disc is prepared from the optical disc master by the above method and a conductive layer is formed on the duplicate disc, the adhesive force between the duplicate disc and the conductive layer is not strong. Good releasability.

【0014】その結果、光ディスク原盤表面の材質によ
らず、転写精度が高くドロップアウトの少ないスタンパ
を製造することが可能となる。
As a result, it is possible to manufacture a stamper with high transfer accuracy and less dropout, regardless of the material of the surface of the optical disc master.

【0015】また、上記手段によれば、光ディスク原盤
からスタンパを得るまでに、転写処理を偶数回行ったこ
とになるので、光ディスク原盤と等しい凹凸をもったス
タンパを製造することが可能となる。その際、得られる
スタンパは転写精度が高くドロップアウトが少ない。
Further, according to the above means, the transfer process is performed an even number of times until the stamper is obtained from the optical disc master, so that it is possible to manufacture a stamper having the same unevenness as the optical disc master. At that time, the obtained stamper has high transfer accuracy and little dropout.

【0016】[0016]

【実施例】以下、具体的な実施例をもって本発明を詳述
する。
The present invention will be described in detail below with reference to specific examples.

【0017】本発明のスタンパ製造方法によって、原盤
表面がCu(銅)からなる、直径200mmの光ディスク
原盤のNiスタンパを製造する場合について述べる。
A case of manufacturing a Ni stamper for an optical disk master having a diameter of 200 mm and having a master surface made of Cu (copper) by the stamper manufacturing method of the present invention will be described.

【0018】図1は、本実施例のスタンパの製造方法を
工程順に示したものである。図1において、a,b,
c,d,e,fは、それぞれ紫外線硬化樹脂滴下工程,
フォトポリマー法によるレプリカ作製工程,光ディスク
原盤からのレプリカ剥離工程,転写面への第1層形成工
程,レプリカからのスタンパ剥離工程を示している。
FIG. 1 shows a method of manufacturing the stamper of this embodiment in the order of steps. In FIG. 1, a, b,
c, d, e, f are the ultraviolet curing resin dropping step,
It shows a replica manufacturing process by the photopolymer method, a replica peeling process from the optical disc master, a first layer forming process on the transfer surface, and a stamper peeling process from the replica.

【0019】まず、光ディスク原盤1上に紫外線硬化樹
脂2を滴下し広げた(a)後、その上にレプリカ基板3
としてPMMA(直径200mm,厚み1.2mm)を乗
せ、加圧した状態で紫外線を照射する。これにより紫外
線硬化樹脂2は硬化する(b)。レプリカ基板3を硬化
した紫外線硬化樹脂2とともに、光ディスク原盤1より
剥離し、レプリカ4を得る(c)。この方法によれば光
ディスク原盤1の材質および形状に依存することなく、
光ディスク原盤1の形状を精度よく転写することができ
る。
First, the ultraviolet curable resin 2 is dropped and spread on the optical disc master 1 (a), and then the replica substrate 3 is formed thereon.
Then, PMMA (diameter: 200 mm, thickness: 1.2 mm) is placed on the plate, and ultraviolet rays are applied while being pressurized. As a result, the ultraviolet curable resin 2 is cured (b). The replica substrate 3 is peeled from the optical disc master 1 together with the cured ultraviolet curable resin 2 to obtain a replica 4 (c). According to this method, regardless of the material and shape of the optical disc master 1,
The shape of the optical disc master 1 can be accurately transferred.

【0020】次にスパッタリング法により、レプリカ4
のピット転写面に、Ni層5(第1層)を50〜60n
m程度形成する(c)。これは第2層6を電解メッキ法
にて形成する際、レプリカが絶縁物であるため電極とす
ることができないので、導電性物質であるNi層を形成
し、電極とするためである。
Next, the replica 4 is formed by the sputtering method.
Ni layer 5 (first layer) of 50 to 60n on the pit transfer surface of
Form about m (c). This is because, when the second layer 6 is formed by the electrolytic plating method, the replica cannot be used as an electrode because it is an insulator, and therefore a Ni layer that is a conductive substance is formed and used as an electrode.

【0021】レプリカのピット転写面上に形成されたN
i層5をカソード電極として、電解メッキ法によりNi
層6(第2層)を、300μm程度の厚みで形成する
(c)。本実施例においては、電解メッキ用のメッキ浴
としては、スルファミン酸ニッケル浴(スルファミン酸
ニッケル,塩化ニッケル、およびほう酸を溶解した溶
液)を用いる。この場合、Ni層6(第2層)の形成速
度は約100μm/hr.である。
N formed on the pit transfer surface of the replica
Using the i layer 5 as a cathode electrode, Ni is formed by electrolytic plating.
The layer 6 (second layer) is formed with a thickness of about 300 μm (c). In this embodiment, a nickel sulfamate bath (a solution in which nickel sulfamate, nickel chloride, and boric acid are dissolved) is used as a plating bath for electrolytic plating. In this case, the formation rate of the Ni layer 6 (second layer) is about 100 μm / hr. Is.

【0022】第2層まで形成されたレプリカをメッキ浴
より取り出し、レプリカとNi層(第1層および第2
層)とを剥離し(d)、Ni層を洗浄することにより、
スタンパ7を得ることができる。
The replica formed up to the second layer is taken out from the plating bath, and the replica and the Ni layer (first layer and second layer) are formed.
Layer) and (d) and by washing the Ni layer,
The stamper 7 can be obtained.

【0023】以上のように、本実施例によれば、レプリ
カとレプリカの信号転写面上に形成されたNi層との付
着力が強固でなく、複製ディスクとNi層との剥離性が
良いため、原盤表面が銅からなる場合においても、転写
精度が高くドロップアウトの少ないスタンパを製造する
ことが可能となる。
As described above, according to the present embodiment, the adhesive force between the replica and the Ni layer formed on the signal transfer surface of the replica is not strong, and the releasability between the duplicate disc and the Ni layer is good. Even if the master surface is made of copper, it is possible to manufacture a stamper with high transfer accuracy and less dropout.

【0024】また、本実施例によれば、光ディスク原盤
からスタンパを得るまでに、転写処理を偶数回行ったこ
とになるので、光ディスク原盤と等しい凹凸をもった、
転写精度の高いスタンパを製造することが可能となる。
Further, according to this embodiment, since the transfer process is performed an even number of times until the stamper is obtained from the optical disc master, it has the same unevenness as the optical disc master.
It is possible to manufacture a stamper with high transfer accuracy.

【0025】特に本例のように、光ディスク原盤が金属
からなる場合には非常に有効な方法である。
This is a very effective method especially when the optical disc master is made of metal as in this example.

【0026】なお、本実施例の場合において、レプリカ
基板としてはPMMAを用いたが、PCあるいはガラス
を用いても同様にスタンパを作製することができる。そ
の他、紫外線を透過する物質であれば本質的には同様で
あり、基板として用いることができる。特に、熱膨脹率
あるいは吸水率の低い物質であれば、メッキ処理の際の
基板の変形を防ぐことができるため、非常に有効であ
る。
In the case of this embodiment, PMMA was used as the replica substrate, but a stamper can be similarly produced by using PC or glass. Other substances that are transparent to ultraviolet rays are essentially the same and can be used as the substrate. In particular, a substance having a low coefficient of thermal expansion or a low water absorption rate is very effective because it can prevent the substrate from being deformed during the plating process.

【0027】また、本実施例の場合において、第1層あ
るいは第2層の形成をNiによって行ったが、導電性の
物質であれば、同様な処理を行うことができ、スタンパ
を作製することができる。特に、第1層と第2層の両者
あるいは一方にTiを使用すれば、スタンパとした際の
強度が向上するため、非常に有効である。
Further, in the case of the present embodiment, the formation of the first layer or the second layer was performed by Ni, but the same treatment can be performed by using a conductive substance, and a stamper can be manufactured. You can In particular, if Ti is used for both or one of the first layer and the second layer, the strength of the stamper is improved, which is very effective.

【0028】また、第1層の形成方法としては、スパッ
タリング法以外に、真空蒸着法などのCVD法、あるい
は無電解メッキ法によって形成しても本質的な変化はな
い。また、無電解メッキ法を用いる場合、第1層を30
0μm程度形成すれば、第1層自体をスタンパとして使
用することができる。
As the method for forming the first layer, other than the sputtering method, there is no substantial change even if it is formed by a CVD method such as a vacuum deposition method or an electroless plating method. When the electroless plating method is used, the first layer is 30
If the thickness is about 0 μm, the first layer itself can be used as a stamper.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように、本発明のスタンパ製造方
法によれば、光ディスク原盤表面が金属である場合な
ど、表面の材質に依存することなく、転写精度の高いス
タンパを製造することが可能となる。
As described above, according to the stamper manufacturing method of the present invention, it is possible to manufacture a stamper with high transfer accuracy without depending on the surface material, such as when the surface of the optical disk master is metal. Becomes

【0030】また、本発明によれば、光ディスク原盤と
同じ凹凸形状をもったスタンパを作製することが可能と
なる。金属からなるディスク原盤の場合、再生用ディス
クを得る方法の1つに、ディスク原盤からフォトポリマ
ー法などにより、直接少数枚の再生用ディスクを作製す
る方法がある。この場合、ディスク原盤に対して、再生
用ディスクは奇数回の転写を行うことによって得られる
ことになる。一方、大量に再生用ディスクが要求される
場合、本発明のスタンパ製造方法を実施することで、デ
ィスク原盤に対する、再生用ディスクを得るまでの転写
回数が奇数回となるため、ディスク原盤から直接再利用
ディスクをとったものと、同じ凹凸形状をもったディス
クを作製することが可能となる。
Further, according to the present invention, a stamper having the same concavo-convex shape as that of the optical disk master can be manufactured. In the case of a disc master made of metal, one method of obtaining a reproducing disc is a method of directly producing a small number of reproducing discs from the disc master by a photopolymer method or the like. In this case, the reproduction disc is obtained by performing the transfer on the disc master for an odd number of times. On the other hand, when a large number of reproduction discs are required, by performing the stamper manufacturing method of the present invention, the number of transfer times to obtain the reproduction disc on the disc master becomes an odd number. It is possible to manufacture a disk having the same concavo-convex shape as that of the disk used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるスタンパ製造工程の一例を示す図FIG. 1 is a diagram showing an example of a stamper manufacturing process according to the present invention.

【図2】従来のスタンパ製造工程図[Fig. 2] Conventional stamper manufacturing process diagram

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光ディスク原盤 2 紫外線硬化樹脂 3 レプリカ基板 7 スタンパ 1 Optical disc master 2 UV curable resin 3 Replica substrate 7 Stamper

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高本 健治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 宮本 寿樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Kenji Takamoto, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Toshiki Miyamoto, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光ディスク原盤より複製ディスク(レプ
リカ)を作製する工程、前記複製ディスク上に導電性物
質からなる導電性層を形成する工程、および前記複製デ
ィスクを前記導電性層より除去する工程からなり、前記
導電性層をスタンパとすることを特徴とするスタンパ製
造方法。
1. A step of producing a duplicate disc (replica) from an optical disc master, a step of forming a conductive layer made of a conductive material on the duplicate disc, and a step of removing the duplicate disc from the conductive layer. The method of manufacturing a stamper, wherein the conductive layer is a stamper.
【請求項2】 複製ディスク上に導電性層を形成する工
程において、第1層として導電性物質からなる層を形成
した後、第1層上にメッキ処理によって金属層(第2
層)を形成する請求項1記載のスタンパ製造方法。
2. In the step of forming a conductive layer on the duplicate disk, after forming a layer made of a conductive material as the first layer, a metal layer (second layer) is formed on the first layer by plating.
The method for producing a stamper according to claim 1, wherein the layer) is formed.
【請求項3】 導電性層として少なくともNi(ニッケ
ル)あるいはTi(チタン)のいずれかを含む物質を用
いる請求項1記載のスタンパの製造方法。
3. The stamper manufacturing method according to claim 1, wherein a material containing at least either Ni (nickel) or Ti (titanium) is used as the conductive layer.
【請求項4】 複製ディスクを作製する工程において、
複製ディスクの基板材料として、PMMA(ポリメチル
メタアクリレート)、PC(ポリカーボネイト)、ある
いはガラスを用いる請求項1記載のスタンパ製造方法。
4. In the step of making a duplicate disc,
The stamper manufacturing method according to claim 1, wherein PMMA (polymethylmethacrylate), PC (polycarbonate), or glass is used as the substrate material of the duplicate disk.
【請求項5】 複製ディスク上に無電解メッキによって
導電性物質からなる導電性層を形成する請求項1記載の
スタンパ製造方法。
5. The stamper manufacturing method according to claim 1, wherein a conductive layer made of a conductive material is formed on the duplicate disk by electroless plating.
【請求項6】 ディスク原盤表面が金属からなる請求項
1記載のスタンパ製造方法。
6. The stamper manufacturing method according to claim 1, wherein the surface of the master disk is made of metal.
JP14400592A 1992-06-04 1992-06-04 Production of stamper Pending JPH05339774A (en)

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