JPS6074236A - 陰極線管の高電圧処理方法 - Google Patents
陰極線管の高電圧処理方法Info
- Publication number
- JPS6074236A JPS6074236A JP18048183A JP18048183A JPS6074236A JP S6074236 A JPS6074236 A JP S6074236A JP 18048183 A JP18048183 A JP 18048183A JP 18048183 A JP18048183 A JP 18048183A JP S6074236 A JPS6074236 A JP S6074236A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- high voltage
- application
- neck
- cathode ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/44—Factory adjustment of completed discharge tubes or lamps to comply with desired tolerances
- H01J9/445—Aging of tubes or lamps, e.g. by "spot knocking"
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は陰極線管の高電圧処理方法に係り、特に能率的
に高電圧処理を行なう事が可能な陰極線管の高電圧処理
方法に関する。
に高電圧処理を行なう事が可能な陰極線管の高電圧処理
方法に関する。
陰極線管の高電圧処理は、電子銃の高電圧が印加される
電極と低電圧が印加される電極間のクリーンアップを目
的に行なわれる。その方法は、第１図に概略が示される
ように、電子銃のヒータを含めた低電圧印加電極を接地
し、陽極電位が印加される高電圧印加電極に通常稼動時
の最高電圧の１１０〜１２０％から２００〜２５０％の
７に圧がスデツブアツプするスケジュールで数分同行な
われている。
電極と低電圧が印加される電極間のクリーンアップを目
的に行なわれる。その方法は、第１図に概略が示される
ように、電子銃のヒータを含めた低電圧印加電極を接地
し、陽極電位が印加される高電圧印加電極に通常稼動時
の最高電圧の１１０〜１２０％から２００〜２５０％の
７に圧がスデツブアツプするスケジュールで数分同行な
われている。
然るに、このような高電圧処理方法では、高Ｂ処理の初
期段階では電極間のクリーンアップが不充分である為、
低い処理電圧でも電極間で多数の放電が生じ、クリーン
アップが進行している。後半段階ではクリーンアップが
進み、処理’亀ｆｌ−が市いにもかかわらず、電極開放
″嘔の回数は少ない。
期段階では電極間のクリーンアップが不充分である為、
低い処理電圧でも電極間で多数の放電が生じ、クリーン
アップが進行している。後半段階ではクリーンアップが
進み、処理’亀ｆｌ−が市いにもかかわらず、電極開放
″嘔の回数は少ない。
ところで、ネック内面の電位は処理電圧の上昇に伴ない
一ヒ昇しており、次のような複数要因の払み重ねが引き
金となってネック内面と低電比印加電極間で放電が発生
することがある。
一ヒ昇しており、次のような複数要因の払み重ねが引き
金となってネック内面と低電比印加電極間で放電が発生
することがある。
（イ） ネック内面の電位上昇
（ロ） ネック内面に微少な汚れがある←→ イ・ツク
内面と電極の間隔が狭いネック内面と低電圧印加電極間
で放電が生ずると、必要とする電極間のクリーンアップ
が出来なくなる。また放電に至るまでの過程でイ・ツク
ｔｊラスから２次電子が放射される。ガラスの２次電子
放射率が１より大きい為、ネック内面の電位は更に上昇
し放電の持続を助′長する。これが進行すると電子が射
突している部分のネックガラスが局部的に剥れ、管内異
物となって陰極線管のシャドウマスクの孔を塞ぐ等の問
題が生する。
内面と電極の間隔が狭いネック内面と低電圧印加電極間
で放電が生ずると、必要とする電極間のクリーンアップ
が出来なくなる。また放電に至るまでの過程でイ・ツク
ｔｊラスから２次電子が放射される。ガラスの２次電子
放射率が１より大きい為、ネック内面の電位は更に上昇
し放電の持続を助′長する。これが進行すると電子が射
突している部分のネックガラスが局部的に剥れ、管内異
物となって陰極線管のシャドウマスクの孔を塞ぐ等の問
題が生する。
さて、一般に陰極線管のｔＭ造工程では、高電圧印加に
はコンベアが使用され、１本の陰極線管にＪつの高電圧
発生装置がレールとコンタクトを通して接続される。コ
ンベア上で高電比が陰極線管に印加される部分をボジシ
ョ、ンと呼び、同様なポジションが多数設置され、この
中を陰極線管が通過する早によって、第２図に示すよう
な」二稈で、高電圧処理が行なわれる。陰極線セに印加
される高電圧は、第３図に示すように、順次高くなるヌ
は何の一電圧も印加されない。この為、高電圧印加時間
やネック内面の電位は前ポジションの高電圧が維持され
たまま、前ポジションより高い電圧の次の高電圧印加ポ
ジションに入って行く。
はコンベアが使用され、１本の陰極線管にＪつの高電圧
発生装置がレールとコンタクトを通して接続される。コ
ンベア上で高電比が陰極線管に印加される部分をボジシ
ョ、ンと呼び、同様なポジションが多数設置され、この
中を陰極線管が通過する早によって、第２図に示すよう
な」二稈で、高電圧処理が行なわれる。陰極線セに印加
される高電圧は、第３図に示すように、順次高くなるヌ
は何の一電圧も印加されない。この為、高電圧印加時間
やネック内面の電位は前ポジションの高電圧が維持され
たまま、前ポジションより高い電圧の次の高電圧印加ポ
ジションに入って行く。
従って、前ポジションでネック内面と低電圧印加電極と
の間で放電していると、次のポジションでも容易に放電
が起こり、この繰り返しによってネックガラスの局部的
な剥れを生じ、シャドウマスクの孔を塞ぐ問題を招く。
の間で放電していると、次のポジションでも容易に放電
が起こり、この繰り返しによってネックガラスの局部的
な剥れを生じ、シャドウマスクの孔を塞ぐ問題を招く。
本発明は、ネック内面と低電圧印加電極間で放電が発生
した場合に、連続的放電を阻止し、効率的な高電圧処理
方法を提供するものである。。
した場合に、連続的放電を阻止し、効率的な高電圧処理
方法を提供するものである。。
本発明は、特に高電圧処理の後半で高電圧印加電極への
電圧印加を高電圧→接地→高箪圧→接地→高電圧とする
ものである。これにより、接地時に高電圧印加電極の電
位が低下するに合わ七てネック内面の電位も低下する。
電圧印加を高電圧→接地→高箪圧→接地→高電圧とする
ものである。これにより、接地時に高電圧印加電極の電
位が低下するに合わ七てネック内面の電位も低下する。
この為、前ポジションでネック内面と低電圧印加電極間
で放′颯していた電極に対しては、ネック電位の低−ト
により次のポジションでのネック内面と低電圧印加電極
間での放電を生ずる危険が大幅に低減できる。
で放′颯していた電極に対しては、ネック電位の低−ト
により次のポジションでのネック内面と低電圧印加電極
間での放電を生ずる危険が大幅に低減できる。
なお、１ポジション当りの高電圧印加時間が長すぎると
、その間にネック内面と低電圧印加電極間で放電を生じ
た場合、ネックガラスが剥れる危険が太きい。この為、
高電圧印加時間は１ポジション当り５秒以内とするのが
望ましい。
、その間にネック内面と低電圧印加電極間で放電を生じ
た場合、ネックガラスが剥れる危険が太きい。この為、
高電圧印加時間は１ポジション当り５秒以内とするのが
望ましい。
本発明の一実施例の高電圧処理方法における、高電圧印
加電極への電圧印加の工程を第４図に示す。高電圧処理
の前半は第４図（ａｌに示されるように、高電圧→（フ
ロート）→高電圧→（フロート）→高電圧の繰り返しと
する。印加電圧が商くなり、低電圧印加電極とネック内
面間での放電が生じ易い高電圧処理の後半においては、
第４図（ｂ）に示されるように、高電圧→（フロートン
→接地→（フロート）→高電圧→（フロート）→接地→
（フロート）→高電圧の繰り返しとする。なおこの場合
、高電圧印加時間は５秒り、内で、また接地電位印加時
間は２〜３秒である。本実施例の各ポジションと印加電
圧の関係を、第５図に示す。
加電極への電圧印加の工程を第４図に示す。高電圧処理
の前半は第４図（ａｌに示されるように、高電圧→（フ
ロート）→高電圧→（フロート）→高電圧の繰り返しと
する。印加電圧が商くなり、低電圧印加電極とネック内
面間での放電が生じ易い高電圧処理の後半においては、
第４図（ｂ）に示されるように、高電圧→（フロートン
→接地→（フロート）→高電圧→（フロート）→接地→
（フロート）→高電圧の繰り返しとする。なおこの場合
、高電圧印加時間は５秒り、内で、また接地電位印加時
間は２〜３秒である。本実施例の各ポジションと印加電
圧の関係を、第５図に示す。
本発明の高電圧処理方法（＝よれば、ネック内面と低電
圧印加電極間の連続的な放電が減少し、これによりネッ
ク内面ガラスの剥れの減少及び高耐電圧の陰極線管が得
られる。また製造」二程中で不良とならず、通過率が向
上する利点も得られる。
圧印加電極間の連続的な放電が減少し、これによりネッ
ク内面ガラスの剥れの減少及び高耐電圧の陰極線管が得
られる。また製造」二程中で不良とならず、通過率が向
上する利点も得られる。
上述の実施例では、高電圧→（フロート） −接地→（
フロート）→高電圧としたが、１フロート“状態は陰極
線管から見た場合、必要な処理ではない。連続的に多数
の陰極線管の旨奄圧処Ｊ里を行なう場合には、設備的に
高電仕→接地−→高ｆｌｉ用にすると、ポジション間の
絶縁を維持するのが困知である為、フロートのポジショ
ンを設けている。
フロート）→高電圧としたが、１フロート“状態は陰極
線管から見た場合、必要な処理ではない。連続的に多数
の陰極線管の旨奄圧処Ｊ里を行なう場合には、設備的に
高電仕→接地−→高ｆｌｉ用にすると、ポジション間の
絶縁を維持するのが困知である為、フロートのポジショ
ンを設けている。
従って、バッチ方式で高電圧処理を行なう場合には、可
能ならば高電圧→接地−今高電月−どしてもよい。この
場合も接地１電位印加時間を：１２〜３秒あればよい。
能ならば高電圧→接地−今高電月−どしてもよい。この
場合も接地１電位印加時間を：１２〜３秒あればよい。
なお、接地電位の代りに、負電圧やｙｉｉＪボジンヨン
の高電圧の％以下の電圧を印加するようにしてもよい。
の高電圧の％以下の電圧を印加するようにしてもよい。
しかしこの場合は、更に〜；圧発生装置す、が必要とな
り、経済的には必ずしも望ましいものではない。
り、経済的には必ずしも望ましいものではない。
第１図は陰極線管の概念図を示す図、第２図は従来の高
電圧処理の工程を示す図、第３図は従来の高電圧処理の
各ポジションと印加電圧の関係を示す図、第４図は本発
明の一実施例の高電圧処理の工程を示す図、第５図は本
発明の一実施例の各ポジションと印加電圧の関係を示す
図である。 （１）・・・陰極線管、 （２）・・・アノード端子（
３）低電圧印加電極端子、（４）・・高電圧電源。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）第１図 第３図 第４図 ｔ） 仏）
電圧処理の工程を示す図、第３図は従来の高電圧処理の
各ポジションと印加電圧の関係を示す図、第４図は本発
明の一実施例の高電圧処理の工程を示す図、第５図は本
発明の一実施例の各ポジションと印加電圧の関係を示す
図である。 （１）・・・陰極線管、 （２）・・・アノード端子（
３）低電圧印加電極端子、（４）・・高電圧電源。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）第１図 第３図 第４図 ｔ） 仏）
Claims (1)
- 陰極線管の製造工程中に電子銃の電極間に高電圧を印加
する高電圧処理方法において、高電圧印加電極への電圧
印加を高電圧→接地→高電圧→接地の繰り返しとする工
程を備えることを特徴とする陰極線管の高電圧処理方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18048183A JPS6074236A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 陰極線管の高電圧処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18048183A JPS6074236A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 陰極線管の高電圧処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6074236A true JPS6074236A (ja) | 1985-04-26 |
Family
ID=16083974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18048183A Pending JPS6074236A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 陰極線管の高電圧処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6074236A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002071434A1 (fr) * | 2001-03-07 | 2002-09-12 | Sony Corporation | Procede de traitement par cognement dans un dispositif d'affichage a ecran plat, et procede de traitement par cognement d'un substrat utilise dans un dispositif d'affichage a ecran plat |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18048183A patent/JPS6074236A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002071434A1 (fr) * | 2001-03-07 | 2002-09-12 | Sony Corporation | Procede de traitement par cognement dans un dispositif d'affichage a ecran plat, et procede de traitement par cognement d'un substrat utilise dans un dispositif d'affichage a ecran plat |
| US6945838B2 (en) | 2001-03-07 | 2005-09-20 | Sony Corporation | Knocking processing method in flat-type display device, and knocking processing method in flat-panel display device-use substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10262836B2 (en) | Energy-efficient plasma processes of generating free charges, ozone, and light | |
| US4214798A (en) | Method for spot-knocking the electron-gun mount assembly of a CRT | |
| JPS6074236A (ja) | 陰極線管の高電圧処理方法 | |
| JP2000100798A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| US4682962A (en) | Method of manufacturing a cathode ray tube | |
| US4883438A (en) | Method for spot-knocking an electron gun mount assembly of a CRT | |
| US3540989A (en) | Process for reducing secondary electron emission | |
| KR0135045B1 (ko) | 음극선관의 내전압처리방법 | |
| JP3271705B2 (ja) | 電子管の製造方法 | |
| JP2000164580A (ja) | プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法 | |
| EP0634771B1 (en) | Method for spot-knocking an electron gun assembly of a cathode ray tube | |
| KR950008025Y1 (ko) | 고압처리 회로 | |
| JP2004022883A (ja) | 大気圧プラズマ処理方法 | |
| JP2001035379A (ja) | 陰極線管の耐電圧処理方法 | |
| JPS5912542A (ja) | 陰極線管の耐電圧処理方法 | |
| EP0349252A2 (en) | Method for spot-knocking an electron gun mount assembly of a CRT | |
| JP2673049B2 (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| KR950010646Y1 (ko) | 스트레이에미션 수리장치 | |
| JPH05217504A (ja) | 受像管の製造方法 | |
| JPH04315733A (ja) | カラー陰極線管の製造方法 | |
| JPS61273830A (ja) | 陰極線管のエ−ジング方法 | |
| JPS6091532A (ja) | 陰極線管の高電圧処理方法 | |
| JPS63313452A (ja) | 陰極線管の耐電圧処理方法 | |
| JPH026186B2 (ja) | ||
| JPH01225034A (ja) | 陰極線管の製造方法 |