JPS607047A - 電子線装置の試料処理装置 - Google Patents
電子線装置の試料処理装置Info
- Publication number
- JPS607047A JPS607047A JP11415583A JP11415583A JPS607047A JP S607047 A JPS607047 A JP S607047A JP 11415583 A JP11415583 A JP 11415583A JP 11415583 A JP11415583 A JP 11415583A JP S607047 A JPS607047 A JP S607047A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- processing
- chamber
- opening
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線装置の試料処理装置、特に、観察、分析
を行なおうとする試料に対してガス反応を起させたり、
真空蒸着を行なったりするための試料処理装置に関する
ものである。
を行なおうとする試料に対してガス反応を起させたり、
真空蒸着を行なったりするための試料処理装置に関する
ものである。
電子顕微鏡全はじめとする観察又は分析用電子線装置に
おいては、ガス反応による試料の経時変化ｆｔ観察した
り、試料に蒸着処理ｆｔ施して観察するために試料処理
装置を備えたものがあるが、かかる試料処理装置の従来
例としては、例えば第１図及び第２図に示す二つのタイ
プがあ °フ た。
おいては、ガス反応による試料の経時変化ｆｔ観察した
り、試料に蒸着処理ｆｔ施して観察するために試料処理
装置を備えたものがあるが、かかる試料処理装置の従来
例としては、例えば第１図及び第２図に示す二つのタイ
プがあ °フ た。
第１図に示す第１の従来例に係る試料処理装置ｒｔけ、
鏡筒外ガス反応装置であり、電子線軸（以下、便宜上光
軸という）０に沿って上下方向に所定の間囚をあけて対
向配置された上側磁極３及び下側磁極４によって構成さ
れた対物レンズ２を備えた電子顕微鏡の、試料室２０部
分横に、鏡筒１から外方へ延びる試料処理室５を設けて
成る。この試料処理室５は、作動部材Ｔによって操作さ
れるロック弁６により試料室加に連通、遮断ｉＪ能に構
成される一方、排気通路８及び弁体１０により開閉され
るガス通路９が接続されて反応ガスの導入及び排気を行
うようになっている。また、試料処理室５には同図中符
号１１で示す加熱炉が設けられている。そして、試料処
理室５内には通孔１３を通して棒状の試料交換部材１２
が挿入され、当該試料交換部材１２によって試料処理室
５と試料室加との間で試料運搬全行うようになっている
。
鏡筒外ガス反応装置であり、電子線軸（以下、便宜上光
軸という）０に沿って上下方向に所定の間囚をあけて対
向配置された上側磁極３及び下側磁極４によって構成さ
れた対物レンズ２を備えた電子顕微鏡の、試料室２０部
分横に、鏡筒１から外方へ延びる試料処理室５を設けて
成る。この試料処理室５は、作動部材Ｔによって操作さ
れるロック弁６により試料室加に連通、遮断ｉＪ能に構
成される一方、排気通路８及び弁体１０により開閉され
るガス通路９が接続されて反応ガスの導入及び排気を行
うようになっている。また、試料処理室５には同図中符
号１１で示す加熱炉が設けられている。そして、試料処
理室５内には通孔１３を通して棒状の試料交換部材１２
が挿入され、当該試料交換部材１２によって試料処理室
５と試料室加との間で試料運搬全行うようになっている
。
他方、災筒１内部には、光軸Ｏに対して垂直な平面内で
移動可能な試料ホルダ１４が配設される。試料ホルダ１
４は、先端部に貫通孔１８を形成した棒状体から成り、
貫通孔１８内には加熱部材１５が装填される一方、加熱
部材１５内側には試料１７を内装した（正確にはメツシ
ュ５１と装架し、その上に試料１７ ｆ！：載置した）
管状の試料筒１６が着脱可能に取付けられる。試料ホル
ダ１４は、試料１７を試料室２０内の所定の位置に保持
すると共に必要に応じて試料１７を光軸０に対して垂直
方向に移動（即ち平面移動）させたり、傾斜させたりす
る。
移動可能な試料ホルダ１４が配設される。試料ホルダ１
４は、先端部に貫通孔１８を形成した棒状体から成り、
貫通孔１８内には加熱部材１５が装填される一方、加熱
部材１５内側には試料１７を内装した（正確にはメツシ
ュ５１と装架し、その上に試料１７ ｆ！：載置した）
管状の試料筒１６が着脱可能に取付けられる。試料ホル
ダ１４は、試料１７を試料室２０内の所定の位置に保持
すると共に必要に応じて試料１７を光軸０に対して垂直
方向に移動（即ち平面移動）させたり、傾斜させたりす
る。
かかる電子顕微鏡において、試料処理装置なうには、試
料処理室５内で、試料交換部材１２によって試料１７を
装填した試料筒１６を加熱炉１１に入れ、ロック弁６を
閉鎖して試料処理室５内に密封すると共に弁体１０を開
いてガス通路９を開き、試料１７をガス反応させる。そ
の後、排気通路８から反応ガスを排出し、その後ロック
弁６を開いて試料交換棒１２を試料室２０内へ挿入し、
試料筒１６及び試料１７を試料ホルダ１４０所定の部位
に載置して試料観察が行われる。
料処理室５内で、試料交換部材１２によって試料１７を
装填した試料筒１６を加熱炉１１に入れ、ロック弁６を
閉鎖して試料処理室５内に密封すると共に弁体１０を開
いてガス通路９を開き、試料１７をガス反応させる。そ
の後、排気通路８から反応ガスを排出し、その後ロック
弁６を開いて試料交換棒１２を試料室２０内へ挿入し、
試料筒１６及び試料１７を試料ホルダ１４０所定の部位
に載置して試料観察が行われる。
第２図に示す第２の従来例に係る試料処理装置は、鏡筒
内ガス反応装置であり、試料ホルダ２４の先端部に一体
的に設けられて成る。即ち、この試料処理装置は、試料
ホルダ２４の先端部に設けられ、且つ光軸０に沿って上
部及び下部に開設された絞り用の通孔２６．２７部分と
除いて周囲を壁面によって取囲まれた処理室δと、試料
ホルダ２４の棒状部分内部において長手方向に延び、且
つ上記処理室δに連通ずるガス通路２８とを有して成る
。処理室すの内部には加熱部材１５が配設されると共に
、この加熱部材の中心部には試料１７が配置されるよう
になっている。試料１７は処理室２５の周囲壁の一部に
開閉可能の出入口を設けておき、当該出入口から出し入
れする様になっている。ガス通路２８の基端部分はガス
源に接続されており、反応ガスを供給することにより試
料１７をガス反応させる。このガス反応は試料１７と試
料室２０内の観察位置に設置した状Ｑ、Ｑ テ行イ得か
ら、試料１７におけるガス反Ｒ５（Ｄ経過を連続的に観
察することができる。
内ガス反応装置であり、試料ホルダ２４の先端部に一体
的に設けられて成る。即ち、この試料処理装置は、試料
ホルダ２４の先端部に設けられ、且つ光軸０に沿って上
部及び下部に開設された絞り用の通孔２６．２７部分と
除いて周囲を壁面によって取囲まれた処理室δと、試料
ホルダ２４の棒状部分内部において長手方向に延び、且
つ上記処理室δに連通ずるガス通路２８とを有して成る
。処理室すの内部には加熱部材１５が配設されると共に
、この加熱部材の中心部には試料１７が配置されるよう
になっている。試料１７は処理室２５の周囲壁の一部に
開閉可能の出入口を設けておき、当該出入口から出し入
れする様になっている。ガス通路２８の基端部分はガス
源に接続されており、反応ガスを供給することにより試
料１７をガス反応させる。このガス反応は試料１７と試
料室２０内の観察位置に設置した状Ｑ、Ｑ テ行イ得か
ら、試料１７におけるガス反Ｒ５（Ｄ経過を連続的に観
察することができる。
しかしながら、このような従来の試料処理装置のうち、
上記第１の従来例に係る装置は、試料１７の鏡筒１内へ
の出し入れやエアロツク弁の操作等に時間を要し、希望
する反応状態と観察するのが困難であった。また、試料
の同じ位置での反応状態を段階的に分けて観察しようと
する場合、成る段階における反応前の試料位置と反応後
の試料位置とを対応させることが困難であった。更に、
試料交換のメカニズムが複雑になり、故障の原因となり
易かった。
上記第１の従来例に係る装置は、試料１７の鏡筒１内へ
の出し入れやエアロツク弁の操作等に時間を要し、希望
する反応状態と観察するのが困難であった。また、試料
の同じ位置での反応状態を段階的に分けて観察しようと
する場合、成る段階における反応前の試料位置と反応後
の試料位置とを対応させることが困難であった。更に、
試料交換のメカニズムが複雑になり、故障の原因となり
易かった。
また、上記第２の従来例に係る装置は、処理室２５内に
充満した反応ガスが通孔２６ 、２７と通って試料室九
に漏出し、この漏出したガス分子による電子線の散乱の
ため、像の質が低下するという問題があった。また、上
記反応ガスの漏出に伴う真空度の低下により、電子銃が
高圧放電を起す恐れがあった。更に、ガス反応後におい
て、試料１Ｔを検鏡する際にも鏡筒１の真空内壁に付着
したガス分子のため、試料室回内を短時間で高真空に戻
すことができないという問題があった。
充満した反応ガスが通孔２６ 、２７と通って試料室九
に漏出し、この漏出したガス分子による電子線の散乱の
ため、像の質が低下するという問題があった。また、上
記反応ガスの漏出に伴う真空度の低下により、電子銃が
高圧放電を起す恐れがあった。更に、ガス反応後におい
て、試料１Ｔを検鏡する際にも鏡筒１の真空内壁に付着
したガス分子のため、試料室回内を短時間で高真空に戻
すことができないという問題があった。
本発明は、このような従来の問題点に着目してなされた
もので、その目的は、操作が簡単でガス漏れ等がなく、
良質のガス反応像と得ることのできる試料処理装置と提
供することである。
もので、その目的は、操作が簡単でガス漏れ等がなく、
良質のガス反応像と得ることのできる試料処理装置と提
供することである。
本発明は、上記目的を達成するために、試料処理用の処
理室を試料室内で移動させ、試料をこの処理室内に気密
状態に封じ込んでガス反応等の試料処理操作を行わせる
ことと特徴とするものである。より具体的には、本発明
は、電子線装置に用いられる試料処理装置を、試料処理
材が導入及び排気される処理室と、この処理室内への試
料の出し入れを行な−、且つ試料ホルダに嵌合及び離脱
が可能な開口とを有する処理部材を電子線軸に対して横
方向から移動可能に設け、開口から処理室内に試料を挿
入すると共に、試料が収納されたところで当該開口に試
料ホルダを嵌合させることにより、試料を処理室内に密
封し、この密封状態の下で試料処理と行うようにし７た
ことと要旨とするものである。試料処理操作にはガス反
応、真空蒸着、イオン照射等の種々の操作が含まれる。
理室を試料室内で移動させ、試料をこの処理室内に気密
状態に封じ込んでガス反応等の試料処理操作を行わせる
ことと特徴とするものである。より具体的には、本発明
は、電子線装置に用いられる試料処理装置を、試料処理
材が導入及び排気される処理室と、この処理室内への試
料の出し入れを行な−、且つ試料ホルダに嵌合及び離脱
が可能な開口とを有する処理部材を電子線軸に対して横
方向から移動可能に設け、開口から処理室内に試料を挿
入すると共に、試料が収納されたところで当該開口に試
料ホルダを嵌合させることにより、試料を処理室内に密
封し、この密封状態の下で試料処理と行うようにし７た
ことと要旨とするものである。試料処理操作にはガス反
応、真空蒸着、イオン照射等の種々の操作が含まれる。
１だ、試料処理材には上記各種処理操作に対応１−で反
応ガス、イオン等が使用される。
応ガス、イオン等が使用される。
処理室と試料との結合は、既に電子線装置の観察位置に
試料設置を行なった試料及び試料」ζルダに対して、処
理部材を移動させることによって遂行してもよいし、或
はこの逆の操作によって行なってもよい。また、試料と
処理部材との間の移動方向は、光軸に対して互いに相対
向する方向であってもよいし、或は光軸に対して互いに
交差する方向であってもよい。処理部材の開口付近には
、開閉都拐を設ｉｉ’ｆｆ シ、鏡筒と処理室とと遮断
することが好オしい。
試料設置を行なった試料及び試料」ζルダに対して、処
理部材を移動させることによって遂行してもよいし、或
はこの逆の操作によって行なってもよい。また、試料と
処理部材との間の移動方向は、光軸に対して互いに相対
向する方向であってもよいし、或は光軸に対して互いに
交差する方向であってもよい。処理部材の開口付近には
、開閉都拐を設ｉｉ’ｆｆ シ、鏡筒と処理室とと遮断
することが好オしい。
以下、本発明の実施例と添付の図面ｆ！：参照して詳細
に説明する。
に説明する。
第３図及び第４図は本発明の第１の実施例？示す図であ
る。この実施例に係る試料処理装置は、観察位置に設置
された試料１７及び試料ホルダ１４に対して処理部材が
対向する側から移動し、試料１７を密封して処理操作を
するタイプの装置、である。
る。この実施例に係る試料処理装置は、観察位置に設置
された試料１７及び試料ホルダ１４に対して処理部材が
対向する側から移動し、試料１７を密封して処理操作を
するタイプの装置、である。
この試料処理操作凹は、鏡筒１の外側に延設され内側に
腔３９、外周に雄ねじ部３２を設けた管状のスリーブ３
１内に、処理室３４と先端部に開口３５とを有する処理
部材おを摺動可能に配置して成る。処理部材３３は、バ
ルブ３７により制御され、且つ処理室詞内に試料処理材
（以下、「反応ガス」で代表させる）と導入するガス通
路３６と、試料処理操作後、処理室３４内に残留した反
応ガスを排出する排気通路３８とと備え、処理室３４内
に反応ガスを導入及び排気する様になっている。
腔３９、外周に雄ねじ部３２を設けた管状のスリーブ３
１内に、処理室３４と先端部に開口３５とを有する処理
部材おを摺動可能に配置して成る。処理部材３３は、バ
ルブ３７により制御され、且つ処理室詞内に試料処理材
（以下、「反応ガス」で代表させる）と導入するガス通
路３６と、試料処理操作後、処理室３４内に残留した反
応ガスを排出する排気通路３８とと備え、処理室３４内
に反応ガスを導入及び排気する様になっている。
また、処理部材３３は、スリーブ３１に沿って、光軸Ｏ
に対して横方向（第３図では直交する方向）に移動可能
に設けられる。この処理部材あの進退移動は、雄ねじ部
３２に螺合される雌ねじ部４１と有し、処理部材３３に
回転可能に取付けられた作動部材４０によって行なわれ
る。更に、処理部材３３の先端に設けられた開口３５は
試料ホルダ１４先端部分の試料保持部を完全に包囲し得
る一方、試料ホルダ１４の棒体部１４ａに嵌合し得る径
寸法を有している。
に対して横方向（第３図では直交する方向）に移動可能
に設けられる。この処理部材あの進退移動は、雄ねじ部
３２に螺合される雌ねじ部４１と有し、処理部材３３に
回転可能に取付けられた作動部材４０によって行なわれ
る。更に、処理部材３３の先端に設けられた開口３５は
試料ホルダ１４先端部分の試料保持部を完全に包囲し得
る一方、試料ホルダ１４の棒体部１４ａに嵌合し得る径
寸法を有している。
他方、処理部材あの処理室３４内には、ロッド４２及び
当該ロッド４２に連結された支持部材４３を介して鏡筒
１に固定取付けされた弁体刷が配置されている。弁体４
４は、開口３５内周に設けられたシール部材４５の介在
の下に処理部材３３の開口３５に嵌合し得る径寸法を持
つ一方、ロッド４２はシール部材４６の介在の下に処理
部材あの基端部に開設した貫通孔４７に密に挿通されて
いる。そして、ロッド４２、支持部材４３及び弁体４４
は、処理部材あが前進した際に開口３５を開け、処理部
材３３が後退した際に開口３５を密閉する開閉部材と構
成している。
当該ロッド４２に連結された支持部材４３を介して鏡筒
１に固定取付けされた弁体刷が配置されている。弁体４
４は、開口３５内周に設けられたシール部材４５の介在
の下に処理部材３３の開口３５に嵌合し得る径寸法を持
つ一方、ロッド４２はシール部材４６の介在の下に処理
部材あの基端部に開設した貫通孔４７に密に挿通されて
いる。そして、ロッド４２、支持部材４３及び弁体４４
は、処理部材あが前進した際に開口３５を開け、処理部
材３３が後退した際に開口３５を密閉する開閉部材と構
成している。
なお、スリーブ３１の腔３９内周にはシール６１り材４
８が取付けられ、スリーブ３１と処理部材３３との間を
密封状態に保っている。また、試料ホルダ１４の棒体部
１４ａには長手方向に延びる長孔４９が穿設してあり、
これは加熱部材１５に電力を供給するリード線乃配線用
に使われる。
８が取付けられ、スリーブ３１と処理部材３３との間を
密封状態に保っている。また、試料ホルダ１４の棒体部
１４ａには長手方向に延びる長孔４９が穿設してあり、
これは加熱部材１５に電力を供給するリード線乃配線用
に使われる。
かかる構成を有する試料処理装置（資）において、試料
処理を行なうには、先ず処理部材３３ｆｔ第３図に示す
後退位置に設置し、試料１７を載置した試料筒１６ト試
料ホルダ１４の所定の部位に装填した上、試料ホルダ１
４を試料室２０内に挿入し、試料１７を観察位置にセッ
トする。次に作動部材４０を回転させ、当該作動部材４
０とスリーブ３１との間のねじ送り作動によって処理部
材３３を前進させる。このねじ送り作動によって、処理
部材あの開口３５は、試料ホルダ１４の試料保持部を包
囲して進み、更に前進してシール部材４５の介在の下に
試料ホルダ１４の棒体部１４ａに密に嵌合し、第４図に
示すように試料１７を密封状態にする。
処理を行なうには、先ず処理部材３３ｆｔ第３図に示す
後退位置に設置し、試料１７を載置した試料筒１６ト試
料ホルダ１４の所定の部位に装填した上、試料ホルダ１
４を試料室２０内に挿入し、試料１７を観察位置にセッ
トする。次に作動部材４０を回転させ、当該作動部材４
０とスリーブ３１との間のねじ送り作動によって処理部
材３３を前進させる。このねじ送り作動によって、処理
部材あの開口３５は、試料ホルダ１４の試料保持部を包
囲して進み、更に前進してシール部材４５の介在の下に
試料ホルダ１４の棒体部１４ａに密に嵌合し、第４図に
示すように試料１７を密封状態にする。
次いで、バルブ３１を開いて処理室３４内に反応ガスを
導入し、試料１７とガス反応させる。成る一定時間試料
１７を反応させた後、排気通路３８を使って処理室３４
から反応ガスを排出し、高真空にした後、作動部材４１
逆方向に回転させて処理部材＆を後退させる。すると、
処理部材３３の開口３５は、棒体部１４ａから外れ、試
料保持部を扱き出して試料１１を試料室２０内にＲ出す
る上、更に後退して弁体劇に開口３５を嵌合密閉させる
。
導入し、試料１７とガス反応させる。成る一定時間試料
１７を反応させた後、排気通路３８を使って処理室３４
から反応ガスを排出し、高真空にした後、作動部材４１
逆方向に回転させて処理部材＆を後退させる。すると、
処理部材３３の開口３５は、棒体部１４ａから外れ、試
料保持部を扱き出して試料１１を試料室２０内にＲ出す
る上、更に後退して弁体劇に開口３５を嵌合密閉させる
。
こうして、試料処理装置３０を試料ホルダ１４から離脱
さぜた後電子顕微鏡を作動させて試料観察を行う。
さぜた後電子顕微鏡を作動させて試料観察を行う。
したがって、この実施例によれば、操作がＩ’／ｉ単で
しかも、短時間で試料処理力；出来るから試料１７を観
察する際に当該試料１７の変化状態を正確にとらえるこ
とができる。特にこの実施例では、試料処理操作を行う
に当り、観察位ｉ像に配置した試料１１に対して処理部
材３３を移動させて試料処理と行うようにしているから
、試料１７は処理の前後で位置変化をすることはなく、
常に同一部位と観察することができる。また、観察位置
にある試料１７と密封状態にしてから反応ガスを導入す
るという基本構成に加え、処理部材あの開口３５近傍に
開閉部材を設け、処理部材３３を試料１７に近づけた際
には開口３５分開け、ｓ’Ａ’＝夫けた際には開口３５
を密閉するようにしたため、試料処理後に、処理基調の
壁に付着した反応ガスが試料室２０内に拡散することけ
ない。
しかも、短時間で試料処理力；出来るから試料１７を観
察する際に当該試料１７の変化状態を正確にとらえるこ
とができる。特にこの実施例では、試料処理操作を行う
に当り、観察位ｉ像に配置した試料１１に対して処理部
材３３を移動させて試料処理と行うようにしているから
、試料１７は処理の前後で位置変化をすることはなく、
常に同一部位と観察することができる。また、観察位置
にある試料１７と密封状態にしてから反応ガスを導入す
るという基本構成に加え、処理部材あの開口３５近傍に
開閉部材を設け、処理部材３３を試料１７に近づけた際
には開口３５分開け、ｓ’Ａ’＝夫けた際には開口３５
を密閉するようにしたため、試料処理後に、処理基調の
壁に付着した反応ガスが試料室２０内に拡散することけ
ない。
第５図及び第６図は本発明の第２実施例を示す図であり
、試料ホルダ１４の先端に設けられた試料１７に真空蒸
着する場合、又は支持膜を持つメツシュ５１に試料を蒸
着する場合について示している。この実施例に係る試料
処理装置５０は、鏡筒１に開設した取付孔５３に筒形構
造の処理部材５２を、シール部材５４の介在の下に、光
軸０に対して直交する方向に移動可能に貫通取付けして
成る。処理部材５２は、先端部分に、当該処理部材５２
の長手方向に対して直角の方向に延び、且つ試料ボルダ
１４に対向する方向に開き、シール部材６０ｆｔ−装着
した開口６１を有する処理室５５ｆ！：有する一方、基
端部には蒸着源５６を配設した収容室５７と、処理室５
５分排気する排気通路５Ｂ及びバルブ５９とを有してい
る。
、試料ホルダ１４の先端に設けられた試料１７に真空蒸
着する場合、又は支持膜を持つメツシュ５１に試料を蒸
着する場合について示している。この実施例に係る試料
処理装置５０は、鏡筒１に開設した取付孔５３に筒形構
造の処理部材５２を、シール部材５４の介在の下に、光
軸０に対して直交する方向に移動可能に貫通取付けして
成る。処理部材５２は、先端部分に、当該処理部材５２
の長手方向に対して直角の方向に延び、且つ試料ボルダ
１４に対向する方向に開き、シール部材６０ｆｔ−装着
した開口６１を有する処理室５５ｆ！：有する一方、基
端部には蒸着源５６を配設した収容室５７と、処理室５
５分排気する排気通路５Ｂ及びバルブ５９とを有してい
る。
かかる構成を有する試料処理装置５０において、メツシ
ュ５１に試料１７を蒸着するには、先ず試料室２０内の
観察位置に処理部材５２を前進させ、この処理部材５２
に設けた処理室５５０開口６１に試料ホルダ１７の先端
部を挿入してシール嵌合せしめ、処理室５５内部を密封
状態に保って蒸着源５６に電流を供給し、蒸着作用と行
なわせる。そして、所定時間蒸着した後、試料ホルダ１
４を開口１６から引き抜き、次いで処理部材５２を後退
せしめ、再度試料ホルダ１４を試料観察位置に前進させ
て試料１７の観察を行う。第５図及び第６図においては
、試料１７面は光軸０に対して直角方向に向いているが
、これは試料処理中において、蒸着源５６からの粒子の
軌道に対してメツシュ５１０面分直角に合わせるためで
ある。試料観察時には試料ホルダ１４を９０度回転させ
、試料１７面を光軸０の方向に向ける。
ュ５１に試料１７を蒸着するには、先ず試料室２０内の
観察位置に処理部材５２を前進させ、この処理部材５２
に設けた処理室５５０開口６１に試料ホルダ１７の先端
部を挿入してシール嵌合せしめ、処理室５５内部を密封
状態に保って蒸着源５６に電流を供給し、蒸着作用と行
なわせる。そして、所定時間蒸着した後、試料ホルダ１
４を開口１６から引き抜き、次いで処理部材５２を後退
せしめ、再度試料ホルダ１４を試料観察位置に前進させ
て試料１７の観察を行う。第５図及び第６図においては
、試料１７面は光軸０に対して直角方向に向いているが
、これは試料処理中において、蒸着源５６からの粒子の
軌道に対してメツシュ５１０面分直角に合わせるためで
ある。試料観察時には試料ホルダ１４を９０度回転させ
、試料１７面を光軸０の方向に向ける。
したがって、この実施例においても、処理部材５２に設
ゆた処理室５５内を密封状態に保って試料処理を行い得
るから、試料処理操作が手軽に行なえる上、試料観察を
迅速に行うことができるＯ なお、収容室内にはその他の部材、例えば蒸発源、イオ
ン源とのった試料処理に必要な各種部材を組込むことも
できる。なお、上記第１の実施例に対しても同様なＭ置
？施すことができる。
ゆた処理室５５内を密封状態に保って試料処理を行い得
るから、試料処理操作が手軽に行なえる上、試料観察を
迅速に行うことができるＯ なお、収容室内にはその他の部材、例えば蒸発源、イオ
ン源とのった試料処理に必要な各種部材を組込むことも
できる。なお、上記第１の実施例に対しても同様なＭ置
？施すことができる。
以上説明したように、本発明によれば、電子線装置の試
料室内で処理室を移動させ、処理室内を気密状態に保っ
て試料処理と行うようにしたため、試料処理が手軽に行
なえ、しかも試料処理材が試料室内に拡散する恐れはな
くなった。
料室内で処理室を移動させ、処理室内を気密状態に保っ
て試料処理と行うようにしたため、試料処理が手軽に行
なえ、しかも試料処理材が試料室内に拡散する恐れはな
くなった。
そのうちでも、試料？固定し、これに対して処理室を移
動させる方式？採用すれば、試料’を一旦所定位置に設
置した後は何回試料処理２行なっても試料の位置が変る
ことはなく、同一試料部位の変化を経時的に捉えること
ができるという効果も得られる。
動させる方式？採用すれば、試料’を一旦所定位置に設
置した後は何回試料処理２行なっても試料の位置が変る
ことはなく、同一試料部位の変化を経時的に捉えること
ができるという効果も得られる。
第１図は試料処理装置の第１の従来例を示す図、第２図
は試料処理装置の第２の従来例を示す図、第３図は本発
明の第１の実施例に係る試料処理装置の構造及び作動開
始前の状態を示す図、第４図は上記第１の実施例の作動
状、翰全示す図、第５図は本発明の第２の実施例に係る
試料処理装置の構造及び作動状態と示す図、第６図は第
２の実施例の作動状態と示す第５図中■−■線における
断面図である。 １−・・鏡筒 ２・・・対物レンズ ５．２５，３４，５５・・・（試料）処理室８．３８．
５８・・・排気通路 ９，３６・・・ガス通路１４ 、
２４・・・試料ホルダ １６・・・試料筒１７・・・試
料 ２０・・・試料室 ３０ 、５０・・・試料処理装置 ３３ 、５２・・・
処理部材３５ 、６１・・・開口 特許出願人 株式会社 国際精工 式 理 人 弁理士 土 橋 皓 １ 図 第５図 第Ｃ口 （８
は試料処理装置の第２の従来例を示す図、第３図は本発
明の第１の実施例に係る試料処理装置の構造及び作動開
始前の状態を示す図、第４図は上記第１の実施例の作動
状、翰全示す図、第５図は本発明の第２の実施例に係る
試料処理装置の構造及び作動状態と示す図、第６図は第
２の実施例の作動状態と示す第５図中■−■線における
断面図である。 １−・・鏡筒 ２・・・対物レンズ ５．２５，３４，５５・・・（試料）処理室８．３８．
５８・・・排気通路 ９，３６・・・ガス通路１４ 、
２４・・・試料ホルダ １６・・・試料筒１７・・・試
料 ２０・・・試料室 ３０ 、５０・・・試料処理装置 ３３ 、５２・・・
処理部材３５ 、６１・・・開口 特許出願人 株式会社 国際精工 式 理 人 弁理士 土 橋 皓 １ 図 第５図 第Ｃ口 （８
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ）試料室に、試料を試料ホルダによって挿入配置し、
当該試料？観察する電子線装置において、試料処理材が
導入され、且つ真空に排気される処理室と、この処理室
内への試料の出し入れを行い、且つ試料ホルダに嵌合及
び離脱が可能な開口とを有する処理部材を、電子線軸に
対して横方向から移動可能に設けて成り、当該開口を試
料ホルダに嵌合させて試料を処理室内に密封し、この密
封状態の下で試料処理を行うようにしたことと特徴とす
る電子線装置の試料処理装置。 ２）処理部材は試料ホルダの長手方向対向側から試料に
向けて移動することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の電子線装置の試料処理装置。 ３）処理室は試料ホルダの長手方向に対して直角の方向
に開口しており、試料がこの開口から出し入れされるこ
とを特徴とする特許請求０範囲第１項記載の電子線装置
の試料処理装置。 ４）処理部材の開口は、当該処理部材が試料に近接した
時に開き、試料から途去かった時に閉鎖することを特徴
とする特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記
載の電子線装置の試料処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11415583A JPS607047A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 電子線装置の試料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11415583A JPS607047A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 電子線装置の試料処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS607047A true JPS607047A (ja) | 1985-01-14 |
| JPS647458B2 JPS647458B2 (ja) | 1989-02-08 |
Family
ID=14630522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11415583A Granted JPS607047A (ja) | 1983-06-27 | 1983-06-27 | 電子線装置の試料処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS607047A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012147632A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡用試料保持装置及び電子顕微鏡装置 |
| EP2541583A1 (en) * | 2010-02-24 | 2013-01-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron microscope and sample holder |
| US10777380B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-09-15 | Protochips, Inc. | MEMs frame heating platform for electron imagable fluid reservoirs or larger conductive samples |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111668202A (zh) | 2019-03-08 | 2020-09-15 | 日亚化学工业株式会社 | 光源装置 |
-
1983
- 1983-06-27 JP JP11415583A patent/JPS607047A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2541583A1 (en) * | 2010-02-24 | 2013-01-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Electron microscope and sample holder |
| EP2541583A4 (en) * | 2010-02-24 | 2014-09-03 | Hitachi High Tech Corp | ELECTRON MICROSCOPE AND SAMPLE HOLDER |
| WO2012147632A1 (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡用試料保持装置及び電子顕微鏡装置 |
| JP5699207B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡用試料保持装置及び電子顕微鏡装置 |
| US10777380B2 (en) | 2015-08-31 | 2020-09-15 | Protochips, Inc. | MEMs frame heating platform for electron imagable fluid reservoirs or larger conductive samples |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS647458B2 (ja) | 1989-02-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2495748B1 (en) | Charged particle radiation apparatus, and method for displaying three-dimensional information in charged particle radiation apparatus | |
| JP5422416B2 (ja) | 試料搬送装置 | |
| US6410925B1 (en) | Single tilt rotation cryotransfer holder for electron microscopes | |
| DE102008045336B4 (de) | System zur Bearbeitung einer Probe mit einem Laserstrahl und einem Elektronenstrahl oder einem Ionenstrahl | |
| US9741527B2 (en) | Specimen holder for a charged particle microscope | |
| JP5745757B2 (ja) | 二重装着光学系を備えた荷電粒子光学系 | |
| JP6711655B2 (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
| KR101399831B1 (ko) | 하전 입자선용 시료 장치 | |
| JP2013080642A (ja) | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 | |
| US7923702B2 (en) | System and method for processing an object | |
| US9875878B2 (en) | Sample holder and analytical vacuum device | |
| JPS607047A (ja) | 電子線装置の試料処理装置 | |
| US5036205A (en) | Apparatus for the transfer and in-situ reactions under a controlled atmosphere, of specimens for transmissive electron microscopy | |
| US20230073506A1 (en) | Workstation, preparation station and method for manipulating an electron microscopy grid assembly | |
| KR20160094283A (ko) | 시료 반송 기구 및 진공 장치 | |
| US3505521A (en) | Electron emission microscope object manipulator | |
| US20230132874A1 (en) | Methods and systems for sample transfer | |
| JPS59191251A (ja) | 雰囲気試料運搬室 | |
| JP2017050181A (ja) | 搬送装置、処理装置、真空装置および荷電粒子ビーム装置 | |
| JP5530917B2 (ja) | 試料ホルダの排気方法及び装置 | |
| KR102465469B1 (ko) | 이온 밀링 전처리 시스템의 스테이지 가스관 접속 구조 | |
| US12000789B2 (en) | Method and system for positioning and transferring a sample | |
| US20230296639A1 (en) | Cryogenic sample handling and storage system | |
| US20230298849A1 (en) | System and method for handling samples for study in a charged particle apparatus, such as a transmission electron microscope | |
| JPH06349436A (ja) | 電子顕微鏡等の試料交換装置 |