JPS6068767A - 読み取り装置 - Google Patents
読み取り装置Info
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- JPS6068767A JPS6068767A JP59155263A JP15526384A JPS6068767A JP S6068767 A JPS6068767 A JP S6068767A JP 59155263 A JP59155263 A JP 59155263A JP 15526384 A JP15526384 A JP 15526384A JP S6068767 A JPS6068767 A JP S6068767A
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- capacitor
- voltage
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はファクシミリ送信機′や文字読取り装置に用い
る受光素子で、特に原稿に密着してこれを読取るものに
応用されるものである0 〔発明の背景〕 第1図は本発明が適応される密着読取り方式のラインセ
ンサ8を用いた場合で、像を縮小するための光路5が下
要となるため、装置全体が小形となり、また調整も不要
である。さらには光源4から受光素子8までの距離が近
いため、光の利用効率が高く、光源として、信頼性、寿
命のはるかに高いLE])(発光ダイオード)アレイを
用いることが出来、装置のメインテナンスを容易にする
ことが出来る。このようなタイプの従来の密着読取ライ
ンセンサの構成を第2図に示す0第2図(a)は光ファ
イバー9をとおして像を読取るタイプのもので断面図,
同図(b)は平面図である0これにより高解像度の撮像
が可能となり、また図中に示す位置から光源4を用いて
原稿を効率良く照らすことが出来る。なお、図において
、1は原稿、8は基板,10は受光素子、11は受光素
子を駆動するためのIC,13は回転ローラである。第
2図(C)、(d)は光7アイパーを用いずにホトダイ
オード1oを直接原稿1に密着させて読取るものである
。各各断面図および平面図である。この場合、光源4か
らの光を原稿にあてる必要があるため、七ンサの表面に
は、例えばホトダイオード1oの間に14のような光透
過用の窓を設ける。なお、図においてl5は基板、11
は受光素子を駆動するだめのIC%l3は回転ローラで
ある。これらのセンサの走査回路構成を第3図に示す。
る受光素子で、特に原稿に密着してこれを読取るものに
応用されるものである0 〔発明の背景〕 第1図は本発明が適応される密着読取り方式のラインセ
ンサ8を用いた場合で、像を縮小するための光路5が下
要となるため、装置全体が小形となり、また調整も不要
である。さらには光源4から受光素子8までの距離が近
いため、光の利用効率が高く、光源として、信頼性、寿
命のはるかに高いLE])(発光ダイオード)アレイを
用いることが出来、装置のメインテナンスを容易にする
ことが出来る。このようなタイプの従来の密着読取ライ
ンセンサの構成を第2図に示す0第2図(a)は光ファ
イバー9をとおして像を読取るタイプのもので断面図,
同図(b)は平面図である0これにより高解像度の撮像
が可能となり、また図中に示す位置から光源4を用いて
原稿を効率良く照らすことが出来る。なお、図において
、1は原稿、8は基板,10は受光素子、11は受光素
子を駆動するためのIC,13は回転ローラである。第
2図(C)、(d)は光7アイパーを用いずにホトダイ
オード1oを直接原稿1に密着させて読取るものである
。各各断面図および平面図である。この場合、光源4か
らの光を原稿にあてる必要があるため、七ンサの表面に
は、例えばホトダイオード1oの間に14のような光透
過用の窓を設ける。なお、図においてl5は基板、11
は受光素子を駆動するだめのIC%l3は回転ローラで
ある。これらのセンサの走査回路構成を第3図に示す。
ここで11は走査用のICであシ、その中の16は各ホ
トダイオードを選択するためのMOS形トランジスタ、
l7はこれらのゲートを順次駆動するためのシフトレジ
スタである。また10は前記ホトダイオードを等価回路
で現わしたもので、18は入射光量によって変化する光
電流源、19は等価容量である。また20はホトダイオ
ードに印加するバイアス電圧である。光電変換および信
号読取りの動作は以下のようなものである。読取シ直後
点22の電位は選択用の1・ランジスタl6全通して接
地される。これにより容量l9はバイアス電圧電源20
によりバイアス電圧vTに充電される。この後、1・ラ
ンジスタ16が開いて(0?’Fとなって)端子22が
開放される。この状態で光電流源18によシ容量」9が
放電されて行く。これにより光生成キャリアが容i!:
l9に蓄積されて行く。蓄積された信号はシフトレジス
タl7により駆動されるMOS形トランジスタを逐次閉
じる(ONする)ことにより、共通線工2から読出され
る。このような走査方式は各画素1oに対応してトラン
ジスタl(5およびこれを駆動する回路17を必要とす
る。例えば画素数が1760個の密着読取シセンサを構
成する場合、1個の走査用ICが80個の画素の走査を
受持つとして、22個ものICを必要とし,、これによ
ってセンサの価格が非常に高くなる。また、各走査用I
Cのピン数は画素に接続されるビン80本とクロックパ
ルス、電源などを供給するピン数約io本の計90本で
あり、1個の密着読取9センサに22個のICi実装す
るために、実に90X22=1980ケ所もの接続を行
なわなければならない。通常のパッケージにICを実装
する場合、接続ケ所がせいぜい20ケ所であることを考
えても、上記センサへのIC実装プロセスは非常に高度
な技術を要する。
トダイオードを選択するためのMOS形トランジスタ、
l7はこれらのゲートを順次駆動するためのシフトレジ
スタである。また10は前記ホトダイオードを等価回路
で現わしたもので、18は入射光量によって変化する光
電流源、19は等価容量である。また20はホトダイオ
ードに印加するバイアス電圧である。光電変換および信
号読取りの動作は以下のようなものである。読取シ直後
点22の電位は選択用の1・ランジスタl6全通して接
地される。これにより容量l9はバイアス電圧電源20
によりバイアス電圧vTに充電される。この後、1・ラ
ンジスタ16が開いて(0?’Fとなって)端子22が
開放される。この状態で光電流源18によシ容量」9が
放電されて行く。これにより光生成キャリアが容i!:
l9に蓄積されて行く。蓄積された信号はシフトレジス
タl7により駆動されるMOS形トランジスタを逐次閉
じる(ONする)ことにより、共通線工2から読出され
る。このような走査方式は各画素1oに対応してトラン
ジスタl(5およびこれを駆動する回路17を必要とす
る。例えば画素数が1760個の密着読取シセンサを構
成する場合、1個の走査用ICが80個の画素の走査を
受持つとして、22個ものICを必要とし,、これによ
ってセンサの価格が非常に高くなる。また、各走査用I
Cのピン数は画素に接続されるビン80本とクロックパ
ルス、電源などを供給するピン数約io本の計90本で
あり、1個の密着読取9センサに22個のICi実装す
るために、実に90X22=1980ケ所もの接続を行
なわなければならない。通常のパッケージにICを実装
する場合、接続ケ所がせいぜい20ケ所であることを考
えても、上記センサへのIC実装プロセスは非常に高度
な技術を要する。
上述の一次元センサに関する文献として、特開昭5′3
−140048号公報が存在するが、該公報は走査回路
の問題にまで言及していない。
−140048号公報が存在するが、該公報は走査回路
の問題にまで言及していない。
本発明は上記欠点を除去したセ/サを提供することを目
的とする。
的とする。
本発明は、全画素を連続した複数の群に分け、群ごとを
まとめて走査するため、走査回路を大幅に簡略化するこ
とが出来る。これにより、走査用ICを2個に、また接
続部分は前記センサの場合、lOOケ所以下までに低減
出来、価格面でも量産性においても非常に優れたセンサ
を作ることが出来る。
まとめて走査するため、走査回路を大幅に簡略化するこ
とが出来る。これにより、走査用ICを2個に、また接
続部分は前記センサの場合、lOOケ所以下までに低減
出来、価格面でも量産性においても非常に優れたセンサ
を作ることが出来る。
以下、本発明を実施例全用いて詳述する。
第4,!ilfiは本発明によるセンサの構成を示した
ものでをラる。第4図(a)、第5図(alは平面の説
明図、第41!”l(1))s第5図(b)は断面図で
ちる。第4図で8はガジス基板9は光学像を伝えるため
の光ファ・1バー束、10は光電変換を行なうホトダイ
オード・アレイ、25は信号の流れを限定して、画素間
の相互干渉(クロス・トーク)を防ぐためのダイオード
・アレイである。ダイオード・アレイの一端はそれぞれ
に対応するホトダイオードに、また他端Qハ第4図の2
6で示したように複数個のものをまとめて接続し、配線
27により走査用IC23にまで接続する。またホトダ
イオート・アレイ10のダイオード・アレイ25とU接
続されていない側は、各群(26のよう(C分けられた
単位)中の相対的に同位置にあるもの同士を接続し、配
線28によシ走査用IC24にまでもって行く。以下、
26の各群を列、またその中の相対的に同位置にあp1
したがって共通の28配線で接続されたものを行とし、
23を列駆動用IC,24を行駆動用ICとよぶ。本セ
ンサはこの行列の逐次走査によシ読出しを行なうマトリ
クス(行列)駆動方式のセンサである。第4図は、ダイ
オード・アレイを従来の8iIC作製プロセスによ,9
IC化し、これをセ/サに実装したものである。
ものでをラる。第4図(a)、第5図(alは平面の説
明図、第41!”l(1))s第5図(b)は断面図で
ちる。第4図で8はガジス基板9は光学像を伝えるため
の光ファ・1バー束、10は光電変換を行なうホトダイ
オード・アレイ、25は信号の流れを限定して、画素間
の相互干渉(クロス・トーク)を防ぐためのダイオード
・アレイである。ダイオード・アレイの一端はそれぞれ
に対応するホトダイオードに、また他端Qハ第4図の2
6で示したように複数個のものをまとめて接続し、配線
27により走査用IC23にまで接続する。またホトダ
イオート・アレイ10のダイオード・アレイ25とU接
続されていない側は、各群(26のよう(C分けられた
単位)中の相対的に同位置にあるもの同士を接続し、配
線28によシ走査用IC24にまでもって行く。以下、
26の各群を列、またその中の相対的に同位置にあp1
したがって共通の28配線で接続されたものを行とし、
23を列駆動用IC,24を行駆動用ICとよぶ。本セ
ンサはこの行列の逐次走査によシ読出しを行なうマトリ
クス(行列)駆動方式のセンサである。第4図は、ダイ
オード・アレイを従来の8iIC作製プロセスによ,9
IC化し、これをセ/サに実装したものである。
これに対して第5図はホトダイオードエ0を作製するプ
ロセスとほぼ同一のプロセスによりダイオード・アレイ
29を作製したもので、第4図のものに比較して工程は
簡略化される。この中で30は、上記ダイオードの共通
電極または共通の導電形をもつ部分であり、前者の場合
、30と29により金属一半導体接合を形成、もしくは
29の中にPNもし(ijp−i−nの接合を形成して
整流性を持たせ、後者の場合、30と29との間にpn
もしくはpinの接合を持たせて整流性を得る。
ロセスとほぼ同一のプロセスによりダイオード・アレイ
29を作製したもので、第4図のものに比較して工程は
簡略化される。この中で30は、上記ダイオードの共通
電極または共通の導電形をもつ部分であり、前者の場合
、30と29により金属一半導体接合を形成、もしくは
29の中にPNもし(ijp−i−nの接合を形成して
整流性を持たせ、後者の場合、30と29との間にpn
もしくはpinの接合を持たせて整流性を得る。
第6図は第4、5図で示した密着読取りライン七ンサの
全回路図である。IOはホトダイオードで、その中の1
8は光電流源、19は等価容量を示したものである。2
3は行走査用ICで、31はMOS形1・ランジスタ2
個にょる2接点スイッチで、選択時は分離用ダイオード
25′を順方向にバイアスしホトダイオードlOに印加
スルハイ“アス電圧電流20に、非選択時は接地するよ
うにする。図ではスイッチ31′にょク行27′が選択
されている状態を示している。甘た17はこれらのスイ
ッチを順次駆動するための駆動回路である。例えば2相
ダイナミック・シフトレジスタを用いることができる。
全回路図である。IOはホトダイオードで、その中の1
8は光電流源、19は等価容量を示したものである。2
3は行走査用ICで、31はMOS形1・ランジスタ2
個にょる2接点スイッチで、選択時は分離用ダイオード
25′を順方向にバイアスしホトダイオードlOに印加
スルハイ“アス電圧電流20に、非選択時は接地するよ
うにする。図ではスイッチ31′にょク行27′が選択
されている状態を示している。甘た17はこれらのスイ
ッチを順次駆動するための駆動回路である。例えば2相
ダイナミック・シフトレジスタを用いることができる。
24は列走査用ICであシ、32はMOS形トラ/ジス
タ2個を用いた2接点スイツテr一であり、選択時は出
力線l2に、非選択時は分離ダイオード逆バイアス用電
源33に各列配線28を接続する働らきを持つ。図では
28′が選択されている状態を示す。図中太線で示した
経路でi+b7素10’の信号がW力a12に読出され
る。ここで列配線28は2層配線となっている。
タ2個を用いた2接点スイツテr一であり、選択時は出
力線l2に、非選択時は分離ダイオード逆バイアス用電
源33に各列配線28を接続する働らきを持つ。図では
28′が選択されている状態を示す。図中太線で示した
経路でi+b7素10’の信号がW力a12に読出され
る。ここで列配線28は2層配線となっている。
線と線が交差する28″などでは、2線間に容量が形成
される。これをまとめてあらわしたのが、第6図中の寄
生容量5lである。後ほど詳細に説明を行なうが、これ
らの寄生容量のため、出力線l2には信号出力以上に大
きな直流出力が現われ、この後の増幅、積分などの信号
処理を困難にする。
される。これをまとめてあらわしたのが、第6図中の寄
生容量5lである。後ほど詳細に説明を行なうが、これ
らの寄生容量のため、出力線l2には信号出力以上に大
きな直流出力が現われ、この後の増幅、積分などの信号
処理を困難にする。
そこでこの直流出力を打消すために、寄生容量5lと等
しい容量51′、バイアス電圧33と絶対値が同じで、
符号が逆の電圧源33′、信号読取り直前に出力線に電
圧源33′を接続するだめのスイッチ36′および、列
配線28′に接続されている他画素の寄生容量と等しい
容景51”’を図のように接続する。出力回路としては
、34で示した電圧読出しと、35で示した電流読出し
のいずれもが可能である。電圧読出し34は、ホトダイ
オード10の容量19に蓄積された信号電荷にしたがっ
て、出力線l2の電圧が上昇し、この電圧を38の高入
力インピーダンス増幅器で受けて出力端子39に出力す
るものである。読取後は、走査用スイッチはそのままの
状態でスイッチ36で画素10’をクリアする。つまり
、ここにバイアス電圧20を充電して初期状態に復帰さ
せる。A4版(読取幅21cm)で分解能が8本/nm
のセンサの場合、画素10′に蓄積される信号電荷は飽
和時の最大値でも約1.7pCである。一方、負荷とな
る容量51.51’,51”は約100pFと大きく、
先の信号電荷が、これらの容量に移ったとして、出力線
12に現われる電圧は17mVである。電流読出し回路
35fd1電流積分器42、積分コンデンサ41、コ/
デ/サ用リミットスイッチ43は、サンプリング用スイ
ッチ52、信号ホールド用コ?デンザ46および高入力
インピーダンス増幅器47から構成されている。画素J
O′に蓄積された信号電荷Q8U、すべて電流の形で本
回路に流れ込み、稍分コンデンサCPに蓄積される。積
分器42の出力にはC,に充電された信号電荷Q8によ
り、Qs/CFの電圧が現われる。C,を1pFとする
と、先ほどと同じ飽和時におい゜C1.7Vの信号が得
られる。この後に続くサンプル・ホールド回路は信号の
処理を容易とするため、積分が完了した時点で、先の−
Q8/C,の電圧をサンプリングし、次のザンプリング
時まで、これを保持する機能を有する。
しい容量51′、バイアス電圧33と絶対値が同じで、
符号が逆の電圧源33′、信号読取り直前に出力線に電
圧源33′を接続するだめのスイッチ36′および、列
配線28′に接続されている他画素の寄生容量と等しい
容景51”’を図のように接続する。出力回路としては
、34で示した電圧読出しと、35で示した電流読出し
のいずれもが可能である。電圧読出し34は、ホトダイ
オード10の容量19に蓄積された信号電荷にしたがっ
て、出力線l2の電圧が上昇し、この電圧を38の高入
力インピーダンス増幅器で受けて出力端子39に出力す
るものである。読取後は、走査用スイッチはそのままの
状態でスイッチ36で画素10’をクリアする。つまり
、ここにバイアス電圧20を充電して初期状態に復帰さ
せる。A4版(読取幅21cm)で分解能が8本/nm
のセンサの場合、画素10′に蓄積される信号電荷は飽
和時の最大値でも約1.7pCである。一方、負荷とな
る容量51.51’,51”は約100pFと大きく、
先の信号電荷が、これらの容量に移ったとして、出力線
12に現われる電圧は17mVである。電流読出し回路
35fd1電流積分器42、積分コンデンサ41、コ/
デ/サ用リミットスイッチ43は、サンプリング用スイ
ッチ52、信号ホールド用コ?デンザ46および高入力
インピーダンス増幅器47から構成されている。画素J
O′に蓄積された信号電荷Q8U、すべて電流の形で本
回路に流れ込み、稍分コンデンサCPに蓄積される。積
分器42の出力にはC,に充電された信号電荷Q8によ
り、Qs/CFの電圧が現われる。C,を1pFとする
と、先ほどと同じ飽和時におい゜C1.7Vの信号が得
られる。この後に続くサンプル・ホールド回路は信号の
処理を容易とするため、積分が完了した時点で、先の−
Q8/C,の電圧をサンプリングし、次のザンプリング
時まで、これを保持する機能を有する。
次に本マトリクス読出し方式の動作原理を第7図(a)
〜(e)の等価回路と第8図のタイミングチャートを用
いて説明する。まず第7図(a)でダイオード25の一
端をバイアス電圧20に、容量19の他端をスイッチ3
6又は抵抗40を通して接地し、ダイオード25を順方
向にバイアスして導通状態とし、ホトダイオード10の
容量19にビデオ電圧20を充電する。この後、スイッ
チ32を切換えて電源33に接続し(第7図(bl),
これによりダイオード25を逆バイアスして、電流を遮
断し、ダイオードを等価的に25′で示した容量として
用いる。この状態では、容量25′と19の間の節点5
7は、電流源l8を除き、周囲から全く隔離された形と
なり、この節点の電荷を光信号に依存する光電流源18
で放電することによシ、ここに光信号電荷を蓄潰して行
く。信号蓄積中は他画素読出しのため、(C)図のよう
にスイッチ31’&切換えて点58を接地したり、(d
)図のように点58を接地したま壕スイッチ32を切換
えて点59を負荷容量5lまたは負荷抵抗40に接続し
たシする。いずれの状態でも、蓄積された信号電荷を節
点57中に保持し、他画素とのクロストークを防止する
ために、この間ダイオード25を遮断状態にする必要が
ある。この間で、ダイオードが最も導通しやすいのは、
読出し(e)の直前の(b)の状態である。この時列配
a28にはダイオードを逆方向にバイアスする電源33
が接続されているが、行配線58にはダイオードを順方
向にバイアスさせる電源20が接続されている上に、信
号電荷蓄積のため,容量l9はほほ放電されつくきれて
おシイ電圧降下がほとんどなく、ダイオード25が順方
向にバイアスされやすい。そこで、電源33の電HEV
,を十分高めてこれを防ぐ必要がある。この時、蓄積さ
れた信号電荷をQ,(クーロン)、容量l9の値をC.
、ダイオード25の容量の値をC4、ダイオードの順方
向バイアス時の電圧降下をVdとすると、ダイオードの
正方向にかかる電電■は であり、これが正とならないためには、V8>Qs/C
,+V,・・−・(2)である必要がある。光電変換膜
に非品質Siを用いた読取り幅220mm1分解能8本
/mmセンサではQsの最大値は約1.7pC,C,の
値は約0.17pl”であシ、25にSiダイオードを
用いた場合、Vd=0.5Vであるから■6はIO.5
V以上の値をとる必要がある。信号の読取りは第7図(
e)で示すように、点58をバイアス電源20に、また
点59を出力線l2に接続することにより行なう。この
時、電源33が寄生容量5lを介して出力線12に接続
されるため、12の電圧が上昇する。先ほども述べたよ
うに、この上昇分は信号成分に比較して相当大きな値と
なるため、後の信号処理が困難となる。そこで、第6図
でも説明したように容量51′と電源33′を用いてこ
の上昇分をキャンセルする0 第8図は第6図の回路を駆動するタイミング・チャート
であり、簡単にするために3行、4列のマトリクスとし
ている。Y.〜Y3は行配線27に加えるパルス電圧で
、Lレベルは接地、Hレベルはホトダイオードまたは光
導電膜に印加するバイアス電圧20を意味する。このよ
うに各行配線に接続された群に順次バイアス電圧20を
印加して行く。列配線28にはX1〜X4のパルス電圧
を印加し、Yiの一つがHレベルである間に、X1〜X
4の全列を走査してしまう。ここでLレベルではスイッ
チ32が電源33に、Hレベルでは出力線l2に切換わ
ることを示している。読出し直後はクリア・スイッチ3
6を閉じてホトダイオードをリセツl・するが、そのタ
イミングは図中CLRで示される。また1行2列目のホ
トダイオードの点57の電位V5?を図中に示す。まず
t。
〜(e)の等価回路と第8図のタイミングチャートを用
いて説明する。まず第7図(a)でダイオード25の一
端をバイアス電圧20に、容量19の他端をスイッチ3
6又は抵抗40を通して接地し、ダイオード25を順方
向にバイアスして導通状態とし、ホトダイオード10の
容量19にビデオ電圧20を充電する。この後、スイッ
チ32を切換えて電源33に接続し(第7図(bl),
これによりダイオード25を逆バイアスして、電流を遮
断し、ダイオードを等価的に25′で示した容量として
用いる。この状態では、容量25′と19の間の節点5
7は、電流源l8を除き、周囲から全く隔離された形と
なり、この節点の電荷を光信号に依存する光電流源18
で放電することによシ、ここに光信号電荷を蓄潰して行
く。信号蓄積中は他画素読出しのため、(C)図のよう
にスイッチ31’&切換えて点58を接地したり、(d
)図のように点58を接地したま壕スイッチ32を切換
えて点59を負荷容量5lまたは負荷抵抗40に接続し
たシする。いずれの状態でも、蓄積された信号電荷を節
点57中に保持し、他画素とのクロストークを防止する
ために、この間ダイオード25を遮断状態にする必要が
ある。この間で、ダイオードが最も導通しやすいのは、
読出し(e)の直前の(b)の状態である。この時列配
a28にはダイオードを逆方向にバイアスする電源33
が接続されているが、行配線58にはダイオードを順方
向にバイアスさせる電源20が接続されている上に、信
号電荷蓄積のため,容量l9はほほ放電されつくきれて
おシイ電圧降下がほとんどなく、ダイオード25が順方
向にバイアスされやすい。そこで、電源33の電HEV
,を十分高めてこれを防ぐ必要がある。この時、蓄積さ
れた信号電荷をQ,(クーロン)、容量l9の値をC.
、ダイオード25の容量の値をC4、ダイオードの順方
向バイアス時の電圧降下をVdとすると、ダイオードの
正方向にかかる電電■は であり、これが正とならないためには、V8>Qs/C
,+V,・・−・(2)である必要がある。光電変換膜
に非品質Siを用いた読取り幅220mm1分解能8本
/mmセンサではQsの最大値は約1.7pC,C,の
値は約0.17pl”であシ、25にSiダイオードを
用いた場合、Vd=0.5Vであるから■6はIO.5
V以上の値をとる必要がある。信号の読取りは第7図(
e)で示すように、点58をバイアス電源20に、また
点59を出力線l2に接続することにより行なう。この
時、電源33が寄生容量5lを介して出力線12に接続
されるため、12の電圧が上昇する。先ほども述べたよ
うに、この上昇分は信号成分に比較して相当大きな値と
なるため、後の信号処理が困難となる。そこで、第6図
でも説明したように容量51′と電源33′を用いてこ
の上昇分をキャンセルする0 第8図は第6図の回路を駆動するタイミング・チャート
であり、簡単にするために3行、4列のマトリクスとし
ている。Y.〜Y3は行配線27に加えるパルス電圧で
、Lレベルは接地、Hレベルはホトダイオードまたは光
導電膜に印加するバイアス電圧20を意味する。このよ
うに各行配線に接続された群に順次バイアス電圧20を
印加して行く。列配線28にはX1〜X4のパルス電圧
を印加し、Yiの一つがHレベルである間に、X1〜X
4の全列を走査してしまう。ここでLレベルではスイッ
チ32が電源33に、Hレベルでは出力線l2に切換わ
ることを示している。読出し直後はクリア・スイッチ3
6を閉じてホトダイオードをリセツl・するが、そのタ
イミングは図中CLRで示される。また1行2列目のホ
トダイオードの点57の電位V5?を図中に示す。まず
t。
〜t1で読取り、リセットを行い、t,〜t,の間で信
号が蓄積され、t,〜t,。で再び読出し、リセットが
行なわれる。60は光入力が無い場合、6lは光入力が
あシ、信号電荷の蓄積により電圧が徐々に低下していく
場合を示している。なお、ホトセンサの接続状態が第7
図のように刻々と変化しているので、第8図のV5?も
これにつれて変化している。しかし、さきほどのVBの
条件を満たす限り、節点57に蓄積される電荷は、光電
流以外による変化を受けない。第8図■,,は点59の
電圧を示したもので、この場合抵抗40を用いない電圧
読出し方式を使用しているO■。。,はこの時得られる
出力電圧であるO 電圧読出し方式より高い出力電圧の得られる電流読出し
方式について第9図を用いて説明する。
号が蓄積され、t,〜t,。で再び読出し、リセットが
行なわれる。60は光入力が無い場合、6lは光入力が
あシ、信号電荷の蓄積により電圧が徐々に低下していく
場合を示している。なお、ホトセンサの接続状態が第7
図のように刻々と変化しているので、第8図のV5?も
これにつれて変化している。しかし、さきほどのVBの
条件を満たす限り、節点57に蓄積される電荷は、光電
流以外による変化を受けない。第8図■,,は点59の
電圧を示したもので、この場合抵抗40を用いない電圧
読出し方式を使用しているO■。。,はこの時得られる
出力電圧であるO 電圧読出し方式より高い出力電圧の得られる電流読出し
方式について第9図を用いて説明する。
タイミング・チャート第10図において83?〜84B
はHレベルの時、スイッチが導通していることを示して
いるofずS3?を出力線側に倒すと同時に、36′の
スイッチを開放にして、出力#i!l2に図中■12の
斜線で示したホトダイオード容量19の電圧信号成分を
出力する。この場合、2層配線による寄生容量5lとダ
ミー容量5lが等しく、59に接続された他画素の容量
25’,19’の和とダミー容量51″が等しく、まだ
電源33と33′の絶対値が等しければ、端子l2には
信号成分のみが現われ、図中40で示した負荷抵抗几を
とおしての放電によりQvoltになる。これと同時に
積分器42のリセットスイッチ43を開放し,負荷抵抗
Rを通して流れる電流で容[41を充電する。ここで、
演算増幅器42には容量4lをとおして負帰還をかけて
いるため、入力端40’Vま見かけ上、十入力端と同電
位つまり接地されている。そこで電流工はみかけ上抵抗
ILを通じてアースに流れこむように見えるが、実際に
入力端40′のインピーダンスが非常に高いため、すべ
て容量4■に流れ込み,これを充電する。その時の電流
を図中Iで示す。ホトダイオード容量J9からの信月電
荷Q8はすべて、このRを通るので、図中の1の積分値
(斜線で示した部分の面積)が信号電荷Qsとなってい
る。積分用の容量41の値を02とすると、積分器42
の出力端53にあらわれる11t圧値はQs/C,であ
る。この矩;圧が安定した時点で、サンプリングパルス
S5?によりその電圧を・ホールド容量46に伝達する
。この電圧は高入力インピーダンス増幅器47で受け、
出力端にはホールドされた信号V4Bが現われる。
はHレベルの時、スイッチが導通していることを示して
いるofずS3?を出力線側に倒すと同時に、36′の
スイッチを開放にして、出力#i!l2に図中■12の
斜線で示したホトダイオード容量19の電圧信号成分を
出力する。この場合、2層配線による寄生容量5lとダ
ミー容量5lが等しく、59に接続された他画素の容量
25’,19’の和とダミー容量51″が等しく、まだ
電源33と33′の絶対値が等しければ、端子l2には
信号成分のみが現われ、図中40で示した負荷抵抗几を
とおしての放電によりQvoltになる。これと同時に
積分器42のリセットスイッチ43を開放し,負荷抵抗
Rを通して流れる電流で容[41を充電する。ここで、
演算増幅器42には容量4lをとおして負帰還をかけて
いるため、入力端40’Vま見かけ上、十入力端と同電
位つまり接地されている。そこで電流工はみかけ上抵抗
ILを通じてアースに流れこむように見えるが、実際に
入力端40′のインピーダンスが非常に高いため、すべ
て容量4■に流れ込み,これを充電する。その時の電流
を図中Iで示す。ホトダイオード容量J9からの信月電
荷Q8はすべて、このRを通るので、図中の1の積分値
(斜線で示した部分の面積)が信号電荷Qsとなってい
る。積分用の容量41の値を02とすると、積分器42
の出力端53にあらわれる11t圧値はQs/C,であ
る。この矩;圧が安定した時点で、サンプリングパルス
S5?によりその電圧を・ホールド容量46に伝達する
。この電圧は高入力インピーダンス増幅器47で受け、
出力端にはホールドされた信号V4Bが現われる。
第11図、第12図は本発明の具体的形態を示したもの
であり、各々センサの上面図の一部および断面図を示し
ている。ここで1は読取るべき原稿,8はガラス基板、
9は光ファイノ<−、10はホトダイオードの機能を有
する光電変換膜、25はダイオード・アレイ、62けホ
トダイオードの光入射側の透明ネサ電極63は行走査用
のkg配線、64は列走査用All配線、65は保護お
よび多層配線用絶縁暎、66はダイオードアレイ25を
接着して接続するためのべデスタル、68.68’け6
5と28の線を接なぐだめに絶縁@65にあける穴、6
9は64とダイオードアレイを接続するだめの穴、70
は27とダイオード・アレイを接続するだめの穴である
0上記センサの製作プロセスを以下簡単に説明する。ま
ず、ガラ,ス基板上全面に透明電極62を形成する。透
明電極としてはITO(インジュムを含む酸化スズ)ま
たはSno2を約1000人または半透明のTaをスノ
《ツターにより形成する。つづいて全面にNi−Crを
450人,Allを0.8am蒸着してITO,Agを
62,630ノくターンを残して後はエッチングによシ
取除く。この後710部分のみAjff:取除く。次に
光箪S&換膜10として非晶質Siを約273IBスバ
ツクーによシ形成する。この模形成はマスクをかけて行
ない、図中lOの部分にのみ形成する。この上からホト
ダイオードの右側の部分を除いてAgを約0.8μm蒸
着し、ホトダイオードの右側にホトレジストをかぶせて
再エッチを防ぎながら、ホトダイオード上および左側の
Atノくターン7,27,64のパターンにしたがって
ホl・エッチングを行う0次にこの上からセ/サ全面に
ポリイミ1マ系絶縁体(例えは、ポリイミドイソインド
口キナゾリンジオン)を約4μm塗布し、ダイオード2
5との接続部や、2層目配線28との接続部分に70.
69,6Bの穴をホトエッチングによりポリイミド系樹
脂にあける。最後にダイオードチツブ25との接続用ペ
デスタル66および2層配線67として、−ドからCr
をQ,Q7μm,Cuを0.5μrrl蒸着し、ホトレ
ジストをかぶせて露光現像を行ないベデスタル、2層配
線部のみを露出する。この状態でメッキによシCuを5
μm1つづいてPbを3μm%Snを5μmメッキし、
最後にホトレジストを除去して上記パターンをマスクに
さきほどの0.5z+mcu,0.07pmcrをエッ
チしてパターンを完成する。このセンザにダイオード・
アレイ25を図のように接着してセンサが完成する。
であり、各々センサの上面図の一部および断面図を示し
ている。ここで1は読取るべき原稿,8はガラス基板、
9は光ファイノ<−、10はホトダイオードの機能を有
する光電変換膜、25はダイオード・アレイ、62けホ
トダイオードの光入射側の透明ネサ電極63は行走査用
のkg配線、64は列走査用All配線、65は保護お
よび多層配線用絶縁暎、66はダイオードアレイ25を
接着して接続するためのべデスタル、68.68’け6
5と28の線を接なぐだめに絶縁@65にあける穴、6
9は64とダイオードアレイを接続するだめの穴、70
は27とダイオード・アレイを接続するだめの穴である
0上記センサの製作プロセスを以下簡単に説明する。ま
ず、ガラ,ス基板上全面に透明電極62を形成する。透
明電極としてはITO(インジュムを含む酸化スズ)ま
たはSno2を約1000人または半透明のTaをスノ
《ツターにより形成する。つづいて全面にNi−Crを
450人,Allを0.8am蒸着してITO,Agを
62,630ノくターンを残して後はエッチングによシ
取除く。この後710部分のみAjff:取除く。次に
光箪S&換膜10として非晶質Siを約273IBスバ
ツクーによシ形成する。この模形成はマスクをかけて行
ない、図中lOの部分にのみ形成する。この上からホト
ダイオードの右側の部分を除いてAgを約0.8μm蒸
着し、ホトダイオードの右側にホトレジストをかぶせて
再エッチを防ぎながら、ホトダイオード上および左側の
Atノくターン7,27,64のパターンにしたがって
ホl・エッチングを行う0次にこの上からセ/サ全面に
ポリイミ1マ系絶縁体(例えは、ポリイミドイソインド
口キナゾリンジオン)を約4μm塗布し、ダイオード2
5との接続部や、2層目配線28との接続部分に70.
69,6Bの穴をホトエッチングによりポリイミド系樹
脂にあける。最後にダイオードチツブ25との接続用ペ
デスタル66および2層配線67として、−ドからCr
をQ,Q7μm,Cuを0.5μrrl蒸着し、ホトレ
ジストをかぶせて露光現像を行ないベデスタル、2層配
線部のみを露出する。この状態でメッキによシCuを5
μm1つづいてPbを3μm%Snを5μmメッキし、
最後にホトレジストを除去して上記パターンをマスクに
さきほどの0.5z+mcu,0.07pmcrをエッ
チしてパターンを完成する。このセンザにダイオード・
アレイ25を図のように接着してセンサが完成する。
なお、断面が複雑となるため、本図では示されていオい
が、ホトダイオード10の左側にも、ダイオード分離用
雪.圧を印加するための配線用に2層配線かにどこされ
ている。
が、ホトダイオード10の左側にも、ダイオード分離用
雪.圧を印加するための配線用に2層配線かにどこされ
ている。
第13図および第14図は本センサに用いるダイオード
・プレイの構造を示した図である。各々平面図および断
面図である。72はn形半導体基板、73はp形拡散層
、74はn形拡散層であり、74,73の間の接合でダ
イオードが形成されている。72.73の間には逆バイ
アスをかけてダイオード間のキャリアの拡散による相互
干渉を防いでいる。75は厚さ1μmの絶縁分離用の熱
酸化11ijS,76は厚さ0.8trmのpsc+(
リン化ガシス)の絶縁膜、77はAN配線電極、78は
保護用のCVD法によって形成したSiO2lIa17
9はボンデイング端子のAd電極、80は基板との接続
用dんだバンブで下からCr,Cr−Cu,Cu−Sn
,Pb−Snを蒸着およびメッキによシ形成する。平面
図でsi,st’,si”・・・ホトダイオード側に接
続される端子、82は列走査線に接続される端子、83
は基板72に電圧を供給するための端子そ、ダイオード
間の分離を完全にするため、83.82間に逆方向にノ
くイアスされる。
・プレイの構造を示した図である。各々平面図および断
面図である。72はn形半導体基板、73はp形拡散層
、74はn形拡散層であり、74,73の間の接合でダ
イオードが形成されている。72.73の間には逆バイ
アスをかけてダイオード間のキャリアの拡散による相互
干渉を防いでいる。75は厚さ1μmの絶縁分離用の熱
酸化11ijS,76は厚さ0.8trmのpsc+(
リン化ガシス)の絶縁膜、77はAN配線電極、78は
保護用のCVD法によって形成したSiO2lIa17
9はボンデイング端子のAd電極、80は基板との接続
用dんだバンブで下からCr,Cr−Cu,Cu−Sn
,Pb−Snを蒸着およびメッキによシ形成する。平面
図でsi,st’,si”・・・ホトダイオード側に接
続される端子、82は列走査線に接続される端子、83
は基板72に電圧を供給するための端子そ、ダイオード
間の分離を完全にするため、83.82間に逆方向にノ
くイアスされる。
第15図は本センサに用いた走査用ICであり、行走査
、列走査とも同一ICを用いている。l7はX1〜X,
,端子に順次ノくノレスを出力する2相ダイナミックシ
フトレジスタで87端子からスタート{1が入ると2相
クロツクノくルスφ1、φ2に同期してX1〜Xnにパ
ルスを田カする。xI′″″.XI+はこれらの反転し
た出力を出す端子である。X,,X2出力から反転回路
c++、NOR回路90を用いてMOB形スイツテ92
.93のゲートに互いにオーバーラップせずに、かつ互
いに反転した信号を加え、これにより94に入力される
信号を95まだは96端子に接続する。96端子にはI
C内部で抵抗負荷用の回路35、または容量負荷用の回
路34に接続され、出力はそれぞれ4B,39に現われ
る。回路の働きの詳細はすでに第7,8.9図を用いて
説明した。
、列走査とも同一ICを用いている。l7はX1〜X,
,端子に順次ノくノレスを出力する2相ダイナミックシ
フトレジスタで87端子からスタート{1が入ると2相
クロツクノくルスφ1、φ2に同期してX1〜Xnにパ
ルスを田カする。xI′″″.XI+はこれらの反転し
た出力を出す端子である。X,,X2出力から反転回路
c++、NOR回路90を用いてMOB形スイツテ92
.93のゲートに互いにオーバーラップせずに、かつ互
いに反転した信号を加え、これにより94に入力される
信号を95まだは96端子に接続する。96端子にはI
C内部で抵抗負荷用の回路35、または容量負荷用の回
路34に接続され、出力はそれぞれ4B,39に現われ
る。回路の働きの詳細はすでに第7,8.9図を用いて
説明した。
第16図は具体的に第15図の回路をnチャネルプロセ
スで作製したもので、低消費電力、高速とするためにデ
イプリーション、エンノ・ンスメント両タイプのMOS
形トランジスタを混用している。ここでチャネル部分に
線を入れているものがデイプリーション型である。また
容量41.46はMOS容量を用いている。MOSで組
んだ演算増幅器42,47.34の電流源の働らきをす
るMO8}ランジスターl00はP型拡散層中に形成し
たもので、これによ9、端子99に負電源を印加するこ
とが可能となり、増幅器のダイナミックレンジを広げて
いる。98端子には増幅器およびシフトレジスタに供給
する電源を接続する。
スで作製したもので、低消費電力、高速とするためにデ
イプリーション、エンノ・ンスメント両タイプのMOS
形トランジスタを混用している。ここでチャネル部分に
線を入れているものがデイプリーション型である。また
容量41.46はMOS容量を用いている。MOSで組
んだ演算増幅器42,47.34の電流源の働らきをす
るMO8}ランジスターl00はP型拡散層中に形成し
たもので、これによ9、端子99に負電源を印加するこ
とが可能となり、増幅器のダイナミックレンジを広げて
いる。98端子には増幅器およびシフトレジスタに供給
する電源を接続する。
以上の説明より明らかなように、本発明の駆動方式を用
いた受光素子(密着読取りラインセンサ)は、従来の順
次駆動方式で得られるセンサよりもはるかに少ない数の
素子で走査を行なうこと力Lu丁能のため、従来よりも
はるかに生産性か高く、壕だ低コスl・なセンサを作る
ことが可能である。
いた受光素子(密着読取りラインセンサ)は、従来の順
次駆動方式で得られるセンサよりもはるかに少ない数の
素子で走査を行なうこと力Lu丁能のため、従来よりも
はるかに生産性か高く、壕だ低コスl・なセンサを作る
ことが可能である。
また、受光累子そのものは、これまで例示した型のもの
以外のものに限定されるもの″Cはない。
以外のものに限定されるもの″Cはない。
例示した等価回路に適合する受光素子で良いことはいう
までもない。
までもない。
第1図に密着読取りタイプのセンサの説明するだめの図
、第2図(a)、(b)、(C)、(d)は従来の密着
読取りラインセンサを説明するだめの図、第3図は従来
の密着読取りラインセ/サの回路図、第4図(a)、(
b)は本発明のマトリクス駆動方式一ヒンヤーで夕゜イ
オード・プレイICを用いたものの平面図および断面図
、第5図(a)、(b)は本発明の71・1)クス駆動
方式セ/サで非晶質Siダイオードを用いたものの平面
図および断面図、第6図は本発明の走査11t[、第’
t図(a)〜(e)は本発明のラインセンサた査の動作
原理を説明するための等価回路図、第8図は本発明のラ
インセンサ走査のタイミング・チャート、第9図は電圧
読出し方式の原理を示す図、第10図はそのタイミ/グ
・チャート、第11図、第12図klダイオード・アレ
イIC’を用いた実施例を示す平面図および断面図、第
13図、第14図は用いたダイオード・アレイの構造を
示す平面図および断面図、第15図は走査用ICのブロ
ック図、第16図はICの全回路図である。 ■・・・原稿、4・・・光源、8・・・基板、9・・・
ファイバー束、10・・・受光素子(ホトダイオードア
レー)、J1・・・IC%l3・・・0−ラ−,14・
・・窓、15・・・基板、16・・・MOS}ランジス
タ、】7・・・シフトレジスタ、18・・・光電流源、
19・・・等価容肚、20・・・バイアス電圧、25・
・・ダイオードアレー、28・・・配線。 −374− −375− −376− −377−
、第2図(a)、(b)、(C)、(d)は従来の密着
読取りラインセンサを説明するだめの図、第3図は従来
の密着読取りラインセ/サの回路図、第4図(a)、(
b)は本発明のマトリクス駆動方式一ヒンヤーで夕゜イ
オード・プレイICを用いたものの平面図および断面図
、第5図(a)、(b)は本発明の71・1)クス駆動
方式セ/サで非晶質Siダイオードを用いたものの平面
図および断面図、第6図は本発明の走査11t[、第’
t図(a)〜(e)は本発明のラインセンサた査の動作
原理を説明するための等価回路図、第8図は本発明のラ
インセンサ走査のタイミング・チャート、第9図は電圧
読出し方式の原理を示す図、第10図はそのタイミ/グ
・チャート、第11図、第12図klダイオード・アレ
イIC’を用いた実施例を示す平面図および断面図、第
13図、第14図は用いたダイオード・アレイの構造を
示す平面図および断面図、第15図は走査用ICのブロ
ック図、第16図はICの全回路図である。 ■・・・原稿、4・・・光源、8・・・基板、9・・・
ファイバー束、10・・・受光素子(ホトダイオードア
レー)、J1・・・IC%l3・・・0−ラ−,14・
・・窓、15・・・基板、16・・・MOS}ランジス
タ、】7・・・シフトレジスタ、18・・・光電流源、
19・・・等価容肚、20・・・バイアス電圧、25・
・・ダイオードアレー、28・・・配線。 −374− −375− −376− −377−
Claims (1)
- 1.光導電膜と分離用ダイオード、またはホトダイオー
ドと、これと整流方向が逆の分離用ダイオードを直列に
接続した単位画素を一次元に配列し、これらを連続した
少なくとも2つ以上の群に分割し、各々の群の全画素を
それぞれに対応する行配線に、また各群中で画素並びに
対して相対的に同位置にある画素を、それぞれに対応す
る列配線にまとめた一次元の受光素子において、読取り
を行なう画素の行配線には分離ダイオードを順方向にバ
イアスする電圧を印加し、読取りを行なわない行配線は
接地、また読取りを行なう画素の列配線は容量を介して
、該分離ダイオードを順方向にバイアスする電圧を印加
し、読出しを行なっていない列配線は該分離ダイオード
を逆方向にバイアスする電圧を印加する手段を有し、一
次元の光学像を顯次読出しをなすことを特徴とする受光
素子0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59155263A JPS6068767A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 読み取り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59155263A JPS6068767A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 読み取り装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6068767A true JPS6068767A (ja) | 1985-04-19 |
JPH0420305B2 JPH0420305B2 (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=15602087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59155263A Granted JPS6068767A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 読み取り装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6068767A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014030170A (ja) * | 2012-07-04 | 2014-02-13 | Makoto Shizukuishi | 撮像素子、半導体集積回路及び撮像装置 |
JP2014220370A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 雫石 誠 | 固体撮像素子及び撮像装置 |
US12029691B2 (en) | 2019-07-09 | 2024-07-09 | Makoto Shizukuishi | Medical vehicles, CT devices, and driving method |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5291314A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-01 | Hitachi Ltd | Image pick-up device |
JPS5341118A (en) * | 1976-09-28 | 1978-04-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Solid state scanning system |
JPS5454513A (en) * | 1977-10-11 | 1979-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Scanning circuit |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP59155263A patent/JPS6068767A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5291314A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-01 | Hitachi Ltd | Image pick-up device |
JPS5341118A (en) * | 1976-09-28 | 1978-04-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Solid state scanning system |
JPS5454513A (en) * | 1977-10-11 | 1979-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Scanning circuit |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014030170A (ja) * | 2012-07-04 | 2014-02-13 | Makoto Shizukuishi | 撮像素子、半導体集積回路及び撮像装置 |
US9634060B2 (en) | 2012-07-04 | 2017-04-25 | Makoto Shizukuishi | Stacked solid-state image sensor and imaging apparatus including the same |
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