JPS6063707A - 薄膜磁気ヘツド用磁性体基板の洗浄装置 - Google Patents
薄膜磁気ヘツド用磁性体基板の洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6063707A JPS6063707A JP16257384A JP16257384A JPS6063707A JP S6063707 A JPS6063707 A JP S6063707A JP 16257384 A JP16257384 A JP 16257384A JP 16257384 A JP16257384 A JP 16257384A JP S6063707 A JPS6063707 A JP S6063707A
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- Japan
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- substrate
- thin film
- film forming
- cleaning
- forming surface
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は薄膜磁気ヘッド用磁性体基扱の洗１７１装置
に関するものである。
に関するものである。
薄膜磁気ヘッドは、基板上に強磁性体層、絶縁体層およ
び導体層等を蒸着、スパッタおよびフメトフアプリケー
ション等の技術を用いて形成しており、これらの各層に
おいて、膜厚の薄いものは数百人程度の膜もしばしば使
用されている。このように非常に薄い股を基板表面に形
成するため、基板表面の粗さ、および表面の汚れ、しみ
、ごみ等のないｌｒｒ浄な基板が要求され、一般にはＳ
ｉＣβ（粒やダイヤモンド砥粒等により、荒、中仕上げ
ラップ後、ポリッシングにより、表面粗さ数１０人程度
に鏡面仕上げされ、その後超精密洗浄が行ｔｙわれるよ
うにしている。同様な洗浄はホトエノチング工程でのレ
ジスト除去後においてもｆｉなわれる。ところが、この
洗浄方法については近年多くの方法が試みられているが
、大設備を必要とゼず手軽に超精密な洗浄をすることは
概して困ｙ「であった。
び導体層等を蒸着、スパッタおよびフメトフアプリケー
ション等の技術を用いて形成しており、これらの各層に
おいて、膜厚の薄いものは数百人程度の膜もしばしば使
用されている。このように非常に薄い股を基板表面に形
成するため、基板表面の粗さ、および表面の汚れ、しみ
、ごみ等のないｌｒｒ浄な基板が要求され、一般にはＳ
ｉＣβ（粒やダイヤモンド砥粒等により、荒、中仕上げ
ラップ後、ポリッシングにより、表面粗さ数１０人程度
に鏡面仕上げされ、その後超精密洗浄が行ｔｙわれるよ
うにしている。同様な洗浄はホトエノチング工程でのレ
ジスト除去後においてもｆｉなわれる。ところが、この
洗浄方法については近年多くの方法が試みられているが
、大設備を必要とゼず手軽に超精密な洗浄をすることは
概して困ｙ「であった。
そこで従来、ビーカ内に基板を１個または複数個薄膜形
成面に異物が乗らないように薄膜形成面がビーカ床面に
接面するよう、洗浄液中に沈めて超音波洗浄をすること
が考えられている。しかしながら、この装置は、ビーカ
内ないし超音波洗浄槽内に、基板の薄膜形成面を下向き
にして、洗浄を行なうため、薄膜形成面がビーカ底面も
しくは超音波洗浄槽底面と直接接触するので、薄膜形成
面には傷、スクラッチ、チッピング等が発生するという
欠点があった。また、ビーカ底面もしくは超音波洗浄槽
底面と薄膜形成面との接触を防ぐため、薄膜形成面を上
向きにすると、汚れ、しみ、ごみ等が薄膜形成面上に留
まり、精度のよい洗浄が不可能である。
成面に異物が乗らないように薄膜形成面がビーカ床面に
接面するよう、洗浄液中に沈めて超音波洗浄をすること
が考えられている。しかしながら、この装置は、ビーカ
内ないし超音波洗浄槽内に、基板の薄膜形成面を下向き
にして、洗浄を行なうため、薄膜形成面がビーカ底面も
しくは超音波洗浄槽底面と直接接触するので、薄膜形成
面には傷、スクラッチ、チッピング等が発生するという
欠点があった。また、ビーカ底面もしくは超音波洗浄槽
底面と薄膜形成面との接触を防ぐため、薄膜形成面を上
向きにすると、汚れ、しみ、ごみ等が薄膜形成面上に留
まり、精度のよい洗浄が不可能である。
さらに、前記欠点を解決するため、従来第１図ないし第
４図に示すような基板保持体が開発されている。この保
持体は、コ字状の切り欠き部２を複数個（または１個の
みでも可）有した１対の基板位置決め板３が対向し、基
板位置決め板３の切り欠き部２，２′間に基板１が挿入
されて切り欠き方向４に摺動可能に支持され、かつ位置
決め板３は一平面上の動きを規制するようにＩｊ、’ｌ
４ｆｉ、 ５て固定されている。また側板５には基板
１の落下防止用シャフト６が取り付いており、基板位置
決め（ｋ３には取手７が取り付けである。このような構
成の保持体に基板１をセントし、第２図に示すように洗
浄液８が満たされた超音波洗浄槽９内に浸漬し、超音波
発振器９′を作動して、超音波洗浄を行なう。しかしな
がら、このような６し浄装置においてもつぎのような欠
点があった。すなわち、（１）基板１を保持体に取りイ
」りる時、ポリノノングにより鏡面に仕上げされた基板
の薄膜形成面表面が位置決め板３の切り欠き部２．２′
により薄膜形成面の両端部に傷、スクラッチ、デツピン
グ等を生じさせる原因となる。
４図に示すような基板保持体が開発されている。この保
持体は、コ字状の切り欠き部２を複数個（または１個の
みでも可）有した１対の基板位置決め板３が対向し、基
板位置決め板３の切り欠き部２，２′間に基板１が挿入
されて切り欠き方向４に摺動可能に支持され、かつ位置
決め板３は一平面上の動きを規制するようにＩｊ、’ｌ
４ｆｉ、 ５て固定されている。また側板５には基板
１の落下防止用シャフト６が取り付いており、基板位置
決め（ｋ３には取手７が取り付けである。このような構
成の保持体に基板１をセントし、第２図に示すように洗
浄液８が満たされた超音波洗浄槽９内に浸漬し、超音波
発振器９′を作動して、超音波洗浄を行なう。しかしな
がら、このような６し浄装置においてもつぎのような欠
点があった。すなわち、（１）基板１を保持体に取りイ
」りる時、ポリノノングにより鏡面に仕上げされた基板
の薄膜形成面表面が位置決め板３の切り欠き部２．２′
により薄膜形成面の両端部に傷、スクラッチ、デツピン
グ等を生じさせる原因となる。
（２）超音波洗浄を行なう場合、薄膜形成面を超音波が
できるだけ直接的でむらなく接触するには、基板の薄膜
形成表面が槽底面に対向するように設置されるのがのぞ
ましいが、基板１が立位姿勢であるため強力な洗浄がで
きない。
できるだけ直接的でむらなく接触するには、基板の薄膜
形成表面が槽底面に対向するように設置されるのがのぞ
ましいが、基板１が立位姿勢であるため強力な洗浄がで
きない。
（３）基板ｌを保持体に取り付けることにより、薄膜形
成面の両端部が切り欠き部２，２′において重なりあう
状態となり、薄膜形成面全体の洗浄が不可能となるとと
もに、切り欠き部２，２′と′ｉ４ｖ、膜形成面との間
の毛管現象により、洗浄液の除去が困難となりしみ等の
発生の原因となる。
成面の両端部が切り欠き部２，２′において重なりあう
状態となり、薄膜形成面全体の洗浄が不可能となるとと
もに、切り欠き部２，２′と′ｉ４ｖ、膜形成面との間
の毛管現象により、洗浄液の除去が困難となりしみ等の
発生の原因となる。
その結果、前述のような方法ないし装置では、基板の薄
膜形成面を超精密に洗浄することは困難であり、その基
板を用いて薄膜磁気ヘッドを形成すると、汚れ、しみ、
傷等の部分より膜の剥離が起こり、ヘッドの性能、ヘッ
ドの耐久性を悪くするばかりでなくヘッド歩留りをも低
下させる要因となり、安定したヘッドが得られない。
膜形成面を超精密に洗浄することは困難であり、その基
板を用いて薄膜磁気ヘッドを形成すると、汚れ、しみ、
傷等の部分より膜の剥離が起こり、ヘッドの性能、ヘッ
ドの耐久性を悪くするばかりでなくヘッド歩留りをも低
下させる要因となり、安定したヘッドが得られない。
したがって、この発明の目的は、前記欠点を除去し、高
歩留りの安定した特性の薄膜磁気ヘッドを製造できる薄
膜磁気ヘッド用磁性体基板の洗浄装置を提供することで
ある。
歩留りの安定した特性の薄膜磁気ヘッドを製造できる薄
膜磁気ヘッド用磁性体基板の洗浄装置を提供することで
ある。
すなわち、この発明の磁性体基板の薄膜形成面と反対側
の表面を耐薬品性の軟弾性体材料を介して、マグネット
で吸引保持することにより、基板の薄膜形成面全体が洗
浄液中に露出し、かつ下向きになるようにしたことを特
徴としている。
の表面を耐薬品性の軟弾性体材料を介して、マグネット
で吸引保持することにより、基板の薄膜形成面全体が洗
浄液中に露出し、かつ下向きになるようにしたことを特
徴としている。
この発明の一実施例を第５図ないし第８図に示す。すな
わち、この薄膜磁気ヘッド用磁性体基板の洗浄装置は、
保持体本体１０と、マグネノＨ１と、脚１２と、取手１
３と、洗浄槽９とで構成されている。本体１０は耐洗浄
液の軟弾性体材料がらなり、基板１の薄膜形成面２１の
裏面と密着する一平面１５上に、基板１の端面に当接し
て基板１の一平面１５上のスライド移動を規制し所定位
置に位置決めするため、薄膜形成面外周に基板１の厚み
より低い突起１４を形成するとともに、基板１をビンセ
ント等によりつがんで本体１ｏの所定位置にセントする
際作業が容易になるように、前記一平面１５に一定深さ
の逃げ溝１Ｇが形成され、その内奥端は基板１の外周の
内側に位置してあり、また本体１０の一平面１５の裏面
Ｊ７に一平面１５と一定寸法１８までの深さをもマグネ
ット挿入用の溝１９が設け−（ある。マグネ／１・１１
は本体１０の嵩１９内に挿入され、耐洗浄液の材料２０
でモールド固定される。このマグネット１１により基板
１を吸引して基板１の薄膜形成面２１の反対側面を前記
一平面１５に保持させる。脚１２は耐洗浄液性材料の微
少断面の棒状からなり前記一平面１５上の所定位置に、
基板１の薄膜形成面２１と浴槽底面とが一定間隔を有す
るように、本体１０に複数個一体化され、その先端面２
２を載置面としている。取手１３は耐洗浄液桐材からな
り一平面１５上の所定位置に一体化している。もちろん
前記のような構成を、マグネット外周に耐洗浄液でかつ
軟弾性材料（例えばフン素樹脂等）をコーテングした後
、前記と同様の形状に加工しても可能である。洗浄槽９
は前記と同構成である。
わち、この薄膜磁気ヘッド用磁性体基板の洗浄装置は、
保持体本体１０と、マグネノＨ１と、脚１２と、取手１
３と、洗浄槽９とで構成されている。本体１０は耐洗浄
液の軟弾性体材料がらなり、基板１の薄膜形成面２１の
裏面と密着する一平面１５上に、基板１の端面に当接し
て基板１の一平面１５上のスライド移動を規制し所定位
置に位置決めするため、薄膜形成面外周に基板１の厚み
より低い突起１４を形成するとともに、基板１をビンセ
ント等によりつがんで本体１ｏの所定位置にセントする
際作業が容易になるように、前記一平面１５に一定深さ
の逃げ溝１Ｇが形成され、その内奥端は基板１の外周の
内側に位置してあり、また本体１０の一平面１５の裏面
Ｊ７に一平面１５と一定寸法１８までの深さをもマグネ
ット挿入用の溝１９が設け−（ある。マグネ／１・１１
は本体１０の嵩１９内に挿入され、耐洗浄液の材料２０
でモールド固定される。このマグネット１１により基板
１を吸引して基板１の薄膜形成面２１の反対側面を前記
一平面１５に保持させる。脚１２は耐洗浄液性材料の微
少断面の棒状からなり前記一平面１５上の所定位置に、
基板１の薄膜形成面２１と浴槽底面とが一定間隔を有す
るように、本体１０に複数個一体化され、その先端面２
２を載置面としている。取手１３は耐洗浄液桐材からな
り一平面１５上の所定位置に一体化している。もちろん
前記のような構成を、マグネット外周に耐洗浄液でかつ
軟弾性材料（例えばフン素樹脂等）をコーテングした後
、前記と同様の形状に加工しても可能である。洗浄槽９
は前記と同構成である。
洗浄作業は基板ｌをピンセント等により溝１６を利用し
て一平面１５の突起１４間内に基板１の裏面２１を当接
させてマグネット１１により吸引保持させ、取手１３を
もって脚１２を下向きにし、第８図のように洗浄液８内
に浸漬して槽底面に脚１２の先端面２２を支持させる。
て一平面１５の突起１４間内に基板１の裏面２１を当接
させてマグネット１１により吸引保持させ、取手１３を
もって脚１２を下向きにし、第８図のように洗浄液８内
に浸漬して槽底面に脚１２の先端面２２を支持させる。
これにより基板１のＮＩＩ＝形成面２１は槽底面に一定
間隔をおいて対向する。そこで発振器９′を作動し、超
召波洗浄する。その際、マグネットＩＩの磁力はその１
１業状態で基板１の落下がなく、しがも基板１のセソテ
ング作業が容易な磁力に設定しである。
間隔をおいて対向する。そこで発振器９′を作動し、超
召波洗浄する。その際、マグネットＩＩの磁力はその１
１業状態で基板１の落下がなく、しがも基板１のセソテ
ング作業が容易な磁力に設定しである。
このように構成したため、この洗浄装：αはっぎのよう
な作用効果がある。すなわち、 （１）基板１を本体１ｏにセットする際、従来のように
薄膜形成面と装置の一部が摺動・接触することなく、し
かも薄膜形成面と超音波洗浄槽底面とが脚により接触し
ない状態を保つため、薄膜形成面２１にスクラッチ、傷
等が生しない。
な作用効果がある。すなわち、 （１）基板１を本体１ｏにセットする際、従来のように
薄膜形成面と装置の一部が摺動・接触することなく、し
かも薄膜形成面と超音波洗浄槽底面とが脚により接触し
ない状態を保つため、薄膜形成面２１にスクラッチ、傷
等が生しない。
（２）基板１の薄膜形成面２１が超音波振動方向と直交
し下向きにした状態で洗浄できるため、〆）し膜形成面
２１の汚れ、ごめ等の落下性でんが容易になり洗浄効率
が向上する。
し下向きにした状態で洗浄できるため、〆）し膜形成面
２１の汚れ、ごめ等の落下性でんが容易になり洗浄効率
が向上する。
（３）基板】の薄膜形成面２】の全体を洗浄液中に露出
し、簿膜形成面２】より突出た部分が基板外周部および
薄ＨＡ形成面上にない構成のため、ｈ（板表面全体を均
一に洗浄でき、洗浄終了後１λＮ、冒木を洗浄液中より
引き上げた際、薄膜形成面２１の全体が均一に乾燥する
ため、しみ等の発生を防止できる。
し、簿膜形成面２】より突出た部分が基板外周部および
薄ＨＡ形成面上にない構成のため、ｈ（板表面全体を均
一に洗浄でき、洗浄終了後１λＮ、冒木を洗浄液中より
引き上げた際、薄膜形成面２１の全体が均一に乾燥する
ため、しみ等の発生を防止できる。
（４）薄膜形成面２１と超音波洗浄槽底面とを、微少断
面の複数個の脚で一定間隔に保っているため、洗浄液の
循環を良好にし、洗浄効率が向上する。
面の複数個の脚で一定間隔に保っているため、洗浄液の
循環を良好にし、洗浄効率が向上する。
（５）基板１と接触する部分はすべて、軟弾性体材料か
らなっているため、基板のチッピング、クラック等の発
生がない。
らなっているため、基板のチッピング、クラック等の発
生がない。
（６）構成部品点数が非常に少なく、低コストで容易に
製作が可能である。
製作が可能である。
以上のように、この発明の薄膜磁気ヘッド用磁性体基板
の洗浄装置は、保持体にマグネットを設けて磁性体基板
の薄膜形成面の裏面側を吸引保持し、かつ脚で槽底面と
薄膜形成面との間に一定間隔を設けるようにしたため、
薄腰剥離が減少でき、高歩留りの安定した特性の薄膜磁
気ヘットが容易に製造できるという効果がある。
の洗浄装置は、保持体にマグネットを設けて磁性体基板
の薄膜形成面の裏面側を吸引保持し、かつ脚で槽底面と
薄膜形成面との間に一定間隔を設けるようにしたため、
薄腰剥離が減少でき、高歩留りの安定した特性の薄膜磁
気ヘットが容易に製造できるという効果がある。
第１図は従来例の平面図、第２図はその正面図、第３図
はその側面図、第４図は洗浄状態の断面図、第５図はこ
の発明の一実施例の保持体の平面図、第６図はその正面
図、第７図は第５図■−■＋ ｉ、Ｔｈｉ １４Ｊ’ｉ
面図、第８図は洗浄状態の断面図である。 ■・・・磁性体基板、９・・・超音波洗浄槽、１１・・
・マグネット、１２・・脚、１３・・・取手、１４・・
・突起、１５・・・一平面、工６・・・溝、２１・・・
薄映形成而第２図 ６ 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 １ 第８図
はその側面図、第４図は洗浄状態の断面図、第５図はこ
の発明の一実施例の保持体の平面図、第６図はその正面
図、第７図は第５図■−■＋ ｉ、Ｔｈｉ １４Ｊ’ｉ
面図、第８図は洗浄状態の断面図である。 ■・・・磁性体基板、９・・・超音波洗浄槽、１１・・
・マグネット、１２・・脚、１３・・・取手、１４・・
・突起、１５・・・一平面、工６・・・溝、２１・・・
薄映形成而第２図 ６ 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 １ 第８図
Claims (2)
- （１）超音波洗浄槽と、この超音波洗浄槽内に挿脱自在
に浸漬される磁性体基板保持体とを備え、前記保持体は
前記洗浄槽の底面に支持される離間用脚を有するととも
にマグネ７トを保持し、このマグネットにより前記磁性
体基板の薄膜形成面の反対側を吸引保持してその薄膜形
成面が前記洗浄槽の底面に間隔をおいて対面するように
したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド用磁性体基板の洗
浄装置。 - （２） 前記保持体は、その前記磁性体基板を吸引支持
する支持面を軟弾性体で形成するとともに、その支持面
の周囲に磁性体基板の端面に当接する位置決め突起を形
成し、かつその高さを基板厚より小さくし、さらに前記
磁性体基板を側方から着脱するための溝を形成している
特許請求の範囲第（１）項記載の薄膜磁気ヘッド用磁性
体基板の洗浄装置。−
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16257384A JPS6063707A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 薄膜磁気ヘツド用磁性体基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16257384A JPS6063707A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 薄膜磁気ヘツド用磁性体基板の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6063707A true JPS6063707A (ja) | 1985-04-12 |
| JPS6249654B2 JPS6249654B2 (ja) | 1987-10-20 |
Family
ID=15757154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16257384A Granted JPS6063707A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 薄膜磁気ヘツド用磁性体基板の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6063707A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0329570Y2 (ja) * | 1985-12-24 | 1991-06-24 |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16257384A patent/JPS6063707A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6249654B2 (ja) | 1987-10-20 |
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