JPS6062117A - 焼付け装置 - Google Patents

焼付け装置

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Publication number
JPS6062117A
JPS6062117A JP58169167A JP16916783A JPS6062117A JP S6062117 A JPS6062117 A JP S6062117A JP 58169167 A JP58169167 A JP 58169167A JP 16916783 A JP16916783 A JP 16916783A JP S6062117 A JPS6062117 A JP S6062117A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
wafer
holder
optical system
mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58169167A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Zaima
財満　茂樹
Minoru Ikeda
稔 池田
Tsutomu Tanaka
勉 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58169167A priority Critical patent/JPS6062117A/ja
Publication of JPS6062117A publication Critical patent/JPS6062117A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はミラー結像光学系によってマスクパターンをウ
ェハー上に形成しマスクパターンをウェハーに焼付ける
装置に関する。
〔発明の背景〕
投影式焼付は装置の概略構成を図１に示す。
マスク１表面のパターンは露光光２により凹面鏡５．凸
面鏡６．３枚の平面鏡５，４．７からなるミラー結像系
１５を介してウェハー８上に結像し焼付けられる。マス
ク保持具９に保持されているマスク１とウェハー保持具
１０に保持されているウェハー８を搭載したキャリッジ
１１は図中矢印Ａのように石定盤１２上を往復走査させ
マスクパターンは走査に対応して、ウェハー８に転写さ
れる。マスク１とウェハ８を観察するアライメントスコ
ープ１３はウェハー８とミラー結像光学系の間に配置し
、マスク１のパターンとウェハー８のパターンの位置合
せに使用する。ウェハー面とマスク面は同一平面上に位
置しそれぞれウェハー保持具１０マスク保持具９によっ
て配置されている。マスク１はパターン面をミラー結像
光学系側に向けて配置し、露光時にはパターン面が接す
るマスク位置保持部材１４を設けている。よってマスク
位置保持部材１４はウェハー面より高くなり走査させた
時アライメントスコープ１３に当りキャリッジ９の移動
距離を長くすることができずウェハー保持具はアライメ
ントスコープの下に位置しウェハー搬送を行なっている
。このような従来技術において次のような欠点があった
。
（１１ウェハー保持具２ケを交互に使用するため２ケに
寸法差が生じピント合せむらが生じる。
（２）　ウェハー保持具の構造に制約があり吸着性能が
劣る。
（３）　ウェハー保持具にトラブルが生じた時アライメ
ントスコープを取除かないと処置が出来ないＯ 〔発明の目的〕 本発明は前記欠点を解消した焼付は装置を提供するもの
である。
〔発明の概要〕
本発明は焼付は装置においてマスク面を位置決めする保
持部材の厚さの分だけマスクを下げることによりウェハ
ーとマスクを搭載しているキャリッジの移動距離を長（
できるようにしたものである。
〔発明の実施例〕
本発明の実施例を第２図で説明する。
石定盤１２上にエアーベアリングを介してキャリッジ１
１が移動機構により平行移動される。また石定盤１２上
にはミラー結像元学系１５アライメントスコープ１３を
配置している。キャリッジ１１にはウェハー８を保持す
るためのウェハー保持。
具１０トマスク１を保持するためのマスク保持−％９と
マスク位置保持部材が配置されている。
ミラー光学系１９は凹面鏡５．凸面鏡６と３枚の平面鏡
３，４．７で構成され、球面ミラーの共通軸・１８はウ
ェハー面マスク面とで００〜４０’の角度をなして配置
している。ウェハー８とマスク１准観察するためのアラ
イメントスコープ１３はウェハー８とミラー結像光学系
１９の間に配置している。マスク下方よりの照明の光束
２は２板の平面鏡３，４を反射し凹面鏡５．凸面鏡６、
凹面鏡５の別の場所を介し平面鏡７に反射しマスク１の
パターンをウェハー８上に形成し焼付けを行・う。マス
ク１は保持具によって保持されているが露光時はマスク
位置保持部材１４に接し位置決めされる。本発明はマス
ク面とウエノｈ−面の垂直方向の距離Ｃを５〜５Ｑｒｎ
ｍマスク面を低くｕま吹マスク位置保持部材１４はマス
ク面より上側の厚さＤを前記値Ｃより小さくしている。
よつ゛て矢印Ａのようにキャリッジ′１１を走査させて
もアライメントスコープ１６に当ることなく移動距離が
長くできウェハー保持具をアライメントスコープ１３の
外、図中Ｂ点へ移動させることができる。
〔発明の効果〕
本発明はマスク面の高さをウェハ面の高さより低くする
ことによりキャリッジの移動距離な長くすることができ
、ウェハー保持具をアライメントスコープの外へ出すこ
とができウェハ保持具のトラブル、調整等アライメント
スコープを取除くことなくメンサンスができまたスペー
スとれることから、信頼性の高い構成にする・ことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第１図は投影式焼付は装置の概略で（ａ）は平面図、Ｃ
Ｌ＞は正面図、第２図は本発明の一実施例の概略図で（
ａ）は平面図、（ｈ）は正面図である。 １・・・マスク、　８・・・ウェハー、１５・・・ミラ
ー結像光学系、 １３・・・アライメントスコープ１ １１・・・キャリッジ、　１２・・・石定盤、２・・・
照明光光束、 １４・・・マスク位置保持部材、 ９・・・マスク保持具、 １０・・・ウェハー保持具。 第　１　国 （ｃＬ） ０

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. マスク保持具によって、保持されたマスクの一部の像を
    固定ミラー結像光学系によってウェハー保持具によって
    保持されたウェハーに形成し、露光中ミラー結像光学系
    に対して、前記マスク保持具及びウェハー保持具を一体
    的に移動させマスク全体の像をウェハーに焼付ける焼付
    装置であって、マスク保持具はマスクをウェハー保持具
    はウェハーを平行に位置させ、マスク面に垂直な゛マス
    ク面の中心軸とウェハー面に垂直なウニ凸面の中心軸と
    の距離をウェハー直径より大きく位置させ、ミラー結像
    光学系を構成する複数個のミラーの内、凹面鏡と凸面鏡
    の共１通元軸は該ウェハー面とマスク面に対して、２０
    ９〜４０００角度をなして配置し、マスクは下方向から
    照明光によって照明され、ミラー結像光学系とウェハー
    の間にマスクとウェハーを観察するアライメントスコー
    プを配置している焼付は装置において、マスク面とウニ
    凸面の垂直方向の距離が５ｍｍ〜３０ｍｍマスク面を低
    くなるようにしマスク位置の保持部材のマスク面より上
    側の厚さを前記距離より小さくしたことを特徴とす・る
    焼付は装置。
JP58169167A 1983-09-16 1983-09-16 焼付け装置 Pending JPS6062117A (ja)

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JP58169167A JPS6062117A (ja) 1983-09-16 1983-09-16 焼付け装置

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JP58169167A JPS6062117A (ja) 1983-09-16 1983-09-16 焼付け装置

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JPS6062117A true JPS6062117A (ja) 1985-04-10

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ID=15881504

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JP58169167A Pending JPS6062117A (ja) 1983-09-16 1983-09-16 焼付け装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5485400A (en) * 1989-10-02 1996-01-16 Rosemount Inc. Field-mounted control unit

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5485400A (en) * 1989-10-02 1996-01-16 Rosemount Inc. Field-mounted control unit
US5825664A (en) * 1989-10-02 1998-10-20 Rosemount Inc. Field-mounted control unit

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