JPS6052912A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS6052912A JPS6052912A JP16026083A JP16026083A JPS6052912A JP S6052912 A JPS6052912 A JP S6052912A JP 16026083 A JP16026083 A JP 16026083A JP 16026083 A JP16026083 A JP 16026083A JP S6052912 A JPS6052912 A JP S6052912A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic head
- film magnetic
- substrate
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、さらに詳しくは薄膜磁
気ヘッドの電極巻線部の下部の基板の放熱構造を改良し
た薄膜磁気ヘッドに関するものである。
気ヘッドの電極巻線部の下部の基板の放熱構造を改良し
た薄膜磁気ヘッドに関するものである。
従来においては薄膜磁気ヘッドは鉄心および巻線部分を
有する。いわゆるバルクヘッドと呼ばれる従来型の磁気
ヘッドを磁性薄膜に置き変えたもので、超小型で周波数
特性にすぐれ、高密度の磁気記録を行なえるものであり
、バルクヘッドに対して、インダクティブ磁気ヘッドと
呼ばれている。
有する。いわゆるバルクヘッドと呼ばれる従来型の磁気
ヘッドを磁性薄膜に置き変えたもので、超小型で周波数
特性にすぐれ、高密度の磁気記録を行なえるものであり
、バルクヘッドに対して、インダクティブ磁気ヘッドと
呼ばれている。
従来の薄膜磁気ヘッドの一例を第１図に示す。
図において符号１で示すものはマンガン、亜鉛、フライ
ト等力らなる基板、符号２で示すものはアルミニウムＳ
銅等からなる電極巻線である。
ト等力らなる基板、符号２で示すものはアルミニウムＳ
銅等からなる電極巻線である。
符号３で示すのはパーマロイ、センダスト等からなる上
部磁性体、４はＳｉｏ２ 、 Ａ１２ｏ３等からなる絶
縁膜で、磁気ギャップを構成している。
部磁性体、４はＳｉｏ２ 、 Ａ１２ｏ３等からなる絶
縁膜で、磁気ギャップを構成している。
次に従来例の構造を第２図に基いて詳細に説明する。
図中、第１図と同一部分Ｑこは同一符号を付しその説明
は省略する。
は省略する。
符号５で示すものは５ｄＤ２．あるいは、４１２０３等
からなる絶縁膜で、前記電極巻線２と」二部磁性体３の
間に配置される。符号６で示すものはＳｉ。２．あるい
はＡｌｚ０３等からなる保護膜で前記上部磁性体３の上
に形成され、基板ｌの全面を覆っている。
からなる絶縁膜で、前記電極巻線２と」二部磁性体３の
間に配置される。符号６で示すものはＳｉ。２．あるい
はＡｌｚ０３等からなる保護膜で前記上部磁性体３の上
に形成され、基板ｌの全面を覆っている。
符号７で示すものはエポキシ接着剤、低融点ガラス等か
らなる接着層で、符号８によって示されるフライト等か
らなる保護板と、基板Ｉ上に形成された薄膜磁気ヘッド
主要部を接合する役割を果している。
らなる接着層で、符号８によって示されるフライト等か
らなる保護板と、基板Ｉ上に形成された薄膜磁気ヘッド
主要部を接合する役割を果している。
又、符号９で示すのはテープ摺動面である。
従来の薄膜磁気ヘッドは薄膜製造工程で上述した絶縁層
、電極巻線を構成するため、電極巻線をふやすことは工
程が複雑になり生産の歩留りも低下する。
、電極巻線を構成するため、電極巻線をふやすことは工
程が複雑になり生産の歩留りも低下する。
このため、記録磁界を増大させようとして、電極巻線の
少ない分だけ、記録電流を増加させる必要があるが、巻
線の抵抗を充分に低く押＆ることができなかった。
少ない分だけ、記録電流を増加させる必要があるが、巻
線の抵抗を充分に低く押＆ることができなかった。
このため記録電流Ｇこよる発熱が大きくヘッドの性能を
低下させてしまうという欠点があった。
低下させてしまうという欠点があった。
本発明は以上のような従来の欠点を改良するためになさ
れたもので、薄膜磁気ヘッドにおいて、電極巻線部の下
部の基板の少なくとも一部に良熱伝導体を埋込み、記録
電流による熱を十分Ｑこ放熱し薄膜磁気ヘッドの性能を
低下させることがないように構成した薄膜磁気ヘッドを
提供することを目的としている。
れたもので、薄膜磁気ヘッドにおいて、電極巻線部の下
部の基板の少なくとも一部に良熱伝導体を埋込み、記録
電流による熱を十分Ｑこ放熱し薄膜磁気ヘッドの性能を
低下させることがないように構成した薄膜磁気ヘッドを
提供することを目的としている。
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。
する。
第３図、第４図は本発明の一実施例を説明するもので、
図中、第１図、第２図と同一部分あるいは相当する部分
には同一符号を付し、その説明は省略する。
図中、第１図、第２図と同一部分あるいは相当する部分
には同一符号を付し、その説明は省略する。
第３図は本発明の一実施例を説明する断面図で図におい
て符号１０で示すものはアルミニウム、銅等からなる良
熱伝導体で、基板１の溝にスパッタ、蒸着、メッキ溶着
等により成膜したものである。第４図には保護板８を貼
り合わせる前の状態が示されている。
て符号１０で示すものはアルミニウム、銅等からなる良
熱伝導体で、基板１の溝にスパッタ、蒸着、メッキ溶着
等により成膜したものである。第４図には保護板８を貼
り合わせる前の状態が示されている。
本実施例は以」二のように構成されているため、電極巻
線２で発生する熱は、電極巻線２の下部の基板に埋込ん
だ良熱伝導体１０を通して逃がすことができる。
線２で発生する熱は、電極巻線２の下部の基板に埋込ん
だ良熱伝導体１０を通して逃がすことができる。
このような良熱伝導体を設けるには次のような方法が採
用される。
用される。
まず、基板ｌ」二にダイシングマシンまたはエツチング
等により溝を形成し、薄膜堆積法により、Ｃｕ、 Ａｔ
、 Ａｕなどの良熱伝導体ｌＯを溝中に形成する。
等により溝を形成し、薄膜堆積法により、Ｃｕ、 Ａｔ
、 Ａｕなどの良熱伝導体ｌＯを溝中に形成する。
次に、基板全体を平面ラップしたのち、薄膜堆積法によ
り電極巻線２が良熱伝導体１０１に位置するようをこ形
成する。
り電極巻線２が良熱伝導体１０１に位置するようをこ形
成する。
良熱伝導体１０は、十分に表面積を大きくすることによ
り、単位面積あたりの発熱量をみかけ上小さくすること
ができ薄膜磁気ヘッドの温度をさらにさげることができ
る。
り、単位面積あたりの発熱量をみかけ上小さくすること
ができ薄膜磁気ヘッドの温度をさらにさげることができ
る。
又良熱伝導体１０を薄膜磁気ヘッドの磁気回路に支障な
いよう、複数本配置したり、又は良熱伝導体の端部を放
熱板に接続することによりさらに効果を」−げることか
できる。
いよう、複数本配置したり、又は良熱伝導体の端部を放
熱板に接続することによりさらに効果を」−げることか
できる。
なお、」二連したような構造の薄膜磁気ヘッドの良熱伝
導体に電流を流すことによりバイアス電極として用いる
こともできる。
導体に電流を流すことによりバイアス電極として用いる
こともできる。
ただし、この場合、基板１と良熱伝導体１０の間に絶縁
膜を形成し、絶縁することが必要である。
膜を形成し、絶縁することが必要である。
以」二の説明から明らかなように本発明によれば薄膜磁
気ヘッドにおいて簡屯でしかも効果的に放熱性のよい薄
膜磁気ヘッドを得ることができ、記録電流による発熱を
効率よく逃がすことにより、薄膜磁気ヘッドの温度上昇
をおさえることができるという優れた効果が得られる。
気ヘッドにおいて簡屯でしかも効果的に放熱性のよい薄
膜磁気ヘッドを得ることができ、記録電流による発熱を
効率よく逃がすことにより、薄膜磁気ヘッドの温度上昇
をおさえることができるという優れた効果が得られる。
第１図は従来例の薄膜磁気ヘッドを示す斜視図、第２図
は従来例の構成を示す断面図、第３図は本発明の一実施
例を示す薄膜磁気ヘッドの断面図、第４図は本発明の一
実施例を示す薄膜磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・基板 ２・・・巻線電極 ３・・・」二部磁性体 ４・・・磁気ギャップ５・ン：
絶縁腰 ６・・・保護膜 ７・・・接着層 ８・・・保護板 ９・・・摺動面 １ｏ・・・良熱伝導体第２図 第３図 第４図 ＰＦ 糸ダ己 ネ山 −ｊ１三 リン （自発）昭和５
８年１２月 ２日 特許庁長官殿 ■ 事件の表示 １１（（和５８年特工１願第１６０２６０号２、発明の
名称 島ｊ１り磁気ヘッド ３、補正をする者 本件との関係 特許出願人 名 称 キャノン電子株式会社 ４、代理人 電話 ０３ （２６８）２４８１ （イ０
明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 別紙の通り 補正の内容 １）明細書第１頁第２０行目の「従来においては」を削
除し、「は鉄心および巻」を「とは磁気コアおよび電極
巻」に訂正する。 ２）同第２頁第２行目の「を磁性薄膜」を［の磁気コア
及び電極巻線等を薄ｌ１９：」に訂正する。 ２）同第５行目の「磁気ヘッド」を「薄膜磁気ヘッド」
に訂正する。 ３）同第７行目から第８行目の「マンガン、亜鉛、フラ
イト」をｒＭｎ−Ｚｎ、−ｙｘライ）・又はＮ ｉ −
Ｚ ｎ ７ ｘライト」に訂正する。 ４）同第３頁第３行口から第４行目の「示されるフライ
ト」を「示される結晶化カラス又は非磁性フェライト」
二訂正する。 ）同第５頁第９行目の「ラップしたのち」を「ラップ、
絶縁膜４を？ＩＶ膜堆積法で基板合体に形成したのち」
に訂正する。
は従来例の構成を示す断面図、第３図は本発明の一実施
例を示す薄膜磁気ヘッドの断面図、第４図は本発明の一
実施例を示す薄膜磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・基板 ２・・・巻線電極 ３・・・」二部磁性体 ４・・・磁気ギャップ５・ン：
絶縁腰 ６・・・保護膜 ７・・・接着層 ８・・・保護板 ９・・・摺動面 １ｏ・・・良熱伝導体第２図 第３図 第４図 ＰＦ 糸ダ己 ネ山 −ｊ１三 リン （自発）昭和５
８年１２月 ２日 特許庁長官殿 ■ 事件の表示 １１（（和５８年特工１願第１６０２６０号２、発明の
名称 島ｊ１り磁気ヘッド ３、補正をする者 本件との関係 特許出願人 名 称 キャノン電子株式会社 ４、代理人 電話 ０３ （２６８）２４８１ （イ０
明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 別紙の通り 補正の内容 １）明細書第１頁第２０行目の「従来においては」を削
除し、「は鉄心および巻」を「とは磁気コアおよび電極
巻」に訂正する。 ２）同第２頁第２行目の「を磁性薄膜」を［の磁気コア
及び電極巻線等を薄ｌ１９：」に訂正する。 ２）同第５行目の「磁気ヘッド」を「薄膜磁気ヘッド」
に訂正する。 ３）同第７行目から第８行目の「マンガン、亜鉛、フラ
イト」をｒＭｎ−Ｚｎ、−ｙｘライ）・又はＮ ｉ −
Ｚ ｎ ７ ｘライト」に訂正する。 ４）同第３頁第３行口から第４行目の「示されるフライ
ト」を「示される結晶化カラス又は非磁性フェライト」
二訂正する。 ）同第５頁第９行目の「ラップしたのち」を「ラップ、
絶縁膜４を？ＩＶ膜堆積法で基板合体に形成したのち」
に訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 讃 （１）基盤と絶縁相を介して配置された電極巻線部した
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 （２）良熱伝導体と基板の間に絶縁膜を生成し、良熱伝
導６流を流すことができるように構成したことを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16026083A JPS6052912A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16026083A JPS6052912A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052912A true JPS6052912A (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=15711155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16026083A Pending JPS6052912A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052912A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62128011A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜磁気ヘツド |
| US6914750B2 (en) * | 2001-10-05 | 2005-07-05 | Headway Technologies, Inc. | Thermal protrusion reduction in magnet heads by utilizing heat sink layers |
| US7646566B1 (en) * | 2004-08-05 | 2010-01-12 | Maxtor Corporation | Slider deformation control by thermal-structural compensators |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712409A (en) * | 1980-06-25 | 1982-01-22 | Hitachi Ltd | Thin-film magnetic head |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP16026083A patent/JPS6052912A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712409A (en) * | 1980-06-25 | 1982-01-22 | Hitachi Ltd | Thin-film magnetic head |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62128011A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜磁気ヘツド |
| US6914750B2 (en) * | 2001-10-05 | 2005-07-05 | Headway Technologies, Inc. | Thermal protrusion reduction in magnet heads by utilizing heat sink layers |
| US7646566B1 (en) * | 2004-08-05 | 2010-01-12 | Maxtor Corporation | Slider deformation control by thermal-structural compensators |
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