JPS6051486B2 - 改良された均質性を有する低密度のエチレンポリマーの製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高圧エチレンポリマーを連続的に製造する方法
に係る。

この方法に於てはエチレンポリマーは、重合系Ａ中にて
５００乃至５０００バールの圧力及び５０乃至４５０℃
の温度に於てラジカル分解性重合開始剤の存在に於てエ
チレンを単一重合し又はエチレンをエチレンと共重合し
得る化合物と共重合し、形成された反応混合物を１００
バールと５００バールとの間の圧力及び１５０′Ｃと４
００′Ｃとの間の温度が支配する高圧生成物分離帯域Ｂ
中に移送し、絞り及び制御系Ｃを通して、１バールと１
０バールとの間の圧力及び１５０゜Ｃと４００℃との間
の温度が支配し且つ反応混合物が０．５乃至６０分の平
均滞留時間を有する後続して設けられた低圧生成物分離
帯域Ｄ中に移送し、第２の絞り及ひ制御系Ｅを通して搬
出押出機Ｆ中に移送し、且つこの場合熔融エチレンポリ
マーの充填水準面がＢ及びＤ中に於ては夫々Ｂ及びＤに
後続する系Ｃ又はＥの開口断面に依り、且つ（又は）Ｄ
に於ては押出機Ｆのスクリュウの回転数に依ソー定の標
準充填水準面に調節されていることに依り得られる。

斯かる方法に於ては、高圧生成物分離帯域Ｂ．（高圧生
成物分離器とも称される）中に於て及び低圧生成物分離
帯域Ｄ（低圧生成物分離器としても知られている）中に
於て、反応生成物として得られる熔融エチレンポリマー
の一定不変の熔融体水準面を調節するための方策が必要
である。

これ．に依り例えば高圧生成物分離帯域Ｄ中にて生成し
たエチレンポリマーより分離する未反応のエチレンが押
出機Ｆを経て大気中に膨張し得ることが阻止される。こ
のようにして分離されたエチレンを再び重合系Ａ中に送
還することができる。この必要性を満たすために、即ち
低圧生成物分離器Ｄ中に於ける不変の充填水準面を保証
するために３つの方法を使用することは公知である。

搬出押出機Ｆのスクリュウの回転数は、殊に５０±５目
盛部分にれは本発明に於ては不変の標準充填水準面と称
される）が調節されているように、重合系Ａより来るエ
チレンポリマーより成る熔融体流に適応せしめられる。
この楊合分離器Ｂ及びＤ中に於ける充填水準面を管制す
るために、普通のτ一線主として特定杉？ＣＯを使用す
る測定技術が使用される。光線検知器としては特にτ一
線に対して適応せる計数管が使用される。原理及び測定
技術は公知であつて、例えばＬ．ＨｅｒｆＯｒｔｈ及び
Ｈ．７ｋＯｃｋに依り文献：６′ＲａｄｉＯｐｈｙｓｉ
ｋａｌｌｓｃｈｅｓｕｎｄｒａｄｉＯｃｈｅｍｉｓｃｈ
ｅｓＧｒｕｎｄｐｒａｋｔｉｋｕｍ″，Ｂｅｒｌｌｎ：
ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅｒＶｅｒｌａｇｄｅｒＷｉｓｓ
ｅｎｓｃｈａｆｔｅｎ（＝ＨＯｃｈｓｃｈｕｌｂｕｃｈ
ｅｒｄｅｒＰｈｙｓｉｋ，第３１巻）１９５９年Ｘ■，
第４６８頁第１叩羊中に記載されている。照・射器及び
検知器の装置に対するそこに記載された可能性の下には
、傾斜光透過中に於ける物質吸収が分離器の底部部分に
於て測定されるようなものが選択される。充填水準面は
１（１）部に分けられた指示目盛上にて追求されること
ができる。位置０易は重合熔融体が押出機を経てもはや
搬出されることができない場合には、零点抑制に依り調
節されることができる。点１００は、この充填水準面に
於てなお得られるエチレンポリマーと反応しないエチレ
ンとの間の充分な分離が行われるように選択される。位
置５０±５は所謂標準充填水準面である。低圧生成物分
離器Ｄ中に於けるポリマー熔融体の一定の標準充填水準
面を調節するための第２の方法は、主として後接続され
た絞り及び制御系Ｅに於ける自由流通断面の調節に存す
る。

この制御系Ｅは低圧生成物分離器Ｄと搬出押出機Ｆの流
入口との間に配置されている。絞り及び制御系Ｅは普通
球弁又板弁であるのが適当である。その極大開口は押出
機Ｆへの流通路中に於ける管断面に相当する。絞り及び
制御系の調節は手に依てのみならず、自動的にも行われ
ることができる。自動的制御の場合には、５０±５の所
望の目盛指示は、回転数調節に対して作用するか又は絞
り或は遮断装置の開口に対して作用する制御圏用の衝動
附与器として使用される。斯かる測定及び制御技術的装
置は公知である。勿論その搬出が生成するポリマー熔融
体流に適合せしめられた押出機Ｆは、押出機中への入口
の上方に装置Ｅを追加的に取り付けることを拒否しない
。低圧生成物分離器Ｄ中に於けるポリマー熔融体の充填
高さの一定の水準面は、前述の方法に依る外に、直列接
続された高圧生成物分離器Ｂ中に於ける充填水準面が、
そこにて支配するより高い圧力に於て作動され得る構造
部分例えば弁が選択されることに依て系Ｅより区別され
る絞り及び制御Ｃに依ソー定に保たれ、且つ低圧生成物
分離器Ｄよりの熔融体流出が系Ｅに依り且つ／又は押出
機Ｆのスクリュウの回転数に依り、押出機が高圧生成物
分離器よりの熔融体流出に相当するように制御されるこ
とに依ても維持されることができる。

前述の公知の高圧重合方法に依るエチレンポリマーの製
造中に、粒状体に処理される物質より箔を製造する場合
には、自然の不均質性即ち所謂斑点、魚目、ゲル等の発
生することが示された。物質を箔への最終処理器に引き
渡す前に所謂後処理操作に附する時は、斯かるできあが
つた生成物中に於ける不均質性を排除又は明らかに減少
し得ることは公知である。加うるにポリマー熔融体の押
出し後得られる粒状体は、現在の技術水準に相当する若
干の可能性を挙げるならば、熔融範囲の近くに於てカレ
ンダーロール上に導き、次に再び押出すか又は捏和及び
均質化部分をスクリュウ内に包含している１つの部分又
は２つの部分より成れるスクリュウ機上にて処理するか
又は連続的に作動する押出機が後接続されている内混合
器に供給する。この操業方法は面倒であるのみならす費
用もかかる。本発明の目的とする所は低密度のエチレン
ポリマーを製造する方法を開発しようとするに在り、こ
の場合不均質性の発生が著しく減少されるか又は回避さ
れており、然かも費用のかかる後処理方法を必要としな
い生成物が得られる。

この目的は本発明に依れば、熔融エチレンポリマーの高
圧生成物分離帯域Ｂ中に於ける及び低圧生成物分離帯域
Ｄ中に於ける充填水準面が反復する時間間隔に於てＢに
後続する絞り及び制御系Ｃ中に於ける開放断面の周期的
解放及び限局に依り又はＤ中に於ては絞り及び制御系Ｅ
の開口断面の周期的変化に依り又は押出機Ｆのスクリュ
ウの回転数の周期的変化に依り周期的に標準充填水準面
から低下せしめ且つ再び標準水準面に上昇せしめ又は上
昇せしめ且つ低下せしめることに依り達成される。

Ｂ及びＤ中に於ける又はＤ中に於ける充填水準面の低下
及び上昇又は上昇及び低下の終末と直く次の充填水準面
の変化の開始との間の時間間隔が３０乃至２４扮である
のが有利である。

更に有利な方法に依ればＢ及びＤ中に於ける又はＤ中に
於ける充填位の夫々の低下及び上昇の時間は３乃至２紛
である。

Ｂ及びＤ中に於ける又はＤ中に於ける充填水準面の夫々
の低下及び上昇の時間は殊に夫々一定の標準充填水準面
の５０乃至１００％でなければならない。本発明方法の
有利な実施形に依れば、低圧生成物分離帯域Ｄ中に於け
る充填水準面の周期的低下及ひ上昇は、絞り及び制御系
Ｅの開口断面の周期的解放及び限局に依り、押出機Ｆの
スクリュウの適応せる回転数に於て及び絞り且つ制御系
Ｃの不変の開口断面に於て又は押出機Ｆのスクリュウの
回転数の周期的変化に依り、系Ｃの不変の開口断面及び
完全に開放された系Ｅに於て行われる。

他の有利な方法に依れば、生成物分離帯域Ｂ及びＤ中に
於ける充填水準面の周期的低下及び上昇は絞り及び制御
系Ｃの開口断面の周期的解放及び限局に依り系Ｅの不変
の開口に於て及び押出機Ｆのスクリュウの一定の回転数
に於て行われる。冒頭に於て記載された高圧法に依るエ
チレンポリマーの連続的製法及び重合系Ａを去つた後ポ
リマーが押出機Ｆに供給され、次に粒状体形に変ぜられ
る前に於ける分離帯域又は所謂分離器Ｂ及びＤ中に於け
るポリマーの段階的分離は公知であり且つ例えば“Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ゛第７３巻”（１
９６６年）第２６号第１１３乃至１２０頁中に、及び４
４Ｕ１１ｍａｎｓＥｎｃｙｋＩ０ｐａｄｉｅｄｅｒｔｅ
ｃｈｎｉｓｅｈｅｎＣｈｅｍｉｅ″ＶｅｒｌａｇＵｒｂ
ａｎ＆Ｓｃｈｗａｒｚｅｒｌｂｅｒｇ，Ｍｕｎｃｈｅｎ
，Ｂｅｒｌｌｎ第３版（１９６詳）第１４巻第１３８乃
至１４５頁中に記載されている。この方法は普通の連続
的に操業される全部の高圧重合系に対し、例えば連続的
に操業される管状反応器及び／又は攪拌オートクレーブ
に対し使用されることができる。管状反応器とはその長
さが円形管直径の５０００乃至５０００Ｃｆｉである管
状重合容器を意味する。本方法はエチレンの単一重合に
対し並びにエチレンと他のエチレンと共重合する化合物
との共重合に対し使用されることができる。斯かる化合
物としては普通高圧条件下にてラジカルを形成する普通
の重合開始剤の存在に於て共重合されることができる総
ての化合物が挙げられる。斯かる化合物は例えばアクリ
ル酸及びそのＣ１乃至Ｃ４−アルコールとのエステル、
アクリルニトリル，アクリルアミド，ビニルアセテート
，ビニルプロビオナート又はビニルエーテルである。こ
の場合エチレンポリマーなる表現はメルトインデックス
０．０８−４０ｙ／１０１Ｔ１１ｎ（ＤＩＮ５３７３５
）の固状ポリマーを包含する。高圧重合に於ては、エチ
レンの単一重合又は共重合に対して公知である全部の重
合開始剤及び場合に依り連鎖移動剤が使用されることが
できる。エチレンのホモポリマーに係る限り、これ等は
０．９１５乃至０．９３５ｙ／Ｃｌｔの密度（ＤＩＮ５
３４７９）を有する。形成されたポリマーを分離するた
めに、形成されたポリマーと未反応のモノマーより成れ
る重合帯域Ａを去る反応混合物を１００乃至５００バー
ルの圧力に膨張し、且つ１つ又は夫以上の平行に設けら
れた高圧生成物分離帯域Ｂ中に導入し、この中にて形成
されたポリマーの大部分は熔融体として分離される。

高圧生成物分離帯域Ｂ中にて分離されたものは、絞り及
び制御系Ｃを通過した後１つ又は夫以上の後続して設け
られた低圧生成物分離帯域Ｄ中に達する。この低圧生成
物分離帯域Ｄ中にて残りの残留ポリマーは揮発性成分よ
り充分に分離されることができる。Ｂ及びＤ中に於ける
温度は１５０゜Ｃと４００℃との間に調節されているこ
とができる。Ｂ及び／又はＤ中に於ける平均生成物滞留
時間は０．５乃至６吟である。Ｂ中に於ては１００乃至
５００バールの圧力が支配し、Ｄ中に於ては１乃至１０
バールの圧力が支配する。ポリマー熔融体が搬−出押出
機Ｆ中に達する前に、この熔融体はなお低圧生成物分離
帯域Ｄの下方に存在する第２の絞り又は制御系Ｅを通過
する。分離された熔融ポリマーの高圧生成物分離帯域Ｂ
中に於ける及び低圧生成物分離帯域Ｄ中に於け．る充填
水準面は、普通一定の水準面に保持される。

斯かる一定の標準充填水準面はＢ中に於ては絞り及び制
御系Ｃの適当な開口断面の調節に依り達成される。低圧
生成物分離帯域Ｄ中に於ては、標準充填水準面は公知の
方法様式に依り及び制御・系Ｅの適当な開口断面の調節
に依るか又は完全に開放された系Ｅに於て押出機Ｆのス
クリュウの回転数に依ソー定に保持されることができる
。本発明方法に依れは、高圧生成物分離帯域Ｂ中に於け
る及び低圧生成物分離帯域Ｄ中に於ける又は低圧生成物
分離帯域Ｄ中のみに於ける熔融エチレンポリマーの充填
水準面は、周期的に反復する時間間隔に於て標準充填水
準面より低下され且つ再び標準水準面に上昇され又は上
昇され且つ低下される。このために出口に於て高圧生成
物分離帯域Ｂの下方に絞り及び制御装置Ｃが取り付けら
れている。系Ｃの開口断面の周期的解放及び限局に依り
、熔融ポリマーの高圧生成物分離帯域中に於ノける及び
同時に低圧生成物分離帯域中に於ける充填水準面は周期
的に上昇及び低下され或は低下及び上昇される。従て制
御系Ｃ（７）機能は、本発明に依れは生成物帯域Ｂ及び
Ｄ中に於ける充填水準面を周期的に反復する時間間隔に
於て上昇且つ低下せしめ或は低下且つ上昇せしめる点に
存しなければならない。本発明方法に対しては、屡々又
生成物が１５０乃至４００′Ｃの温度に於て０．５乃至
６紛の平均滞留時間を有する低圧生成物分離帯域Ｄ中に
於てのみ、冒”頭に於て定義した標準充填水準面に関し
熔融ポリマーの充填水準面を周期的に低下且つ上昇せし
め或はこの逆にすれば充分である。

このために出口に於て低圧生成物分離帯域Ｄの下方に存
在する制御系Ｅを周期的に反復する時間間隔に於て解放
且つ限局するか、又は押出機Ｆのスクリュウの回転数を
周期的に変化する。大事なことは、Ｄ中に於ける或はＢ
及びＤ中に於ける充填水準位の低下及び上昇が周期的に
一定の時間間隔に於て絶えず反復される点である。この
方策に依り、分離されたポリマーの或る部分が１５０乃
至４００′Ｃの比較的高い温度に於て比較的高い滞留時
間を有するＢ及び／又はＤ中に於ける所謂デツドスペー
スの発生は回避される。Ｂ及びＤ中に於ける充填水準面
の低下及び上昇又は上昇及び低下の終末とＢ及びＤ中に
於ける又はＤ中に於ける充填水準面の直ぐ次の変化の開
始との間の時間間隔は、殊に３０乃至２旬殊に４５乃至
１２吟でなければならない。

中間時には分離器Ｂ及びＤ中に於ける熔融エチレンポリ
マーは標準充填水準位に調節されている。分離器Ｂ及び
Ｄ中に於ける充填水準位の低下及ひ上昇は、夫々３乃至
加殊に５乃至１２分継続しなければならない。この場合
充填水準位の低下及ひ上昇の時間とは、低下及び上昇が
行われる時間即ち例えば制御系Ｃ又はＥの開口断面が解
放され且つ再び限局されてしまう時間を分にて示せるも
のを意味する。分離器Ｂ及びＤ中に於ける又は分離器Ｄ
中に於ける充填水準面の低下及び上昇は標準充填水準面
の５０乃至１００％殊に６０乃至８０％だけ行われなけ
ればならない。低圧分離器Ｄ中に於ける充填水準面の周
期的低下及び上昇は、押出機Ｆのスクリュウの適応せる
回転数に於て且つ制御系Ｃの不変の開口断面に於て制御
系Ｅの開口断面の周期的解放及び限局に依り、又は完全
に解放された制御系Ｅ及び系Ｃの不変の開口断面に於て
押出機Ｆのスクリュウの回転数の周期的変化に依り行わ
れることができる。

押出機のスクリュウの回転数の適応とは、系Ｅの開口断
面の解放或は限局に際して押出機のスクリュウの回転数
が、重合系Ａ中にて生成された生成物を連続的に搬出で
きるために必要な回転数を５０乃至１５０％の割合だけ
変化することを意味する。開口断面の解放とは、絞り及
び制御系Ｃ又はＥの完全な解放を意味する。開口断面の
限局に際しては絞り及び制御系Ｃ又はＥは部分的にのみ
開放されている。この方策に依り、熔融体流は分離器Ｂ
より分離器Ｄ中に、或は分離器Ｄより押出機Ｆ中に周期
的に加速又は減速される。分離器Ｄよりの熔融体流の周
期的加速又は減速は、系Ｅの不変の開口断面に於て搬出
押出機Ｆのスクリュウの回転数の周期的変化に依ても達
成されることができる。本発明方法の利点とする所は、
前記の操業方法に依り、箔に処理する場合所謂斑点又は
魚眼を形成する傾向を有しない改良された均質のエチレ
ンポリマーを得ることができる点に存する。

均質性の判定は次のようにして行われた：２０直径単位
の相対的長さを有する押出機上に於て１：２のインフレ
ーシヨン比及び１５００Ｃのスクリュウ尖端前の物質温
度に於て４０ｐｍの厚さの箔を製造した。

得られた箔の均質性を視覚に依り確認される。所謂゜゜
魚眼゛゜゜斑点゛又は“ゲル゛に関して試験する。この
場合判定されるべき見本が１．５ｃ１ｎの間隔にて照明
スリガラス板上に粘着された１．５ｄ幅の黒色条片より
成れるラスター前方数０の間隔に保持された場合に特に
有利であることが判明した。試験箔の製造に干与せしめ
られた見本は、他の記載がない限り５０ｔの全量に係り
、且つ生産中総て５ｔが採用された。

従て判定のために夫々１敗の箔が提供された。ポリマー
はＤＩＮ５３７３５及びＤＩＮ５３４７９に依るメルト
インデックス及び密度に依り等級を附された。操業方法
を次の諸例に依り詳細に説明する。例１反応器、即ち管
状反応器は４ｆ／１０ｒＴ１１ｎのメルトインデックス
及び０．９２４ｆ／Ｃｌｔの密度のポリエチレン毎時間
５０００ｋ９を生産する。

低圧生成物分離器Ｄ中の充填水準面は制御圏を介して分
離器Ｄと押出機Ｆへの入口との間に存在する板弁Ｅの開
口幅の調節に依り指示の５０±５目盛部分に保持される
。全６扮間開口断面が制御位置に於ける平均状態の７５
％に減少されるように制御が行われる。６分間後指示は
１００％に達する（排出測定は毎時間４６００ｋｇを生
じた）。

この値を達成した後、板弁の調整シリンダーは、今まで
調整シリンダーが制御位置から７５％の開口断面の方向
に動かされたと同一距離だけ調整位置に対り反対方向に
開放する。４．紛間後（この場合排出は毎時間５５００
ｋ９）５０目盛部分が達成される。

次に板弁を一度は完全に開き、次に充填水準面５０目盛
部分に対する制御位置に到る。試験箔１−１０（７）ｍ
個は比較的大きい検知可能な不均質性を示すことなく、
僅かの小さい検知可能な不均質性を示すに過ぎなく、こ
れ等不均質性は静的に即ち何等検知可能な堆積なしに箔
見本上に分布している。Ｊ比較試験 分離器Ｄ中に於ける熔融体水準位の上昇及び低下及び弁
の完全な解放を中止したと言う唯一の点を除き全く同様
に操作した。

箔見本６中に於ては約１０ｒｒＬ，の長さの箔チューブ
の２つの個所に於て比・較的大きい不均質性の堆積が示
されたに反し、箔の他の外観は例１に相当した。他の試
験の結果は、例１に依り操作する場合何等の不均質性を
有しないが、比較試験に依り操作する時は■試料の少く
とも１つが不均質性を有すフることを総括せしめる。

例２ 反応器即ち管状反応器は０．９２９５ｑ／Ｃｌｔの密度
及び１０．６ｙ／１０ｒｒ１１ｎのメルトインデックス
を有するコポリマー毎時間１８０ｋ９を生産する。

このコポリマーはエチレンの外にアクリル酸５．睡量％
及び第３級ブチルアクリラート２．５４重量％を含有し
ている。低圧生成物分離器Ｄ中に於ける充填水準位は手
に依り調節することに依り５０目盛部分に調節される。
このことは実際には４０−６０目盛部分の変動に相当す
る。総ての６０分間中熔融体流は絞られ、従て３−６分
後１００目盛部分が達成された。この値に達した後、板
弁Ｅはこれが、“゜標準位置゛から予め“゜閉鎖゛の方
向に離されたと同一の程度だけ標準位置から゜“開放゛
の方向に動かされた。次に板弁Ｅは完全に開放され、且
つ直ちに再び充填水準位としての５０目盛部分に調節し
ようと試みられる。問題になる量は普通に１１１０（５
ｔ１試料は総て５００ｋｇ）である。

箔は例１に依るよりも多くの不均質性を示したが、この
不均質性は同様に小さく且つ静的に分布されている。比
較試験 例２の条件は、絶えず熔融体水準位を５０目盛部分に保
持しようと試みられた点に於て変更された。

この場合箔見本中に比較的大きい斑点の３一６個の堆積
が発生した。例２に依り操作する場合反復しても斑点は
発生しなかつた。例３ 反応器即ち攪拌オートクレーブから、ビニルアセタート
１鍾量％を重合含有し且つそのメルトインデックス４．
２ｙ／１０ｎ１１ｎであつて、その密度が０．９３３ダ
／ＣＴｉであるエチレンコポリマー毎時間８５０ｋ９が
到達する。

低圧生成物分離器Ｄ中に於ける熔融体の水準位は例３中
に挙げたと同様にして変更される。使用方策に応じて搬
出は毎時間約７６０ｋｇに低下し（水準位の上昇）、或
は毎時間約９１０ｋｇに上昇した（再低下）。試験箔の
均質性は例１の夫と比較可能である。比較試験 例１に於けると同様に操作するが、不変の熔融体水準位
に調節される点に於てのみ相違する。

例３と異なり、箔７及び８中に比較的大きい斑点が現わ
れた。反復する時は例３の結果を確認する。比較試験の
条件下にて、１Ｃｅ．の試験箔の中１枚乃，至２枚は多
数の比較的大きい斑点を示す。例４ 重合系Ａ即ち管状反応器は、２ｙ／１０ｒｒ１ｉｎのメ
ルトインデックス及び９２３ダ／ａｌの密度のポリエチ
レン毎時間１７００ｋ９を生成する。

低圧生成物分離器Ｄ中に於ける水準位は、制御圏を介し
て押出機の回転数を５０±５目盛部分に調節することに
依り指示は一定に保たれる。板弁Ｅは完全に開放されて
いる。生成するポリマー量をさばくために押出機Ｆに於
て平均９５Ｕｐｍの回転数が必要とされる。総て４紛間
中回転数は７０Ｕｐｍに固定的に調節される。４分間後
分離器Ｄ中に於ける水準準位は１００目盛部分に達する
。

次に回転数は１１０Ｕｐｍノに変ぜられる。更に４．紛
間後、５０部分目盛の水準位が生じ、且つ押出機の回転
数を変することに依り再び自動的に５０±５目盛部分に
て一定に保たれる。試験箔１−１０は比較的大きい不均
質性を示すこ・となく、箔表面上に何等認識し得る堆積
なしに静的に分布された僅かの小さい認識し得る不均質
性のみを示す。

比較試験 全く同様に操作したが、低圧生成物分離器Ｄ中・に於け
る水準位は押出機の回転数を自動的に制御することに依
り絶えず５０±５目盛部分に調節することに依ソー定に
保持される点のみが相違した。

箔見本４中に於ては不均質性の堆積が見出された。試験
を反復する場合、１敗の箔見本の中１枚又は２枚が斯か
る不均質性を示した。例５ 操作条件は例４に相当した。

即ち低圧生成物分離器Ｄ中に於ける水準位は押出機Ｆの
回転数を調節することに依り５０±５目盛部分に保たれ
た。これと異なり、回転数は総て６０分間中９５Ｕｐｍ
の平均回転数に固定された。低圧生成物分離器Ｄ中に於
ける熔融体水準位の８（２）分目盛への上昇は、制御系
Ｃが高圧生成物分離帯域Ｂの下方に於て制御位置に於け
る開放の状態から出発して大体２倍開放されることに依
り同時に行われた。熔融体水準位の上昇は３分間後達成
された。次に系Ｃの制御は４分間内に徐々に再び制御位
置に於ける開放幅にもたらされる。次に回転数制御は押
出機Ｆの回転数の調節に依り解放され、最後に低圧生成
物分離器Ｄ中に於て５０±５目盛部分の水準位が調節さ
れた。試験箔１−１０に於ては不均一性は確認されなか
つた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ５００乃至５０００バールの圧力及び５０乃至４５
   ０℃の温度に於てラジカル分解性重合開始剤の存在に於
   て重合系Ａ中にてエチレンを単一重合し又はエチレンを
   エチレンと共重合し得る化合物とを共重合し、形成され
   た反応混合物を１００バールと５００バールとの間の圧
   力及び１５０℃と４００℃との間の温度が支配する高圧
   生成物分離帯域Ｂ中に、絞り及び制御系Ｃを通して１バ
   ールと１０バールとの間の圧力及び１５０℃と４００℃
   との間の温度が支配し且つ反応混合物が０．５乃至６０
   分の平均滞留時間を有する後続して設けられた低圧生成
   物分離帯域Ｄ中に、第２の絞り及び制御系Ｅを通して搬
   出押出機Ｆ中に移送することに依り〔この場合熔融エチ
   レンポリマーの充填水準面はＢ及びＤ中に於ては夫々Ｂ
   及びＤに後続する系Ｃ又はＥの開口断面に依り且つ又は
   Ｄ中に於ては押出機Ｆのスクリュウの回転数に依り一定
   の標準充填水準面に調節されている〕エチレンポリマー
   を連続的に製造する方法に於て、Ｂ及びＤ中に於ける充
   填水準面が反復する時間間隔に於てＢに後続する系Ｃの
   開口断面の周期的解放及び局限に依り又はＤ中に於ては
   系Ｅの開口断面の周期的変化に依り又は押出機Ｆのスク
   リュウの回転数の周期的変化に依り周期的に標準充填水
   準面に低下せしめられ、且つ再び標準充填水準面に上昇
   せしめられ又は上昇せしめられ且つ低下せしめられるこ
   とを特徴とするエチレンポリマーを連続的に製造する方
   法。 ２ Ｂ及びＤ中に於ける又はＤ中に於ける充填水準面の
   低下及び上昇又は上昇及び低下の終末と充填水準面の直
   ぐ次の変化の開始との間の時間間隔が３０乃至２４０分
   であることを特徴とする特許請求の範囲１項記載の方法
   。 ３ Ｂ及びＤ中に於ける又はＤ中に於ける充填水準面の
   低下及び上昇の時間が３乃至２０分であることを特徴と
   する特許請求の範囲１記載の方法。 ４ Ｂ及びＤ中に於ける又はＤ中に於ける充填水準面の
   低下及び上昇が一定の標準充填水準面の夫々５０乃至１
   ００％だけ行われることを特徴とする特許請求の範囲１
   記載の方法。 ５ Ｄ中に於ける充填水準面の周期的低下及び上昇が系
   Ｅの開口断面の周期的解放及び局限に依り、押出機Ｆの
   スクリュウの適応せる回転数に於て且つ系Ｃの不変の開
   口断面に於て行われることを特徴とする特許請求の範囲
   １記載の方法。 ６ Ｄ中に於ける充填水準面の周期的低下及び上昇が完
   全に開放された系Ｅ及び系Ｃの不変の開口断面に於て押
   出機Ｆのスクリュウの回転数の周期的変化に依り行われ
   ることを特徴とする特許請求の範囲１記載の方法。 ７ Ｂ及びＤ中に於ける充填水準面の周期的低下及び上
   昇が系Ｃの開口断面の周期的解放及び局限に依り、系Ｅ
   の不変の開口断面及び押出機Ｆのスクリュウの一定の回
   転数に於て行われることを特徴とする特許請求の範囲１
   記載の方法。