JPS6049190B2 - ペルオキシドの製造方法 - Google Patents
ペルオキシドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6049190B2 JPS6049190B2 JP52116027A JP11602777A JPS6049190B2 JP S6049190 B2 JPS6049190 B2 JP S6049190B2 JP 52116027 A JP52116027 A JP 52116027A JP 11602777 A JP11602777 A JP 11602777A JP S6049190 B2 JPS6049190 B2 JP S6049190B2
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- Japan
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- acid
- hydroperoxide
- reaction
- group
- peroxide
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、オレフィン類とヒドロペルオキシドからペ
ルオキシドを製造する方法に関する。
ルオキシドを製造する方法に関する。
ジグミルペルオキシドのようなペルオキシドを製造す
る場合、ヒドロペルオキシドとカルビノールを反応させ
る方法が一般に採用されており、その際、ヒドロペルオ
キシドとカルビノールのモル比は1対0.8ないし1.
6の間が好ましいとされてい サ l吻←i==L←■
th−とケワハハrrnll、 L、lwl−、ミ、n
、F7れピーっ は、ペルオキシドと当量の水が副生す
るので、使用される酸触媒の活性を低下させないために
も副生する水を絶えす除去する操作を加えねばならない
ことが多い。 水を副生せず、したがつて上記水の除去
操作を必要としないペルオキシドの製造方法として、オ
レフィン類とヒドロペルオキシドを反応させる方法が知
られている(例えば特公昭39−2458号、特公昭4
9−24466号)。
る場合、ヒドロペルオキシドとカルビノールを反応させ
る方法が一般に採用されており、その際、ヒドロペルオ
キシドとカルビノールのモル比は1対0.8ないし1.
6の間が好ましいとされてい サ l吻←i==L←■
th−とケワハハrrnll、 L、lwl−、ミ、n
、F7れピーっ は、ペルオキシドと当量の水が副生す
るので、使用される酸触媒の活性を低下させないために
も副生する水を絶えす除去する操作を加えねばならない
ことが多い。 水を副生せず、したがつて上記水の除去
操作を必要としないペルオキシドの製造方法として、オ
レフィン類とヒドロペルオキシドを反応させる方法が知
られている(例えば特公昭39−2458号、特公昭4
9−24466号)。
ところがこれら公報記載の技術によれば、ヒドロペルオ
キシドに対するペルオキシドの収率が悪いことが大きな
欠点であり、前記カルビノールを使用する技術と置換す
ることができなかつた。そして従来法では、前記公報に
も記載されているように、オレフィン類とヒドロペルオ
キシド原料仕込み比率は、前記ヒドロペルオキシドとカ
ルビノールの反応の場合と同様、モル比で1対1に近い
範囲となるように選ばれていた。 本発明者らは、オレ
フィン類とヒドロペルオキjシド類との反応において、
ペルオキシドの収率を高めるべく研究を進めた結果、従
来この種の反応で用いられていたのと異なり、オレフィ
ン類を大過剰に使用することによりペルオキシド収率の
向上を達成しうることを知つた。
キシドに対するペルオキシドの収率が悪いことが大きな
欠点であり、前記カルビノールを使用する技術と置換す
ることができなかつた。そして従来法では、前記公報に
も記載されているように、オレフィン類とヒドロペルオ
キシド原料仕込み比率は、前記ヒドロペルオキシドとカ
ルビノールの反応の場合と同様、モル比で1対1に近い
範囲となるように選ばれていた。 本発明者らは、オレ
フィン類とヒドロペルオキjシド類との反応において、
ペルオキシドの収率を高めるべく研究を進めた結果、従
来この種の反応で用いられていたのと異なり、オレフィ
ン類を大過剰に使用することによりペルオキシド収率の
向上を達成しうることを知つた。
すなわち本発明に・よれば、酸触媒の存在にオレフィン
類とヒドロペルオキシドを反応させてペルオキシドを製
造する方法において、反応系におけるオレフィン性二重
結合/ヒドロペルオキシド基の比率を8以上とすること
を特徴とするペルオキシドの製造方法が提供される。オ
レフィン類としては、例えば (ただしR1、R2、R7、R9はアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基のような炭化水素基、R3、R
4、R5、R6、RlO.Rllは、水素又はアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基のような炭化水素基
、R8は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基のような炭化水素基)で表わされる化合物が選ば
れる。
類とヒドロペルオキシドを反応させてペルオキシドを製
造する方法において、反応系におけるオレフィン性二重
結合/ヒドロペルオキシド基の比率を8以上とすること
を特徴とするペルオキシドの製造方法が提供される。オ
レフィン類としては、例えば (ただしR1、R2、R7、R9はアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基のような炭化水素基、R3、R
4、R5、R6、RlO.Rllは、水素又はアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基のような炭化水素基
、R8は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基のような炭化水素基)で表わされる化合物が選ば
れる。
より具体的には、ジイソブチレン、2,5−ジメチルヘ
キサジエン、ジベンテンのような脂肪族オレフィン類、
α−メチルスチレン、m−またはp−イソプロペニルト
ルエン、m−またはp−イソプロペニルクロルベンゼン
、m−またはp−イソプロペニルイソプロピルベンゼン
、m−またはp−ジイソペニルベンゼン、1−イソプロ
ペニルナフタリン、2−イソプロペニルナフタリン等の
イソプロペニル基を有する芳香族化合物、α一エチルス
チレン、α−プロピルスチレンのような芳香族オレフィ
ン類を例示することができる。とくに本発明は、イソプ
ロペニル基を有する芳香族化合物に好適に利用される。
また本発明の反応に利用されるヒドロペルオキ.シドは
、第3級ヒドロペルオキシドが好適であり、例えば(た
だしRl2〜Rl3)Rl6)Rl8はアルキル基〜シ
クロアルキル基、アリール基のような炭化水素基、Rl
4、Rl7、Rl9はアルキル基のような脂肪族の炭化
水素基、Rl5はアルキレン基、シクロアルキレン基、
アリーレン基のような炭化水素基)で表わされるヒドロ
ペルオキシドが好適である。
キサジエン、ジベンテンのような脂肪族オレフィン類、
α−メチルスチレン、m−またはp−イソプロペニルト
ルエン、m−またはp−イソプロペニルクロルベンゼン
、m−またはp−イソプロペニルイソプロピルベンゼン
、m−またはp−ジイソペニルベンゼン、1−イソプロ
ペニルナフタリン、2−イソプロペニルナフタリン等の
イソプロペニル基を有する芳香族化合物、α一エチルス
チレン、α−プロピルスチレンのような芳香族オレフィ
ン類を例示することができる。とくに本発明は、イソプ
ロペニル基を有する芳香族化合物に好適に利用される。
また本発明の反応に利用されるヒドロペルオキ.シドは
、第3級ヒドロペルオキシドが好適であり、例えば(た
だしRl2〜Rl3)Rl6)Rl8はアルキル基〜シ
クロアルキル基、アリール基のような炭化水素基、Rl
4、Rl7、Rl9はアルキル基のような脂肪族の炭化
水素基、Rl5はアルキレン基、シクロアルキレン基、
アリーレン基のような炭化水素基)で表わされるヒドロ
ペルオキシドが好適である。
より具体的にはTert−ブチルヒドロペルオキシド、
Tert−アミルヒドロペルオキシド、2,5−ジメチ
ルー2,5−ジヒドロペルオキシヘキサンのような炭素
数4ないし8の脂肪族ヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド、シメンヒドロペフルオキシド、m−ま
たはpージイソプロピルベンゼンモノヒドロペルオキシ
ド、m−またはp−ジイソプロピルベンゼンヒドロペル
オキシド、イソプロピルナフタリンヒドロペルオキシド
のような炭素数9ないし16の芳香族ヒドロペルオキシ
ドを7好適例として挙げることができる。本発明の反応
は酸触媒の存在下に行われる。
Tert−アミルヒドロペルオキシド、2,5−ジメチ
ルー2,5−ジヒドロペルオキシヘキサンのような炭素
数4ないし8の脂肪族ヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド、シメンヒドロペフルオキシド、m−ま
たはpージイソプロピルベンゼンモノヒドロペルオキシ
ド、m−またはp−ジイソプロピルベンゼンヒドロペル
オキシド、イソプロピルナフタリンヒドロペルオキシド
のような炭素数9ないし16の芳香族ヒドロペルオキシ
ドを7好適例として挙げることができる。本発明の反応
は酸触媒の存在下に行われる。
酸触媒としては、硫酸、過塩素酸、リン酸、塩化水素、
三フッ化ホウ素、塩化リン、臭化リンの如きハロゲン化
リン、メタンスルホン酸、エタンスル)ホン酸、デカン
スルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸
、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
キシレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、クロルベ
ンゼンスルホン酸、ジクロルベンゼンスルホン酸、ニト
ロベンゼンスルホン酸、3−ニトロー6−メチルベンゼ
ンスルホン酸、3−ニトロー4−ドデシルベンゼンスル
ホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、ナフタリンス
ルホン酸の如き脂肪族、脂環族又は芳香族のスルホン酸
、イオン交換樹脂などを例示することができる。これら
の中では、オレフィン類の多量化(例えば2量化)が少
なく反応速度も適度であり、ペルオキシドの収率が高い
ところからスルホン酸類、とくに芳香族スルホン酸、中
でもp−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、ニトロベンゼンスルホン酸等を用いることが好ま
しい。また、ハロゲン化リンも好適な触媒である。これ
らの触媒とともに、酢酸のような脂肪族カルボン酸、エ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、テトラヒドロピランのようなエーテル
類などを併用してもよい。
三フッ化ホウ素、塩化リン、臭化リンの如きハロゲン化
リン、メタンスルホン酸、エタンスル)ホン酸、デカン
スルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸
、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
キシレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、クロルベ
ンゼンスルホン酸、ジクロルベンゼンスルホン酸、ニト
ロベンゼンスルホン酸、3−ニトロー6−メチルベンゼ
ンスルホン酸、3−ニトロー4−ドデシルベンゼンスル
ホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸、ナフタリンス
ルホン酸の如き脂肪族、脂環族又は芳香族のスルホン酸
、イオン交換樹脂などを例示することができる。これら
の中では、オレフィン類の多量化(例えば2量化)が少
なく反応速度も適度であり、ペルオキシドの収率が高い
ところからスルホン酸類、とくに芳香族スルホン酸、中
でもp−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、ニトロベンゼンスルホン酸等を用いることが好ま
しい。また、ハロゲン化リンも好適な触媒である。これ
らの触媒とともに、酢酸のような脂肪族カルボン酸、エ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、テトラヒドロピランのようなエーテル
類などを併用してもよい。
たとえば、触媒としてスルホン酸を用いる場合、テトラ
ヒドロフランの如き環状エーテルを少量添加すると、オ
レフィン類の多量化が防止できるいう利点がある。これ
ら添加剤の使用量は、例えは触媒の0.5ないし50重
量倍程度であつてよい。また触媒の使用量は、触媒の種
類によつても異なるが、反応混合物中の触媒濃度が通常
0.001ないし川重量%程度、好ましくは0.003
ないし5重量%程度となるように選択される。本発明の
反応においては、反応系におけるオレフィン性二重結合
/ヒドロペルオキシド基の比率が8以上に保つことが必
要であり、好ましくはこの比率が10ないし300の範
囲にあることが望ましい。
ヒドロフランの如き環状エーテルを少量添加すると、オ
レフィン類の多量化が防止できるいう利点がある。これ
ら添加剤の使用量は、例えは触媒の0.5ないし50重
量倍程度であつてよい。また触媒の使用量は、触媒の種
類によつても異なるが、反応混合物中の触媒濃度が通常
0.001ないし川重量%程度、好ましくは0.003
ないし5重量%程度となるように選択される。本発明の
反応においては、反応系におけるオレフィン性二重結合
/ヒドロペルオキシド基の比率が8以上に保つことが必
要であり、好ましくはこの比率が10ないし300の範
囲にあることが望ましい。
上記比率が小さい場合は、ペルオキシドの収率を高める
ことが困難である。例えばオレフィン類とヒドロペルオ
キシドを反応系に一括添加して反応させる回分方式では
、オレフィン性二重結合/ヒドロペルオキシド基の比率
が8以上となるように仕込む必要がある。一方、反応系
に何れか一方の成分又は両方の成分を連続的又は間欠的
に供給し、反応系からの抜き出しも連続的又は間欠的に
行う方法などを採用する場合にも、反応系におけるオレ
フィン性二重結合/ヒドロペルオキシド基の比率が常に
8以上となるようにせねばならず。従つてその場合の反
応系への原料供給速度またはそれと原料供給比率は、反
応速度またはそれと反応系からの抜き出し速度を考慮し
て定めなければならない。反応温度は、通常0ないし1
00゜Cぃ好ましくは20ないし80′Cてあり、反応
時間は通常1分ないし1詩間、好ましくはl粉ないし8
時間である。
ことが困難である。例えばオレフィン類とヒドロペルオ
キシドを反応系に一括添加して反応させる回分方式では
、オレフィン性二重結合/ヒドロペルオキシド基の比率
が8以上となるように仕込む必要がある。一方、反応系
に何れか一方の成分又は両方の成分を連続的又は間欠的
に供給し、反応系からの抜き出しも連続的又は間欠的に
行う方法などを採用する場合にも、反応系におけるオレ
フィン性二重結合/ヒドロペルオキシド基の比率が常に
8以上となるようにせねばならず。従つてその場合の反
応系への原料供給速度またはそれと原料供給比率は、反
応速度またはそれと反応系からの抜き出し速度を考慮し
て定めなければならない。反応温度は、通常0ないし1
00゜Cぃ好ましくは20ないし80′Cてあり、反応
時間は通常1分ないし1詩間、好ましくはl粉ないし8
時間である。
反゛応に際し、炭化水素類の如き保括性稀釈剤を存在さ
せてもよい。次に実施例により説明する。実施例1 Q−メチルスチレン(a −MS)70.8g(600
rT1m01)と80%クメンヒドロペルオキシド(C
F[P)−クメン溶液9.5g(CHPぃ50rT1m
01)との混合物を45゜Cに加温し、攪拌下、これに
p−トルエンスルホン酸0.098g(0.5Tnm0
1)を加えた。
せてもよい。次に実施例により説明する。実施例1 Q−メチルスチレン(a −MS)70.8g(600
rT1m01)と80%クメンヒドロペルオキシド(C
F[P)−クメン溶液9.5g(CHPぃ50rT1m
01)との混合物を45゜Cに加温し、攪拌下、これに
p−トルエンスルホン酸0.098g(0.5Tnm0
1)を加えた。
1時間反応を続けたところ加えられたCIIPのうち魅
%が反応し、そのうち87%がジクミルペルオキシド(
DCP)に変換された(反応選択率87%)。
%が反応し、そのうち87%がジクミルペルオキシド(
DCP)に変換された(反応選択率87%)。
一方、加えられたa −MSのうち二量化したものは0
.3%(2rT1m01)にすぎず、残りはQ −MS
として回収された。実施例2 触媒としてベンゼンスルホン酸0.053g(0.3I
T1m01)をp−トルエンスルホン酸のかわりに用い
た以外は実施例1と同様の反応を行つた。
.3%(2rT1m01)にすぎず、残りはQ −MS
として回収された。実施例2 触媒としてベンゼンスルホン酸0.053g(0.3I
T1m01)をp−トルエンスルホン酸のかわりに用い
た以外は実施例1と同様の反応を行つた。
反応時間1時間で加えられたCHPのうちの魅%が反応
し、そのつち85%がDCPに変換された(選択率85
%)。加えられたa −MSのうち二量化したものは0
.9%(61T1m01)てあり、残りはa−MSとし
て回収された。実施例3〜8 実施例1と同様の実験を触媒を変えて行つた。
し、そのつち85%がDCPに変換された(選択率85
%)。加えられたa −MSのうち二量化したものは0
.9%(61T1m01)てあり、残りはa−MSとし
て回収された。実施例3〜8 実施例1と同様の実験を触媒を変えて行つた。
結果を第1表に示す。実施例9
a−MS47.2g(400r11m01)、クメン2
3.6gおよび80%CHP−クメン溶液9.5g(C
HP、577mm01)の混合物を45゜Cに加温し、
攪拌下、これにp−トルエンスルホン酸0.098冑(
0.5mm01)を加えた。
3.6gおよび80%CHP−クメン溶液9.5g(C
HP、577mm01)の混合物を45゜Cに加温し、
攪拌下、これにp−トルエンスルホン酸0.098冑(
0.5mm01)を加えた。
1.5時間反応したところ、加えられたCIIPのうち
99%が反応し、そのうち63%がDCPに変換された
(選択率63%)。
99%が反応し、そのうち63%がDCPに変換された
(選択率63%)。
実施例10実施例1において、触媒としてp−トルエン
スルホン酸0.196g(1mm01)を使用するとと
もに添加剤としてテトラヒドロフラン0.38gを加え
た以外は実施例1と同様の反応を行つた。
スルホン酸0.196g(1mm01)を使用するとと
もに添加剤としてテトラヒドロフラン0.38gを加え
た以外は実施例1と同様の反応を行つた。
反応時間1時間でCIlPの99%が反応し、そのうち
85%がDCPに変換された。また、α−MSの二量化
したものは0.1%(4).7mm01)にすぎなかつ
た。実施例114つロフラスコにα−MS7O.8g(
600111m01)、およびドデシルベンゼンスルホ
ン酸0.1g(0.3rnm01)を仕込み45℃に加
温した。
85%がDCPに変換された。また、α−MSの二量化
したものは0.1%(4).7mm01)にすぎなかつ
た。実施例114つロフラスコにα−MS7O.8g(
600111m01)、およびドデシルベンゼンスルホ
ン酸0.1g(0.3rnm01)を仕込み45℃に加
温した。
攪拌下、これに80%CHP−クメン溶液57g(CH
Pl3OOmmOl)、および3%ドデシルベンゼンス
ルホン酸−クメン溶液3gを3時間かけて徐々に加えた
。この間温度は45℃に保つた。添加終了時において加
えられたCHP(7)88%が反応しており、そのうち
70%がDCPに変換されていた。比較例1 α−MS5.9g(50rT1m01)、クメン64.
9gおよび80%CHP−クメン溶液9.5g(CHP
−、50rT1m01)の混合物を45℃に加温し、攪
拌下、これにp−トルエンスルホン酸0.098g(0
.5mm01)を加えた。
Pl3OOmmOl)、および3%ドデシルベンゼンス
ルホン酸−クメン溶液3gを3時間かけて徐々に加えた
。この間温度は45℃に保つた。添加終了時において加
えられたCHP(7)88%が反応しており、そのうち
70%がDCPに変換されていた。比較例1 α−MS5.9g(50rT1m01)、クメン64.
9gおよび80%CHP−クメン溶液9.5g(CHP
−、50rT1m01)の混合物を45℃に加温し、攪
拌下、これにp−トルエンスルホン酸0.098g(0
.5mm01)を加えた。
2.峙間反応したところ、加えられたCl(P(7)9
8%が反応し、そのうちDCPに変換されたのは28%
にすぎなかつた。
8%が反応し、そのうちDCPに変換されたのは28%
にすぎなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 酸触媒の存在下にオレフィン類とヒドロペルオキシ
ドを反応させてペルオキシドを製造する方法において、
反応系におけるオレフィン性二重結合/ヒドロペルオキ
シ基の比率を8以上とすることを特徴とするペルオキシ
ドの製造方法。 2 オレフィン類として、イソプロペニル基を有する芳
香族化合物を用いる特許請求の範囲1記載の方法。 3 ヒドロペルオキシドが第3級ヒドロペルオキシドで
ある特許請求の範囲1記載の方法。 4 触媒として、スルホン酸類を用いる特許請求の範囲
1記載の方法。 5 触媒としてスルホン酸類を用いるに際し、環状エー
テルを併用する特許請求の範囲4記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52116027A JPS6049190B2 (ja) | 1977-09-29 | 1977-09-29 | ペルオキシドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52116027A JPS6049190B2 (ja) | 1977-09-29 | 1977-09-29 | ペルオキシドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5452005A JPS5452005A (en) | 1979-04-24 |
JPS6049190B2 true JPS6049190B2 (ja) | 1985-10-31 |
Family
ID=14676948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52116027A Expired JPS6049190B2 (ja) | 1977-09-29 | 1977-09-29 | ペルオキシドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6049190B2 (ja) |
-
1977
- 1977-09-29 JP JP52116027A patent/JPS6049190B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5452005A (en) | 1979-04-24 |
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