JPS6048561B2 - タンタル金属粉末の製造方法 - Google Patents
タンタル金属粉末の製造方法Info
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- JPS6048561B2 JPS6048561B2 JP53042731A JP4273178A JPS6048561B2 JP S6048561 B2 JPS6048561 B2 JP S6048561B2 JP 53042731 A JP53042731 A JP 53042731A JP 4273178 A JP4273178 A JP 4273178A JP S6048561 B2 JPS6048561 B2 JP S6048561B2
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 149
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 29
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 19
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 14
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 9
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 20
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 4
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROSDCCJGGBNDNL-UHFFFAOYSA-N [Ta].[Pb] Chemical compound [Ta].[Pb] ROSDCCJGGBNDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011233 carbonaceous binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- APLLYCDGAWQGRK-UHFFFAOYSA-H potassium;hexafluorotantalum(1-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[Ta+5] APLLYCDGAWQGRK-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003481 tantalum Chemical class 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、粉末冶金技術に有用な、特に粉末冶金技術に
より電解コンデンサ用の電極を製造するのに有用なタン
タル粉末の製造方法に関する。
より電解コンデンサ用の電極を製造するのに有用なタン
タル粉末の製造方法に関する。
電極、特に固体および液体型電解コンデンサ用Jの陽極
は、種々のタンタル粉末から種々の粉末冶金技術によつ
て製造されている。この種のコンデンサ用の陽極におい
ては、低い直流漏洩、低い誘電正接および高い降状電圧
特性と共に、固有キャパシタンス(CV/g)をできる
だけ高くすることが望ましい。従来既知のコンデンサ陽
極、その製造方法およびか)る陽極をつくるためのタン
タル粉末がピエレツト(Pierret)の米国特許第
3934179号、第3473915号および第341
8106号に記載されている。
は、種々のタンタル粉末から種々の粉末冶金技術によつ
て製造されている。この種のコンデンサ用の陽極におい
ては、低い直流漏洩、低い誘電正接および高い降状電圧
特性と共に、固有キャパシタンス(CV/g)をできる
だけ高くすることが望ましい。従来既知のコンデンサ陽
極、その製造方法およびか)る陽極をつくるためのタン
タル粉末がピエレツト(Pierret)の米国特許第
3934179号、第3473915号および第341
8106号に記載されている。
これらのピエレツトの特許に開示されているように、コ
ンデンサ陽極を製造するにあたつては、水素化タンタル
インゴットを破砕して約2 〜30μの範囲内の寸法を
有する粒子とし、粉砕粒子を凝集させ、かくして得た凝
集塊を粒子の約75重量%が325メッシュを通過する
まで粉砕して粉末とする。得られた粉末を結合剤と混合
し、得られる混合物をブレスして圧縮体(コンパクト)
とし、得られた圧縮体を焼結し、さらに焼結圧縮体を燐
酸溶液中て陽極酸化して焼結圧縮体上に陽極酸化誘.電
体フィルムを形成し、かくしてコンデンサ陽極をつくる
。結合剤は多くの場合炭素質型のもの、例えばカーボワ
ツクス、アクラワツクスおよびグリプトールなどであり
、通常タンタル粉末と混合してその;流れ特性を改善し
、粉末が自動ペレット製造またはコンパクト形成機械に
供給して均一な重量のペレットを迅速に製造するのに適
切となるように改善する。
ンデンサ陽極を製造するにあたつては、水素化タンタル
インゴットを破砕して約2 〜30μの範囲内の寸法を
有する粒子とし、粉砕粒子を凝集させ、かくして得た凝
集塊を粒子の約75重量%が325メッシュを通過する
まで粉砕して粉末とする。得られた粉末を結合剤と混合
し、得られる混合物をブレスして圧縮体(コンパクト)
とし、得られた圧縮体を焼結し、さらに焼結圧縮体を燐
酸溶液中て陽極酸化して焼結圧縮体上に陽極酸化誘.電
体フィルムを形成し、かくしてコンデンサ陽極をつくる
。結合剤は多くの場合炭素質型のもの、例えばカーボワ
ツクス、アクラワツクスおよびグリプトールなどであり
、通常タンタル粉末と混合してその;流れ特性を改善し
、粉末が自動ペレット製造またはコンパクト形成機械に
供給して均一な重量のペレットを迅速に製造するのに適
切となるように改善する。
通常、圧縮体に焼結前の取扱いおよび装填に耐えるのに
十分な生強度を与えるためにも結く合剤が必要である。
しかし、炭素質結合剤の使用jは好ましくない。その理
由は、結合剤を除去する (第1熱処理および圧縮体を
焼結するより高い温度での第2熱処理よりなる二段階焼
結処理が必要になるからである。また炭素質結合剤を使
用する結果、得られる焼結圧縮体は残留炭素を含有し、
これはコンデンサ陽極に望ましい電気的特性に悪影響を
与える傾向を有する。高速自動ブレスで粉末タンタルの
圧縮体を製造する場合、ダイを企図的に過剰充填するの
で粉末の一部がペレット化または圧縮されない恐れがあ
り、得られるペレットのうち欠陥のあるものは再粉砕し
て粉末にする。
十分な生強度を与えるためにも結く合剤が必要である。
しかし、炭素質結合剤の使用jは好ましくない。その理
由は、結合剤を除去する (第1熱処理および圧縮体を
焼結するより高い温度での第2熱処理よりなる二段階焼
結処理が必要になるからである。また炭素質結合剤を使
用する結果、得られる焼結圧縮体は残留炭素を含有し、
これはコンデンサ陽極に望ましい電気的特性に悪影響を
与える傾向を有する。高速自動ブレスで粉末タンタルの
圧縮体を製造する場合、ダイを企図的に過剰充填するの
で粉末の一部がペレット化または圧縮されない恐れがあ
り、得られるペレットのうち欠陥のあるものは再粉砕し
て粉末にする。
このような過剰充填され再粉砕される粉末は再循環され
、最終的に何回かブレスまたは圧縮され、かゝる再循環
時にコンデンサ陽極を製造するのに望ましい品質および
特性が劣化する傾向がある。結合剤を使用せずに粉末冶
金技術によりコンデンサ陽極を製造するのに適当であり
、再循環しても劣化されない優れたタンタル粉末および
粉末を上記条件に合わせて処理する方法が、ベイツ(B
ates)らの米国特許第401730腸に開示されて
いる。
、最終的に何回かブレスまたは圧縮され、かゝる再循環
時にコンデンサ陽極を製造するのに望ましい品質および
特性が劣化する傾向がある。結合剤を使用せずに粉末冶
金技術によりコンデンサ陽極を製造するのに適当であり
、再循環しても劣化されない優れたタンタル粉末および
粉末を上記条件に合わせて処理する方法が、ベイツ(B
ates)らの米国特許第401730腸に開示されて
いる。
この優れたタンタル粉末を製造するにあたつては、高純
度タンタル金属インゴットを水素化し、水素化タンタル
金属を粉砕して所定粒度の粉末とし、粉末に二段階熱処
理を施こして脱ガスおよび予備凝集させ、この予備凝集
粉末を微粉砕および篩分して中間メッシュ寸法の粉末と
し、中間メッシュ寸法の粉末に高温処理を施こして粉末
を凝集させ、凝集粉末を微粉砕して一層細い中間メッシ
ュ寸法の粉末とし、この細い中間メッシュ寸法の粉末を
篩分して相対的に細い粒子部分を取出し、この分取した
細い粒子部分に追加の熱処理を施こして粒子を再凝集さ
せ、この分取、再凝集された粒子を微粉砕および篩分し
て一層細い粒子とし、さらにこの分取、微粉砕された微
細粒子を凝集粉末の相対的に粗い粒子部分と配合する。
フライ(Fry)の米国特許第4009007号に、タ
ンタル粉末からつくつた陽極のキャパシタンスを、粉末
に約5 〜400ppmの燐元素を添加することによつ
て増加できること、また場合によつては燐の添加により
粉末の流れ特性が改善されることが記載されている。本
発明のコンデンサ陽極を製造するのに特に有用な優れた
タンタル粉末を製造する方法によれば、タンタル金属イ
ンゴットを水素化し、得られる水素化タンタルを粉砕し
分級して所定の粒度を有する粉末とし、粉砕タンタル粉
末を脱ガスおよひ予備凝集させ、予備凝集粉末を粉砕し
て篩寸法80メッシュ以下とし、粉砕粉末を再凝集させ
、再凝集粉末を粉砕して上記粉砕予備凝集粉末より大き
い中間の平均粒度とし、次いで中間粒度の粉砕粉末を配
合する。
度タンタル金属インゴットを水素化し、水素化タンタル
金属を粉砕して所定粒度の粉末とし、粉末に二段階熱処
理を施こして脱ガスおよび予備凝集させ、この予備凝集
粉末を微粉砕および篩分して中間メッシュ寸法の粉末と
し、中間メッシュ寸法の粉末に高温処理を施こして粉末
を凝集させ、凝集粉末を微粉砕して一層細い中間メッシ
ュ寸法の粉末とし、この細い中間メッシュ寸法の粉末を
篩分して相対的に細い粒子部分を取出し、この分取した
細い粒子部分に追加の熱処理を施こして粒子を再凝集さ
せ、この分取、再凝集された粒子を微粉砕および篩分し
て一層細い粒子とし、さらにこの分取、微粉砕された微
細粒子を凝集粉末の相対的に粗い粒子部分と配合する。
フライ(Fry)の米国特許第4009007号に、タ
ンタル粉末からつくつた陽極のキャパシタンスを、粉末
に約5 〜400ppmの燐元素を添加することによつ
て増加できること、また場合によつては燐の添加により
粉末の流れ特性が改善されることが記載されている。本
発明のコンデンサ陽極を製造するのに特に有用な優れた
タンタル粉末を製造する方法によれば、タンタル金属イ
ンゴットを水素化し、得られる水素化タンタルを粉砕し
分級して所定の粒度を有する粉末とし、粉砕タンタル粉
末を脱ガスおよひ予備凝集させ、予備凝集粉末を粉砕し
て篩寸法80メッシュ以下とし、粉砕粉末を再凝集させ
、再凝集粉末を粉砕して上記粉砕予備凝集粉末より大き
い中間の平均粒度とし、次いで中間粒度の粉砕粉末を配
合する。
かくして得る優れたタンタル粉末は、米国特許第401
730訝の方法により製造した粉末の所望の特性をすべ
て具え、しかも生強度が改善されており、酸素含有量が
低い。
730訝の方法により製造した粉末の所望の特性をすべ
て具え、しかも生強度が改善されており、酸素含有量が
低い。
低酸素含有量はコンデンサ電極をつくる楊合に、焼結前
に圧縮体内に埋設されるタンタルリード線の脆化を最小
限に抑える上で望ましい。焼結中に埋設されたリード線
がタンタル粉末から多量の酸素を吸収して脆化する恐れ
があるからである。この改善された粉末からつくつたコ
ンデンサ陽極も、米国特許第4017302号の粉末か
らつくつた陽極と比較して、収縮が少なく、信頼性が高
く、有効寿命が長く、また場合によつては直流漏洩が少
なく、キャパシタンスが幾らか大きい。本発明の目的、
特徴および利点は、使用が従来既知の方法より簡単かつ
安価てあり、良好な流れ特性を有する粉末を製造でき、
圧縮加工において再循環(再利用)でき、圧縮体を製造
するのに結合剤を必要としないタンタル粉末の製造方法
を提供することにある。
に圧縮体内に埋設されるタンタルリード線の脆化を最小
限に抑える上で望ましい。焼結中に埋設されたリード線
がタンタル粉末から多量の酸素を吸収して脆化する恐れ
があるからである。この改善された粉末からつくつたコ
ンデンサ陽極も、米国特許第4017302号の粉末か
らつくつた陽極と比較して、収縮が少なく、信頼性が高
く、有効寿命が長く、また場合によつては直流漏洩が少
なく、キャパシタンスが幾らか大きい。本発明の目的、
特徴および利点は、使用が従来既知の方法より簡単かつ
安価てあり、良好な流れ特性を有する粉末を製造でき、
圧縮加工において再循環(再利用)でき、圧縮体を製造
するのに結合剤を必要としないタンタル粉末の製造方法
を提供することにある。
本発明のタンタル粉末を圧縮した場合、その圧縮体は高
い生強度を有し、僅かな収縮にてかつ埋設されたタンタ
ルリード線の脆化をほとんど生じることなく焼結できる
。また圧縮体を焼結した場合、その焼結圧縮体は密度が
低く、陽極酸化して得られるコンデンサ陽極は、直流漏
洩が少なく、誘電正接が小さく、キャパシタンスが高く
、作動電圧および降状電圧が高く、信頼性が高く、かつ
実用寿命が長い。本発明の上記および他の目的、特徴お
よび利点を一層明瞭にするために、本発明を図面を参照
し つて説明する。
い生強度を有し、僅かな収縮にてかつ埋設されたタンタ
ルリード線の脆化をほとんど生じることなく焼結できる
。また圧縮体を焼結した場合、その焼結圧縮体は密度が
低く、陽極酸化して得られるコンデンサ陽極は、直流漏
洩が少なく、誘電正接が小さく、キャパシタンスが高く
、作動電圧および降状電圧が高く、信頼性が高く、かつ
実用寿命が長い。本発明の上記および他の目的、特徴お
よび利点を一層明瞭にするために、本発明を図面を参照
し つて説明する。
第1図は、粉末冶金技術によりコンデンサ陽極を製造す
るのに有用なタンタル粉末をつくる米国特許第4017
30訝に開示された従来方法を示すブロック図である。
るのに有用なタンタル粉末をつくる米国特許第4017
30訝に開示された従来方法を示すブロック図である。
この方法は、先に説明した通り つであり、またその詳
細は前記米国特許に記載されているので、ここでは説明
を省略する。第2図は、コンデンサ陽極を製造するのに
有用なタンタル粉末をつくる本発明の方法を示すブロッ
ク図である。
細は前記米国特許に記載されているので、ここでは説明
を省略する。第2図は、コンデンサ陽極を製造するのに
有用なタンタル粉末をつくる本発明の方法を示すブロッ
ク図である。
本発明の方法に使用するタンタル金属インゴット10は
、目的の用途および最終粉末に必要な特性に従つて、種
々の方法のうち任意の方法で製造できる。最終粉末をコ
ンデンサ用の電極として使用したい場合には、タンタル
金属を高純度とし、すべての不純物を所望の電気的特性
を得るのに適当な低いレベルに抑える。かゝる高純度タ
ンタル金属の出発材料としては、電子ビーム溶解または
消耗電極アーク溶解によりインゴットに固化されたタン
タル金属が好適である。フッ化タンタルカリウムK2T
aF7を代表的にはタンタル以外のすべての成分の融点
以上の温度でナトリウム還元し、微細粉末として沈積す
ることにより製造された高純度タンタル粉末も好適な出
発材料である。タンタル金属の微細粉末への粉砕を可能
にするめに、当業界でよく知られた方法によりタンタル
金属を水素雰囲気中で加熱することによつて、タンタル
金属に水素化処理を施こしてこれを水素化タンタルに転
換して、タンタル金属を脆くする。この水素化処理の結
果、タンタル中に約0.4重量%の水素が吸収され、こ
れによりタンタル金属を第2図の水素化タンタル12で
示される脆化形態に転換する。次に水素化タンタル12
を粉砕する。
、目的の用途および最終粉末に必要な特性に従つて、種
々の方法のうち任意の方法で製造できる。最終粉末をコ
ンデンサ用の電極として使用したい場合には、タンタル
金属を高純度とし、すべての不純物を所望の電気的特性
を得るのに適当な低いレベルに抑える。かゝる高純度タ
ンタル金属の出発材料としては、電子ビーム溶解または
消耗電極アーク溶解によりインゴットに固化されたタン
タル金属が好適である。フッ化タンタルカリウムK2T
aF7を代表的にはタンタル以外のすべての成分の融点
以上の温度でナトリウム還元し、微細粉末として沈積す
ることにより製造された高純度タンタル粉末も好適な出
発材料である。タンタル金属の微細粉末への粉砕を可能
にするめに、当業界でよく知られた方法によりタンタル
金属を水素雰囲気中で加熱することによつて、タンタル
金属に水素化処理を施こしてこれを水素化タンタルに転
換して、タンタル金属を脆くする。この水素化処理の結
果、タンタル中に約0.4重量%の水素が吸収され、こ
れによりタンタル金属を第2図の水素化タンタル12で
示される脆化形態に転換する。次に水素化タンタル12
を粉砕する。
即ち、水素化タンタルを約3〜6μの好適範囲内の所望
の平均粒度に粉砕する。上記寸法は普通ASTMB33
O−65「フィッシャー・サブシーブ寸法による耐火金
属及び化合物の平均粒度の標準試J験法」に従つて、フ
ィッシャー・サブシーブ寸法(FSSS)として測定さ
れる。
の平均粒度に粉砕する。上記寸法は普通ASTMB33
O−65「フィッシャー・サブシーブ寸法による耐火金
属及び化合物の平均粒度の標準試J験法」に従つて、フ
ィッシャー・サブシーブ寸法(FSSS)として測定さ
れる。
所望の平均フィッシャー・サブシーブ寸法及びほゝ゛ガ
ウス分布である粒度分布を達成することは、高いキャパ
シタンス及び最小酸素含量を有するコンデンサ電極を製
7造するのに必須である。細かすぎる粉末からは、酸素
含量が過剰な電極が得られ、粗すぎるかまたは細かすぎ
る粉末から得られる電極はキャパシタンスが低い。この
ことから、粉砕水素化物を14で示すように分級し、網
上材料を再循環してさらフに粉砕を行うことが必要にな
る。本発明の好適例においては、平均『SSSが約3.
8〜4.5μの範囲にある粉砕分級粉末が最適である。
分級した水素化タンタル粉末14を工程16で非反応性
条件下、即ち真空下または高純度アルゴンもしくはヘリ
ウム中で加熱することにより脱ガスして水素を除去し、
予備凝集する。
ウス分布である粒度分布を達成することは、高いキャパ
シタンス及び最小酸素含量を有するコンデンサ電極を製
7造するのに必須である。細かすぎる粉末からは、酸素
含量が過剰な電極が得られ、粗すぎるかまたは細かすぎ
る粉末から得られる電極はキャパシタンスが低い。この
ことから、粉砕水素化物を14で示すように分級し、網
上材料を再循環してさらフに粉砕を行うことが必要にな
る。本発明の好適例においては、平均『SSSが約3.
8〜4.5μの範囲にある粉砕分級粉末が最適である。
分級した水素化タンタル粉末14を工程16で非反応性
条件下、即ち真空下または高純度アルゴンもしくはヘリ
ウム中で加熱することにより脱ガスして水素を除去し、
予備凝集する。
水素化タンタル粉末をます最初約800゜Cに加熱して
水素を除去し、さらに約1100〜1400℃、好まし
くは約1320℃に約0.5〜1時間加熱して粉末を予
備凝集する。この処理の結果、ゆるく凝集した多孔性塊
が得られる。ここでは比較的微細な粒子は互に強く結合
し合うが、比較的粗大な粒子間には弱い結合しか生じて
いないと考えられる。この処理の後、工程18において
材料を微粉砕し、代表的には少くとも80メッシュ米国
標準篩、好ましくは約2000メッシュ米国標準篩を通
過させ、網上材料を上記篩をすべて通過するまでさらに
十分に粉砕する。
水素を除去し、さらに約1100〜1400℃、好まし
くは約1320℃に約0.5〜1時間加熱して粉末を予
備凝集する。この処理の結果、ゆるく凝集した多孔性塊
が得られる。ここでは比較的微細な粒子は互に強く結合
し合うが、比較的粗大な粒子間には弱い結合しか生じて
いないと考えられる。この処理の後、工程18において
材料を微粉砕し、代表的には少くとも80メッシュ米国
標準篩、好ましくは約2000メッシュ米国標準篩を通
過させ、網上材料を上記篩をすべて通過するまでさらに
十分に粉砕する。
好ましくはできるだけ多くの材料、少くとも約45重量
%の部分を最初に、再粉砕することなく上記篩を通過す
るのに十分な細い寸法まで粉砕する必要がある。次に微
粉砕、篩分粉末18に再凝集処理20を行う。
%の部分を最初に、再粉砕することなく上記篩を通過す
るのに十分な細い寸法まで粉砕する必要がある。次に微
粉砕、篩分粉末18に再凝集処理20を行う。
化学的に非反応性の条件下、即ち真空下またはアルゴン
もしくはヘリウムのような高純度不一活性ガス中で、代
表的には1375〜1525℃、好ましくは約1450
゜C〜1460゜Cの温度に、0.5〜2時間、好まし
くは約1時間上記粉末を加熱する。次に再凝集ケーキを
工程22で再粉砕し、篩分して、所望のメッシュ寸法(
代表的には約−35メツンシユ)及ひ所望の粒度分布を
有する最終粉末を得る。
もしくはヘリウムのような高純度不一活性ガス中で、代
表的には1375〜1525℃、好ましくは約1450
゜C〜1460゜Cの温度に、0.5〜2時間、好まし
くは約1時間上記粉末を加熱する。次に再凝集ケーキを
工程22で再粉砕し、篩分して、所望のメッシュ寸法(
代表的には約−35メツンシユ)及ひ所望の粒度分布を
有する最終粉末を得る。
網上材料を再粉砕及び再篩分する。粉砕は所望のメッシ
ュ寸法を得るのに必要な最小限の量としなければならな
い。その理由は、過剰な粉砕を行うと微片が生じ、これ
は最終粉末にとつて有害3だからである。微片は特に、
生強度を減じ、焼結中の収縮を増し、また粉末からつく
る陽極のキャパシタンスに損失を生じる原因となり、こ
のことは例えば2000℃で3吟間のような高温焼結条
件の場合に特に顕著である。3 一35メッシュ粉末を工程24で配合し、1ロッドの粉
末全体にわたつて寸法の異なる粒子を均一に分布させ、
次いで試料を採取し、その化学的組成および物理的特性
について試験する。
ュ寸法を得るのに必要な最小限の量としなければならな
い。その理由は、過剰な粉砕を行うと微片が生じ、これ
は最終粉末にとつて有害3だからである。微片は特に、
生強度を減じ、焼結中の収縮を増し、また粉末からつく
る陽極のキャパシタンスに損失を生じる原因となり、こ
のことは例えば2000℃で3吟間のような高温焼結条
件の場合に特に顕著である。3 一35メッシュ粉末を工程24で配合し、1ロッドの粉
末全体にわたつて寸法の異なる粒子を均一に分布させ、
次いで試料を採取し、その化学的組成および物理的特性
について試験する。
混合粉末を粉末冶金技術により密度8〜10g/dの焼
結圧縮4体に成形し、陽極処理して陽極を形成し、さら
にその電気的特性について試験する。この工程を26で
示す。次に本発明を実施例につき説明する。
結圧縮4体に成形し、陽極処理して陽極を形成し、さら
にその電気的特性について試験する。この工程を26で
示す。次に本発明を実施例につき説明する。
以下の実施例は説明のために例示であつて、本発明を限
定せんとするものではない。実施例ではタンタル粉末を
使用するが、本発明により達成される所望の組合せの特
性は他の金属の粉末を使用しても得られることが明らか
である。本発明においては、タンタル以外に、コロンビ
ウム(ニオビウム)及びバナジウムを含む元素の周期律
表のVB族の水素化物形成性金属、級びチタン、ジルコ
ニウムを含む周期律表の■B族の水素化物形成性金属を
用いることができる。実験列1 (a)次のようにして水素化タンタル粉末を調製した。
定せんとするものではない。実施例ではタンタル粉末を
使用するが、本発明により達成される所望の組合せの特
性は他の金属の粉末を使用しても得られることが明らか
である。本発明においては、タンタル以外に、コロンビ
ウム(ニオビウム)及びバナジウムを含む元素の周期律
表のVB族の水素化物形成性金属、級びチタン、ジルコ
ニウムを含む周期律表の■B族の水素化物形成性金属を
用いることができる。実験列1 (a)次のようにして水素化タンタル粉末を調製した。
高温で水素ガスにより飽和された電子ビーム溶融タンタ
ルインゴットを破砕した。この水素化物を粉砕し、フィ
ッシャー(Fisher) ・サブシーブ寸法4.15
μに分級した。この先駆物質粉末の粒度分布をローラー
分析〔P.S.ROller「ローラー空気分析器によ
る金属粉末寸法分布MetalPOwderSizeD
istributiOnwiththeROllerA
irAnalizer」、ASTM特別刊行物NO.l
4O(195評)〕によつて測定したところ、次の通り
であつた。
ルインゴットを破砕した。この水素化物を粉砕し、フィ
ッシャー(Fisher) ・サブシーブ寸法4.15
μに分級した。この先駆物質粉末の粒度分布をローラー
分析〔P.S.ROller「ローラー空気分析器によ
る金属粉末寸法分布MetalPOwderSizeD
istributiOnwiththeROllerA
irAnalizer」、ASTM特別刊行物NO.l
4O(195評)〕によつて測定したところ、次の通り
であつた。
なお、上記ローラー分析は、ASTMによりASTMB
293−60(70)「風力分級による粒状金属粉末の
サブシーフ分析」を実施する手段として言及されており
、米国金属粉末協会(MetalPOwderAssO
ciatiOn)により適切な標準法として「12−5
1T(1951月にて認定されている。
293−60(70)「風力分級による粒状金属粉末の
サブシーフ分析」を実施する手段として言及されており
、米国金属粉末協会(MetalPOwderAssO
ciatiOn)により適切な標準法として「12−5
1T(1951月にて認定されている。
この粉末の見掛密度(以下「スコツト密度」と称する)
をASTMB2l2−48(1970年再認定)「金属
粉末の見掛密度」によつて測定したところ、4.56g
/dであつた。
をASTMB2l2−48(1970年再認定)「金属
粉末の見掛密度」によつて測定したところ、4.56g
/dであつた。
(b)上記水素化タンタル粉末を高純度の流動アルゴン
雰囲気中で800℃に加熱し、この温度に2時間保持し
て水素を除去した。
雰囲気中で800℃に加熱し、この温度に2時間保持し
て水素を除去した。
次に炉を約10−゜トルに排気し、脱ガスした水素化タ
ンタル粉末をさらに1320℃に加熱し、この温度に3
吟間保持して粉末を予備凝集した。次にこの脱ガスおよ
び予備凝集した粉末を真空下で2時間冷却し、さらにヘ
リウム中で冷却を続け外気温度まで冷却した。5 (c)脱ガスおよび予備凝集粉末を粉砕し、200メッ
シュの米国標準篩を用いて篩分した。
ンタル粉末をさらに1320℃に加熱し、この温度に3
吟間保持して粉末を予備凝集した。次にこの脱ガスおよ
び予備凝集した粉末を真空下で2時間冷却し、さらにヘ
リウム中で冷却を続け外気温度まで冷却した。5 (c)脱ガスおよび予備凝集粉末を粉砕し、200メッ
シュの米国標準篩を用いて篩分した。
網上の材料をさらに粉砕してすべての粉末を−200メ
ッシュとした。−200メッシュ材料は篩試験を行つた
ところ−325メッシュ粉末を55.6重量%IG含有
し、フィッシャー・サブシーブ寸法(FSSS)6.7
μ、スコツト密度4.39g/dであつた。
ッシュとした。−200メッシュ材料は篩試験を行つた
ところ−325メッシュ粉末を55.6重量%IG含有
し、フィッシャー・サブシーブ寸法(FSSS)6.7
μ、スコツト密度4.39g/dであつた。
(d) −200メッシュ粉末を真空(約10−3トル
)下で1450’Cに加熱し、この温度に1時間保持し
、L次いで真空下で2時間冷却し、さらにヘリウム中て
冷却を続け外気温度まて冷却し、再凝集粉末を得た。
)下で1450’Cに加熱し、この温度に1時間保持し
、L次いで真空下で2時間冷却し、さらにヘリウム中て
冷却を続け外気温度まて冷却し、再凝集粉末を得た。
(e)再凝集粉末を粉砕し、35メッシュの米国標準篩
を用いて篩分した。
を用いて篩分した。
網上の材料を再ひ粉砕及21び篩分し、すべて粉末を−
35メッシュとした。(f) −35メッシュ粉末を配
合し、サンプルをつくり、試験した。フィッシャー.サ
ブシーブ寸法は9.0μ、スコツト密度は3.79g/
dであり、篩試験によソー325メッシュの材料の含有
量が254.6重量%であることを確かめた。この最終
タンタル粉末をASTMB2l8−48(1965年再
認定)「金属粉末の流量の標準試験法」に従つて測定し
たところ、ホール(Hall)流れ時間が32秒であつ
た。但し、試験機を一部変更し、ホーJル流れカップを
振動数3600サイクル/分、振幅0.617wtで振
動させた。最終粉末の化学分析の結果は、酸素含有量1
479ppm(0.1479重量%)、窒素含有量19
ppm(0.001踵量%)であつた。生強度を測定す
るために、粉末を直径6.63− −のダイにて生密度
7.0±0.05g/dにブレスし、個別に秤量された
2.010±0.020gの圧縮粉体とした。これらの
圧縮体をそれぞれ個別に、平坦なアンビルおよび基台の
付属したチヤテイロン(ChatlllOn)型LTC
M万能引張・圧縮・ばねテスターのアンビル下に横向き
に置き、圧縮割合設定値2.0にて圧潰した。圧縮体を
圧潰するのに必要な圧力(K9)を生強度として記録し
た。4個の圧縮体を生強度について試験し、データの平
均値をとつた。
35メッシュとした。(f) −35メッシュ粉末を配
合し、サンプルをつくり、試験した。フィッシャー.サ
ブシーブ寸法は9.0μ、スコツト密度は3.79g/
dであり、篩試験によソー325メッシュの材料の含有
量が254.6重量%であることを確かめた。この最終
タンタル粉末をASTMB2l8−48(1965年再
認定)「金属粉末の流量の標準試験法」に従つて測定し
たところ、ホール(Hall)流れ時間が32秒であつ
た。但し、試験機を一部変更し、ホーJル流れカップを
振動数3600サイクル/分、振幅0.617wtで振
動させた。最終粉末の化学分析の結果は、酸素含有量1
479ppm(0.1479重量%)、窒素含有量19
ppm(0.001踵量%)であつた。生強度を測定す
るために、粉末を直径6.63− −のダイにて生密度
7.0±0.05g/dにブレスし、個別に秤量された
2.010±0.020gの圧縮粉体とした。これらの
圧縮体をそれぞれ個別に、平坦なアンビルおよび基台の
付属したチヤテイロン(ChatlllOn)型LTC
M万能引張・圧縮・ばねテスターのアンビル下に横向き
に置き、圧縮割合設定値2.0にて圧潰した。圧縮体を
圧潰するのに必要な圧力(K9)を生強度として記録し
た。4個の圧縮体を生強度について試験し、データの平
均値をとつた。
この試験において、いずれかの圧縮体の測定値がAST
MEl78−61Tによつて判定して異常値であつた場
合には、別の圧縮体をブレス成形し試験した。(異常値
とは、1組の測定値のなかで他から著しくはずれている
と認められる、適正範囲外の実測値を意味する。)最終
粉末の圧縮体の生強度は平均8.9kgであつた。電気
的試験を行うために、粉末を直径6.637Tgnのダ
イにて生密度7.2±0.05g/dにブレスし、タン
タルリード線が埋設された個別に秤量されたKgの陽極
とした。
MEl78−61Tによつて判定して異常値であつた場
合には、別の圧縮体をブレス成形し試験した。(異常値
とは、1組の測定値のなかで他から著しくはずれている
と認められる、適正範囲外の実測値を意味する。)最終
粉末の圧縮体の生強度は平均8.9kgであつた。電気
的試験を行うために、粉末を直径6.637Tgnのダ
イにて生密度7.2±0.05g/dにブレスし、タン
タルリード線が埋設された個別に秤量されたKgの陽極
とした。
これらの陽極を1800℃(光学的)て3紛間もしくは
2000℃(光学的)で3吟間、冷却壁真空焼結炉(1
0−゜トル絶対圧力)中で焼結し、次いで焼結中の直径
収縮および焼結密度について試験した。焼結圧縮体を陽
極酸化して誘電体表面膜を形成し、直流漏洩、固有キャ
パシタンス(CV/g)、誘電正接および降状電圧(2
000℃で焼結した陽極のみについて測定)などの電気
的特性を試験した。電気的試験手順では、まず焼結陽極
を0.01%燐酸水溶液中90±2℃て陽極酸化した。
2000℃(光学的)で3吟間、冷却壁真空焼結炉(1
0−゜トル絶対圧力)中で焼結し、次いで焼結中の直径
収縮および焼結密度について試験した。焼結圧縮体を陽
極酸化して誘電体表面膜を形成し、直流漏洩、固有キャ
パシタンス(CV/g)、誘電正接および降状電圧(2
000℃で焼結した陽極のみについて測定)などの電気
的特性を試験した。電気的試験手順では、まず焼結陽極
を0.01%燐酸水溶液中90±2℃て陽極酸化した。
陽極酸化を電流密度35mA/gにて行い、200Vに
達するまて継続した。1800゜Cで焼結した陽極を2
00Vで2時間保持した。
達するまて継続した。1800゜Cで焼結した陽極を2
00Vで2時間保持した。
2000℃で焼結した陽極を、電流密度35IT1A/
gにて200Vまで、そして12mA/gにて200V
から270Vまで陽極酸化し、270Vで1時間保持し
た。
gにて200Vまで、そして12mA/gにて200V
から270Vまで陽極酸化し、270Vで1時間保持し
た。
陽極酸化し、水洗し、乾燥した後、陽極をます最初直流
漏洩(DCL)について試験した。
漏洩(DCL)について試験した。
燐酸溶液を使用した。試験条件は次の通りであつた。陽
極形成電圧 試験電解液濃度 試験電圧20010.0
%H3PO4l4O2 7OO.Ol%H3PO。
極形成電圧 試験電解液濃度 試験電圧20010.0
%H3PO4l4O2 7OO.Ol%H3PO。
24O
陽極を試験溶液中にその頂部まで浸漬し、適正な電圧を
2分間印加し、しかる後直流漏洩を測定した。
2分間印加し、しかる後直流漏洩を測定した。
直流漏洩測定の完了後、200Vで形成された陽極を1
0%燐酸を含有する皿に並べ、30〜4粉間浸漬して置
いた。
0%燐酸を含有する皿に並べ、30〜4粉間浸漬して置
いた。
一方、270Vで形成された陽極を蒸留水流で3〜5分
間洗い、空気中105±5℃で仙分間乾燥し、次いで1
0%燐酸溶液に浸漬した陽極のキャパシタンスを、16
11B型ゼネラル・ラジオ・キャパシタンス・テスト.
ブリッジ(GeneralRadiOCapacita
nceTestBridge)を用いて、交流信号0.
5V)直流バイアス3Vにて測定した。このブリッジ試
験により誘電正接も測定した。同じ粉末から製造され、
2000℃で3吟間焼結されているが、陽極酸化の施こ
されていない6個の類似陽極を降状電圧(BDV)につ
いて測定した。
間洗い、空気中105±5℃で仙分間乾燥し、次いで1
0%燐酸溶液に浸漬した陽極のキャパシタンスを、16
11B型ゼネラル・ラジオ・キャパシタンス・テスト.
ブリッジ(GeneralRadiOCapacita
nceTestBridge)を用いて、交流信号0.
5V)直流バイアス3Vにて測定した。このブリッジ試
験により誘電正接も測定した。同じ粉末から製造され、
2000℃で3吟間焼結されているが、陽極酸化の施こ
されていない6個の類似陽極を降状電圧(BDV)につ
いて測定した。
降状電圧試験は、攪拌中の0.1%ルPO。溶液中90
±2℃で陽極を化成し、この際化成電圧を3〜4V/分
の割合で誘電降状が生じるまで上げていくことによつて
行つた。陽極の化成電流が増加して100Vで流れる電
流を100mA超えたとき、即ちシンチレーシヨンが起
つたときに降状点を定めた。異常値を除いた後、平均降
状電圧を測定した。(異常値とは、1組の測定値のなか
て他から著しくはずれていると認められる、適正範囲外
の実測値を意味する。)試験ロッド1組当り1つの異常
値を許容できるものとみなした。ASTMEl78−6
1T2「異常実測値の取扱い上の処理法」の手段に従つ
て処理した。本例の陽極に関する試験結果は次の通りで
あつた。
±2℃で陽極を化成し、この際化成電圧を3〜4V/分
の割合で誘電降状が生じるまで上げていくことによつて
行つた。陽極の化成電流が増加して100Vで流れる電
流を100mA超えたとき、即ちシンチレーシヨンが起
つたときに降状点を定めた。異常値を除いた後、平均降
状電圧を測定した。(異常値とは、1組の測定値のなか
て他から著しくはずれていると認められる、適正範囲外
の実測値を意味する。)試験ロッド1組当り1つの異常
値を許容できるものとみなした。ASTMEl78−6
1T2「異常実測値の取扱い上の処理法」の手段に従つ
て処理した。本例の陽極に関する試験結果は次の通りで
あつた。
本例のデータから明らかなように、本発明の.方法によ
り、スコツト密度が低く、流れ特性が良好で、生強度が
高く、酸素含有量が少ない優れたタンタル粉末が得られ
る。
り、スコツト密度が低く、流れ特性が良好で、生強度が
高く、酸素含有量が少ない優れたタンタル粉末が得られ
る。
この粉末は、焼結すると、小さい収縮率および低い密度
を呈する。また、この粉末は、2000℃で3紛間焼結
す・ると、キャパシタンスが大きく、誘電正接が低い陽
極を提供する。直流漏洩および降状電圧は、他の高純度
の、現在の技術水準でのタンタル粉末でつくつた陽極の
場合と同様である。実験例2(比較例1)(a)実験例
1と同じタンタルインゴットおよび水素化ロッドからの
タンタルを、実験例1で使用したのと同じ手順で処理し
た。
を呈する。また、この粉末は、2000℃で3紛間焼結
す・ると、キャパシタンスが大きく、誘電正接が低い陽
極を提供する。直流漏洩および降状電圧は、他の高純度
の、現在の技術水準でのタンタル粉末でつくつた陽極の
場合と同様である。実験例2(比較例1)(a)実験例
1と同じタンタルインゴットおよび水素化ロッドからの
タンタルを、実験例1で使用したのと同じ手順で処理し
た。
但し、本例では工程18および20(第2図)を除外し
た。従つて、本例の最終粉末は、実験例1と同じ脱ガス
および予備凝集、ならびに最終微粉砕および篩分を受け
ているが、微細な粒径への中間の微粉砕および再凝集処
理を受けていない。(b) このように処理した粉末を
、実験例1に記載したのと同じ手順で試験した。
た。従つて、本例の最終粉末は、実験例1と同じ脱ガス
および予備凝集、ならびに最終微粉砕および篩分を受け
ているが、微細な粒径への中間の微粉砕および再凝集処
理を受けていない。(b) このように処理した粉末を
、実験例1に記載したのと同じ手順で試験した。
試験結果は次の通りであつた。
物理的特性
フィッシャー・サブシーブ寸法、μ6.7スコツト密度
、g/D4.39 生強度、K92.2 篩試験、(−325メッシュ粉末の)%55.6ホール
流れ、秒49化学分析 酸素、Ppml3l7 窒素、Ppml9 陽極特性 本例から明らかなように、予備凝集粉末を粉砕する工程
18および粉砕粉末を再凝集する工程20を除外した結
果、生強度が著しく減少し、流れ特性が劣化し、焼結中
の収縮が増加し、焼結密度が高くなり、2000℃で3
紛間焼結された陽極のキャパシタンスが低くなり、誘電
正接が高くなる。
、g/D4.39 生強度、K92.2 篩試験、(−325メッシュ粉末の)%55.6ホール
流れ、秒49化学分析 酸素、Ppml3l7 窒素、Ppml9 陽極特性 本例から明らかなように、予備凝集粉末を粉砕する工程
18および粉砕粉末を再凝集する工程20を除外した結
果、生強度が著しく減少し、流れ特性が劣化し、焼結中
の収縮が増加し、焼結密度が高くなり、2000℃で3
紛間焼結された陽極のキャパシタンスが低くなり、誘電
正接が高くなる。
(験例3
実験例1と同じタンタルインゴットおよび水素ヒロツト
からのタンタル粉末を、実験例1て使用.たのと同じ手
順で、第2図に示す通りのまた実粂例1で詳述した通り
の工程12,14および16を経て処理した。
からのタンタル粉末を、実験例1て使用.たのと同じ手
順で、第2図に示す通りのまた実粂例1で詳述した通り
の工程12,14および16を経て処理した。
本発明の方法の工程18で行う粉末の微粉砕および篩分
の結果得られるメッシュ寸法の効果を示すために、工程
16からの脱ガスおよび予備凝集粉末を3つの部分3A
,3Bおよび3Cに分割した。工程18に従つて、部分
3Aを80メッシュ米国標準篩通過まで微粉砕し、部分
3Bを200メッシュ米国標準篩通過まて微粉砕*゛し
(実験例1と同じ)、そして部分3Cを325メッシュ
米国標準篩通過まて微粉砕した。次に工程20〜26に
従つて、各部分を別々に1450゜Cで再凝集し、−3
5メッシュに微粉砕および篩分し、配合し、実験例1に
記載した手順によつて試験した。試験結果は次の通りで
ある。このデータは実験例1に記載したのと同様の彰良
が達成されていることを示している。
の結果得られるメッシュ寸法の効果を示すために、工程
16からの脱ガスおよび予備凝集粉末を3つの部分3A
,3Bおよび3Cに分割した。工程18に従つて、部分
3Aを80メッシュ米国標準篩通過まで微粉砕し、部分
3Bを200メッシュ米国標準篩通過まて微粉砕*゛し
(実験例1と同じ)、そして部分3Cを325メッシュ
米国標準篩通過まて微粉砕した。次に工程20〜26に
従つて、各部分を別々に1450゜Cで再凝集し、−3
5メッシュに微粉砕および篩分し、配合し、実験例1に
記載した手順によつて試験した。試験結果は次の通りで
ある。このデータは実験例1に記載したのと同様の彰良
が達成されていることを示している。
工程18における微粉砕メッシュ寸法を細かくすればす
る程、生強度および降状電圧が増加し、収縮、焼糺密度
および誘電正接が減少する。実験例4 タンタル粉末に燐を添加することがそのタンろル粉末製
の陽極のキャパシタンスに与える作用イ示すために、最
初のFSSS=4.25μから実験例1に記載した通り
工程10〜14に従つて水素化<ンタル粉末の1ロッド
を製造し、これを4つのf’分4A,4B,4Cおよび
4Dに分割した。
る程、生強度および降状電圧が増加し、収縮、焼糺密度
および誘電正接が減少する。実験例4 タンタル粉末に燐を添加することがそのタンろル粉末製
の陽極のキャパシタンスに与える作用イ示すために、最
初のFSSS=4.25μから実験例1に記載した通り
工程10〜14に従つて水素化<ンタル粉末の1ロッド
を製造し、これを4つのf’分4A,4B,4Cおよび
4Dに分割した。
部分4Bおよび4Dは、25ppmの燐元素を水に溶解
:5した(NH,)2TP0。として工程16(第2図
)以前の水素化タンタル粉末に添加することによつて、
燐ドーピングを行つた。次に部分4Aおよび4B双方を
工程16〜26に従つて実験例1に記載した手順と同様
に処理し試験した。他方、部分プ04Cおよび4Dを工
程16および22〜26に従つて実験例2に記載した手
順と同様に処理し試験した。試験結果は次の通りであつ
た。
:5した(NH,)2TP0。として工程16(第2図
)以前の水素化タンタル粉末に添加することによつて、
燐ドーピングを行つた。次に部分4Aおよび4B双方を
工程16〜26に従つて実験例1に記載した手順と同様
に処理し試験した。他方、部分プ04Cおよび4Dを工
程16および22〜26に従つて実験例2に記載した手
順と同様に処理し試験した。試験結果は次の通りであつ
た。
このデータは実験例4Aの非ドープ粉末特性において実
験例1で見られるのと同様の改良を示している。
験例1で見られるのと同様の改良を示している。
実験例4Cで工程18および20を除外して処理した粉
末について、生強度の減少、焼結中の収縮の減少および
3吟間焼結した陽極のキャパシタンスの減少は、実験例
1と実験例2との比較により示されたものと同様である
。実験例但およびΦの粉末への25ppmの燐の添加は
、実験例4Aおよび4Cと比較してみると、燐添加によ
りキャパシタンスが、1800℃で3紛間焼結した陽極
については約13〜16%、また2000℃で3吟間焼
結した陽極については約3〜9%増加することを示して
いる。
末について、生強度の減少、焼結中の収縮の減少および
3吟間焼結した陽極のキャパシタンスの減少は、実験例
1と実験例2との比較により示されたものと同様である
。実験例但およびΦの粉末への25ppmの燐の添加は
、実験例4Aおよび4Cと比較してみると、燐添加によ
りキャパシタンスが、1800℃で3紛間焼結した陽極
については約13〜16%、また2000℃で3吟間焼
結した陽極については約3〜9%増加することを示して
いる。
このようなキャパシタンスの増加に伴なつて、ホール流
れ時間が多少増加し、生強度が減少するが、その量はキ
ャパシタンスの実質的増加を相殺する程甚だしいもので
はない。実験例5 工程14により製造される先駆物質水素化タンタル粉末
の最初のフィッシャー・サブシーブ寸法を変えることが
最終粉末およびそれからつくつた陽極に与える影響を示
すために、工程12からの水素化タンタル先駆粉末を4
つの部分5A,5B,5Cおよび5Dに分割した。
れ時間が多少増加し、生強度が減少するが、その量はキ
ャパシタンスの実質的増加を相殺する程甚だしいもので
はない。実験例5 工程14により製造される先駆物質水素化タンタル粉末
の最初のフィッシャー・サブシーブ寸法を変えることが
最終粉末およびそれからつくつた陽極に与える影響を示
すために、工程12からの水素化タンタル先駆粉末を4
つの部分5A,5B,5Cおよび5Dに分割した。
工程14に従つて、部分5Aおよび5Cの粉末を微粉砕
および篩分してFSSS=3.8μとし、部分5Bおよ
び5Dの粉末を微粉砕および篩分してFSSS=4.2
5μとし*た。部分5Aおよび5Bを工程18〜26お
よび実験例1の手順に従つてさらに処理し試験した。但
し、工程16の温度T,を1320℃ではなくて132
5℃にて、工程20の温度T2を1450゜Cではなく
て1455℃にした。部分5Cおよび5Dを工程16お
よび22〜26および実験例2の手順に従つてさらに処
理し試験した。但し、工程16の温度T,を1320℃
ではなくて1325℃にした。試験結果は次の通りであ
つた。このデータは、本発明の方法にはFSSS=3.
8pおよび4.25μの水素化タンタル先駆粉末をいず
れも使用できることを示している。
および篩分してFSSS=3.8μとし、部分5Bおよ
び5Dの粉末を微粉砕および篩分してFSSS=4.2
5μとし*た。部分5Aおよび5Bを工程18〜26お
よび実験例1の手順に従つてさらに処理し試験した。但
し、工程16の温度T,を1320℃ではなくて132
5℃にて、工程20の温度T2を1450゜Cではなく
て1455℃にした。部分5Cおよび5Dを工程16お
よび22〜26および実験例2の手順に従つてさらに処
理し試験した。但し、工程16の温度T,を1320℃
ではなくて1325℃にした。試験結果は次の通りであ
つた。このデータは、本発明の方法にはFSSS=3.
8pおよび4.25μの水素化タンタル先駆粉末をいず
れも使用できることを示している。
実験例いの細い(3.8μ)先駆粉末は、実験例駅の粗
い(4.25μ)先駆粉末と較べて、酸素含量が僅かに
高く、焼結中の収縮が大きく、1800℃で3吟間焼結
した陽極のキャパシタンスが大きい。中間微粉砕および
再凝集の工程18および20を除いた結果として、スコ
ツト密度が増加し、ホール流れ時間が増加し、生強度が
減少し、2000℃で3紛間焼結した陽極のキャパシタ
ンスが減少し、また実験例5Cおよび山の一次粒度3.
8μおよび4.25μ双方について誘電正接が高くなる
。 8*実験例6前記実験例より粗い
タンタル先駆粉末を工程14で使用することに基づく効
果を示すために、工程10〜26および実験例1に従つ
て粉末および陽極を製造し試験した。
い(4.25μ)先駆粉末と較べて、酸素含量が僅かに
高く、焼結中の収縮が大きく、1800℃で3吟間焼結
した陽極のキャパシタンスが大きい。中間微粉砕および
再凝集の工程18および20を除いた結果として、スコ
ツト密度が増加し、ホール流れ時間が増加し、生強度が
減少し、2000℃で3紛間焼結した陽極のキャパシタ
ンスが減少し、また実験例5Cおよび山の一次粒度3.
8μおよび4.25μ双方について誘電正接が高くなる
。 8*実験例6前記実験例より粗い
タンタル先駆粉末を工程14で使用することに基づく効
果を示すために、工程10〜26および実験例1に従つ
て粉末および陽極を製造し試験した。
但し、工程14では水素化タンタル粉末を微粉砕および
分級してFSSS=4.45pとし、工程16では粒度
が大きいので水素化タンタル粉末を1320℃に(3紛
ではなく)1時間保持することにより粉末を脱ガスおよ
び予備凝集し、さらに工程20では粒度が大きいので粉
末を(1450℃ではなく)1460℃の温度で再凝集
した。試験結果は次の通りであつた。
分級してFSSS=4.45pとし、工程16では粒度
が大きいので水素化タンタル粉末を1320℃に(3紛
ではなく)1時間保持することにより粉末を脱ガスおよ
び予備凝集し、さらに工程20では粒度が大きいので粉
末を(1450℃ではなく)1460℃の温度で再凝集
した。試験結果は次の通りであつた。
このデータは4.45μの水素化タンタル先駆粉末を用
いて優れた粉末が得られ、またそれから優れ1rた陽極
を製造できることを示している。
いて優れた粉末が得られ、またそれから優れ1rた陽極
を製造できることを示している。
実験例7(比較例2)
実験例1て代表されるような本発明の粉末および陽極の
特性を、前記ベイツらの米国特許第*401730鏝お
よびピーレツトの米国特許第3473915ワー記載の
従来方法により製造した代表的な粉末および陽極の特性
として示す。
特性を、前記ベイツらの米国特許第*401730鏝お
よびピーレツトの米国特許第3473915ワー記載の
従来方法により製造した代表的な粉末および陽極の特性
として示す。
これらの米国特許の方法による粉末(および陽極)を実
験例7Aおよび7Bとする。本発明の粉末と前記ベイツ
の米国特許の粉末(以下ベイツ粉末)との有意差を明ら
かにするために、上表のデータを対比して示す。
験例7Aおよび7Bとする。本発明の粉末と前記ベイツ
の米国特許の粉末(以下ベイツ粉末)との有意差を明ら
かにするために、上表のデータを対比して示す。
本発明により達成される高い生強度は、焼結前に生のコ
ンパクトを自動送りコンベヤ装置により、(コンパクト
を損傷または破壊することなく)容易に取扱い加工する
ことを可能にする。
ンパクトを自動送りコンベヤ装置により、(コンパクト
を損傷または破壊することなく)容易に取扱い加工する
ことを可能にする。
ベイツ粉末と違つて、本発明の粉末の場合、高速自動ブ
レスを用いて粉末コンパクトを成形するとき生強度の劣
化がない。前述したように、高速自動ブレスでは、粉末
の一部がダイの企図的な過剰充填の結果として圧縮され
す、不良品とともに再粉砕され再循環される。従つて、
かかる粉末部分は最終的に焼結される前に数回ブレスお
よび圧縮工程を通過する。本発明の粉末はこのような再
粉砕および再循環により生強度が減少しないが、ベイツ
粉末では生強度やコンデンサ陽極の製造に.望ましい他
の特性が再循環により著しく劣化する。本発明の粉末は
、ベイツ粉末と比較して著しく低い酸素含量を有する。
レスを用いて粉末コンパクトを成形するとき生強度の劣
化がない。前述したように、高速自動ブレスでは、粉末
の一部がダイの企図的な過剰充填の結果として圧縮され
す、不良品とともに再粉砕され再循環される。従つて、
かかる粉末部分は最終的に焼結される前に数回ブレスお
よび圧縮工程を通過する。本発明の粉末はこのような再
粉砕および再循環により生強度が減少しないが、ベイツ
粉末では生強度やコンデンサ陽極の製造に.望ましい他
の特性が再循環により著しく劣化する。本発明の粉末は
、ベイツ粉末と比較して著しく低い酸素含量を有する。
前述したように、この減少した酸素含量は、焼結前にコ
ンパクト内に埋設・されるタンタルリード線の焼結中の
脆化を回避するのに有効である。リードが脆化されると
、折れθやすくなり、従つて焼結コンデンサ陽極から切
り離されてしまう恐れが大きくなる。本発明の粉末から
製造された焼結陽極の減少した収縮および減少した密度
または増加した気孔率は、得られるコンデンサに優れた
電気的特性、高5い信頼性、長い有効寿命を保証する。
ンパクト内に埋設・されるタンタルリード線の焼結中の
脆化を回避するのに有効である。リードが脆化されると
、折れθやすくなり、従つて焼結コンデンサ陽極から切
り離されてしまう恐れが大きくなる。本発明の粉末から
製造された焼結陽極の減少した収縮および減少した密度
または増加した気孔率は、得られるコンデンサに優れた
電気的特性、高5い信頼性、長い有効寿命を保証する。
最後に本発明の方法は、ベイツ法と比較してはるかに簡
単かつ容易に実施できるだけでなく、経済的てもある。
単かつ容易に実施できるだけでなく、経済的てもある。
第1図と第2図の比較から明らかなように、第1図のベ
イツ法では粉砕、篩分、再ノ凝集工程が余計に必要であ
る。これらの余分な工程は、粉末製造コストを上げるだ
けでなく、粉末のコンデンサ陽極として望まれる特性を
劣化する。このデータから明らかなように、本発明の粉
末は従来のタンタル粉末および陽極と比較して、圧縮体
とした場合に著しく高い生強度を有し、酸素含有量が著
しく低く、焼結中の陽極リード線の脆化がほとんどなく
なり、さらにか)る粉末の陽極は、焼結中の収縮が少く
、焼結程度が小さく、ま゛た場合によつてはキャパシタ
ンスが高い。
イツ法では粉砕、篩分、再ノ凝集工程が余計に必要であ
る。これらの余分な工程は、粉末製造コストを上げるだ
けでなく、粉末のコンデンサ陽極として望まれる特性を
劣化する。このデータから明らかなように、本発明の粉
末は従来のタンタル粉末および陽極と比較して、圧縮体
とした場合に著しく高い生強度を有し、酸素含有量が著
しく低く、焼結中の陽極リード線の脆化がほとんどなく
なり、さらにか)る粉末の陽極は、焼結中の収縮が少く
、焼結程度が小さく、ま゛た場合によつてはキャパシタ
ンスが高い。
さらに、本発明の粉末は、良好な流れ特性を有し、結合
剤を必要とせず、圧縮体製造作業において再使用でき、
また得られる陽極は直流漏洩が小さく、誘電正接が小さ
く、キャパシタンスが大きく、作動電圧および降状電圧
が高く、信頼性が高く、使用寿命が長い、しかもか)る
粉末および陽極を製造する本発明の方法は、既知の方法
と比較して使用が簡単かつ安価であり、かつ信頼性が高
い。
剤を必要とせず、圧縮体製造作業において再使用でき、
また得られる陽極は直流漏洩が小さく、誘電正接が小さ
く、キャパシタンスが大きく、作動電圧および降状電圧
が高く、信頼性が高く、使用寿命が長い、しかもか)る
粉末および陽極を製造する本発明の方法は、既知の方法
と比較して使用が簡単かつ安価であり、かつ信頼性が高
い。
第1図は米国特許第401730鏝のタンタル粉末製造
方法を示すブロック図、第2図は本発明のタンタル粉末
製造方法を示すブロック図である。
方法を示すブロック図、第2図は本発明のタンタル粉末
製造方法を示すブロック図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(a)水素化高純度タンタルインゴットを粉砕及び分
級して所定の粒度及び粒度分布を有する先駆粉末とする
工程、(b)粉砕及び分級された水素化タンタル粉末に
化学的に非反応性の条件下で所定の温度で熱処理を行い
、まず比較的低い第1温度で上記粉末を脱ガスし、次に
それより高い1320℃以上の温度T_1で粉末を予備
凝集する工程、(c)予備凝集粉末を80メッシュより
小さいメッシュ寸法に粉砕する工程、(d)得られた8
0メッシュより小さい粉末を非反応性条件下で上記温度
T_1より高い温度T_2に加熱して粉末を再凝集する
工程、(e)再凝集粉末を粉砕予備凝集粉末のメッシュ
寸法より大きい35メッシュより小さい中間メッシュ寸
法に粉砕する工程、(f)再凝集し35メッシュより小
さく粉砕した粉末すべてを配合して、焼結により低密度
陽極を形成し得る成形体にプレス成形するのに適当なタ
ンタル粉末を得る工程のみよりなることを特徴とする、
酸素含量が比較的低く、流れ特性が良好で、結合剤が存
在しない状態で生強度が高く、焼結中の収縮が比較的少
なく、焼結後のプレス成形陽極のキャパシタンスが大き
い高純度凝集タンタル粉末の製造方法。 2 水素化タンタル先駆粉末の平均フィッシャー・サブ
シーブ寸法を3.8〜4.5μの範囲とする特許請求の
範囲第1項記載の方法。 3 水素化タンタル先駆粉末の平均フィッシャー・サブ
シーブ寸法を4.1〜4.5μの範囲とする特許請求の
範囲第1項記載の方法。 4 水素化タンタル先駆粉末のローラー粒子分布がフィ
ッシャー・サブシーブ寸法3μ未満の粒子を10重量%
以上含有しない特許請求の範囲第1項記載の方法。 5 水素化タンタル先駆粉末の少くとも80重量%のロ
ーラー粒度分布が最小寸法3μから最大寸法20μまで
の範囲にある特許請求の範囲第1項記載の方法。 6 予備凝集粉末を80メッシュ篩通過まで粉砕し篩分
する特許請求の範囲第1項記載の方法。 7 予備凝集粉末を200メッシュ篩通過まで粉砕し篩
分する特許請求の範囲第1項記載の寸法。 8 予備凝集粉末を325メッシュ篩通過まで粉砕し篩
分する特許請求の範囲第1項記載の方法。 9 再凝集温度T_2を1375〜1525℃の範囲内
とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 10 再凝集温度T_2を約1450℃とする特許請求
の範囲第1項記載の方法。 11 再凝集粉末を予備凝集粉末の篩寸法より大きい篩
寸法に粉砕及び篩分する特許請求の範囲第1項記載の方
法。 12 再凝集粉末を35メッシュ篩通過寸法に粉砕及び
篩分する特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US801558 | 1977-05-31 | ||
US05/801,558 US4141719A (en) | 1977-05-31 | 1977-05-31 | Tantalum metal powder |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53147664A JPS53147664A (en) | 1978-12-22 |
JPS6048561B2 true JPS6048561B2 (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=25181439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP53042731A Expired JPS6048561B2 (ja) | 1977-05-31 | 1978-04-13 | タンタル金属粉末の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4141719A (ja) |
JP (1) | JPS6048561B2 (ja) |
BE (1) | BE866189A (ja) |
DE (1) | DE2816342C2 (ja) |
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1123816A (en) * | 1978-02-06 | 1982-05-18 | Harold M. Simons | Granulating and activating metal to form metal hydride |
DE3140248C2 (de) * | 1981-10-09 | 1986-06-19 | Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verwendung von dotiertem Ventilmetallpulver für die Herstellung von Elektrolytkondensatoranoden |
US4432813A (en) * | 1982-01-11 | 1984-02-21 | Williams Griffith E | Process for producing extremely low gas and residual contents in metal powders |
US4595413A (en) * | 1982-11-08 | 1986-06-17 | Occidental Research Corporation | Group IVb transition metal based metal and processes for the production thereof |
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