JPS6047209B2 - 基体表面のエツチング法 - Google Patents

基体表面のエツチング法

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JPS6047209B2
JPS6047209B2 JP11186980A JP11186980A JPS6047209B2 JP S6047209 B2 JPS6047209 B2 JP S6047209B2 JP 11186980 A JP11186980 A JP 11186980A JP 11186980 A JP11186980 A JP 11186980A JP S6047209 B2 JPS6047209 B2 JP S6047209B2
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etching
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etching method
aqueous
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マン・ジツク・リム
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Western Electric Co Inc
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    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C04B41/5338—Etching
    • C04B41/5353—Wet etching, e.g. with etchants dissolved in organic solvents
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、Ｌ１ＮｂＯ３の基体の表面のエッチング法に
関する。
特に、フッ化水素酸と硫酸よりなる混合物でＬ１ＮｂＯ
、をエッチングする方法に関する。
最近、ニオブ酸リチウム（Ｌ１Ｎｌｃ３）は、電気装置
工業で非常な関心をもたれてきた。このＬｉＮｂＯａ使
用に特有な問題はこの材料のエッチングであつた。
ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂ０３）は、ＮＨ０３及びＨ
Ｆよりなる水性混合物でエッチングできる。然し乍らそ
のエッチングは、混合物の沸点で妥当な速度でのみ行な
われる。従つておだやかな温度て妥当な速度てＬｌＮｂ
Ｏ。をエッチングする腐蝕液が望まれ、そのような腐蝕
液を用いる方法が本発明の目的である。本発明は、Ｌｉ
ＮｂＯ。
の基体表面のエッチング法に関し、特にフッ化水素酸及
び硫酸よりなる混合物でＬｉＮｂＯ３をエッチングする
方法に関する。簡単に云えば本方法は、基体表面（ニオ
ブ酸リチウム（ＬｉＮｂ００）の）を、フッ化水素酸と
硫酸よりなる混合物に接せしめ、それにより、エッチン
グを生じせしめることよりなる。本発明は、添附図面及
び以下の説明によりより容易に理解される。
その図面には、ニオブ酸リチウムとタンタル酸リチウム
夫々のエッチング速度を、フッ化水素酸の容量比に対し
てプロットされている。本発明は、ニオブ酸リチウム（
ＬＩＮｂＯ３）のエッチングのための独特な化学組成物
の発見に基づくものである。
エッチング系は、フッ化水素ＨＦと硫酸Ｈ２ＳＯ、（少
なくとも１つの適当な液体溶媒担体に含まれている）の
混合物よりなる。その溶媒担体は、水性或は非水性液体
のいずれかてあり得ノる。好適な担体溶媒は水てある。
夫々の成分、ＨＦとＨ２ＳＯ４の用いる濃度は特定温度
て望まれるエッチング速度に依存している。
この点に関して、仙重量％水性ＨＦと９踵量％水性ＹＩ
２ＳＯ。についての好適な混合物濃度は、典型的には４
踵量％水性運の約０．２０〜約０．９０容量比（約３５
．０５３モル８ ／１０００ｆＨ２０，８９．０４５モ
ル１１．Ｓ０，／１０００ｆＨ２０〜約４７．５３５モ
ルＨＦ／１０００ｆＨ２０，３．３５４モルＨ，ＳＯ４
／１０００ｆＨ２０）の範囲である。処理すべき基体Ｌ
ｉＮｂＯ３は、通常の方法でエッチング溶液混合物につ
けられ或はさらされ、そこでＬｉＮｂＯ３が腐蝕される
。
エッチング溶液の温度は、室温と用いた特定の混合物の
沸点の間の温度に保持される。この点に関して、選択し
た温度は用いたエッチング混合物及び望ましいエッチン
グ速度の如きパラメーターに依存している。基体を必要
な時間エッチング溶液につけた後に、それから取り出し
適当な溶媒、例えば水によりす１ぎ洗いをし次に乾燥す
る。ＬｉＮｂＯ３を９７重量％の水性１１２Ｓ０４の１
００％のものにさらすと９０′Ｃで１時間後でもそのエ
ッチングと生じない（実験誤差内で）ことに注目すべき
である。ＬｉＮｂＯ３基体のエッチングの特定例は次の
如きである。
ＬｉＮｂＯ３のスライス（Ｙカット）を複数個王水溶液
でまず洗浄し、次にエッチングにかける前に水ですｊぎ
洗いした。
複数個の試料からの異なる試料を次に、水性の４踵量％
ＨＦと水性９７重量％Ｈ２ＳＯ，溶液の容量比を変えた
ものに、９０′Ｃで１時間施した。
夫々の試料のエッチング速度を次にその重量変化と夫々
の試料の面積を標準的な技術と装置を用いて測定するこ
とにより決定した。種々の実験の速度は第１表の通りで
ある。１１２Ｓ０，とＨＦのエッチング混合物でのニオ
ブ酸リチウムの得られたエッチング速度は本質的に、同
一温度でのタンタル酸リチウムと平行している。
この点に関して、図面を参照しそこには夫々のエッチン
グ速度が比較のためにプロットされている。タンタル酸
リチウムのエッチング速度は昭和５師特許願第０２１０
６汚より得られ、参照のために記した。それは次の式に
よりｙ／Ｃｌｔ／時間に変換される。速度（ｙ ／ｄ／
時間）＝
【図面の簡単な説明】
図は、ＨＦ容量組成比とエッチング速度の関係をニオブ
酸リチウムとタンタル酸リチウムについてプロットした
ものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ ＬｉＮｂＯ＿３を有する基体の表面を、ＨＦ及びＨ
    ＿２ＳＯ＿４を有する水性エッチング溶液と接せしめる
    ことにより、その表面をエッチング及び／又は研磨する
    方法において、該ＨＦは、約３５．０５３〜４７．５３
    ５モル／１０００ｇＨ＿２Ｏの範囲の量溶液中に存在し
    、該Ｈ＿２ＳＯ＿４は、約８９．０４５〜３．３５４モ
    ル／１０００ｇＨ＿２Ｏの量溶液中に存在することを特
    徴とする前記方法。
JP11186980A 1975-02-18 1980-08-15 基体表面のエツチング法 Expired JPS6047209B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US55040575A 1975-02-18 1975-02-18
US550405 1975-02-18

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Publication Number Publication Date
JPS5637221A JPS5637221A (en) 1981-04-10
JPS6047209B2 true JPS6047209B2 (ja) 1985-10-21

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1609076A Pending JPS51115300A (en) 1975-02-18 1976-02-18 Etching method of substrate surface
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GB (1) GB1475279A (ja)

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JPS51115300A (en) 1976-10-09
DE2605582C3 (de) 1980-01-31
JPS5637221A (en) 1981-04-10
FR2301352A2 (fr) 1976-09-17
GB1475279A (en) 1977-06-01
FR2301352B2 (ja) 1980-06-13
DE2605582B2 (de) 1979-04-19
DE2605582A1 (de) 1976-08-26
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