JPS6046307B2 - 流体流量制御弁 - Google Patents

流体流量制御弁

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Publication number
JPS6046307B2
JPS6046307B2 JP4454576A JP4454576A JPS6046307B2 JP S6046307 B2 JPS6046307 B2 JP S6046307B2 JP 4454576 A JP4454576 A JP 4454576A JP 4454576 A JP4454576 A JP 4454576A JP S6046307 B2 JPS6046307 B2 JP S6046307B2
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JP
Japan
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valve
fluid flow
electromagnetic
valve seat
magnetic
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Expired
Application number
JP4454576A
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English (en)
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JPS52127621A (en
Inventor
慶一 森
康清 上田
継治郎 森
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は弁と弁座の空隙により流体の流量を制御する
流体流量制御弁に関するものである。
従来の技術 、’−、Jι− 、、!愕脛■1・11コ
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w、’1−’−コ1−蕃、−、゛工11Φ一・一ーフ
4のが大部分であつた。
しかし磁力Fと距離lとの関係は距離の二乗に反比例し
て力が変わるため(第7図参照)、電磁力とスプリング
とをバランスさせて弁と弁座の空隙を無断に変化させる
電磁式比例弁等においてはある点以上接近すればスプリ
ングとのバランスが取れなくなり吸着されてしまう。こ
れを防止するため吸着される限界まで弁が変位しない様
に機械的にストッパを取付けて使用していた。発明が解
決しようとする問題点 しカル実際に電磁力を一番効率よく使用するには距離
が近い程よいため、吸引力を利用した電磁式比例弁は効
率が悪く、励磁電流を多くしたり電磁コイルを大きくし
なければならなかつたため、大型で高価て電力も多く必
要であつた。
本発明は上記従来例の問題点を解消するもので、磁力
の有効利用による制御弁の小型化と制御を高精度に行な
い、かつ異常時の安全性を高めるものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の流体流量制御弁
は、被制御流体を流通する弁座と、この弁座に対向する
位置に設けられ、通常はスプリング装置により弁座に押
圧され、流体の流通を防ぐ弁と、この弁に装着された第
1の磁気装置と、第1の磁気装置に対向して固定され、
且つ第1の磁気装置とは相反発する方向に励磁される第
2の磁気装置を有し、この第1および第2の磁気装置の
少なくとも一方を磁力が連続的に可変可能な電磁装置で
構成したものである。
作用 本発明は上記の構成により、少なくとも一方を電磁装置
で構成した2つの磁気装置の反発力とスプリングカとの
釣り合いにより弁と弁座の間隙を調整し、電磁装置の電
磁力に応じて弁座を流通する流体の流量を無段階に制御
可能としている。
実施例以下、本発明の構成を第1図から第6図を用いて
説明していく。
第1図は本発明の一実施例であり、ガス流量制御弁に応
用したものである。
第1図において1はガス入口、2は出口で、3は弁座を
示す。
4は弁座に対向して配された弁で、これは非磁性体で形
成された動作桿5の一端に遊着されている。
前記動作桿5の他端は鉄心6に巻回された電磁コイル7
を貫通して、永久磁石8に固着されている。前記弁4、
動作桿5、磁石8はスプリング9により通常弁4を弁座
3に押圧してガスが入口1から出口2へ流通するのを防
いでいる。またスプリング9は同時にガスのシールを兼
ねたダイアフラム10と共に動作桿5が鉄心6の内壁に
接触しない様に保持している。次に動作を説明してゆく
。コイル7に通電していない時は鉄心6が磁化されてい
ないため永久磁石8は吸引力により鉄心6を吸引する。
この力とスプリング9の力により弁4を弁座3に押圧し
てガスの流通を防いでいる。今、例えば永久磁石8の極
性が図の様に鉄心6に面している方がS1他端がNであ
つたとする場合、鉄心6も永久磁石8に面している方が
S極になる様に通電すると、鉄心6と磁.石8の間に反
発力が発生して徐々に電流を増加してゆけばスプリング
9の力に打勝ち動作桿5を上方へ引き上け弁4を弁座3
からはなれ、ガスは流れる。電磁力はコイル電流に比例
するのでコイル電流を変化させるとスプリング9とのバ
ランス点・が変わり、コイル電流で無段に弁4と弁座3
との空隙を設定できる。従つてガス流量も無段に制御て
きるものである。第2図は他の実施例である。
この場合動作桿11は支点12を有するてこになつてい
て、一端に弁13、他端に永久磁石14を有する。スプ
リング15は通常弁13を弁座16に押圧している。以
上の部品は全て箱体17内に包含されて非磁性体のシー
ル板18により密閉されている。磁石14に対向してシ
ール板18を隔てた外部には鉄心19に巻回された電磁
コイル20が配されている。動作は第1図のものと全く
同じてあるが動作桿11は支点12を中心に動くため動
作が安定し”ている上にシールダイアフラム10が省け
るため信頼性が高いという利点がある。第3図は永久磁
石を使用せすに2個の電磁コイル7,8″を使用したも
のである。
この場合もコイルの巻方向あるいはコイル電流の方向に
より互いに反発する様に構成されている。この場合両方
のコイル電流を変化させることが可能なため弁の動作特
性を自由に選べるため応用の自由度が広がる。第4図は
他の実施例て、第1図のものと同じ構成であるが、21
,22は板バネでありこれにより駆動桿5を下へ押圧す
ると同時に駆動桿5の左右の移動を制限して鉄心6の内
周壁面に接触しない様に保持している。
第5図は第4図の板バネの斜視図である。第6図はさら
に他の実施例を示す。
弁23の周囲には還状の永久磁石24が固着されている
弁23はスプリング25により弁座26に押圧している
。前記弁座26の外周には磁石24に対向して鉄心27
に巻回されたコイル28が配置されていて、コイル28
に通電すれば磁石24と反発し合う様に構成されている
。故にコイル電流に応じて弁23が弁座26から移動し
てスプリング25の力とバランスして止まる。以上の様
な構成にすることにより非常にコンパクトに本発明を実
施てきるものである。この場合動作桿は必要としない。
発明の効果 以上説明したように本発明の流体流量制御弁は次のよう
な効果を有する。
12個の磁気装置の少なくとも一方を電磁装置にし、各
々の反発力により弁を駆動する構成であるため、磁気装
置間の距離が零から利用できる。
このため磁力を有効に利用可能となり、電磁装置の駆動
電流の減少、あるいは電磁コイルの小型がはかれる。2
同様に、従来の吸引方式のような吸着現象がないため動
作が安定しており、電磁コイルの微少電流の変化にも弁
が追従し、電流に応じた流体の流量の制御を無段階に、
且つ高精度に実現できる。
3電磁装置に通電しない時に、スプリングにより弁を弁
座に押圧するように作用して流体の流通を防止する構成
としているために、電源のオフ時や停電時の安全性が高
い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示すものて永久磁石と電磁石
を利用したものの断面図、第2図は他の実施例を示す断
面図、第3図は2個の電磁石を利用したものの要部構成
図、第4図はさらに他の実施例における要部構成図、第
5図は板バネの斜視図、第6図はさらに他の実施例を示
す断面図、第7図は磁石の距離′と力Fの関係を示すグ
ラフである。 3・・・弁、4・・・弁座、7,20,28・・・電磁
コイル(第2の磁気装置、電磁装置)、8,14,24
・・・永久磁石(第1の磁気装置)、8″・・・電磁コ
イIル(第1の磁気装置、電磁装置)、9,15,28
・・・スプリング装置、21,22・・・板バネ(スプ
リング装置)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 流体を流通する弁座と、前記弁座に対向して設け、
    通常スプリング装置により前記弁座に押圧されて流体の
    流通を防ぐ弁と、前記弁に装置した第1の磁気装置と、
    前記第1の磁気装置に対向して設け、前記第1の磁気装
    置とは反発する方向に励磁されかつ固定された第2の磁
    気装置とを有し、前記第1および第2の磁気装置の少な
    くとも一方を磁力が連続的に可変可能な電磁装置で構成
    した流体流量制御弁。 2 第1の磁気装置は弁に連設した動作桿に装着された
    永久磁石で構成した特許請求の範囲第1項記載の流体流
    量制御弁。 3 第1の磁気装置は弁に連設した動作桿に装置された
    第1の電磁装置で構成し、第2の磁気装置は固定した第
    2の電磁装置で構成し、少なくとも1つの電磁装置に印
    加する電流により流体流量を制御する構成とした特許請
    求の範囲第1項記載の流体流量制御弁。
JP4454576A 1976-04-19 1976-04-19 流体流量制御弁 Expired JPS6046307B2 (ja)

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JP4454576A JPS6046307B2 (ja) 1976-04-19 1976-04-19 流体流量制御弁

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JPS52127621A JPS52127621A (en) 1977-10-26
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5913417Y2 (ja) * 1977-10-07 1984-04-20 三菱電機株式会社 ガス流量制御弁
JPS5971971A (ja) * 1983-09-14 1984-04-23 株式会社日立製作所 ダンパ−開閉制御装置
JPH0630766B2 (ja) * 1990-03-20 1994-04-27 惠美須薬品化工株式会社 粉末ないし顆粒状薬剤の連続投入装置
JP2020003042A (ja) * 2018-06-29 2020-01-09 株式会社Screenホールディングス 開閉弁およびこの開閉弁を備えた基板処理装置

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JPS52127621A (en) 1977-10-26

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