JPS6045415B2 - レリーフ版木を製造するための光重合性物質 - Google Patents
レリーフ版木を製造するための光重合性物質Info
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- JPS6045415B2 JPS6045415B2 JP52118666A JP11866677A JPS6045415B2 JP S6045415 B2 JPS6045415 B2 JP S6045415B2 JP 52118666 A JP52118666 A JP 52118666A JP 11866677 A JP11866677 A JP 11866677A JP S6045415 B2 JPS6045415 B2 JP S6045415B2
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polycarbonamides, polyesteramides or polyimides
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレリーフ版木を製造するための、殊に斯かるレ
リーフ版木にて厚紙母型を彫刻するための光重合性物質
に係り、この場合光重合性物質は主として少くとも１つ
のアルコール溶性線状ポリアミド、光重合性のオレフィ
ン系不飽和モノマー及び少くとも１つの光重合開始剤よ
り成る。
リーフ版木にて厚紙母型を彫刻するための光重合性物質
に係り、この場合光重合性物質は主として少くとも１つ
のアルコール溶性線状ポリアミド、光重合性のオレフィ
ン系不飽和モノマー及び少くとも１つの光重合開始剤よ
り成る。
可溶性の高分子線状ポリアミド、光重合性モノマー及び
光重合開始剤より製造された凸版版木は夫自体公知であ
つて、その高い摩擦強度に依つて優れており、このこと
はこれ等凸版版木に依る高い印刷能力を許容する。然し
乍ら公知の困難は、ポリアミドと結合して貯蔵性の適合
し得る層を生じ得る適当なモノマーの選択である。僅か
に極性のモノマーは滲出する傾向を有し、且つ極性のモ
ノマーは比較的多量に於て使用する場合晶出し且つ混濁
を生ずる傾向を有する。この目的のための適当な混合物
を見出そうとする試みは充分に行われた（独乙国特許公
開公報第１５２２４６３号、同第１５２２４印号、同第
１５２２２７０号、同第２０６４７４２号及び同第２２
３８５６７号参照）。然し乍ら厚紙母型を彫刻するため
に、斯かる混合物は余りに低い硬度のために使用には工
合が悪すぎた。本発明の目的とする所は、短かい露出時
間にて製造でき、且つ良好な印刷性能及び高い印刷能カ
ーに於て高い硬度を有するポリアミドをベースとする厚
紙母型の彫刻に適する光重合レリーフ版木を見出そうと
するに至る。
光重合開始剤より製造された凸版版木は夫自体公知であ
つて、その高い摩擦強度に依つて優れており、このこと
はこれ等凸版版木に依る高い印刷能力を許容する。然し
乍ら公知の困難は、ポリアミドと結合して貯蔵性の適合
し得る層を生じ得る適当なモノマーの選択である。僅か
に極性のモノマーは滲出する傾向を有し、且つ極性のモ
ノマーは比較的多量に於て使用する場合晶出し且つ混濁
を生ずる傾向を有する。この目的のための適当な混合物
を見出そうとする試みは充分に行われた（独乙国特許公
開公報第１５２２４６３号、同第１５２２４印号、同第
１５２２２７０号、同第２０６４７４２号及び同第２２
３８５６７号参照）。然し乍ら厚紙母型を彫刻するため
に、斯かる混合物は余りに低い硬度のために使用には工
合が悪すぎた。本発明の目的とする所は、短かい露出時
間にて製造でき、且つ良好な印刷性能及び高い印刷能カ
ーに於て高い硬度を有するポリアミドをベースとする厚
紙母型の彫刻に適する光重合レリーフ版木を見出そうと
するに至る。
然るに主として少くとも１つのアルコール溶性の線状ポ
リアミド、光重合性のオレフィン系不飽．一和モノマー
Ｍ及び少くとも１つの光重合開始剤より成れる光重合性
物質がポリアミド、モノマーＭ及ひ光重合開始剤の混合
物に関しモノマーＭとして（ａ）式 のジー又はトリエーテル（Ｍ１）１５乃至４轍量％前記
式中 Ｒ１＝Ｈ，ＣＨ３（同一であるか又は異なる）Ｒ２＝炭
素原子２乃至６個を有するｎ一価の脂 肪族残基（ｂ）
式 のモノマー（Ｍ′）６乃至１鍾量％ 前記式中 Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ，ＣＨ３（同一であるか又は異なる））
Ａ１、Ａ２＝炭素原子２乃至３個を有するアルキ レ
ン残基（同一であるか又は異なる）Ｚ＝２，４一又は２
，６−トルイレン残基を含 有し、且つモノマーＭ１対
モノ÷−Ｍ２の重 量比が１．５乃至７：１殊に２乃至
４：１で ある場合には、前記光重合性物質が凸版印
刷法用のレリーフ版木を製造するために、 殊に斯かる
レリーフ版木に依る厚紙母型の 彫刻のために特に適す
ることが知られた。
リアミド、光重合性のオレフィン系不飽．一和モノマー
Ｍ及び少くとも１つの光重合開始剤より成れる光重合性
物質がポリアミド、モノマーＭ及ひ光重合開始剤の混合
物に関しモノマーＭとして（ａ）式 のジー又はトリエーテル（Ｍ１）１５乃至４轍量％前記
式中 Ｒ１＝Ｈ，ＣＨ３（同一であるか又は異なる）Ｒ２＝炭
素原子２乃至６個を有するｎ一価の脂 肪族残基（ｂ）
式 のモノマー（Ｍ′）６乃至１鍾量％ 前記式中 Ｒ３、Ｒ４＝Ｈ，ＣＨ３（同一であるか又は異なる））
Ａ１、Ａ２＝炭素原子２乃至３個を有するアルキ レ
ン残基（同一であるか又は異なる）Ｚ＝２，４一又は２
，６−トルイレン残基を含 有し、且つモノマーＭ１対
モノ÷−Ｍ２の重 量比が１．５乃至７：１殊に２乃至
４：１で ある場合には、前記光重合性物質が凸版印
刷法用のレリーフ版木を製造するために、 殊に斯かる
レリーフ版木に依る厚紙母型の 彫刻のために特に適す
ることが知られた。
分子主鎖中に反覆するアミド基を有するアルコール溶性
の線状ポリアミドとしては、殊にアルコール性溶剤又は
溶剤混合物中に、例えは低級脂肪族アルコール、アルコ
−ルー水一混合物又はアルコールと他の溶剤との混合物
例えばペンゾールーアルコールー水一昆合物中に可溶性
であるコポリアミドが適する。これ等コポリアミドは例
えば普通の方法にて重縮合又は重合例えば活性化された
アニオン性重合することに依り環員５乃至１鍮を有する
２つ又は夫以上のラクタム、例えばピロリドン、力プロ
ラクタム、エナントラクタム又はカプリルラクタムより
製造されることができる。更に他の極めて適するコポリ
アミドは、少くとも３つのポリアミド形成原料物質より
製造されたジアミン／ジカルボン酸タイプの塩よりの重
縮合生成物である。このために適するジカルボン酸或は
ジアミンは、殊に炭素原子４乃至２噸を有する脂肪族ジ
カルボン酸例えばアジピン酸、コルク酸、セバシン酸、
ドデカンジカルボン酸、並びに相当する置換生成物例え
ばα，α−ジエチルアジピン酸、α一エチルコルク酸、
ヘプタデカンジカルボン酸−１，８又はヘプタデカンジ
カルボン酸一１，９或はその混合物並びに脂肪族又は芳
香族環系を含有するジカルボン酸である。適当なジアミ
ンは特に第１級及び／又は第２級アミノ基２個を有する
、殊に炭素原子４乃至２陥を有する脂肪族又は環式脂肪
族ジアミン、例えばペンタメチレンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチ
レンジアミン又はこれ等アミンのＣ一及び／又はＮ一置
換誘導体、例えばＮ−メチルーＮ−エチルーヘキサメチ
レンジアミン、１，６−ジアミノー４−メチルヘキサン
、４，４″ージアミノジシクロヘキシルメタン又は４，
４″ージアミノジシクロヘキシルプロパン、更に芳香族
ジアミン例えばｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシレン
ジアミン又は４，４゛−ジアミノジフェニルメタンであ
つて、この場合総ての原料物質に於て、両カルボン酸基
或はアミノ基間の橋員はヘテロ原子例えば酸素一、窒素
一又は硫黄一原子に依り中断されていることができる。
特に適するコポリアミドは１つ又は夫以上のラクタム殊
に力プロラクタム及び少くとも１つの脂肪族ジカルボン
酸のジアミン塩よりの、例えばε一カプロラクタム、ヘ
キサメチレンージアンモニウムーアジパート及び４，４
″−ジアミノジシクロヘキシルメタンアジパートよりの
混合物の混合縮合に依り製造されたものである。前記式
（１）の適当なモノマーＭ１は、炭素原子２乃至６個を
有する脂肪族アルコールとＮ−ヒドロキシメチルーアク
リルアミド又はーメタクリルアミドとのジ及びトリエー
テル例えばエチレングリコール又はプロパンジオール１
モル及びＮ−メチロールアクリルー又はーメタクリルア
ミド２モルよりのジエーテル又はグリセリン又は１，１
，１一トリメチロールプロパン１モル及びＮ−メチロー
ルアクリルー又はーメタクリルアミド３モルよりのトリ
エーテルである。
の線状ポリアミドとしては、殊にアルコール性溶剤又は
溶剤混合物中に、例えは低級脂肪族アルコール、アルコ
−ルー水一混合物又はアルコールと他の溶剤との混合物
例えばペンゾールーアルコールー水一昆合物中に可溶性
であるコポリアミドが適する。これ等コポリアミドは例
えば普通の方法にて重縮合又は重合例えば活性化された
アニオン性重合することに依り環員５乃至１鍮を有する
２つ又は夫以上のラクタム、例えばピロリドン、力プロ
ラクタム、エナントラクタム又はカプリルラクタムより
製造されることができる。更に他の極めて適するコポリ
アミドは、少くとも３つのポリアミド形成原料物質より
製造されたジアミン／ジカルボン酸タイプの塩よりの重
縮合生成物である。このために適するジカルボン酸或は
ジアミンは、殊に炭素原子４乃至２噸を有する脂肪族ジ
カルボン酸例えばアジピン酸、コルク酸、セバシン酸、
ドデカンジカルボン酸、並びに相当する置換生成物例え
ばα，α−ジエチルアジピン酸、α一エチルコルク酸、
ヘプタデカンジカルボン酸−１，８又はヘプタデカンジ
カルボン酸一１，９或はその混合物並びに脂肪族又は芳
香族環系を含有するジカルボン酸である。適当なジアミ
ンは特に第１級及び／又は第２級アミノ基２個を有する
、殊に炭素原子４乃至２陥を有する脂肪族又は環式脂肪
族ジアミン、例えばペンタメチレンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチ
レンジアミン又はこれ等アミンのＣ一及び／又はＮ一置
換誘導体、例えばＮ−メチルーＮ−エチルーヘキサメチ
レンジアミン、１，６−ジアミノー４−メチルヘキサン
、４，４″ージアミノジシクロヘキシルメタン又は４，
４″ージアミノジシクロヘキシルプロパン、更に芳香族
ジアミン例えばｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシレン
ジアミン又は４，４゛−ジアミノジフェニルメタンであ
つて、この場合総ての原料物質に於て、両カルボン酸基
或はアミノ基間の橋員はヘテロ原子例えば酸素一、窒素
一又は硫黄一原子に依り中断されていることができる。
特に適するコポリアミドは１つ又は夫以上のラクタム殊
に力プロラクタム及び少くとも１つの脂肪族ジカルボン
酸のジアミン塩よりの、例えばε一カプロラクタム、ヘ
キサメチレンージアンモニウムーアジパート及び４，４
″−ジアミノジシクロヘキシルメタンアジパートよりの
混合物の混合縮合に依り製造されたものである。前記式
（１）の適当なモノマーＭ１は、炭素原子２乃至６個を
有する脂肪族アルコールとＮ−ヒドロキシメチルーアク
リルアミド又はーメタクリルアミドとのジ及びトリエー
テル例えばエチレングリコール又はプロパンジオール１
モル及びＮ−メチロールアクリルー又はーメタクリルア
ミド２モルよりのジエーテル又はグリセリン又は１，１
，１一トリメチロールプロパン１モル及びＮ−メチロー
ルアクリルー又はーメタクリルアミド３モルよりのトリ
エーテルである。
これ等ジー及びトリエーテルは公知の方法にてアクリル
アミド又はメタクリルアミド、フォルムアルデヒド及び
多価脂肪族アルコールより製造されることができる。炭
素原子２乃至３個を有するジオールのジエーテル殊にエ
チレングリコールのジエーテルが有利である。前記式（
■）の適当なモノマーＭ２は簡単な方法にて２，４一又
は２，６−トルイレンージイソシアナート又はこれ等ジ
イソシアナートの工業用異性体混合物を２−ヒドロキシ
エチルー、２−ヒドロキシプロピルー又は３−ヒドロキ
シプロピルーアクリラート又はーメタクリルラート又は
これ等グリコールモノ（メト）アクリラートの混合物と
反応せしめることに依り製造される。
アミド又はメタクリルアミド、フォルムアルデヒド及び
多価脂肪族アルコールより製造されることができる。炭
素原子２乃至３個を有するジオールのジエーテル殊にエ
チレングリコールのジエーテルが有利である。前記式（
■）の適当なモノマーＭ２は簡単な方法にて２，４一又
は２，６−トルイレンージイソシアナート又はこれ等ジ
イソシアナートの工業用異性体混合物を２−ヒドロキシ
エチルー、２−ヒドロキシプロピルー又は３−ヒドロキ
シプロピルーアクリラート又はーメタクリルラート又は
これ等グリコールモノ（メト）アクリラートの混合物と
反応せしめることに依り製造される。
次の例及び比較試験のモノマーＭ２は、′４トルイレン
残基′１なる記載の場合は、市販のトルイレンジイソシ
アナートの使用より得られるように２，４一異性体８呼
量％及び２，６一異性体２唾量％の混合物に係る。“゜
プロピレン残基゛なる記載の場合は、１，２−プロピレ
ン残基に係り、この場合アクリル基は６５重量％に於て
１一位置に結合されており、３５重量％に於て２一位置
に結合されている。本発明に依る光重合性物質中には、
ポリアミド、モノマー及び光重合開始剤の混合物に関し
、モノマーＭ１が１５乃至４０殊に２５乃至３５重量％
の量に於て含有されており、モノマーＭ２が６乃至１８
殊に９乃至１５重量％の量に於て含有されており、この
場合モノマーＭ１対モノマーＭの重量比は１．５：１乃
至７：１殊に２：１乃至４：１である。ポリアミドはポ
リアミド、モノマー及び光重合開始剤の量の和に関し約
３７乃至絽殊に５０乃至６５重量％の量に於て含有され
ている。
残基′１なる記載の場合は、市販のトルイレンジイソシ
アナートの使用より得られるように２，４一異性体８呼
量％及び２，６一異性体２唾量％の混合物に係る。“゜
プロピレン残基゛なる記載の場合は、１，２−プロピレ
ン残基に係り、この場合アクリル基は６５重量％に於て
１一位置に結合されており、３５重量％に於て２一位置
に結合されている。本発明に依る光重合性物質中には、
ポリアミド、モノマー及び光重合開始剤の混合物に関し
、モノマーＭ１が１５乃至４０殊に２５乃至３５重量％
の量に於て含有されており、モノマーＭ２が６乃至１８
殊に９乃至１５重量％の量に於て含有されており、この
場合モノマーＭ１対モノマーＭの重量比は１．５：１乃
至７：１殊に２：１乃至４：１である。ポリアミドはポ
リアミド、モノマー及び光重合開始剤の量の和に関し約
３７乃至絽殊に５０乃至６５重量％の量に於て含有され
ている。
光重合開始剤含有率は０．０１乃至５殊に０．５乃至２
重量％であるのが適当であつて、光重合開始剤の種類及
びその活性に依り左右される。本発明に依る光重合性物
質用の光重合開始剤としては、光或は輻射の作用に際し
基を形成し且つモノマーの重合を開始する実際上総ての
化合物が使用される。斯かる開始剤の例はＣｈｅｍｉｃ
ａＩＲｅｖｉｅｗｓ第絽巻第２号第１２５乃至１５１頁
（１９６師３月２５日）中に記載されている。例えばア
シロイン１及びその誘導体例えばベンゾイン、ベンゾイ
ンアルキルエーテル、α−メチロールベンゾイン及びそ
のエーテル、α−メチルベンゾイン、ジケトン及びその
誘導体例えばジアセチル、ベンジル、ベンジルモノケタ
ール例えばベンゾジルジメチルケ門タール又はベンジル
エチレングリコ−ルーモノケタール、不置換及び置換キ
ノン例えばアンスラキノン等が挙げられる。光重合開始
剤は単独にて又は混合して使用されることができる。普
通の方法にて光重合性物質に抑制剤、染料、ノ顔料及び
他の普通の添加物質が添加されることができる。
重量％であるのが適当であつて、光重合開始剤の種類及
びその活性に依り左右される。本発明に依る光重合性物
質用の光重合開始剤としては、光或は輻射の作用に際し
基を形成し且つモノマーの重合を開始する実際上総ての
化合物が使用される。斯かる開始剤の例はＣｈｅｍｉｃ
ａＩＲｅｖｉｅｗｓ第絽巻第２号第１２５乃至１５１頁
（１９６師３月２５日）中に記載されている。例えばア
シロイン１及びその誘導体例えばベンゾイン、ベンゾイ
ンアルキルエーテル、α−メチロールベンゾイン及びそ
のエーテル、α−メチルベンゾイン、ジケトン及びその
誘導体例えばジアセチル、ベンジル、ベンジルモノケタ
ール例えばベンゾジルジメチルケ門タール又はベンジル
エチレングリコ−ルーモノケタール、不置換及び置換キ
ノン例えばアンスラキノン等が挙げられる。光重合開始
剤は単独にて又は混合して使用されることができる。普
通の方法にて光重合性物質に抑制剤、染料、ノ顔料及び
他の普通の添加物質が添加されることができる。
適当な重合抑制剤は熱重合を阻止するために使用される
普通の重合抑制剤例えばヒドワキノン、ｐ−メトキシフ
ェノール、ｐ−キノン、塩化銅（１）、メチレンブリユ
ー、β−ナフトール、フェノール、Ｎ−ニトロンーシク
ロヘキシルヒドロキシルアミンの塩等である。
普通の重合抑制剤例えばヒドワキノン、ｐ−メトキシフ
ェノール、ｐ−キノン、塩化銅（１）、メチレンブリユ
ー、β−ナフトール、フェノール、Ｎ−ニトロンーシク
ロヘキシルヒドロキシルアミンの塩等である。
重合抑制剤は全混合物に関し普通０．０１乃至２．呼量
％の量に於て殊に０．０５乃至０．５重量％の量に於て
使用される。適当な染料は例えばインジゴ染料殊に独乙
国特許公開公報第１９０５０１鏝に記載されている可溶
性の金属錯染料であつて、これ等は全混合物に関し、０
．００５乃至５重量％の量に於て使用されるのが適当で
ある。
％の量に於て殊に０．０５乃至０．５重量％の量に於て
使用される。適当な染料は例えばインジゴ染料殊に独乙
国特許公開公報第１９０５０１鏝に記載されている可溶
性の金属錯染料であつて、これ等は全混合物に関し、０
．００５乃至５重量％の量に於て使用されるのが適当で
ある。
本発明に依り光重合性物質は、特にレリーフ版木を製造
するために、且つ全く特に厚紙母型の彫刻のためのレリ
ーフ版木のために適する。
するために、且つ全く特に厚紙母型の彫刻のためのレリ
ーフ版木のために適する。
これ等物質は公知の方法にて例えばこれ等物質の溶液を
適当な担体上に被着し、続いて乾燥することに依り、本
発明に依る物質を圧搾、押出し又は圧延することに依り
版木に加工されることができる。又普通の方法にてこれ
等物質より箔を製造し、次にこれを例えは担体と貼着す
ることもできる。これ等物質或は光重合版木の処理は、
普通の方法にて１８００乃至７０００八殊に３０００乃
至４５００人の範囲の波長の化学光線にて具象的に露出
し、続いて露出されない部分を機械的に除去し且つ／又
は露出されない物質がその中に可溶性である現像剤溶剤
例えはアルコール性溶剤にて露出されない部分を洗除す
ることに依り行われることができる。化学光線用光源と
しては例えばエネルギーに富む灯例えは炭素アーク灯、
水銀灯、けい光を発する紫外線電球、タングステン電球
及びキセノン電球が挙げられる。本発明に依る特殊の組
成の物質が調和性であつて、短かい露出時間にて良好な
印刷性能及び高い印刷能力に於て厚紙母型の彫刻のため
に極めて所望される高い硬度を有するレリーフ版木に加
工されることは驚くべきことであつた。
適当な担体上に被着し、続いて乾燥することに依り、本
発明に依る物質を圧搾、押出し又は圧延することに依り
版木に加工されることができる。又普通の方法にてこれ
等物質より箔を製造し、次にこれを例えは担体と貼着す
ることもできる。これ等物質或は光重合版木の処理は、
普通の方法にて１８００乃至７０００八殊に３０００乃
至４５００人の範囲の波長の化学光線にて具象的に露出
し、続いて露出されない部分を機械的に除去し且つ／又
は露出されない物質がその中に可溶性である現像剤溶剤
例えはアルコール性溶剤にて露出されない部分を洗除す
ることに依り行われることができる。化学光線用光源と
しては例えばエネルギーに富む灯例えは炭素アーク灯、
水銀灯、けい光を発する紫外線電球、タングステン電球
及びキセノン電球が挙げられる。本発明に依る特殊の組
成の物質が調和性であつて、短かい露出時間にて良好な
印刷性能及び高い印刷能力に於て厚紙母型の彫刻のため
に極めて所望される高い硬度を有するレリーフ版木に加
工されることは驚くべきことであつた。
前述の現在の．技術水準に依れば短かい露出時間にて高
い硬度を有するポリアミドー版木を得るためには、光重
合性のポリアミドーモノマー混合物中に於けるモノマー
含有率を高めざるを得ない。然し乍ら例えば混合物中に
於けるモノマーＭ１・としてのエチレングリコールのビ
ス（Ｎ−ヒドロキシメチルーアクリルアミド）エーテル
の含有率を３０重量％より４鍾量％に高める時は、勿論
得られる露出された版木の球押圧硬度は充分な露出時間
に於て７００ｐ／ｉより８００ｐ／ｉに上昇するが、混
合物の調和性は両場合に於て充分ではない。
い硬度を有するポリアミドー版木を得るためには、光重
合性のポリアミドーモノマー混合物中に於けるモノマー
含有率を高めざるを得ない。然し乍ら例えば混合物中に
於けるモノマーＭ１・としてのエチレングリコールのビ
ス（Ｎ−ヒドロキシメチルーアクリルアミド）エーテル
の含有率を３０重量％より４鍾量％に高める時は、勿論
得られる露出された版木の球押圧硬度は充分な露出時間
に於て７００ｐ／ｉより８００ｐ／ｉに上昇するが、混
合物の調和性は両場合に於て充分ではない。
混合物の調和性の改善のために調和性改善剤例えばｐ−
トルオールスルフオン酸−Ｎ−ｎ−ブチルアミドを添加
する時は、このことは次第に得られた露出された版木の
硬度の低下を伴う。ポリアミド及びモノマーＭ２よりの
混合物中に於けるモノマーＭ２の含有率を３唾量％より
４踵量％に高める時は、不充分な露出時間を有する物質
を生じ、且・つ得られた露出された版木の硬度の限られ
た上昇をもたらすに過ぎない。これに反しポリアミドと
調和性改善剤としてのモノマー■との混合物へのモノマ
ーＭ２の添加が、短かい露出時間にて期待されない硬度
のレリーフ版木に加工される物質中にて作用することは
期待されることができなかつた。次に例及び比較試験中
に挙げられた部及び％は、他の記載がない限り重量部及
び重量％に係る。
トルオールスルフオン酸−Ｎ−ｎ−ブチルアミドを添加
する時は、このことは次第に得られた露出された版木の
硬度の低下を伴う。ポリアミド及びモノマーＭ２よりの
混合物中に於けるモノマーＭ２の含有率を３唾量％より
４踵量％に高める時は、不充分な露出時間を有する物質
を生じ、且・つ得られた露出された版木の硬度の限られ
た上昇をもたらすに過ぎない。これに反しポリアミドと
調和性改善剤としてのモノマー■との混合物へのモノマ
ーＭ２の添加が、短かい露出時間にて期待されない硬度
のレリーフ版木に加工される物質中にて作用することは
期待されることができなかつた。次に例及び比較試験中
に挙げられた部及び％は、他の記載がない限り重量部及
び重量％に係る。
例及び比較試験
へキサメチレンジアンモニウムアジパート３５部、Ｐ，
ｐ″ージアンモニウムシクロヘキシルメタン３５部及び
Ｅ−カプロラクタム（９）部を重縮合することに依り製
造されたアルコール溶性コポリアミド（ＰＡ）各Ｘ部を
、後記の表中に挙げられたモノマーｙ部及び場合に依り
後記の表中に挙げられた調和性媒介剤ｚ部と共に、並び
に夫々光重合開始剤としてのベンゾインエチルエーテル
１部、熱重合抑制剤としての市販の２，４，６−トリア
ルキルフェノール１部並びにクロム錯染料（Ｃ．Ｉ．第
１２１９５号）０．０１部と共にメタノ−ルー水一混合
物（９：１部）中に溶解する。
ｐ″ージアンモニウムシクロヘキシルメタン３５部及び
Ｅ−カプロラクタム（９）部を重縮合することに依り製
造されたアルコール溶性コポリアミド（ＰＡ）各Ｘ部を
、後記の表中に挙げられたモノマーｙ部及び場合に依り
後記の表中に挙げられた調和性媒介剤ｚ部と共に、並び
に夫々光重合開始剤としてのベンゾインエチルエーテル
１部、熱重合抑制剤としての市販の２，４，６−トリア
ルキルフェノール１部並びにクロム錯染料（Ｃ．Ｉ．第
１２１９５号）０．０１部と共にメタノ−ルー水一混合
物（９：１部）中に溶解する。
この溶液を粘着ラツカーが塗布された鋼板上に注出して
層を生せしめ且つ乾燥する。得られた層厚は夫々６７０
μｍてある。適当なネガの使用下に、得られた板を平面
露出器上にて３０００μＷ／ｄの紫外線の強さに露出す
る。
層を生せしめ且つ乾燥する。得られた層厚は夫々６７０
μｍてある。適当なネガの使用下に、得られた板を平面
露出器上にて３０００μＷ／ｄの紫外線の強さに露出す
る。
次に板の露出されない部分をエタノ−ルー水混合物にて
７分間洗除し、且つ市販の乾燥器一後露出器中にて６分
間１３０℃に於て処理する。得られたレリーフ版木の球
押圧硬度（ｐ／ｉ）を少くとも１０日間外気中にて貯蔵
せる後、相対湿度６０％に於て測定し、更に毎Ｃｍ５４
本の線に於て３％の半調値を再生するために必要な露出
時間を測定する。最後に板を４週間８０％の相対湿度に
が貯蔵した後、露出されない感光性混合物の調千を判定
する。結果は次の表中に示されている。中の記載は次の
意味を有する：ＰＡ：前記のコポリアミド Ｍ１＝後記の式のモノマー 式中残基Ｒ１及びＲ２は後記の意味を有する：Ｗ＝後記
の式のモノマー式中残基Ｒ，Ａ及びＺは次の意味を有す
るＶ−１：Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及びＡ２＝ーＣ■ＣＩ
ｌ２− Ｚ＝トルイレン残；Ｍ−２
：Ｒ３及びＲ４＝ＣＨ３Ａｌ及びＡ２＝ーＣＨ２・ＣＨ
２− Ｚ＝トルイレン残；辞−３：
Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及びＡ２＝プロピ１ン残基
Ｚ＝トルイレン残：ｙ−４：Ｒ３及びＲ４＝
ＣＨ３Ａｌ及びＡ２＝プロ１レン残基 Ｚ
＝トルイレン残：ｙ−５Ｖ：Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及び
Ａ２＝・（ＣＩ（２）４− Ｚ＝トルイ
レン残：翻−６Ｖ：Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及びＡ２＝プ
ロピン残基 Ｚ＝ー（ＣＨ２）６・酔
＝１，１，１−トリメチロールプロパンリアクリラート ＥＧ＝エチレングリコール ＰＳＢ＝ｐ−トルオールスルフオン酸（Ｎ）ーーブチル
アミドＤＩＵＲ＝（ＣＨ３ＣＨ２−ＣＯ−０−Ａ１−０
−ＣＯ，ＮＨ）２ＺＡ＝プロピレン残基及びＺ＝トルイ
レン残：表が示すように、モノマーＭ１又はＹの１つの
量の増加は単独にＭ１の場合には調和性の問題を招来し
、両場合に於ては得られる露出された版木の所望の硬度
は達成されない。
７分間洗除し、且つ市販の乾燥器一後露出器中にて６分
間１３０℃に於て処理する。得られたレリーフ版木の球
押圧硬度（ｐ／ｉ）を少くとも１０日間外気中にて貯蔵
せる後、相対湿度６０％に於て測定し、更に毎Ｃｍ５４
本の線に於て３％の半調値を再生するために必要な露出
時間を測定する。最後に板を４週間８０％の相対湿度に
が貯蔵した後、露出されない感光性混合物の調千を判定
する。結果は次の表中に示されている。中の記載は次の
意味を有する：ＰＡ：前記のコポリアミド Ｍ１＝後記の式のモノマー 式中残基Ｒ１及びＲ２は後記の意味を有する：Ｗ＝後記
の式のモノマー式中残基Ｒ，Ａ及びＺは次の意味を有す
るＶ−１：Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及びＡ２＝ーＣ■ＣＩ
ｌ２− Ｚ＝トルイレン残；Ｍ−２
：Ｒ３及びＲ４＝ＣＨ３Ａｌ及びＡ２＝ーＣＨ２・ＣＨ
２− Ｚ＝トルイレン残；辞−３：
Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及びＡ２＝プロピ１ン残基
Ｚ＝トルイレン残：ｙ−４：Ｒ３及びＲ４＝
ＣＨ３Ａｌ及びＡ２＝プロ１レン残基 Ｚ
＝トルイレン残：ｙ−５Ｖ：Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及び
Ａ２＝・（ＣＩ（２）４− Ｚ＝トルイ
レン残：翻−６Ｖ：Ｒ３及びＲ４＝ＨＡｌ及びＡ２＝プ
ロピン残基 Ｚ＝ー（ＣＨ２）６・酔
＝１，１，１−トリメチロールプロパンリアクリラート ＥＧ＝エチレングリコール ＰＳＢ＝ｐ−トルオールスルフオン酸（Ｎ）ーーブチル
アミドＤＩＵＲ＝（ＣＨ３ＣＨ２−ＣＯ−０−Ａ１−０
−ＣＯ，ＮＨ）２ＺＡ＝プロピレン残基及びＺ＝トルイ
レン残：表が示すように、モノマーＭ１又はＹの１つの
量の増加は単独にＭ１の場合には調和性の問題を招来し
、両場合に於ては得られる露出された版木の所望の硬度
は達成されない。
調和性媒介剤の添加は、本発明に依るモノマーＭ２が調
和性媒介剤として使用される場合にのみ調和性の問題な
しに充分な硬度及ひ露出時間を有する版木を招来する。
（試験番号Ｂ１乃至Ｂ５） 厚紙母型の彫刻 伺β２及びＢ３に依り製造されたレリーフ版木にて、市
販の厚紙母型の使用下に８０ｋｐ／Ｃｌｔの彫刻圧にて
母型を製造し、普通のようにして乾燥する。
和性媒介剤として使用される場合にのみ調和性の問題な
しに充分な硬度及ひ露出時間を有する版木を招来する。
（試験番号Ｂ１乃至Ｂ５） 厚紙母型の彫刻 伺β２及びＢ３に依り製造されたレリーフ版木にて、市
販の厚紙母型の使用下に８０ｋｐ／Ｃｌｔの彫刻圧にて
母型を製造し、普通のようにして乾燥する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 主としてアルコール溶性の線状ポリアミド、光重合
性のオレフィン系不飽和モノマーＭ及び少くとも１つの
光重合開始剤より成れる凸版印刷法用レリーフ版木を製
造するための、殊に斯かるレリーフ版木にて厚紙母型を
彫刻するための光重合性物質に於いて、斯かる物質がポ
リアミド、モノマーＭ及び光重合開始剤の混合物に関し
モノマーＭとして（ａ）式 （ＣＨ＿２＝ＣＲ＾１−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ＿２−Ｏ）＿
ｎＲ＾２（ I ）のジ−又はトリエーテル（Ｍ＾１）１
５乃至４０重量％前記式中 ｎ＝２又は３ Ｒ＾１＝Ｈ、ＣＨ＿３（同一であるか又は異なる）Ｒ＾
２＝炭素原子２乃至６個を有するｎ−価の脂肪族残基（
ｂ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II）のモノマー（
Ｍ＾２）６乃至１８重量％ 前記式中 Ｒ＾３、Ｒ＾４＝Ｈ、ＣＨ＿３（同一であるか又は異な
る）Ａ＾１、Ａ＾２＝炭素原子２乃至３個を有するアル
キレン残基（同一であるか又は異なる）Ｚ＝２、４−又
は２、６−トルイレン残基含有し、且つモノマーＭ＾１
対モノマーＭ＾２の重量比が２乃至７：１であることを
特徴とするレリーフ版木を製造するための光重合性物質
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2644986A DE2644986C3 (de) | 1976-10-06 | 1976-10-06 | Lichtempfindliches Gemisch für die Herstellung von Reliefformen |
| DE2644986.5 | 1976-10-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5346801A JPS5346801A (en) | 1978-04-26 |
| JPS6045415B2 true JPS6045415B2 (ja) | 1985-10-09 |
Family
ID=5989753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52118666A Expired JPS6045415B2 (ja) | 1976-10-06 | 1977-10-04 | レリーフ版木を製造するための光重合性物質 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4144073A (ja) |
| JP (1) | JPS6045415B2 (ja) |
| DE (1) | DE2644986C3 (ja) |
| FR (1) | FR2367303A1 (ja) |
| GB (1) | GB1584274A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355518U (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-14 | ||
| JPS63186060U (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3904386A (en) * | 1973-10-26 | 1975-09-09 | Us Interior | Combined shift and methanation reaction process for the gasification of carbonaceous materials |
| US4228232A (en) * | 1979-02-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers |
| DE2933871A1 (de) * | 1979-08-21 | 1981-03-12 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung hochwaermebestaendiger reliefstrukturen und deren verwendung. |
| US4345022A (en) * | 1979-11-13 | 1982-08-17 | Matrix Unlimited, Inc. | Process of recovering unpolymerized photopolymer from printing plates |
| US4269930A (en) * | 1979-11-13 | 1981-05-26 | Matrix Unlimited, Inc. | Photopolymeric composition containing polyamide and dicarboxylic acid diester |
| US4446222A (en) * | 1981-03-30 | 1984-05-01 | Matrix Unlimited, Inc. | Method of preparing printing surface formed of polymeric resin containing polyamide and dicarboxylic acid diester |
| DE3767690D1 (de) * | 1986-12-26 | 1991-02-28 | Toray Industries | Lichtempfindliche photopolymerzusammensetzung und druckplatte. |
| US5260166A (en) * | 1992-03-04 | 1993-11-09 | Graphic Controls Corporation | Seamless, trilaminate, photopolymer cylindrical printing plate and method of manufacture |
| US6742453B1 (en) | 1998-07-30 | 2004-06-01 | Mark Alan Borski | Printing sleeves and methods for producing same |
| JP5381494B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2014-01-08 | Ｔｄｋ株式会社 | 体積型ホログラム記録材料及び体積型ホログラム記録媒体 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL195949A (ja) * | 1954-03-26 | |||
| US2948611A (en) * | 1957-10-30 | 1960-08-09 | Du Pont | Photopolymerizable compositions, elements, and processes |
| US2972540A (en) * | 1958-08-05 | 1961-02-21 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements |
| DE1522463C3 (de) * | 1966-03-22 | 1978-09-28 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen |
| DE1597748A1 (de) * | 1967-10-27 | 1970-08-27 | Basf Ag | Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke |
| JPS4827801A (ja) * | 1971-08-06 | 1973-04-12 |
-
1976
- 1976-10-06 DE DE2644986A patent/DE2644986C3/de not_active Expired
-
1977
- 1977-10-04 JP JP52118666A patent/JPS6045415B2/ja not_active Expired
- 1977-10-05 GB GB41388/77A patent/GB1584274A/en not_active Expired
- 1977-10-06 US US05/840,029 patent/US4144073A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-10-06 FR FR7730097A patent/FR2367303A1/fr active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355518U (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-14 | ||
| JPS63186060U (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1584274A (en) | 1981-02-11 |
| DE2644986C3 (de) | 1981-11-19 |
| JPS5346801A (en) | 1978-04-26 |
| DE2644986A1 (de) | 1978-04-13 |
| DE2644986B2 (de) | 1981-01-08 |
| US4144073A (en) | 1979-03-13 |
| FR2367303A1 (fr) | 1978-05-05 |
| FR2367303B1 (ja) | 1982-06-11 |
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