JPS6042696A - 放射性液の処理法 - Google Patents

放射性液の処理法

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JPS6042696A
JPS6042696A JP14966583A JP14966583A JPS6042696A JP S6042696 A JPS6042696 A JP S6042696A JP 14966583 A JP14966583 A JP 14966583A JP 14966583 A JP14966583 A JP 14966583A JP S6042696 A JPS6042696 A JP S6042696A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid
radioactive
reverse osmosis
concentration
osmosis membrane
Prior art date
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Pending
Application number
JP14966583A
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English (en)
Inventor
中井 一朗
山川 常雄
俊昭 右近
磯部 和久
寛 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Engineering Corp
Original Assignee
Toyo Engineering Corp
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Publication date
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Publication of JPS6042696A publication Critical patent/JPS6042696A/ja
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は放射性液を、環境へ放出したり、または再利用
するに当って、その放射能m麿を規準値以下にするため
の、最終処理方法として逆浸透膜装置を使用する方法に
関する。
一般的にはこの放射性液は濾過、濃縮等の処理を行った
後、イオン交換樹脂を用いた脱jn操作により処理する
とか、または凝集沈澱により処理したり、あるいは稀釈
水にて放射能11’fが法規制値を上まわらないように
処理されている。一方処理液より分離された放射性物質
はセメント、アスファルト等により最終的に固化され、
ドラム缶に詰められた後、しかるべき場所に保管貯蔵さ
れる。
逆浸透膜装置は液体−液体分離操作、および液体一固体
分離操作において非常に高い性能を有している。
しかし放射能液の最終処理においては、一般産業のそれ
と比較して非常に厳しい条件が要求される。即ち処理後
の水質はほとんどの放射性各種に対して1×104μC
1/xl以下であり、濃度に換紳すると1 ppm以下
をはるかに下まわるものが水質規準として要求されるの
が通例である。
逆浸透膜装置で放射性液を処理する場合、放射能の濃縮
された処理液(濃縮液)と、放射能の低い処理液(透過
液)に分離される。
海水淡水化装置などにお(−では処理液はワンパスで処
理されるが、放射性液の場合は同一装置で循環して処理
が行われる。これは放射性物質を含む濃縮液は最終的に
は固化後ドラム缶詰め、または放射性物質の回収が行わ
れるので、それらの処理をしやすくするため、出来る限
り濃縮する必要があるからである。
しかし濃縮度が増加するに従って逆浸透膜装置の処理量
が低下するとともに、浸透液への放射性物質の洩れも増
加する。
我々は種々試験を行った結果、経済性も考慮して濃縮度
は10〜30、好ましくは20程度、最終処理設備とし
ての逆浸透膜装置で処理される放射性液の放射能濃度は
要求される処理液(透過液)の放射能濃度の100〜3
00倍以下が適当であることを見出した。使用逆浸透膜
は通常、膜性能を示すNa(J透過率10%以下、好ま
しくは5%程度のものである。猶ここに言う濃縮度とは
゛供給放射性液鏝/最終濃縮液量″を言う。
さて、以上述べたように、処理液の100〜300倍以
上の放射性物質を含む放射性液の、逆浸透膜1段での処
理は適当でない。この場合勿論逆浸透膜2段処理でも処
理可能であるが、合理的な処理方式とは言えない。
通常、逆浸透膜の前処理として用いられるものに濾過器
がある。放射性液の場合の放射性物質は非常に粒径が小
さくミクロン以下である場合が多い、。従って通常の濾
過器で効果ある処理をするには濾過助剤を使用する必要
がある。しかしこれらの濾過助剤は二次廃棄物となり、
固化ドラム缶増加の原因となり、放射性液の処理法とし
ては適当でない。
本発明は、処理されるべき放射性液が、前述の如く、逆
浸透膜1段で処理できる以上の濃度の場合、その前処理
装置として限外濾過膜装置を使用するということにある
限外濾過膜装置を使用した処理方法は逆浸透膜装置の場
合と同様に循環して濃縮を行い、その濃縮度は液の性状
にもよるが、逆浸透膜装置のそれより高く出来る。即ち
最低15、液質によっては100以上まで可能である。
このように高い濃縮度を得る点に本発明の特徴がある。
即ち放射性物質を含む濃縮液を高濃度に保持することに
より、次の固化工程が非常に容易になるのである。
限外濾過膜装置は逆浸透膜装置に比較して処理各輪が大
きく、一般的に単位膜面積当り5〜10倍程度の容最が
あり、前段処理装置でもあり放射性物質が仮に分離液側
えリークしても問題ないため、経済性を含めてパ限外濾
過装置十逆浸透膜装置″は非常に合理的な処理システム
である。また限外濾過装置を使用した場合、透過液量が
大きく、かつコストの安いホローファイバー型の逆浸透
膜装置を使用することが出来るのも有利な点である。
次に第1図につき説明する。
放射性液は液入口1から受入れタンク2に送られ、規定
量に達したら送液は停止される。次に放射性液は限外濾
過膜装置昇圧ポンプ3により所定圧力に昇圧され限外濾
過膜装置に送入される。この膜を透過した液は逆浸透膜
装置受入れタンク6に入り、透過されなかった液は循環
ライン5を通ってもとのタンク2にもどる。液は循環供
給されている間に次第に濃縮され、当初の液量の1/1
5以下の所定の量に達したところで限外濾過装置への送
液を停止する。
逆浸透膜液受入れタンク6に入った液は同様の操作で分
離され、透過液が透過液タンク10にたまり、透過しな
かった液は循環濃縮される。
透過液は放射能濃度をチェックされて、外部え放出(ま
たは再使用)される。
一方放射性液受入れタンク2および逆浸透膜液受入れタ
ンク6にたまった濃縮液は同化装置11に送られ、固化
処理をうける。
実施例 放射性濃度単位×10μC1/xl放射性液 
1 2 3 4 放射性11痕 80 46 270 83限外濾過装置 透過液放射性濃度2.5 31 2.8 31濃縮度 
50 24 20 81 逆浸透膜装置 透過液放射性側〔以下1以下 3.6 7濃縮度 20
 20 20 20
【図面の簡単な説明】
第1図 限外濾過膜装置および逆浸透膜装置を使用した
放射性液処理フローシート 1 放射性液入口 2 放射性液受入れタンク 3 限外濾過膜装置昇圧ポンプ 4 限外濾過膜装置 5 限外濾過循環ライン 6 逆浸透膜液受入れタンク 7 逆浸透膜装置昇圧ポンプ 8 逆浸透膜装置 9 逆浸透膜循環ライン 10 透過液タンク 11 固化装置 12 放出(または再使用) 特許出願人 東洋エンジニアリング株式会社7−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1) 放射性液を膜分離装置を使用して、放射能の濃縮
    された処理液と、放射能の低い処理液に分離する方法に
    おいて、限外濾過膜装置を使用して濃縮度を最低15以
    上に濃縮する前処理工程と、Na CR?h通過率0%
    以下の膜性能を有する逆浸透膜装置を使用して濃縮度1
    0ないし30に濃縮する工程とによって、放射性液の、
    放射能の低い処理液の放射能濃度を、lX10’μCi
    /lf以下とすることを特徴とする、放射性液の処理法
JP14966583A 1983-08-18 1983-08-18 放射性液の処理法 Pending JPS6042696A (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5325265A (en) * 1976-08-23 1978-03-08 Nippon Abukoo Kk Method of treating solution containing metal ions by using combined superr filter membrane and reverse osmosis membrane
JPS5338899A (en) * 1976-09-22 1978-04-10 Hitachi Ltd Method of treating laundry drain by inverse osmosis
JPS5385299A (en) * 1977-01-07 1978-07-27 Hitachi Ltd Back osmotic treating method of radioactive waste washings
JPS5432179A (en) * 1977-08-15 1979-03-09 Ebara Infilco Co Ltd Controlling method for operation of fresh water making apparatus

Patent Citations (4)

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