JPS6041655B2 - ムスコンの製法 - Google Patents
ムスコンの製法Info
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- JPS6041655B2 JPS6041655B2 JP54158252A JP15825279A JPS6041655B2 JP S6041655 B2 JPS6041655 B2 JP S6041655B2 JP 54158252 A JP54158252 A JP 54158252A JP 15825279 A JP15825279 A JP 15825279A JP S6041655 B2 JPS6041655 B2 JP S6041655B2
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- Japan
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- muscone
- represent
- compound
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/56—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds
- C07C45/57—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/62—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/18—Radicals substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D317/20—Free hydroxyl or mercaptan
-
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/26—Radicals substituted by doubly bound oxygen or sulfur atoms or by two such atoms singly bound to the same carbon atom
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は香料工業の分野に関し、詳細にはムスコン(3
−メチルーシクロペンタデカノン)の製法を提供する。
−メチルーシクロペンタデカノン)の製法を提供する。
本発明の新規方法は、出発物質としてドデカー4,8−
ジエンー1,12−ジアール又はドデカンー1,12−
ジアールを使用し、次の工程より成る:AI式: 〔式中、連鎖の4位及び8位の点線は2つの単結合又は
2つの二重結合を表わし、mは1又は2を表わす〕のジ
アルデヒドをアセタール化して、式:〔式中、R1及び
R2、m及び点線は前記のものを表わす〕のヒドロキシ
誘導体を得、c ■式の化合物を酸性環化剤により環化
して、式:〔式中m及び点線は前記のものを表わし、n
が1である場合はpは3であるか又はnが2である場合
はpは2を表わす〕の二環式酸化化合物を得、d この
化合物(■)を異性化し、かつ不活性有機溶剤中接触水
素添加を行ない所望のムスコンを得る。
ジエンー1,12−ジアール又はドデカンー1,12−
ジアールを使用し、次の工程より成る:AI式: 〔式中、連鎖の4位及び8位の点線は2つの単結合又は
2つの二重結合を表わし、mは1又は2を表わす〕のジ
アルデヒドをアセタール化して、式:〔式中、R1及び
R2、m及び点線は前記のものを表わす〕のヒドロキシ
誘導体を得、c ■式の化合物を酸性環化剤により環化
して、式:〔式中m及び点線は前記のものを表わし、n
が1である場合はpは3であるか又はnが2である場合
はpは2を表わす〕の二環式酸化化合物を得、d この
化合物(■)を異性化し、かつ不活性有機溶剤中接触水
素添加を行ない所望のムスコンを得る。
香料製造分野において公知の最も評価されるじやこう様
成分の中でムスコンすなわち3−メチルシクロペンタデ
カノンが特に名声を得ている。
成分の中でムスコンすなわち3−メチルシクロペンタデ
カノンが特に名声を得ている。
それにもかかわらず、その経済的な合成法がないために
ムスコンはこの分野において広範囲に利用されていない
。種々の公知法のうちいくつかの方法を次に引用する:
参考文献:ジヤーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエ
テイー (J.Chem.SOc.)第415
4〜7頁(196膵)参考文献:テトラヘドロン(Te
trahedOrOn) 第2喝、第11号、第
2601頁(196膵)参考文献:ヘルベチカ●キミカ
●アクタ(Helv.Chim〕Ta)、第5−、第7
05頁(1967年)又は次の変法参考文献:ヘルベチ
カ・キミカ・アクタ (Helv.Chim.Acta)、第(4)
巻、第708頁容易に入手可能な出発物質を使用するこ
とにより、限られた反応工程数を特徴とする本発明方法
はムスコンの工業的製造に新規で独創的な解決法(19
67年)である。
ムスコンはこの分野において広範囲に利用されていない
。種々の公知法のうちいくつかの方法を次に引用する:
参考文献:ジヤーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエ
テイー (J.Chem.SOc.)第415
4〜7頁(196膵)参考文献:テトラヘドロン(Te
trahedOrOn) 第2喝、第11号、第
2601頁(196膵)参考文献:ヘルベチカ●キミカ
●アクタ(Helv.Chim〕Ta)、第5−、第7
05頁(1967年)又は次の変法参考文献:ヘルベチ
カ・キミカ・アクタ (Helv.Chim.Acta)、第(4)
巻、第708頁容易に入手可能な出発物質を使用するこ
とにより、限られた反応工程数を特徴とする本発明方法
はムスコンの工業的製造に新規で独創的な解決法(19
67年)である。
この方法は次の反応図式により表わされる:前記のよう
に、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基又は低級ア
ルキレン基を表わす。
に、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基又は低級ア
ルキレン基を表わす。
こうしてこれらはメチル基、エチル基抹はプロピル基、
もしくはエチレン基、プロピレン基又はテトラメチレン
基であつてよい。本発明の方法で、出発物質として使用
されるドデカー4,8−ジエンー1,12−ジアール〔
I式(式中、m=1)を参照〕はシクロドデカトリエン
から存在する二重結合の1つを選択的にオゾン化するこ
とにより得られる、容易に入手可能な出発物質である〔
例えば、スイス特許第577445号明細書参照〕。
もしくはエチレン基、プロピレン基又はテトラメチレン
基であつてよい。本発明の方法で、出発物質として使用
されるドデカー4,8−ジエンー1,12−ジアール〔
I式(式中、m=1)を参照〕はシクロドデカトリエン
から存在する二重結合の1つを選択的にオゾン化するこ
とにより得られる、容易に入手可能な出発物質である〔
例えば、スイス特許第577445号明細書参照〕。
本発明の方法で出発物質として使用されるドデカンジア
ール〔I式(式中、m=2)を参照〕は、コンプテス・
レンドウス(Ccmpt.Rend.)、第20倦、第
1948頁、1937年に記載された方法に従つて合成
することができる。
ール〔I式(式中、m=2)を参照〕は、コンプテス・
レンドウス(Ccmpt.Rend.)、第20倦、第
1948頁、1937年に記載された方法に従つて合成
することができる。
分子中にオレフイ賄性二重結合が存在するので、化合物
(1)〜(■)は、異なる立体配置の立体異性体を形成
することがあるが、本発明方法においては純粋な異性体
もそれらの任意の混合物も等しく使用することができる
。
(1)〜(■)は、異なる立体配置の立体異性体を形成
することがあるが、本発明方法においては純粋な異性体
もそれらの任意の混合物も等しく使用することができる
。
本発明方法の第一工程、すなわちジアール(1)のモノ
アセタール化は、公知技術により、すなわち酸触媒の存
在下に例えば酸性珪藻土の存ノ在下で行なわれる。
アセタール化は、公知技術により、すなわち酸触媒の存
在下に例えば酸性珪藻土の存ノ在下で行なわれる。
有利な反応成分はエチレンアセタール〔■〕(ここでR
1及びR2は一緒に2価のジメチレン基を表わす)の製
造を可能とするエチレングリコールを包含する。分留に
より反応混合物から分離した後、モノアセタール(■)
をグリ.ニヤール反応の条件下にハロゲン化メタリルマ
グネシウムで処理し、かつ生じた付加物を加水分解し、
次いでこのようにして得られたヒドロキシ誘導体を酸性
環化剤により環化する。好適な酸性環化剤には、プロト
ン鉱酸又はプロトン有機酸及び・酸性珪藻土が包含され
る。このような環化を不活性有機溶剤、例えば脂肪族炭
化水素脂環式炭化水素又は芳香族炭化水素又はエーテル
中で行なうことは有利である。最終生成物の良好な収率
はトルエンのような芳香族炭化水素中でp−トルエンス
ルホン酸の存在下に選択した溶剤のほぼ沸点、例えば約
100〜120℃の温度で環化を行なうことにより得る
ことができるということを認めた。特に縮合反応に由来
する副生成物の形成を回避するために、選択した溶剤中
に出発物質のヒドロキシ−アセタールを大希釈で溶解さ
せて環化を行なうのが有利である。この効果を得るため
に、約1〜2重量%の濃度を使用する。■式のピラン系
化合物の異性化及び接触水素添加から成る方法の最終工
程は、常用の水素添加触媒例えばラネー・ニッケル又は
炭素上パラジウムの存在下に行なうことができる。
1及びR2は一緒に2価のジメチレン基を表わす)の製
造を可能とするエチレングリコールを包含する。分留に
より反応混合物から分離した後、モノアセタール(■)
をグリ.ニヤール反応の条件下にハロゲン化メタリルマ
グネシウムで処理し、かつ生じた付加物を加水分解し、
次いでこのようにして得られたヒドロキシ誘導体を酸性
環化剤により環化する。好適な酸性環化剤には、プロト
ン鉱酸又はプロトン有機酸及び・酸性珪藻土が包含され
る。このような環化を不活性有機溶剤、例えば脂肪族炭
化水素脂環式炭化水素又は芳香族炭化水素又はエーテル
中で行なうことは有利である。最終生成物の良好な収率
はトルエンのような芳香族炭化水素中でp−トルエンス
ルホン酸の存在下に選択した溶剤のほぼ沸点、例えば約
100〜120℃の温度で環化を行なうことにより得る
ことができるということを認めた。特に縮合反応に由来
する副生成物の形成を回避するために、選択した溶剤中
に出発物質のヒドロキシ−アセタールを大希釈で溶解さ
せて環化を行なうのが有利である。この効果を得るため
に、約1〜2重量%の濃度を使用する。■式のピラン系
化合物の異性化及び接触水素添加から成る方法の最終工
程は、常用の水素添加触媒例えばラネー・ニッケル又は
炭素上パラジウムの存在下に行なうことができる。
有利な実施法によれば、異性化及び水素添加の工程を不
活性有機溶剤、例えばキシレンのような芳香族炭化水素
中で、そのほぼ沸点で行なう。
活性有機溶剤、例えばキシレンのような芳香族炭化水素
中で、そのほぼ沸点で行なう。
次に実施例につき本発明をより詳細に説明するが、実施
例中の温度はすべて1℃ョを表わす。例1ムスコンの製
造 a ドデカー4,8−ジエンー1,12−ジアールエチ
レンーモノーアセタール還流温度に保持した、水滴分離
器を備えた容器中のイソプロピルエーテル5e中のドデ
カー4,8−ジエンー1,12−ジアール970ダ(5
モル)と酸性珪藻土5yの混合物にエチレングリコール
341y(5.5モル)を激しい攪拌下に10〜比時間
かけて滴下した。
例中の温度はすべて1℃ョを表わす。例1ムスコンの製
造 a ドデカー4,8−ジエンー1,12−ジアールエチ
レンーモノーアセタール還流温度に保持した、水滴分離
器を備えた容器中のイソプロピルエーテル5e中のドデ
カー4,8−ジエンー1,12−ジアール970ダ(5
モル)と酸性珪藻土5yの混合物にエチレングリコール
341y(5.5モル)を激しい攪拌下に10〜比時間
かけて滴下した。
添加の終了後、反応混合物を3〜4時間還流させ、水9
9m1を分離した。濾過して揮発性留分を蒸発させた後
、残分(1200y)が得られるから、これを分留する
と所望のモノアセタール(純度約95%)488yが得
られた。IR(膜):270011720cm−1;N
MR(CDCl3,6OMHz):1.5〜2.6(1
2H1多重線);3.88(4H1二重線、J=2.4
);4,84(1H1三重線、J=4);5.2〜5.
6(4H1多重線);9.77(1H1単線)δPpm
;MS:M+=238;Mle=220(2)、195
(15)、175(8)、163(2)、141(13
)、119(14)、99(30)、73(100)、
55(16)、41(42)、29。
9m1を分離した。濾過して揮発性留分を蒸発させた後
、残分(1200y)が得られるから、これを分留する
と所望のモノアセタール(純度約95%)488yが得
られた。IR(膜):270011720cm−1;N
MR(CDCl3,6OMHz):1.5〜2.6(1
2H1多重線);3.88(4H1二重線、J=2.4
);4,84(1H1三重線、J=4);5.2〜5.
6(4H1多重線);9.77(1H1単線)δPpm
;MS:M+=238;Mle=220(2)、195
(15)、175(8)、163(2)、141(13
)、119(14)、99(30)、73(100)、
55(16)、41(42)、29。
(13).B2−メチルー4−ヒドロキシーペンタデカ
ー1,7,11−トリエンー15−アール エチレン−
アセタール無水ジエチルエーテル50m1及び臭化エチ
ル.0.5mL中の削りくず状マグネシウム21.4y
(0.9モル)の懸濁液に激しい攪拌下に塩化メタリル
2m1を滴加した。
ー1,7,11−トリエンー15−アール エチレン−
アセタール無水ジエチルエーテル50m1及び臭化エチ
ル.0.5mL中の削りくず状マグネシウム21.4y
(0.9モル)の懸濁液に激しい攪拌下に塩化メタリル
2m1を滴加した。
次いで約3時間かけてこの懸濁液に無水エーテル1eと
テトラヒドロフラン250m1中の前記aで得られたモ
ノ−アセタール・119y(0.5モル)と新たに蒸留
した塩化メタリル90y(1.0モル)の溶液を加えた
。この添加を反応混合物の温度が10〜15加以下を保
持するような割合に調節した:この目的のために外部冷
却が必要であつた。次いで、この混合物を攪拌下に約1
5〜20。で3時間保持した。その後、過剰のマグネシ
ウムを傾潟して得られた透明の溶液をNlIlClの飽
和水溶液と氷を用いて加水分解した。この水相を2回エ
ーテルで抽出し、合した有機抽出液を水とNaClの水
溶液とで中性になるまで洗浄した。常用の乾燥及び蒸発
処理後、粗生成物(142f;収率96%)が得られる
から、これを蒸留(160〜170が/0.1wr1n
HV)すると所望のヒドロキシ−アセタール125yが
生じた。
テトラヒドロフラン250m1中の前記aで得られたモ
ノ−アセタール・119y(0.5モル)と新たに蒸留
した塩化メタリル90y(1.0モル)の溶液を加えた
。この添加を反応混合物の温度が10〜15加以下を保
持するような割合に調節した:この目的のために外部冷
却が必要であつた。次いで、この混合物を攪拌下に約1
5〜20。で3時間保持した。その後、過剰のマグネシ
ウムを傾潟して得られた透明の溶液をNlIlClの飽
和水溶液と氷を用いて加水分解した。この水相を2回エ
ーテルで抽出し、合した有機抽出液を水とNaClの水
溶液とで中性になるまで洗浄した。常用の乾燥及び蒸発
処理後、粗生成物(142f;収率96%)が得られる
から、これを蒸留(160〜170が/0.1wr1n
HV)すると所望のヒドロキシ−アセタール125yが
生じた。
IR(膜):3345s308へ1642、890cm
−NMR(CDCl3、60MHz):1.74(3H
1単線);3.5〜4.1(5H1多重線);4.7〜
5.0(3111多重線);5.2〜5.6(4H1多
重線)δPpm;MS: (M+−57) =237;
Mle:222(1)、208、195(9)、177
(3)、159(4)、147(7)、141(13)
、129(12)、119(13)、109(18)、
99(40)、93(39)、79(49)、73(1
00)、67(36)、55(39)、43(96)、
31(83).■式の二環式エーテル、m=1:n=1
:p=3又はn=2;p=2トルエン500m1中のp
−トルエンスルホン酸500mgの還流溶液に前記bで
得られたヒドロキシ−アセタール14.7y(0.05
モル)の溶液を加えた。
−NMR(CDCl3、60MHz):1.74(3H
1単線);3.5〜4.1(5H1多重線);4.7〜
5.0(3111多重線);5.2〜5.6(4H1多
重線)δPpm;MS: (M+−57) =237;
Mle:222(1)、208、195(9)、177
(3)、159(4)、147(7)、141(13)
、129(12)、119(13)、109(18)、
99(40)、93(39)、79(49)、73(1
00)、67(36)、55(39)、43(96)、
31(83).■式の二環式エーテル、m=1:n=1
:p=3又はn=2;p=2トルエン500m1中のp
−トルエンスルホン酸500mgの還流溶液に前記bで
得られたヒドロキシ−アセタール14.7y(0.05
モル)の溶液を加えた。
この反応を水滴分離器を備えた容器中で行なつた。添加
が行なわれた後、付加的にp−トルエンスルホン酸20
0mgをこの混合物に加え、これを存在するトルエンの
一部を蒸発させることによりその容量の約半分まで濃縮
した。濃縮した混合物をNaOHの水溶液で2回洗浄し
、Na2sO4上で乾燥させ減圧下に蒸発させた。この
ようにして、残分13.3ダが得られるから、これをフ
ラスコ装置中で蒸留すると純度約95%の二環式エーテ
ル(■)8y(収率69%)が得られた。
が行なわれた後、付加的にp−トルエンスルホン酸20
0mgをこの混合物に加え、これを存在するトルエンの
一部を蒸発させることによりその容量の約半分まで濃縮
した。濃縮した混合物をNaOHの水溶液で2回洗浄し
、Na2sO4上で乾燥させ減圧下に蒸発させた。この
ようにして、残分13.3ダが得られるから、これをフ
ラスコ装置中で蒸留すると純度約95%の二環式エーテ
ル(■)8y(収率69%)が得られた。
NMR(CDCl3、90MHz):1.66(3H1
二重線、J=2);3.2〜3.6(1H1多重線);
3.7〜4.1(1H1多重線);4.15〜6.9(
5H、多重線)δPpm;MS:M+=232(48)
;Mle2l7(6)、203(11)、189(19
)、175(7)、163(24)、147(36)、
135(38)、121(86)、109(75)、9
5(100)、79(83)、67(73)、55(5
7)、49(99).d ムスコン 懸濁液の形の還流キシレン50mt中の10%炭素上パ
ラジウム2800m9を、水素の連続流(流出率:40
mtI分)にこの懸濁液を触れさせることにより、2時
間活性化した。
二重線、J=2);3.2〜3.6(1H1多重線);
3.7〜4.1(1H1多重線);4.15〜6.9(
5H、多重線)δPpm;MS:M+=232(48)
;Mle2l7(6)、203(11)、189(19
)、175(7)、163(24)、147(36)、
135(38)、121(86)、109(75)、9
5(100)、79(83)、67(73)、55(5
7)、49(99).d ムスコン 懸濁液の形の還流キシレン50mt中の10%炭素上パ
ラジウム2800m9を、水素の連続流(流出率:40
mtI分)にこの懸濁液を触れさせることにより、2時
間活性化した。
次いで、この混合物に前記C.により得られた二環式エ
ーテル6960m9(0.03モル)を加え、この全体
を水素流を保持して7〜8時間還流下に保つた。反応の
経過をクロマトグラフィー分析を用いて追跡した。この
混合物に窒素流を通すことにより過剰の水素を除去し、
触媒を濾過により回収した。反応混合物の濃縮後、マイ
クロ・フィッシャー型(MicrOFishertyp
e)装置を用いて分留すると、沸点:25〜65e/0
.1TwtHgのムスコン5.0q(収率70%)が得
られた。例2 前記と同様な方法で操作したが、ドデカー4,8−ジエ
ンー1,12−ジアールのエチレンモノアセタールのか
わりにドデカンジアールのエチレンモノアセタールを出
発物質として使用した場合、より低い収率ではあるが同
様にムスコンが得られた。
ーテル6960m9(0.03モル)を加え、この全体
を水素流を保持して7〜8時間還流下に保つた。反応の
経過をクロマトグラフィー分析を用いて追跡した。この
混合物に窒素流を通すことにより過剰の水素を除去し、
触媒を濾過により回収した。反応混合物の濃縮後、マイ
クロ・フィッシャー型(MicrOFishertyp
e)装置を用いて分留すると、沸点:25〜65e/0
.1TwtHgのムスコン5.0q(収率70%)が得
られた。例2 前記と同様な方法で操作したが、ドデカー4,8−ジエ
ンー1,12−ジアールのエチレンモノアセタールのか
わりにドデカンジアールのエチレンモノアセタールを出
発物質として使用した場合、より低い収率ではあるが同
様にムスコンが得られた。
a ドデカンー1,12−ジアールエチレンモノーアセ
タール収率:10〜20% IR:2710、1725CIT1−1 NMR(CDCl3、60MHz):2.1〜2.6(
?、多重線);3.6〜4.1(4H1多重線);4.
83(1H1三重線、J=4);9.75(1H1三重
線、J=2)δPpm;MS:M+=242(く1):
Mle:113(〈1)、95(〈1)、73(32)
、62(4)、43(13)、31(100).L2−
メチルー4−ヒドロキシーペンタデカンー15−アール
エチレンモノーアセタール収率:95% IR:350へ313C)Sl65\8卯0−1;NM
R(CDCl3、6QMHz):1.75〜2.3(6
1(、多重線);2.1(1H1多重線);3.5〜4
.1(5F11多重線);4.7〜5.0(3H1多重
線)δPpm;MS:(M+−85)=213(く1)
;200(〈1)、180(く1)、163(1)、1
44(2)、124(10、109(7)、89(28
)、81(6)、73(22)、63(13)、56(
100)、43(70)、31(56).■式の二環式
エーテル、m=2;n=1;p=3又はn=2;p=2
収率:15〜20% NMR(CDCl3、60MHz):1.1〜2.2(
25H1多重線);3.2〜3.65(IHl多重線)
:3.8〜4.2(1H、多重線);5.24(1H、
多重線)δPpm;MS:M+=236(17) ;M
Ie22l(11)、207(1)、194(4)、1
78(5)、163(2)、149(4)、135(8
)、121(22)、109(34)、95(100)
、81(43)、67(39)、55(54)、41(
59)、29(20).このエーテルは例1により得ら
れた不飽和二環式エーテル(C.の項を参照)から、こ
れをリンドラー(Lindlar)型触媒の存在下に水
素添加することにより、収率95%で得ることもできた
。
タール収率:10〜20% IR:2710、1725CIT1−1 NMR(CDCl3、60MHz):2.1〜2.6(
?、多重線);3.6〜4.1(4H1多重線);4.
83(1H1三重線、J=4);9.75(1H1三重
線、J=2)δPpm;MS:M+=242(く1):
Mle:113(〈1)、95(〈1)、73(32)
、62(4)、43(13)、31(100).L2−
メチルー4−ヒドロキシーペンタデカンー15−アール
エチレンモノーアセタール収率:95% IR:350へ313C)Sl65\8卯0−1;NM
R(CDCl3、6QMHz):1.75〜2.3(6
1(、多重線);2.1(1H1多重線);3.5〜4
.1(5F11多重線);4.7〜5.0(3H1多重
線)δPpm;MS:(M+−85)=213(く1)
;200(〈1)、180(く1)、163(1)、1
44(2)、124(10、109(7)、89(28
)、81(6)、73(22)、63(13)、56(
100)、43(70)、31(56).■式の二環式
エーテル、m=2;n=1;p=3又はn=2;p=2
収率:15〜20% NMR(CDCl3、60MHz):1.1〜2.2(
25H1多重線);3.2〜3.65(IHl多重線)
:3.8〜4.2(1H、多重線);5.24(1H、
多重線)δPpm;MS:M+=236(17) ;M
Ie22l(11)、207(1)、194(4)、1
78(5)、163(2)、149(4)、135(8
)、121(22)、109(34)、95(100)
、81(43)、67(39)、55(54)、41(
59)、29(20).このエーテルは例1により得ら
れた不飽和二環式エーテル(C.の項を参照)から、こ
れをリンドラー(Lindlar)型触媒の存在下に水
素添加することにより、収率95%で得ることもできた
。
j得られた二環式エーテルを炭素上パラジウムの存在下
に水素で処理することにより得られたムスコンは純粋な
試料とすべての観点から分析上同一の特性を示した。
に水素で処理することにより得られたムスコンは純粋な
試料とすべての観点から分析上同一の特性を示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ムスコンを製造するために、 a 式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I )〔式中、連
鎖の4位及び8位の点線は2つの単結合又は2つの二重
結合を表わし、mは1又は2を表わす〕のジアルデヒド
をアセタール化して、式:▲数式、化学式、表等があり
ます▼(II)〔式中、R^1とR^2は、それぞれ分離
していれば低級アルキル基を表わし、一緒であれば低級
アルキレン基を表わし、点線は前記のものを表わす〕の
モノアセタールとし、得られたモノアセタールにハロゲ
ン化メタリルマグネシウムを加えて式:▲数式、化学式
、表等があります▼(III)〔式中、R^1及びR^2
、m及び点線は前記のものを表わす〕のヒドロキシ誘導
体を得、c III式の化合物を酸性環化剤により環化し
て、式:▲数式、化学式、表等があります▼(IV)〔式
中m及び点線は前記のものを表わし、nが1である場合
pは3であるか又はnが2である場合pは2を表わす〕
の二環式酸化化合物を得、d この化合物(IV)を異性
化し、かつ不活性有機溶剤中接触水素添加を行ない所望
のムスコンを得ることを特徴とするムスコンの製法。 2 ジアルデヒド( I )のアセタール化をエチレング
リコールを用いて行なう、特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3 III式の化合物の環化を不活性有機溶剤の存在中、
温度100〜200℃でp−トルエンスルホン酸を用い
て行なう、特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 接触水素添加を芳香族炭化水素中の炭素上パラジウ
ムの懸濁液の存在下に選択した溶剤のほぼ沸点の温度で
行なう、特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH12510/78-0 | 1978-12-07 | ||
CH1251078 | 1978-12-07 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55102534A JPS55102534A (en) | 1980-08-05 |
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Family Applications (2)
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---|---|---|---|
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---|---|---|---|
JP55008856A Expired JPS6043353B2 (ja) | 1978-12-07 | 1980-01-30 | 新規ピラン系化合物 |
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---|---|
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JP (2) | JPS6041655B2 (ja) |
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FR2620705B1 (fr) * | 1987-09-22 | 1989-12-01 | Rhone Poulenc Sante | Nouveaux derives du nonatriene-1,3,5, leur preparation et leur emploi |
DE3918015A1 (de) * | 1989-06-02 | 1990-12-06 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von muscon, zwischenprodukte fuer dieses verfahren sowie deren herstellung |
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US3925421A (en) * | 1972-03-28 | 1975-12-09 | Research Corp | Method for the preparation of macrocyclic compound |
-
1979
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- 1979-12-05 GR GR60678A patent/GR72406B/el unknown
- 1979-12-07 JP JP54158252A patent/JPS6041655B2/ja not_active Expired
- 1979-12-07 EP EP79105000A patent/EP0012390B1/fr not_active Expired
- 1979-12-07 DE DE7979105000T patent/DE2964121D1/de not_active Expired
-
1980
- 1980-01-30 JP JP55008856A patent/JPS6043353B2/ja not_active Expired
-
1981
- 1981-03-30 US US06/249,117 patent/US4341897A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55102534A (en) | 1980-08-05 |
GR72406B (ja) | 1983-11-02 |
US4277625A (en) | 1981-07-07 |
JPS6043353B2 (ja) | 1985-09-27 |
MX150040A (es) | 1984-03-05 |
DE2964121D1 (en) | 1982-12-30 |
US4341897A (en) | 1982-07-27 |
JPS55102582A (en) | 1980-08-05 |
EP0012390A2 (fr) | 1980-06-25 |
EP0012390B1 (fr) | 1982-11-24 |
EP0012390A3 (en) | 1980-11-12 |
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