JPS6043353B2 - 新規ピラン系化合物 - Google Patents
新規ピラン系化合物Info
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- JPS6043353B2 JPS6043353B2 JP55008856A JP885680A JPS6043353B2 JP S6043353 B2 JPS6043353 B2 JP S6043353B2 JP 55008856 A JP55008856 A JP 55008856A JP 885680 A JP885680 A JP 885680A JP S6043353 B2 JPS6043353 B2 JP S6043353B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/56—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds
- C07C45/57—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/62—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/18—Radicals substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D317/20—Free hydroxyl or mercaptan
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/26—Radicals substituted by doubly bound oxygen or sulfur atoms or by two such atoms singly bound to the same carbon atom
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は香料工業の分野に関し、詳細には式CH2−℃
(H)m二℃(H)m〜(CH2)2−℃H−C(H)
nN1・\0C−(■、(H)p 1/ CH2−℃(H)m−℃(H)m−(CH2)2−CH
−4SH2(■)〔式中、点線は二重結合又は単結合を
表わし、mは1又は2を表わし、nが1である場合はp
は3であるか又はnが2である場合はpは2を表わす〕
のピラン誘導体を提供する。
(H)m二℃(H)m〜(CH2)2−℃H−C(H)
nN1・\0C−(■、(H)p 1/ CH2−℃(H)m−℃(H)m−(CH2)2−CH
−4SH2(■)〔式中、点線は二重結合又は単結合を
表わし、mは1又は2を表わし、nが1である場合はp
は3であるか又はnが2である場合はpは2を表わす〕
のピラン誘導体を提供する。
香料製造分野において公知の最も評価されるじやこう様
成分の中でムスコンすなわち3−メチルシクロペンダカ
ノンが特に名声をを得ている。
成分の中でムスコンすなわち3−メチルシクロペンダカ
ノンが特に名声をを得ている。
それにもかかわらず、その経済的な合成法がないために
ムスコンはこの分野において広範囲に利用されていない
。このムスコン製造の種々の公知法のうちいくつかの方
法を次に引用する:参考文献:ジヤーナル・オブ・ザ・
ケミカル・ソサイエテイー(J.Chem.SOc.)
第4154〜7頁(1964年)参考文献:テトラヘド
ロン(TetrahedrOn) 第2罎、第1
1号、第2601頁(196膵)参考文献:ヘルベチカ
●キミカ●アクタ(Helv.Chim.Acta)、
第5瞳、第705頁(1967年)参考文献:ヘルベチ
カ・キミカ・アクタ(HeLv.Chlm.Acta)
、第5皓、第708頁(1967年)本発明による新規
化合物は容易に入手可能な出発物質を使用することによ
り、限られた反応工程数でムスコンを工業的に製造する
ことを可能とするムスコンの製法における重要な中間体
である。
ムスコンはこの分野において広範囲に利用されていない
。このムスコン製造の種々の公知法のうちいくつかの方
法を次に引用する:参考文献:ジヤーナル・オブ・ザ・
ケミカル・ソサイエテイー(J.Chem.SOc.)
第4154〜7頁(1964年)参考文献:テトラヘド
ロン(TetrahedrOn) 第2罎、第1
1号、第2601頁(196膵)参考文献:ヘルベチカ
●キミカ●アクタ(Helv.Chim.Acta)、
第5瞳、第705頁(1967年)参考文献:ヘルベチ
カ・キミカ・アクタ(HeLv.Chlm.Acta)
、第5皓、第708頁(1967年)本発明による新規
化合物は容易に入手可能な出発物質を使用することによ
り、限られた反応工程数でムスコンを工業的に製造する
ことを可能とするムスコンの製法における重要な中間体
である。
この方法は、出発物質としてドデカー4・8−ジエンー
1・12−ジアール又はドデカンー1・12ージアール
を使用し、次の工程より成る:a11式 〔式中、連鎖の4位及び8位の点線は2つの単結合又は
2つの二重結合を表わし、mは1又は2を表わす〕のジ
アルデヒドをアセタール化して、式:〔式中、R1とR
2は、それぞれ分離していれば低級アルキル基を表わし
、一緒であれば低級アルキレン基を表わし、点線は前記
のものを表わす〕のモノアセタールとしb得られたモノ
アセタールにハロゲン化メタリルマグネシウムを加えて
、式:〔式中、R1及びR2、m及び点線は前記のもの
を表わす〕のヒドロキシ誘導体を得、c ■式の化合物
を酸性環化剤により環化して、式:〔式中m及び点線は
前記のものを表わし、nが1である場合はpは3である
か又はnが2である場合はpは2を表わす〕の二環化酸
化化合物を得る。
1・12−ジアール又はドデカンー1・12ージアール
を使用し、次の工程より成る:a11式 〔式中、連鎖の4位及び8位の点線は2つの単結合又は
2つの二重結合を表わし、mは1又は2を表わす〕のジ
アルデヒドをアセタール化して、式:〔式中、R1とR
2は、それぞれ分離していれば低級アルキル基を表わし
、一緒であれば低級アルキレン基を表わし、点線は前記
のものを表わす〕のモノアセタールとしb得られたモノ
アセタールにハロゲン化メタリルマグネシウムを加えて
、式:〔式中、R1及びR2、m及び点線は前記のもの
を表わす〕のヒドロキシ誘導体を得、c ■式の化合物
を酸性環化剤により環化して、式:〔式中m及び点線は
前記のものを表わし、nが1である場合はpは3である
か又はnが2である場合はpは2を表わす〕の二環化酸
化化合物を得る。
この化合物〔■〕を異性化し、かつ不活性有機溶剤中接
触水素添加を行なえばムスコンが得られる。
触水素添加を行なえばムスコンが得られる。
この方法は次の反応図式により表わされる:前記のよう
に、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基又は低級ア
ルキレン基を表わす。
に、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基又は低級ア
ルキレン基を表わす。
こうしてこれらはメチル基、エチル基又はプロピル基、
もしくはエチレン基、プロピレン基又はテトラメチレン
基であつてよい。本発明の方法で、出発物質として使用
されるドデカー4●8−ジエン1●12−ジアール〔I
式(式中、m=1)を参照〕はシクロドデカトリエンか
ら存在する二重結合の1つを選択的にオゾン化すること
により得られる、容易に入手可能な出発物質である〔例
えば、スイス特許第577445号明細書参照〕。
もしくはエチレン基、プロピレン基又はテトラメチレン
基であつてよい。本発明の方法で、出発物質として使用
されるドデカー4●8−ジエン1●12−ジアール〔I
式(式中、m=1)を参照〕はシクロドデカトリエンか
ら存在する二重結合の1つを選択的にオゾン化すること
により得られる、容易に入手可能な出発物質である〔例
えば、スイス特許第577445号明細書参照〕。
本発明の方法で出発物質として使用されるドデカンジア
ール〔I式(式中、m=2)を参照〕は、コンテプス●
レンドハウス(COmpt.Renp.)、第20倦、
第1948頁、1937年に記載された方法に従つて合
成することができる。
ール〔I式(式中、m=2)を参照〕は、コンテプス●
レンドハウス(COmpt.Renp.)、第20倦、
第1948頁、1937年に記載された方法に従つて合
成することができる。
分子中にオレフィン性二重合が存在するので、化合物(
1)〜(■)は、異なる立体配置の立体異性体を形成す
ることがあるが、本発明方法においては純粋な異性体も
それらの任意の混合物も等しく使用することができる。
1)〜(■)は、異なる立体配置の立体異性体を形成す
ることがあるが、本発明方法においては純粋な異性体も
それらの任意の混合物も等しく使用することができる。
本発明方法の第一工程、すなわちジアール(1)のモノ
アセタール化は、公知技術により、すなわち酸触媒の存
在下に例えは酸性珪藻土の存在下で行なわれる。
アセタール化は、公知技術により、すなわち酸触媒の存
在下に例えは酸性珪藻土の存在下で行なわれる。
有利な反応成分はエチレンアセタール〔旧(ここでR1
及びR2は一緒に2価のジメチレン基を表わす)の製造
を可能とするエチレングリコールを包合する。分留によ
り反応混合物から分離した後、モノアセタール(■)を
グリニヤール反応の条件下にハロゲン化メタリルマグネ
シウムで処理し、かつ生じた付加物を加水分解し、次い
でこのようにして得られたヒドロキシ誘導体を酸性環化
剤により環化する。好適な酸性環化剤には、プロトン鉱
酸又はフロン有機酸及び酸性珪藻土が包合される。この
ような環化を不活性有機溶剤、例えば脂肪族炭化水素、
脂環式炭化水素又は芳香族炭化水素又はエーテル中で行
なうことは有利である。最終生成物の良好な収率はトル
エンのような芳香族炭化水素中でp−トルエンスルホン
酸の存在下に選択した溶剤のほぼ沸点、例えば約100
〜120℃の温度で環化を行なうこそとに,より得るこ
とができるということを認めた。特に縮合反応に由来す
る副生成物の形成を回避するために、選択した溶剤中に
出発物質のヒドロキシ−アセタールを大希釈で溶解させ
て環化を行なうのが有利である。この効果を得るために
、約1〜2重量%の濃度を使用する。■式のピラン系化
合物の異性化及び接触水素添加から成るムスコン製造の
最終工程は、常用の水素添加触媒例えばラネー・ニッケ
ル又は炭素上パラジウムの存在下に行なうことができる
。
及びR2は一緒に2価のジメチレン基を表わす)の製造
を可能とするエチレングリコールを包合する。分留によ
り反応混合物から分離した後、モノアセタール(■)を
グリニヤール反応の条件下にハロゲン化メタリルマグネ
シウムで処理し、かつ生じた付加物を加水分解し、次い
でこのようにして得られたヒドロキシ誘導体を酸性環化
剤により環化する。好適な酸性環化剤には、プロトン鉱
酸又はフロン有機酸及び酸性珪藻土が包合される。この
ような環化を不活性有機溶剤、例えば脂肪族炭化水素、
脂環式炭化水素又は芳香族炭化水素又はエーテル中で行
なうことは有利である。最終生成物の良好な収率はトル
エンのような芳香族炭化水素中でp−トルエンスルホン
酸の存在下に選択した溶剤のほぼ沸点、例えば約100
〜120℃の温度で環化を行なうこそとに,より得るこ
とができるということを認めた。特に縮合反応に由来す
る副生成物の形成を回避するために、選択した溶剤中に
出発物質のヒドロキシ−アセタールを大希釈で溶解させ
て環化を行なうのが有利である。この効果を得るために
、約1〜2重量%の濃度を使用する。■式のピラン系化
合物の異性化及び接触水素添加から成るムスコン製造の
最終工程は、常用の水素添加触媒例えばラネー・ニッケ
ル又は炭素上パラジウムの存在下に行なうことができる
。
有利な実施法によれば、異性化及び水素添加の工程を不
活性有機溶剤、例えばキシレンのようは芳香族炭化水素
中で、そのほぼ沸点で行なう。
活性有機溶剤、例えばキシレンのようは芳香族炭化水素
中で、そのほぼ沸点で行なう。
次に実施例につき本発明をより詳細の説明するが、実施
例中の温度はすべて「℃」を表わす。 c例1新規ピラ
ン系化合物の製造 a ドデカー4・8−ジエン1・12−ジアールエチレ
ンーモノーアセタール還流温度に保持した、水滴分離器
を備えた容1器中のイソプロピルエーテル51中のドデ
カー4・8−ジエン1・12−ジアール970y(5モ
ル)と酸性珪藻土5yの混合物にエチレングリコール3
41y(5.5モル)を激しい攪拌下に10〜1時間か
けて滴下した。
例中の温度はすべて「℃」を表わす。 c例1新規ピラ
ン系化合物の製造 a ドデカー4・8−ジエン1・12−ジアールエチレ
ンーモノーアセタール還流温度に保持した、水滴分離器
を備えた容1器中のイソプロピルエーテル51中のドデ
カー4・8−ジエン1・12−ジアール970y(5モ
ル)と酸性珪藻土5yの混合物にエチレングリコール3
41y(5.5モル)を激しい攪拌下に10〜1時間か
けて滴下した。
添加の終了後、反応混合物を3〜4時間還流させ、水9
9mLを分離した。濾過して揮発性留分を蒸発させた後
、残分(1200y)が得られるから、これを分留する
と所望のモノアセタール(純度約95%)488yが得
られた。1R(膜)2700、1720cm−1NMR
(CDCl3、60MHz):1.5〜2.6(12H
1多重線);3.88(4H、二重線、J=2.4);
4.84(1H1三重線、J=4);5.2〜5.6(
4H1多重線);9.77(1H1単線)δPpm:M
S:M+=238;m/e=220(2)、195(1
5)、175(8)、163(2)、141(13)、
119(14)、99(30)、73(100)、55
(16)、41(42)、29(13).B2−メチル
ー4−ヒドロキシーペンタデカー1●7●11−トリエ
ンー15−アール エチレン−アセタール無水ジエチル
エーテル50mt及び臭化エチル0.5mL中の削りく
ず状マグネシウム21.4y(0.9モル)の懸濁液に
激しい攪拌下に塩化メタリル2m1を適加した。
9mLを分離した。濾過して揮発性留分を蒸発させた後
、残分(1200y)が得られるから、これを分留する
と所望のモノアセタール(純度約95%)488yが得
られた。1R(膜)2700、1720cm−1NMR
(CDCl3、60MHz):1.5〜2.6(12H
1多重線);3.88(4H、二重線、J=2.4);
4.84(1H1三重線、J=4);5.2〜5.6(
4H1多重線);9.77(1H1単線)δPpm:M
S:M+=238;m/e=220(2)、195(1
5)、175(8)、163(2)、141(13)、
119(14)、99(30)、73(100)、55
(16)、41(42)、29(13).B2−メチル
ー4−ヒドロキシーペンタデカー1●7●11−トリエ
ンー15−アール エチレン−アセタール無水ジエチル
エーテル50mt及び臭化エチル0.5mL中の削りく
ず状マグネシウム21.4y(0.9モル)の懸濁液に
激しい攪拌下に塩化メタリル2m1を適加した。
次いで約3時間かけて無水エーテル1eとテトラヒドロ
フラン250mL中の前記aで得られたモノ−アセター
ル119y(0.5モル)と新たに蒸留した塩化メタリ
ル90y(1.0モル)の溶液を加えた。この添加を反
応混合物の温度が10〜15た以下を保持するような割
合に調した;この目的のために外部冷却が必要であつた
。次いで、この混合物を攪拌下に約15〜200で3時
間保持した。その後、過剰のマグネシウムを傾潟して得
られた透明の溶液をNH4Clの飽和水溶液と氷を用い
て加水分解した。この水相を2回エーテルで抽出し、合
した有機抽出液を水とNaClの水溶液とで中性になる
まで洗浄した。常用の乾燥及び蒸発処理後、粗生成物(
142y;96%)が得られるから、これを蒸留(16
0〜170%/0.1w!NHg)すると所望のヒドロ
キシ−アセタール125yが生じた。
フラン250mL中の前記aで得られたモノ−アセター
ル119y(0.5モル)と新たに蒸留した塩化メタリ
ル90y(1.0モル)の溶液を加えた。この添加を反
応混合物の温度が10〜15た以下を保持するような割
合に調した;この目的のために外部冷却が必要であつた
。次いで、この混合物を攪拌下に約15〜200で3時
間保持した。その後、過剰のマグネシウムを傾潟して得
られた透明の溶液をNH4Clの飽和水溶液と氷を用い
て加水分解した。この水相を2回エーテルで抽出し、合
した有機抽出液を水とNaClの水溶液とで中性になる
まで洗浄した。常用の乾燥及び蒸発処理後、粗生成物(
142y;96%)が得られるから、これを蒸留(16
0〜170%/0.1w!NHg)すると所望のヒドロ
キシ−アセタール125yが生じた。
IR(膜):334\308へ1642、890α−1
:NMR(CDCl3、60MHz):1.74(3H
1単線);3.5〜4.1(5H1多重線);4.7〜
5.0(3H1多重線);5.2〜5.6(4H、多重
線)δPpm;MS:(M+−57)=237;m/e
:222(1)、208、195(9)、177(3)
、159(4)、147(7)、141(13)、12
9(12)、119(13)、109(18)、99(
40)、93(39)、79(49)、73(100)
、67(36)、55(39)、43(96)、31(
83).c ■式の二環式エーテル、m=1;n=1;
p=3又はn=2;p=2トルエン500m1中のp−
トルエンスルホン酸500m9還流溶液に前記bで得ら
れたヒドロキシ−アセタール14.7y(0.05モル
)の溶液を加えた。
:NMR(CDCl3、60MHz):1.74(3H
1単線);3.5〜4.1(5H1多重線);4.7〜
5.0(3H1多重線);5.2〜5.6(4H、多重
線)δPpm;MS:(M+−57)=237;m/e
:222(1)、208、195(9)、177(3)
、159(4)、147(7)、141(13)、12
9(12)、119(13)、109(18)、99(
40)、93(39)、79(49)、73(100)
、67(36)、55(39)、43(96)、31(
83).c ■式の二環式エーテル、m=1;n=1;
p=3又はn=2;p=2トルエン500m1中のp−
トルエンスルホン酸500m9還流溶液に前記bで得ら
れたヒドロキシ−アセタール14.7y(0.05モル
)の溶液を加えた。
この反応を水滴分離器を備えた容器中で行なつた。添加
が行なわれた後、付加的にp−トルエンスルホン酸20
0m9をこの混合物に加え、これを存在するトルエンの
一部を蒸発させることによりその容量の約半分まで濃縮
した。濃縮した混合物をNaOHの水溶液で2回洗浄し
、Na2sO4上で乾燥させ減圧下に蒸発させた。この
ようにして、残分13.3%が得られるから、これをフ
ラスコ装置中で蒸留すると純度約,95%の所望の二環
式エーテル(■)8y(収率69%)が得られた。NM
R(CDCl3、90MHz):1.66(3H1二重
線、J=2);3.2〜3.6(1H1多重線):3.
7〜4.1(1H1多重線);4.15〜6.9(5H
1多重,線)δPpm;MS:M+=232(48)
;m/e:217(6)、203(11)、189(1
9)、175(7)、163(24)、147(36)
、135(38)、121(86)、109(75)、
95(100)、79(83)、67(73)、55(
57)、49!(99).ムスコンの製造(参考) 懸濁液の形の還流キシレン50mL中の10%炭素上パ
ラジウム2800m9を、水素の連続流(流出率:40
m1/分)にこの懸濁液を触れさせることにより、.2
時間活性化した。
が行なわれた後、付加的にp−トルエンスルホン酸20
0m9をこの混合物に加え、これを存在するトルエンの
一部を蒸発させることによりその容量の約半分まで濃縮
した。濃縮した混合物をNaOHの水溶液で2回洗浄し
、Na2sO4上で乾燥させ減圧下に蒸発させた。この
ようにして、残分13.3%が得られるから、これをフ
ラスコ装置中で蒸留すると純度約,95%の所望の二環
式エーテル(■)8y(収率69%)が得られた。NM
R(CDCl3、90MHz):1.66(3H1二重
線、J=2);3.2〜3.6(1H1多重線):3.
7〜4.1(1H1多重線);4.15〜6.9(5H
1多重,線)δPpm;MS:M+=232(48)
;m/e:217(6)、203(11)、189(1
9)、175(7)、163(24)、147(36)
、135(38)、121(86)、109(75)、
95(100)、79(83)、67(73)、55(
57)、49!(99).ムスコンの製造(参考) 懸濁液の形の還流キシレン50mL中の10%炭素上パ
ラジウム2800m9を、水素の連続流(流出率:40
m1/分)にこの懸濁液を触れさせることにより、.2
時間活性化した。
次いで、この混合物に前記cにより得られた新規中間体
である二環式エーテル6960mg(0.03モル)を
加え、この全体を水素流を保持して7〜8時間還流下に
保つた。反応の経過をクロマトグラフィー分析を用いて
追跡した。こ・の混合物に窒素流を通すことにより過剰
の水素を除去し、触媒を濾過により回収した。反応混合
物の濃縮後、マイクロ●フィッシャー型(MicrOF
ishertype)装置を用いて分留すると、沸点:
)5〜65r/0.1wftHgのムスコン5.0y(
収率70%))く得られた。列2 前記と同様な方法で操作したが、ドデカー4・3−ジエ
ン1●12−ジアールのエチレンモノアセクールのかわ
りにドデカンジアールのエチレンモノアセタールを出発
物質として使用した場合、よつ低い収率ではあるか同様
に新規ピラン系化合物i経てムスコンが得られた。
である二環式エーテル6960mg(0.03モル)を
加え、この全体を水素流を保持して7〜8時間還流下に
保つた。反応の経過をクロマトグラフィー分析を用いて
追跡した。こ・の混合物に窒素流を通すことにより過剰
の水素を除去し、触媒を濾過により回収した。反応混合
物の濃縮後、マイクロ●フィッシャー型(MicrOF
ishertype)装置を用いて分留すると、沸点:
)5〜65r/0.1wftHgのムスコン5.0y(
収率70%))く得られた。列2 前記と同様な方法で操作したが、ドデカー4・3−ジエ
ン1●12−ジアールのエチレンモノアセクールのかわ
りにドデカンジアールのエチレンモノアセタールを出発
物質として使用した場合、よつ低い収率ではあるか同様
に新規ピラン系化合物i経てムスコンが得られた。
ドデカンー1●12−ジアール エチレンモノ−アセタ
ール収率:10〜20% IR:271011725cm−1 NMR(CDCl3、60MHz):2.1〜2.6(
2H1多重線);3.6〜4.1(.4H1多重線);
4.83(1H1三重線、J=4);9.75(1H1
三重線、J=2)δPpm;MS:M+242(く1)
:m/e:113(〈1)、95(く1)、73(32
)、62(4)、43(13)、31(100).2−
メチルー4−ヒドロキシーペンタデカンー15−アール
エチレン モノ−アセタール収率:95%IR:35
0へ313へ165\890礪−1;NMR(CDCl
3、60MHz):1.75〜2.3(6H1多重線)
;2.1(1H1多重線);3.5〜4.1(51(、
多重線);4.7〜5.0(3H1多重線)δPpm;
MS:(M+−85)=213(く1);200(〈1
)、180(く1)、163(1)、144(2)、1
24(10)、109(7)、89(28)、81(6
)、73(22)、63(13)、56(100)、4
3(70)、31(56).■式の二環式エーテル、m
=2;n=1;p=3又はn=2:p=2収率:15〜
20% NMR(CDCl3、60MHZ):1.1〜2.2(
25H、多重線):3.2〜3.65(1H1多重線)
;3.8〜4.2(1H1多重線);5.24(1H1
多重線)δPpm;MS:M+=236(17):m/
e:221(11)、207(1)、194(4)、1
78(5)、163(2)、149(4)、135(8
)、121(22)、109(34)、95(100)
、81(43)、67(39)、55(54)、41(
59)、29(20).このエーテルは例1により得ら
れた不飽和二環式エーテル(cの項を参照)から、これ
をリンドラー(Linlar)型触媒の存在下に水素添
加することにより、収率95%で得ることもできた。
ール収率:10〜20% IR:271011725cm−1 NMR(CDCl3、60MHz):2.1〜2.6(
2H1多重線);3.6〜4.1(.4H1多重線);
4.83(1H1三重線、J=4);9.75(1H1
三重線、J=2)δPpm;MS:M+242(く1)
:m/e:113(〈1)、95(く1)、73(32
)、62(4)、43(13)、31(100).2−
メチルー4−ヒドロキシーペンタデカンー15−アール
エチレン モノ−アセタール収率:95%IR:35
0へ313へ165\890礪−1;NMR(CDCl
3、60MHz):1.75〜2.3(6H1多重線)
;2.1(1H1多重線);3.5〜4.1(51(、
多重線);4.7〜5.0(3H1多重線)δPpm;
MS:(M+−85)=213(く1);200(〈1
)、180(く1)、163(1)、144(2)、1
24(10)、109(7)、89(28)、81(6
)、73(22)、63(13)、56(100)、4
3(70)、31(56).■式の二環式エーテル、m
=2;n=1;p=3又はn=2:p=2収率:15〜
20% NMR(CDCl3、60MHZ):1.1〜2.2(
25H、多重線):3.2〜3.65(1H1多重線)
;3.8〜4.2(1H1多重線);5.24(1H1
多重線)δPpm;MS:M+=236(17):m/
e:221(11)、207(1)、194(4)、1
78(5)、163(2)、149(4)、135(8
)、121(22)、109(34)、95(100)
、81(43)、67(39)、55(54)、41(
59)、29(20).このエーテルは例1により得ら
れた不飽和二環式エーテル(cの項を参照)から、これ
をリンドラー(Linlar)型触媒の存在下に水素添
加することにより、収率95%で得ることもできた。
1 (参考)
得らた二環式エーテルを炭素上パラジウムの存在下に水
素で処理することにより得られたムスコンは純粋な試料
とすべての観点から分析上同一の特性を示した。
素で処理することにより得られたムスコンは純粋な試料
とすべての観点から分析上同一の特性を示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 IV式: ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)〔式中、点線
は二重結合又は単結合を表わし、mは1又は2を表わし
、nが1である場合はpは3であるか又はnが2である
場合はpは2を表わす〕の新規ピラン系化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH12510/78-0 | 1978-12-07 | ||
CH1251078 | 1978-12-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55102582A JPS55102582A (en) | 1980-08-05 |
JPS6043353B2 true JPS6043353B2 (ja) | 1985-09-27 |
Family
ID=4383686
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54158252A Expired JPS6041655B2 (ja) | 1978-12-07 | 1979-12-07 | ムスコンの製法 |
JP55008856A Expired JPS6043353B2 (ja) | 1978-12-07 | 1980-01-30 | 新規ピラン系化合物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54158252A Expired JPS6041655B2 (ja) | 1978-12-07 | 1979-12-07 | ムスコンの製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4277625A (ja) |
EP (1) | EP0012390B1 (ja) |
JP (2) | JPS6041655B2 (ja) |
DE (1) | DE2964121D1 (ja) |
GR (1) | GR72406B (ja) |
MX (1) | MX150040A (ja) |
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US4346023A (en) * | 1979-09-19 | 1982-08-24 | Firmenich Sa | Process for the preparation of novel unsaturated macrocyclic ketones |
FR2620705B1 (fr) * | 1987-09-22 | 1989-12-01 | Rhone Poulenc Sante | Nouveaux derives du nonatriene-1,3,5, leur preparation et leur emploi |
DE3918015A1 (de) * | 1989-06-02 | 1990-12-06 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von muscon, zwischenprodukte fuer dieses verfahren sowie deren herstellung |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2921940A (en) * | 1955-11-28 | 1960-01-19 | Metal & Thermit Corp | Grignard preparation of certain hydroxy compounds |
US3925421A (en) * | 1972-03-28 | 1975-12-09 | Research Corp | Method for the preparation of macrocyclic compound |
-
1979
- 1979-11-20 US US06/096,054 patent/US4277625A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-12-04 MX MX180300A patent/MX150040A/es unknown
- 1979-12-05 GR GR60678A patent/GR72406B/el unknown
- 1979-12-07 JP JP54158252A patent/JPS6041655B2/ja not_active Expired
- 1979-12-07 EP EP79105000A patent/EP0012390B1/fr not_active Expired
- 1979-12-07 DE DE7979105000T patent/DE2964121D1/de not_active Expired
-
1980
- 1980-01-30 JP JP55008856A patent/JPS6043353B2/ja not_active Expired
-
1981
- 1981-03-30 US US06/249,117 patent/US4341897A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55102534A (en) | 1980-08-05 |
GR72406B (ja) | 1983-11-02 |
JPS6041655B2 (ja) | 1985-09-18 |
US4277625A (en) | 1981-07-07 |
MX150040A (es) | 1984-03-05 |
DE2964121D1 (en) | 1982-12-30 |
US4341897A (en) | 1982-07-27 |
JPS55102582A (en) | 1980-08-05 |
EP0012390A2 (fr) | 1980-06-25 |
EP0012390B1 (fr) | 1982-11-24 |
EP0012390A3 (en) | 1980-11-12 |
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