JPS6038399A - ペプチドアミド及びアルデヒド類 - Google Patents
ペプチドアミド及びアルデヒド類Info
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- JPS6038399A JPS6038399A JP59142490A JP14249084A JPS6038399A JP S6038399 A JPS6038399 A JP S6038399A JP 59142490 A JP59142490 A JP 59142490A JP 14249084 A JP14249084 A JP 14249084A JP S6038399 A JPS6038399 A JP S6038399A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はペプチド訪導体、その製造方法及び該誘導体を
含む製薬学的調製物に関する。また、本発明は該誘導体
の製造に用いる新規な中M体に関する。
含む製薬学的調製物に関する。また、本発明は該誘導体
の製造に用いる新規な中M体に関する。
本発明によって提供されるペプチド訪導体は一般式
%式%()
式中、Rは炭素原子6〜12個を含む環式炭化水素基を
表わし、R1は随時アミノ基または1個もしくはそれ以
上のヒドロキシ基で置換され 13− ていてもよい脂肪族または芳香族ジカルがン酸或いはウ
ロン酸から誘導されたアシル基を表わし〜R2は水素原
子またはホルミル基を表わし、Hsは水素原子を表わし
、そしてR4はメチル基を表わすか、或いはR1及びR
4は一緒になってトリメチレン基を表わし、Yはカル日
ぐニル、スルホニルまたはメチレン基を表わし、mは2
〜6の整数を表わし、nは0.1または2を表わし、そ
して(a)及び(′b)として示した炭素原子における
立体配置けLである、 の化合物及びその製薬学的に許容し得る塩である。
表わし、R1は随時アミノ基または1個もしくはそれ以
上のヒドロキシ基で置換され 13− ていてもよい脂肪族または芳香族ジカルがン酸或いはウ
ロン酸から誘導されたアシル基を表わし〜R2は水素原
子またはホルミル基を表わし、Hsは水素原子を表わし
、そしてR4はメチル基を表わすか、或いはR1及びR
4は一緒になってトリメチレン基を表わし、Yはカル日
ぐニル、スルホニルまたはメチレン基を表わし、mは2
〜6の整数を表わし、nは0.1または2を表わし、そ
して(a)及び(′b)として示した炭素原子における
立体配置けLである、 の化合物及びその製薬学的に許容し得る塩である。
Rによって表わされる環式炭化水素基は広い種々な意味
をもつことができる1例えば該基はフェニル基或いは炭
素原子4個までを含む1個またはそれ以上のアルキル基
(例えばメチル、エチルtn−プロピル1イソプロピル
、n−ブチルtイソブチル等)をもつフェニル基である
ことができ114− ただしtかかるアルキル置換されたフェニル基における
炭素原子の総数は12を超えないものとする。かかるア
ルキル置換されたフェニル基の例は0−トリル% m−
)リル、p−トリル、2゜4−ジメチルフェニル等であ
る。更にRによって表わされる環式炭化水素基の例は、
4−ビフェニリルの場合における如くフェニル置換基を
もつフェニル基である。tた例えばRは融合した環式炭
化水素基、例えばナフチル、テトラヒドロナフチル、デ
カヒドロナフチル1インダニル等であることができる。
をもつことができる1例えば該基はフェニル基或いは炭
素原子4個までを含む1個またはそれ以上のアルキル基
(例えばメチル、エチルtn−プロピル1イソプロピル
、n−ブチルtイソブチル等)をもつフェニル基である
ことができ114− ただしtかかるアルキル置換されたフェニル基における
炭素原子の総数は12を超えないものとする。かかるア
ルキル置換されたフェニル基の例は0−トリル% m−
)リル、p−トリル、2゜4−ジメチルフェニル等であ
る。更にRによって表わされる環式炭化水素基の例は、
4−ビフェニリルの場合における如くフェニル置換基を
もつフェニル基である。tた例えばRは融合した環式炭
化水素基、例えばナフチル、テトラヒドロナフチル、デ
カヒドロナフチル1インダニル等であることができる。
更にまた例えばRは単環式または架橋したシクロアルキ
ル基、殊にシクロオクチル〜シクロデシル1アダマンチ
ル、ビシクロへブチル等であることができる。
ル基、殊にシクロオクチル〜シクロデシル1アダマンチ
ル、ビシクロへブチル等であることができる。
R1が上に定義した如く随時置換されていてもよい脂肪
族ジカルボン酸から誘導されたアシル基を表わす際には
1この基は飽和または不飽和脂肪族ジカルがン酸例えば
コハク酸−ダルタル酸、アジピン酸、グルタミン酸、ア
スノ(ラギン酸tα−アミノアソビン酸−リンゴ酸1酒
石酸1フマル酸等から誘導することができる。芳香族ジ
カルボン酸から誘導されるアシル基R1の例はベンゼン
ジカルボン酸例えばフタル酸〜イソフタル酸−テレフタ
ル酸等から或いはナツタレンジカルメン酸例えば1.5
−ナフタレンジカルボン酸、1 * 8−ナフタレンジ
カルボン酸等から誘導されたアシル基である。ウロン酸
から誘導されるアシル基R10例はD−グルクロン酸及
びD−ガラクトウロン酸から誘導されたアシル基でおる
。
族ジカルボン酸から誘導されたアシル基を表わす際には
1この基は飽和または不飽和脂肪族ジカルがン酸例えば
コハク酸−ダルタル酸、アジピン酸、グルタミン酸、ア
スノ(ラギン酸tα−アミノアソビン酸−リンゴ酸1酒
石酸1フマル酸等から誘導することができる。芳香族ジ
カルボン酸から誘導されるアシル基R1の例はベンゼン
ジカルボン酸例えばフタル酸〜イソフタル酸−テレフタ
ル酸等から或いはナツタレンジカルメン酸例えば1.5
−ナフタレンジカルボン酸、1 * 8−ナフタレンジ
カルボン酸等から誘導されたアシル基である。ウロン酸
から誘導されるアシル基R10例はD−グルクロン酸及
びD−ガラクトウロン酸から誘導されたアシル基でおる
。
式■においてR2がホルミル基を表わす際には−この基
が結合した炭素原子の立体配置はDまたはLであること
ができる1本発明にはががるD−及びL−化合物並びに
その混合物がその範囲内に含まれる。
が結合した炭素原子の立体配置はDまたはLであること
ができる1本発明にはががるD−及びL−化合物並びに
その混合物がその範囲内に含まれる。
式Iの化合物は塩基によって製菓学的に許容し得る塩1
例えばアルカリ金属塩例えばナトリウムまたはカリウム
塩並びにアルカリ土類金属塩例えばカルシウム及びマグ
ネシウム塩等を生成しうる。
例えばアルカリ金属塩例えばナトリウムまたはカリウム
塩並びにアルカリ土類金属塩例えばカルシウム及びマグ
ネシウム塩等を生成しうる。
遊離アミン基を含む式Iの化合物は酸によって製薬学的
に許容し得る塩を生成せしめることができる。これらの
酸は無機酸−例えばハロダン化水素酸(例えば塩化水素
酸または臭(E水素酸)、硫酸tリン酸1硝酸等或いは
有機酸例えば酢酸−マレイン酸1フマル酸1酒石酸1ク
エン#R%メタンスルホン酸等であることができる。
に許容し得る塩を生成せしめることができる。これらの
酸は無機酸−例えばハロダン化水素酸(例えば塩化水素
酸または臭(E水素酸)、硫酸tリン酸1硝酸等或いは
有機酸例えば酢酸−マレイン酸1フマル酸1酒石酸1ク
エン#R%メタンスルホン酸等であることができる。
本発明によって提供される式■の好ましい化合物は、相
互に独立して、Rが炭素原子6〜12個を含む単環式ま
たは架橋したシクロアルキル基〜殊にアダマンチルを表
わし〜R1が炭素原子6個までを含む未置換の飽和脂肪
族ジカルがン酸から誘導されたアシル基−殊にスクシニ
ルもしくはア 17− ジポリル、或いは未置換ベンゼンジカルボン酸から誘導
されたアシル基1殊に4−カルボキンベンゾイルを表わ
し%R2がホルミル基を表わし%Yがスルホニル基を表
わし、mが4を表わし、そしてnが0を表わす化合物で
ある。
互に独立して、Rが炭素原子6〜12個を含む単環式ま
たは架橋したシクロアルキル基〜殊にアダマンチルを表
わし〜R1が炭素原子6個までを含む未置換の飽和脂肪
族ジカルがン酸から誘導されたアシル基−殊にスクシニ
ルもしくはア 17− ジポリル、或いは未置換ベンゼンジカルボン酸から誘導
されたアシル基1殊に4−カルボキンベンゾイルを表わ
し%R2がホルミル基を表わし%Yがスルホニル基を表
わし、mが4を表わし、そしてnが0を表わす化合物で
ある。
弐Iの特に好ましい化合物は次のものである二N”−(
1−7ダマンチルスルホニル) −N 6−スクシニル
+L+7’ロリルーL−パリナール、Na−(1−アダ
マンチルスルホニル) −N a−(4−カルボキシベ
ンゾイル) −L −IJ シルーL−ゾロリルーL−
パリナール及び N”−(1−7ダマンチルスルホニル) −N &−(
4−カルがキシベンゾイル)−L−リシル−L−アラニ
ル−L−パリナール。
1−7ダマンチルスルホニル) −N 6−スクシニル
+L+7’ロリルーL−パリナール、Na−(1−アダ
マンチルスルホニル) −N a−(4−カルボキシベ
ンゾイル) −L −IJ シルーL−ゾロリルーL−
パリナール及び N”−(1−7ダマンチルスルホニル) −N &−(
4−カルがキシベンゾイル)−L−リシル−L−アラニ
ル−L−パリナール。
式Iの他の化合物の例は次のものである二N (X +
ll (1−アダマンチルエチル)−R6−スクジニル
ーL−プロリンイソブチルアミド、 18− N“−(6,6−シメチルビシクロ〔5゜1.1〕へフ
チルエチル> + N 6’−<γ−グルタミル)−L
−リシル−L−グロリンイソプチルアミド、N (1+
+ (+−アダマンタンアセチル)−N −スクシニル
−L−リシル−L−70ロリンインブチルアミド、 N”−(1−アダマンチルスルホニル)−N 6−スク
ジニルーL−リシルーL−アシエルパリナール、 N (t −(、−アダマンチルスルホニル)−h6−
(2−カル日?キシベンゾイル)−L−!JシルーL−
ゾロリルパリナール及び N (1−(1−アダマンチルスルホニル)−Ni−ア
ジボリル−L−リシル−L−ゾロリルバリナール。
ll (1−アダマンチルエチル)−R6−スクジニル
ーL−プロリンイソブチルアミド、 18− N“−(6,6−シメチルビシクロ〔5゜1.1〕へフ
チルエチル> + N 6’−<γ−グルタミル)−L
−リシル−L−グロリンイソプチルアミド、N (1+
+ (+−アダマンタンアセチル)−N −スクシニル
−L−リシル−L−70ロリンインブチルアミド、 N”−(1−アダマンチルスルホニル)−N 6−スク
ジニルーL−リシルーL−アシエルパリナール、 N (t −(、−アダマンチルスルホニル)−h6−
(2−カル日?キシベンゾイル)−L−!JシルーL−
ゾロリルパリナール及び N (1−(1−アダマンチルスルホニル)−Ni−ア
ジボリル−L−リシル−L−ゾロリルバリナール。
本発明によって提供される方法に従え1ケ、上記の式■
の化合物及びその製薬学的に許容し得る塩は (’) 一般式 %式% 式中、R%R1,R4,Y%m及びnは上記の意味を有
し、(a)及び(b)で示した炭素原子における立体配
置は上記の通りであリ R1は、Yがカルボニルまたは
スルホニル基を表わす際には〜水素原子を表わし−或い
はYがメチレン基を表わす際には、保護基を表わしtそ
してR20は水素原子または保護されたホルミル基を表
わす〜の化合物を一般式 %式% 式中、R10は上記のR1と同様の意味を有するが、但
しその際に存在するカルボキシ、アミノまたはヒドロキ
シ基は保護された形態である1の酸の反応性誘導体と反
応させ、そして必要に応じて、反応生成物に存在する保
護基を開裂させるか、或いは (ト))R1が2−カルボキシベンゾイルを表わす弐!
の化合物を製造するために1一般式%式% 式中、R,R”、R’、R’、R20,Y%m及びnは
上記の意味を有し1そして(a)及び(b)として示し
た炭素原子における立体配置は上記の通シであるへ の化合物をアルカリ金属水酸化物で処理し1そして必要
に応じて1反応生成物に存在する保護基を開裂させ、そ
して (0) いずれの場合にも必要に応じて〜得られる式■
の化合物を製薬学的に許容し得る塩に転化する ことによって製造される。
の化合物及びその製薬学的に許容し得る塩は (’) 一般式 %式% 式中、R%R1,R4,Y%m及びnは上記の意味を有
し、(a)及び(b)で示した炭素原子における立体配
置は上記の通りであリ R1は、Yがカルボニルまたは
スルホニル基を表わす際には〜水素原子を表わし−或い
はYがメチレン基を表わす際には、保護基を表わしtそ
してR20は水素原子または保護されたホルミル基を表
わす〜の化合物を一般式 %式% 式中、R10は上記のR1と同様の意味を有するが、但
しその際に存在するカルボキシ、アミノまたはヒドロキ
シ基は保護された形態である1の酸の反応性誘導体と反
応させ、そして必要に応じて、反応生成物に存在する保
護基を開裂させるか、或いは (ト))R1が2−カルボキシベンゾイルを表わす弐!
の化合物を製造するために1一般式%式% 式中、R,R”、R’、R’、R20,Y%m及びnは
上記の意味を有し1そして(a)及び(b)として示し
た炭素原子における立体配置は上記の通シであるへ の化合物をアルカリ金属水酸化物で処理し1そして必要
に応じて1反応生成物に存在する保護基を開裂させ、そ
して (0) いずれの場合にも必要に応じて〜得られる式■
の化合物を製薬学的に許容し得る塩に転化する ことによって製造される。
式■及び■においてR1で表わされる保護基は普通の保
護基例えばt e r t、−プトキシカルゲニル、ベ
ンジルオキシカルがニルtホルミル1 トリチルtトリ
フルオロアセチル、2−(ビフェニリル)−イソプロポ
キシカルボニル等の基であることかできる。好ましくは
R1はベンジルオキシカルボ22− ニル基を表わす。
護基例えばt e r t、−プトキシカルゲニル、ベ
ンジルオキシカルがニルtホルミル1 トリチルtトリ
フルオロアセチル、2−(ビフェニリル)−イソプロポ
キシカルボニル等の基であることかできる。好ましくは
R1はベンジルオキシカルボ22− ニル基を表わす。
式■及び■においてR20で表わされる保護されたホル
ミル基は好ましくはジメチルまたはジエチルアセタール
の型で保護されたホルミルであるが、しかしまたオキシ
ム1セξカルバジド等の型で保護されたホルミルである
こともできる。
ミル基は好ましくはジメチルまたはジエチルアセタール
の型で保護されたホルミルであるが、しかしまたオキシ
ム1セξカルバジド等の型で保護されたホルミルである
こともできる。
式■の酸においてRI Oに存在するカルボキシ−アミ
ノ′またはヒドロキシ基を普通の方法で保護することが
できる1例えばカルボキシ基を容易に開裂し得るエステ
ル、例えばメチル、エチル、tert、−ブチル〜ペン
ツル等のエステル型で保護することができる。また、例
えばアミン基を、式■におけるR11に関連してすでに
述べた種類の保護基で保護することができる。更にまた
、例えばヒドロキシ基を容易に開裂し得るエーテル、例
えばtert、−ブチルもしくけテトラヒドロピラニル
エーテルの型或いは容易に開裂し得るエステル、例えば
アルカンカルボン酸(例えば酢酸等)から誘導されたエ
ステルの型で保護することができる。
ノ′またはヒドロキシ基を普通の方法で保護することが
できる1例えばカルボキシ基を容易に開裂し得るエステ
ル、例えばメチル、エチル、tert、−ブチル〜ペン
ツル等のエステル型で保護することができる。また、例
えばアミン基を、式■におけるR11に関連してすでに
述べた種類の保護基で保護することができる。更にまた
、例えばヒドロキシ基を容易に開裂し得るエーテル、例
えばtert、−ブチルもしくけテトラヒドロピラニル
エーテルの型或いは容易に開裂し得るエステル、例えば
アルカンカルボン酸(例えば酢酸等)から誘導されたエ
ステルの型で保護することができる。
弐■の酸の反応性誘導体は例えば酸ハロゲン化物(例え
ば酸塩化物)〜酸無水物S!!アソド、活性アミド(例
えばピラゾールtイミダゾール等によるアミド)S混合
炭酸無水物または活性エステル(例エバシアンメチル、
4−ニトロフェニルまたはN−ヒドロキシコハク酸イミ
ドエステル)であることができる。
ば酸塩化物)〜酸無水物S!!アソド、活性アミド(例
えばピラゾールtイミダゾール等によるアミド)S混合
炭酸無水物または活性エステル(例エバシアンメチル、
4−ニトロフェニルまたはN−ヒドロキシコハク酸イミ
ドエステル)であることができる。
本方法の具体化例(a)における式■の化合物と弐■の
酸の反応性誘導体との反応をそれ自体公知の方法におい
て行うことができる。この反応は有利には不活性有機溶
媒を例えばハロゲン化された炭化水素(例えば塩化メチ
レンクロロホルム等)%エーテル(例えばナト2ヒドロ
フラン、ジオキサン等)、エステル(例えば酢酸エチル
等)−アセトニトリル、ジメチルホルムアミド−ジメチ
ルアセトアミド等或いはこれらの溶媒の混合物中にて行
われる。この反応を約−20℃乃至約+40℃間、特に
約−10℃乃至約+30℃間、殊に約0℃乃至室温間の
温度で行うことが有利である。この反応は有利には塩基
例えば第三級有機アミン(例えばトリエチルアミン1N
−メチルモルホリン1N−エチルモルホリン等)或いは
アルカリ金属炭I!J!塩(例えば重炭酸ナトリウム等
)の存在下において行われる。成る状況下においては〜
この反応をその場で〜即ち製造した媒質から式■の化合
物を単離せずに、行うことが有利である。
酸の反応性誘導体との反応をそれ自体公知の方法におい
て行うことができる。この反応は有利には不活性有機溶
媒を例えばハロゲン化された炭化水素(例えば塩化メチ
レンクロロホルム等)%エーテル(例えばナト2ヒドロ
フラン、ジオキサン等)、エステル(例えば酢酸エチル
等)−アセトニトリル、ジメチルホルムアミド−ジメチ
ルアセトアミド等或いはこれらの溶媒の混合物中にて行
われる。この反応を約−20℃乃至約+40℃間、特に
約−10℃乃至約+30℃間、殊に約0℃乃至室温間の
温度で行うことが有利である。この反応は有利には塩基
例えば第三級有機アミン(例えばトリエチルアミン1N
−メチルモルホリン1N−エチルモルホリン等)或いは
アルカリ金属炭I!J!塩(例えば重炭酸ナトリウム等
)の存在下において行われる。成る状況下においては〜
この反応をその場で〜即ち製造した媒質から式■の化合
物を単離せずに、行うことが有利である。
式■の化合物と弐■の酸の反応性誘導体との反応生成物
に存在する保護基またはその複数を開裂させる。保護基
の開裂をそれ自体公知の方法において行うことができる
。酸性加水分解によって開裂させ得る保護基は例えば塩
化水素酸の如き無機酸1適当なアルカンカルがン酸(例
えば酢酸)、25− このものは必要に応じてハロゲン化されていてもよい(
例えばトリフルオロ酢酸)1或いはトルエン−4−スル
ホン酸の如きスルホン酸で処理して除去することができ
る。塩基性加水分解によって開裂させ得る保護基は例え
ば水性水酸化ナトリウムの如き水性アルカリ金属水酸化
物で処理して除去することができる。水添分解によって
開裂させ得る保護基は例えばパラジウム等の如き適当な
触媒の存在下において水素を用いて除去することができ
る。R20が保護されたホルミル基を表わす場合1この
基をそれ自体公知の方法に従ってホルミル基に転化する
ことができる1例えばHtoがジメチルまたはジエチル
アセタールの型で保護されたホルミル基を表わす場合、
このホルミル基を例えばアルカンスルホ/酸を例えばメ
タンスルホン酸、芳香族スルホン酸例えばトルエン−4
−スルホン酸・、トリフルオロ酢酸−強スルホン酸樹脂
例えば26− 77 バーリスト(Amberlyst)i 5、塩化
水素酸等で処理しで再生することができる。
に存在する保護基またはその複数を開裂させる。保護基
の開裂をそれ自体公知の方法において行うことができる
。酸性加水分解によって開裂させ得る保護基は例えば塩
化水素酸の如き無機酸1適当なアルカンカルがン酸(例
えば酢酸)、25− このものは必要に応じてハロゲン化されていてもよい(
例えばトリフルオロ酢酸)1或いはトルエン−4−スル
ホン酸の如きスルホン酸で処理して除去することができ
る。塩基性加水分解によって開裂させ得る保護基は例え
ば水性水酸化ナトリウムの如き水性アルカリ金属水酸化
物で処理して除去することができる。水添分解によって
開裂させ得る保護基は例えばパラジウム等の如き適当な
触媒の存在下において水素を用いて除去することができ
る。R20が保護されたホルミル基を表わす場合1この
基をそれ自体公知の方法に従ってホルミル基に転化する
ことができる1例えばHtoがジメチルまたはジエチル
アセタールの型で保護されたホルミル基を表わす場合、
このホルミル基を例えばアルカンスルホ/酸を例えばメ
タンスルホン酸、芳香族スルホン酸例えばトルエン−4
−スルホン酸・、トリフルオロ酢酸−強スルホン酸樹脂
例えば26− 77 バーリスト(Amberlyst)i 5、塩化
水素酸等で処理しで再生することができる。
式■の化合物と式■の酸の反応性誘導体との反応によっ
て得られる生成物が2個またはそれ以上の保−基を含む
場合、これらの基は好ましくは全く同一の方法を用いて
開裂させ得る種類のものである。従って、この方法に用
いる出発物質における保護基は好ましくはこの考え方で
選ばれる。また勿論)保護基は異なる方法を用いて開裂
させ得る種類のものであることができ、この場合、かか
る保護基の開裂は段階的に行われる。
て得られる生成物が2個またはそれ以上の保−基を含む
場合、これらの基は好ましくは全く同一の方法を用いて
開裂させ得る種類のものである。従って、この方法に用
いる出発物質における保護基は好ましくはこの考え方で
選ばれる。また勿論)保護基は異なる方法を用いて開裂
させ得る種類のものであることができ、この場合、かか
る保護基の開裂は段階的に行われる。
本方法の具体化例(′b)における式■の化合物のアル
カリ金属水酸化物による処理は2−カル?キシベ/ゾイ
ル基の生成に伴い Hg−フタロイル基の開環を生ずる
。有利にはこの反応は水−アルコール性溶液〜例えば水
〜メタノール性溶液中で行われる。水酸化ナトリウムが
好ましいアルカリ金属水酸化物である1反応を好ましく
は室温で行う。
カリ金属水酸化物による処理は2−カル?キシベ/ゾイ
ル基の生成に伴い Hg−フタロイル基の開環を生ずる
。有利にはこの反応は水−アルコール性溶液〜例えば水
〜メタノール性溶液中で行われる。水酸化ナトリウムが
好ましいアルカリ金属水酸化物である1反応を好ましく
は室温で行う。
式■の化合物をアルカリ金属水酸化物で処理した後に得
られる生成物に存在する保護基またはその複数の除去は
1式■の化合物と式IIIの酸の反応性誘導体との反応
によって得られる生成物から保護基またはその複数の除
去に関連してすでに述べた方法と同一方法で行うことが
できる。
られる生成物に存在する保護基またはその複数の除去は
1式■の化合物と式IIIの酸の反応性誘導体との反応
によって得られる生成物から保護基またはその複数の除
去に関連してすでに述べた方法と同一方法で行うことが
できる。
式■の化合物を塩基で処理して製薬学的に許容し得る塩
に転化することができ、そして遊離アミノ基を含む式■
の化合物を酸で処理して製薬学的に許容し得る酸付加塩
に転化することができる。
に転化することができ、そして遊離アミノ基を含む式■
の化合物を酸で処理して製薬学的に許容し得る酸付加塩
に転化することができる。
これらの処理は普通の方法で行うことができる。
本発明によって提供される方法において出発物質として
用いる式Hの化合物は新規のものであシ、そしてまた本
発明の一目的を構成するものである。
用いる式Hの化合物は新規のものであシ、そしてまた本
発明の一目的を構成するものである。
これらのものは一般式
%式%
式中、R,Ra、l(4,ljl 、 R20、YSm
及びnは上記の意味を有し Raは保護されたアミノ基
を表わし1そして(a)及び(′b)として示した炭素
原子における立体配置は上記の通シである、の化合物に
おいてRaで表わされる保護されたアミノ基をアミノ基
に転化することによって製造することかできる。
及びnは上記の意味を有し Raは保護されたアミノ基
を表わし1そして(a)及び(′b)として示した炭素
原子における立体配置は上記の通シである、の化合物に
おいてRaで表わされる保護されたアミノ基をアミノ基
に転化することによって製造することかできる。
式Vの化合物においてRaで表わされる保護されたアミ
ノ基は、R1に関連してすでに述べた普通の保峡された
基金もつアミン基であるかS成いは好ましくはフタルイ
ミド基であることができる。
ノ基は、R1に関連してすでに述べた普通の保峡された
基金もつアミン基であるかS成いは好ましくはフタルイ
ミド基であることができる。
R6がフタルイミド基を表わす場合、式■の化合物は式
■の化合物に対応することが認められよう。
■の化合物に対応することが認められよう。
29一
式■の化合物においてR6で表わされる保護されたアミ
ノ基のアミノ基への転化はそれ自体公知の方法において
−例えば前記の如くして、或いは保護されたアミン基が
フタルイミドである場合、普通の方法においてヒドラジ
ンで処理して行つことができる1式Vの化合物に1個よ
シ多い保護基が存在する場合1これらの基はR6に存在
する保護基のみが除去されるように、そして分子中に存
在する他の保護基に影響を及ぼさぬように選ばれること
が理解されよう。
ノ基のアミノ基への転化はそれ自体公知の方法において
−例えば前記の如くして、或いは保護されたアミン基が
フタルイミドである場合、普通の方法においてヒドラジ
ンで処理して行つことができる1式Vの化合物に1個よ
シ多い保護基が存在する場合1これらの基はR6に存在
する保護基のみが除去されるように、そして分子中に存
在する他の保護基に影響を及ぼさぬように選ばれること
が理解されよう。
新規のものである上記の式■の化合物は更に本発明の一
目的を構成するものであシ、これらの化合物は種々な方
法に従って製造することができる。
目的を構成するものであシ、これらの化合物は種々な方
法に従って製造することができる。
一方法によれば、式Vの化合物は一般式30−
N−0H−000HM
/
R11(a)
式中、R,RI′、R’、Y、m及びnは上記の意味を
有し、そして(a)として示した炭素原子における立体
配置は上記の通りである〜 の化合物をそれ自体公知の方法において一般式() 式中 R4,R4及びHROは上記の意味を有し1そし
て(b)として示した炭素原子の立体配置における上記
の通りである、 の化合物と反応させて製造することができる。
有し、そして(a)として示した炭素原子における立体
配置は上記の通りである〜 の化合物をそれ自体公知の方法において一般式() 式中 R4,R4及びHROは上記の意味を有し1そし
て(b)として示した炭素原子の立体配置における上記
の通りである、 の化合物と反応させて製造することができる。
他の方法によれば1式Vの化合物は一般式6
/
R” (a) ω) ■
式中、R%R”、R4、R1,R”、Y、m及び。
は上記の意味を有しtそして(a)及び(′b)として
示した炭素原子における立体配置は上記の通りである、 の化合物をそれ自体公知の方法において一般式%式%)
( 式中、R20は上記の意味を有する1 の化合物と反応させることにより製造することができる
。
示した炭素原子における立体配置は上記の通りである、 の化合物をそれ自体公知の方法において一般式%式%)
( 式中、R20は上記の意味を有する1 の化合物と反応させることにより製造することができる
。
更に他の方法によれば、Yがカルボニルまたはスルホニ
ル基を表わす式Vの化合物は一般式H,N−0H−00
−N−OH−00−NH−OH−R”(a) (b)
X 式中、R1、R4,B@、 HRO及びmは上記の意味
を有し、そして<IL)及びω)として示した炭素原子
における立体配置灯上記の通りであるtの化合物を公知
の方法において一般式 %式% 式中、R及びnは上記の意味を有し・Xは塩素または臭
素原子を表わし、そしてylHカルポニ33− ル基、スルホニル基(Rがアダマンチルを表わす場合は
除く)或いはスルフィニル基(Rがアダマンチルを表わ
す場合)を表わす、 の化合物と反応させ、そしてYlがスルフィニル基を宍
わす得られる化合物を同様に公知の方法において yt
がスルホニル基を表わす対応する式Vの化合物に酸化す
ることにより製造することができる。
ル基を表わす式Vの化合物は一般式H,N−0H−00
−N−OH−00−NH−OH−R”(a) (b)
X 式中、R1、R4,B@、 HRO及びmは上記の意味
を有し、そして<IL)及びω)として示した炭素原子
における立体配置灯上記の通りであるtの化合物を公知
の方法において一般式 %式% 式中、R及びnは上記の意味を有し・Xは塩素または臭
素原子を表わし、そしてylHカルポニ33− ル基、スルホニル基(Rがアダマンチルを表わす場合は
除く)或いはスルフィニル基(Rがアダマンチルを表わ
す場合)を表わす、 の化合物と反応させ、そしてYlがスルフィニル基を宍
わす得られる化合物を同様に公知の方法において yt
がスルホニル基を表わす対応する式Vの化合物に酸化す
ることにより製造することができる。
更に他の方法によれば、Yがメチレン基を表わす式Vの
化合物は上記式Xの化合物を普通の方法において一般式 %式%[ 式中、R及びnは上記の意味を有する、のアルデヒドで
還元的にアルキル化することによシ製造することができ
る。
化合物は上記式Xの化合物を普通の方法において一般式 %式%[ 式中、R及びnは上記の意味を有する、のアルデヒドで
還元的にアルキル化することによシ製造することができ
る。
上記式■の化合物は一般式
(OH,)m
1
El、a−au−000HxB
(a)
式中%R6及びmは上記の意味を有し、そして(a)と
して示した炭素原子における立体配置は上記の通りであ
る、 の適当ガ化合物を一般式 %式% 式中、R%X及びnは上記の意味を有し、そしてY!は
上記のYと同一の意味を有するが、但しRがアダマンチ
ルを表わす場合1カルボニル−メチレンまたはスルフィ
ニル基を表わす、の化合物と反応させ、そしてY2がス
ルフィニル基を表わす得られる化合物をY!がスルホニ
ル基を表わす式■の対応する化合物に酸化するか、或い
は式X■の化合物を上記の如く弐刈のアルデヒドによっ
て還元的にアルキル化し1次いで保護基R1を導入する
ことにより製造することができる。
して示した炭素原子における立体配置は上記の通りであ
る、 の適当ガ化合物を一般式 %式% 式中、R%X及びnは上記の意味を有し、そしてY!は
上記のYと同一の意味を有するが、但しRがアダマンチ
ルを表わす場合1カルボニル−メチレンまたはスルフィ
ニル基を表わす、の化合物と反応させ、そしてY2がス
ルフィニル基を表わす得られる化合物をY!がスルホニ
ル基を表わす式■の対応する化合物に酸化するか、或い
は式X■の化合物を上記の如く弐刈のアルデヒドによっ
て還元的にアルキル化し1次いで保護基R1を導入する
ことにより製造することができる。
上記式■、I)(、M%M%xIIl及びX■の化合物
は公知の化合物であるか、または公知の化合物の同族体
である。
は公知の化合物であるか、または公知の化合物の同族体
である。
上記式■の化合物は例えば、上記式■の化合物をL−プ
ロリンまたはL−アラニンエステル(例えばメチルtエ
チル、tert、−ブチルまたはベンシルエステル)と
反応させ、次いでエステル保護基を開裂させて製造する
ことができる。
ロリンまたはL−アラニンエステル(例えばメチルtエ
チル、tert、−ブチルまたはベンシルエステル)と
反応させ、次いでエステル保護基を開裂させて製造する
ことができる。
上記式Xの化合物は例えば−上記式■の化合物を上記式
X1llに対応する化合物と反応させて製造することが
できるが、但しその際に、アミノ基は保護基RI′を有
し1従って次に反応生成物においてRIで表わされる保
護基を開裂させる。
X1llに対応する化合物と反応させて製造することが
できるが、但しその際に、アミノ基は保護基RI′を有
し1従って次に反応生成物においてRIで表わされる保
護基を開裂させる。
本発明によって提供される方法において出発物質として
用いる弐■の酸の反応性誘導体は公知の物質である。
用いる弐■の酸の反応性誘導体は公知の物質である。
式Iの化合物及びその製薬学的に許容し得る塩は、エラ
スターゼ様(elastase−11ke)酵素の作用
に伴う気腫(emphysema)及び関節炎(art
hritis)の如き変性疾患(degenera−t
ivθ d1θeas eθ)の処置に用いることがで
きる。また一本化合物はエラスターゼ様酵素が炎症のメ
デイエタ(med、:1ators)として作用する炎
症症状の処置に用いることができる。
スターゼ様(elastase−11ke)酵素の作用
に伴う気腫(emphysema)及び関節炎(art
hritis)の如き変性疾患(degenera−t
ivθ d1θeas eθ)の処置に用いることがで
きる。また一本化合物はエラスターゼ様酵素が炎症のメ
デイエタ(med、:1ators)として作用する炎
症症状の処置に用いることができる。
本7’)セイiJ:J、B1eth、B、Elpiee
s及びO,G、 Wermuth、 Biochem、
11(1,974)、350の方法に基くものである
。
s及びO,G、 Wermuth、 Biochem、
11(1,974)、350の方法に基くものである
。
スクシニル(A:La)、−p−ニトロアニリド(19
−メチルピロリド79125mM溶液2037− μl)を緩衝液(α2M)リスHO1%pHaO%5−
)で希釈し、37℃に加温する。ヒト顆粒球エラスター
ゼ(緩衝液20μを中4μm)を加えて反応を開始させ
、1時後氷酢*(1ooμl)を加えて反応を停止させ
る。放熱したp−ニトロアニリドを分光光度計を用いて
4tonmにおいて溶液の喋光度を測定することにより
決定する。
−メチルピロリド79125mM溶液2037− μl)を緩衝液(α2M)リスHO1%pHaO%5−
)で希釈し、37℃に加温する。ヒト顆粒球エラスター
ゼ(緩衝液20μを中4μm)を加えて反応を開始させ
、1時後氷酢*(1ooμl)を加えて反応を停止させ
る。放熱したp−ニトロアニリドを分光光度計を用いて
4tonmにおいて溶液の喋光度を測定することにより
決定する。
メタノール50μl中の本発明の化合物はヒト顆粒球エ
ラスターゼの添加前に緩衝剤を加えた基質に添加し一基
質の開炉速度を溶媒コントロールと比較する。50チ抑
制を示すのに必要な本発明の化合物の濃度を決定する。
ラスターゼの添加前に緩衝剤を加えた基質に添加し一基
質の開炉速度を溶媒コントロールと比較する。50チ抑
制を示すのに必要な本発明の化合物の濃度を決定する。
結果を下記の表に要約する。
38−
表 −(続)
最大許容投与量試験
本試験は目立った行動的効果を生じない本発明の化合物
の最大急性投与量を決定するものである。
の最大急性投与量を決定するものである。
1群5匹の雄のマウスに本発明の化合物400■/Kf
及び100〜/〜を皮下、静脈内又は腹腔内に投与する
。投与後6時間ないし24時間の間マウスを定期的に観
察する。刺激の証拠、鎮静1直立反射(rightin
g reflex)のロス、痙含、震え〜死及びその他
の目立った効果を調べる。もし効果が観察されたら1目
立った効果を示さない投与レベルを決定するため、化合
物を低い投与量で試験する。結果を目立った行動的効果
を生じない最大の投与量(η/Kt)として表わす。
及び100〜/〜を皮下、静脈内又は腹腔内に投与する
。投与後6時間ないし24時間の間マウスを定期的に観
察する。刺激の証拠、鎮静1直立反射(rightin
g reflex)のロス、痙含、震え〜死及びその他
の目立った効果を調べる。もし効果が観察されたら1目
立った効果を示さない投与レベルを決定するため、化合
物を低い投与量で試験する。結果を目立った行動的効果
を生じない最大の投与量(η/Kt)として表わす。
本発明の化合物の場合−下記の投与量で行動的効果が観
察されなかった: (t)N−(t−アダマンチルスルホニル)−N6−ス
クジニルーL−IJシルーL−7’ロリルーL40− 一パリナールを400mg/4の皮下投与量及び100
m//に4の静脈内投与量で用いた場合;(2) ”−
(1−アダマンチルエチル)−N’−スクシニル−L
−17フルーL−プロリンイソブチルアミドを50■/
Ifの腹腔内投与量で用いた場合; (3)N”雫(1−アダマンチルスルホニル)、NM−
(4−カルがキシベンゾイル) + L + IJシル
−L−アラニル−L−パリナール及びN (1−(1−
7ダマンチルスルホニル)−N’−(4−カルボキシベ
ンゾイル) −L −IJシル−L−ノロリルーL−パ
リナールをそれぞれ400my/Kgの皮下投与l、t
oo〜/qの腹腔内投与量及び100■/〜の静脈内投
与量で用いた場合。
察されなかった: (t)N−(t−アダマンチルスルホニル)−N6−ス
クジニルーL−IJシルーL−7’ロリルーL40− 一パリナールを400mg/4の皮下投与量及び100
m//に4の静脈内投与量で用いた場合;(2) ”−
(1−アダマンチルエチル)−N’−スクシニル−L
−17フルーL−プロリンイソブチルアミドを50■/
Ifの腹腔内投与量で用いた場合; (3)N”雫(1−アダマンチルスルホニル)、NM−
(4−カルがキシベンゾイル) + L + IJシル
−L−アラニル−L−パリナール及びN (1−(1−
7ダマンチルスルホニル)−N’−(4−カルボキシベ
ンゾイル) −L −IJシル−L−ノロリルーL−パ
リナールをそれぞれ400my/Kgの皮下投与l、t
oo〜/qの腹腔内投与量及び100■/〜の静脈内投
与量で用いた場合。
式Iの化合物及びその製薬学的に許容し得る塩u〜該化
合物を適合し得る製薬学的担体物質との41− 配合物として含んでなる製薬学的調製物の形態において
薬剤として用いることができる。この担体物質は経&h
または非経腸投与に適する有機または無機性担体物質〜
例えば水、ラクトース、殿粉tステアリン酸マグネシウ
ム、メルク、アラビアゴム1ゼラチン〜ポリアルキレン
グリコール、黄色ワセリン等であることができる。製薬
学的調製物は固体の形態(例えば錠剤−糖衣丸、生薬、
カプセル剤等)或いは液体の形態(例えば溶液、乳液〜
懸濁液等)にすることができる、しかし々から〜製薬学
的調製物は1好ましくは噴射基剤に加えて、有利にはエ
タノールの如き溶媒を含有するエアロゾルの形態におい
て提供される。
合物を適合し得る製薬学的担体物質との41− 配合物として含んでなる製薬学的調製物の形態において
薬剤として用いることができる。この担体物質は経&h
または非経腸投与に適する有機または無機性担体物質〜
例えば水、ラクトース、殿粉tステアリン酸マグネシウ
ム、メルク、アラビアゴム1ゼラチン〜ポリアルキレン
グリコール、黄色ワセリン等であることができる。製薬
学的調製物は固体の形態(例えば錠剤−糖衣丸、生薬、
カプセル剤等)或いは液体の形態(例えば溶液、乳液〜
懸濁液等)にすることができる、しかし々から〜製薬学
的調製物は1好ましくは噴射基剤に加えて、有利にはエ
タノールの如き溶媒を含有するエアロゾルの形態におい
て提供される。
必要に応じて、本発明によって提供される製薬学的調製
物は普通の製薬学的操作1例えは無蘭化(steril
ization)等に付すルコとか−cき1そしてまた
該調製物には普通の製薬学的補助剤、例えば保存剤1安
定剤%湿潤剤を浸透圧を変えるための塩等を含ませるこ
とができる。また本製薬学的調製物には他の治療的に価
値ある物質を含ませることができる。
物は普通の製薬学的操作1例えは無蘭化(steril
ization)等に付すルコとか−cき1そしてまた
該調製物には普通の製薬学的補助剤、例えば保存剤1安
定剤%湿潤剤を浸透圧を変えるための塩等を含ませるこ
とができる。また本製薬学的調製物には他の治療的に価
値ある物質を含ませることができる。
本発明によって提供される製薬学的調製物は、式Iの化
合物捷たはその製剤上許容し得る塩を適合し得る#!薬
学的担体物質と混合し、得られる混合物を所望の製薬学
的投与形態にすることによって製造することができる。
合物捷たはその製剤上許容し得る塩を適合し得る#!薬
学的担体物質と混合し、得られる混合物を所望の製薬学
的投与形態にすることによって製造することができる。
弐Iの化合物及びその製薬学的に許容し得る塩を成人に
対して1日当り約5η〜30■、好ましくは約10■〜
15■の投薬量範囲で投与することができる。勿論1こ
の投薬量範囲は単なる例として示したものであり、投与
する特定の化合物、処置する特定の症状及び医師によっ
て決定される如き患者の個々の必要性の如き因子に応じ
て投薬量範囲を上下に変え得ることが理解されよう。
対して1日当り約5η〜30■、好ましくは約10■〜
15■の投薬量範囲で投与することができる。勿論1こ
の投薬量範囲は単なる例として示したものであり、投与
する特定の化合物、処置する特定の症状及び医師によっ
て決定される如き患者の個々の必要性の如き因子に応じ
て投薬量範囲を上下に変え得ることが理解されよう。
以下の実施例は本発明を説明するものである。
生成物の構造式はNMR分光学及び質量分光学によって
確認したわ 44一 実施例1 (4) エタノール30m1及びヒドラソン水和物0、
94 me中ノNα−(1〜アダマンチルスルホニル)
−N6−フタロイル−L−リシル−L−プロリル−L−
バリナールジメチルアセタール4.55 、!i’(0
,0065モル)を室温で16時間攪拌した。
確認したわ 44一 実施例1 (4) エタノール30m1及びヒドラソン水和物0、
94 me中ノNα−(1〜アダマンチルスルホニル)
−N6−フタロイル−L−リシル−L−プロリル−L−
バリナールジメチルアセタール4.55 、!i’(0
,0065モル)を室温で16時間攪拌した。
この溶液を濾過し、P液を蒸発させた。エタノール各2
0m1と共に2回蒸発させて、残渣からヒドラヅン水和
物の痕跡量を除去した。次に残渣をエタノールに溶屏し
、#酸0.9 mlを加え、この溶液f20分間攪拌し
た。溶媒を蒸発によって除去し、痩渣中の痕跡量の酢酸
をエタノール各201uと共に3回蒸発させて除去した
。残渣をクロロホルム201iJに採り入れ、このii
′fo℃で0.5時間保存し、沢過し、P液f蒸発させ
て泡状物を得た。
0m1と共に2回蒸発させて、残渣からヒドラヅン水和
物の痕跡量を除去した。次に残渣をエタノールに溶屏し
、#酸0.9 mlを加え、この溶液f20分間攪拌し
た。溶媒を蒸発によって除去し、痩渣中の痕跡量の酢酸
をエタノール各201uと共に3回蒸発させて除去した
。残渣をクロロホルム201iJに採り入れ、このii
′fo℃で0.5時間保存し、沢過し、P液f蒸発させ
て泡状物を得た。
この泡状物をテトラヒドロフラン15m1に採す入れ、
この溶液をトリエチルアミン2.76 ml (0,0
195−45− モル)及びコハク酸無水物1.311 (0,013モ
ル)で処理し、この混合物を室温で16時間放置した。
この溶液をトリエチルアミン2.76 ml (0,0
195−45− モル)及びコハク酸無水物1.311 (0,013モ
ル)で処理し、この混合物を室温で16時間放置した。
浴奴を蒸発によって除去し、残置を酢酸エチル/′dr
炭酸す) IJウム浴液に溶解した。水層を分離し、酢
酸エチルで抽出し、希端酸でpH値3〜4の酸性にした
。生成物をクロロホルム各201で3回抽出した。クロ
ロホルム抽出液を一水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、そして蒸発させ、泡状物としてNα−(1−ア
ダマンチルスルホニル)−、?V −スクシニル−L−
リシル−L−プロリル−L−パリナールジメチルアセク
ール3.9.V(89係)を得た。Rf値〔クロロホル
ム/メタノール/酢酸エチル/水(12011513+
2)]+1.52゜ (ロ) アセトン25 ml中のN −(1−アダマン
チルスルボニル)−N −スクシニル−1,−+)シル
ーL−ゾロリルーL−バリナールツメチルアセタール0
.46.9(0,69モル)を室温にて16時間、トル
エン−4−スルホン酸0.14.9で処理した。溶媒′
ft蒸発1・ζよって除去し、残渣をクロロホルム7
tri K 浴解し、この溶液を水で洗浄1/、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、蒸発させて泡状物を得た。シリ
カクー゛ル60g士で、溶離剤としてクロロホルム/メ
タノール/酢酸エチル/水(120+151312)l
用いてクロマトグラフィーにかけ、次に酢酸エチル/水
(1+4)から凍結乾燥し、N −(1−アダマンチル
スルホニル’)−N’−スクシニル−L−+)シルーL
−ゾロリルーL−パリナール0.13.9(30%)を
得た。Rf値〔クロロホルム/メタノール/酢酸エチル
/水(120+15:3+2)):0.32i[α〕に
=−41,8° (C=0.25.50係酢酸中)。
炭酸す) IJウム浴液に溶解した。水層を分離し、酢
酸エチルで抽出し、希端酸でpH値3〜4の酸性にした
。生成物をクロロホルム各201で3回抽出した。クロ
ロホルム抽出液を一水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で
乾燥し、そして蒸発させ、泡状物としてNα−(1−ア
ダマンチルスルホニル)−、?V −スクシニル−L−
リシル−L−プロリル−L−パリナールジメチルアセク
ール3.9.V(89係)を得た。Rf値〔クロロホル
ム/メタノール/酢酸エチル/水(12011513+
2)]+1.52゜ (ロ) アセトン25 ml中のN −(1−アダマン
チルスルボニル)−N −スクシニル−1,−+)シル
ーL−ゾロリルーL−バリナールツメチルアセタール0
.46.9(0,69モル)を室温にて16時間、トル
エン−4−スルホン酸0.14.9で処理した。溶媒′
ft蒸発1・ζよって除去し、残渣をクロロホルム7
tri K 浴解し、この溶液を水で洗浄1/、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、蒸発させて泡状物を得た。シリ
カクー゛ル60g士で、溶離剤としてクロロホルム/メ
タノール/酢酸エチル/水(120+151312)l
用いてクロマトグラフィーにかけ、次に酢酸エチル/水
(1+4)から凍結乾燥し、N −(1−アダマンチル
スルホニル’)−N’−スクシニル−L−+)シルーL
−ゾロリルーL−パリナール0.13.9(30%)を
得た。Rf値〔クロロホルム/メタノール/酢酸エチル
/水(120+15:3+2)):0.32i[α〕に
=−41,8° (C=0.25.50係酢酸中)。
元素分析: C3QIf48N、08S (624,8
0)に対する 計算値+C+58.29+H+7.891#+8.77
%実測値IC+56.201B+7.62+7Vi8.
54%C: 56.231H17,75+N+ 8.5
2係(H,00,5モル及びCH,C0OH0,4モル
を含む〕。
0)に対する 計算値+C+58.29+H+7.891#+8.77
%実測値IC+56.201B+7.62+7Vi8.
54%C: 56.231H17,75+N+ 8.5
2係(H,00,5モル及びCH,C0OH0,4モル
を含む〕。
節(4)において出発C吻質として用いたN−(1−ア
ダマンチルスルホニル)−N −7タロイルーL−リシ
ル−L−ゾロリルー27− /(リナールソメチルアセ
タールは次の如くして製造した富(α)N−ペンツルオ
キシカルがニル−J、 −tz IJナール22.89
(0,09モル)を乾燥メタノール55m1に溶解し
た。この溶液をトリメチルオルトホルメート10.8
# (0,102モル)及びトルエン−4−スルホン酸
0.3 gで処理し、この混合物を室温で16時間放置
した。溶媒を蒸発によって除去し、残渣を酢酸エチル1
501に溶解し、この溶液を5%重炭酸ナトリウム溶液
、次に塩水で−48− 洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾燥1〜、そして流過
した後、溶媒を蒸発によって除去し、油とし−CN−ペ
ンツルオキシカルざニルーL−パリナルジメチルアセタ
ール24.5.9(90%)を得た。
ダマンチルスルホニル)−N −7タロイルーL−リシ
ル−L−ゾロリルー27− /(リナールソメチルアセ
タールは次の如くして製造した富(α)N−ペンツルオ
キシカルがニル−J、 −tz IJナール22.89
(0,09モル)を乾燥メタノール55m1に溶解し
た。この溶液をトリメチルオルトホルメート10.8
# (0,102モル)及びトルエン−4−スルホン酸
0.3 gで処理し、この混合物を室温で16時間放置
した。溶媒を蒸発によって除去し、残渣を酢酸エチル1
501に溶解し、この溶液を5%重炭酸ナトリウム溶液
、次に塩水で−48− 洗浄した。硫酸マグネシウム上で乾燥1〜、そして流過
した後、溶媒を蒸発によって除去し、油とし−CN−ペ
ンツルオキシカルざニルーL−パリナルジメチルアセタ
ール24.5.9(90%)を得た。
Rf値〔ヘキサン/酢酸エチル(2+1))+0.69
゜ (6) N−ペンツルオキシカルがニルーL−パリナー
ルツメチルアセタール24.5.9 (’ 0.087
モル)をメタノール200ゴに溶解し、この溶液を5係
teラジウム/炭素0,5gの存在下において2時間氷
菓添加した。触媒を流過によって除去した後、溶媒を蒸
発によって除去し、残渣をジクロロメタン2501RI
に溶解した。この溶液を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。次に溶液を一20℃に冷却し、N−ペ
ンツルオキシカルボニル−L−プロリン21.81i(
o、os7モル)、続いてN、N’−ジシクロへキシル
カルがソイミド−49− 19.8g(0,096モル)を〃1jえた。この溶液
を一20℃で2時間攪拌し、4℃で64時間放tit
[yだ。分離した#、7V’−ジシクロへキシルウレア
を戸別し、ろ液を蒸発させた。残渣を酢酸エチルに採シ
入れ、この溶液を重炭酸す) IJウム溶液及び均水で
洗浄し、硫酸マグネシウム士で乾燥し、蒸発させて油を
得た。生成物をシリカケ゛ル250g上で、溶離剤とし
て酢酸エチル/ヘキサン(111)を用いてり四マドグ
ラフィーによって精製した。溶液の蒸発により、N−ペ
ンツルオキシカル、Ifニル−L−プロリル−L−パリ
ナールツメチルアセタール21.9.9(67%)を得
たHRf値(酢酸エチル!0.63゜ (c) N−ペンヅルオキシ力ルボニルーL−プロリル
−L−パリナールジメチルアセタール6.059(0,
016モル)fメタン−#60au[溶解し、この溶液
を5係パラジウム/炭g o、 2511 (D存在下
において4時間水素冷加した。触媒を瀘過によって除去
した後、浴媒介蒸発によって除去し、残渣から、トルエ
ン谷20rLlと共に2回蒸発させて、痕跡量のメタノ
ールを除去した。ジクロロメタン30ゴ中のこの残渣の
溶液を一20℃に冷却し、α N−(1−アダマンチルスルホニル)−N−フタロイル
−L−リジン6.9.9(0,0146モル)、次にN
、N’−ヅシクロへキシルカルがジイミド3.36&(
0,016モル)を加えた。この混合物を一20℃で2
時間攪拌し、4℃で16時間放置した。分離した#、N
’−ソシクロヘキシルウレアを戸別し、F液を重炭酸す
) IJウム溶液及び塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、蒸発させて油を得た。生成物をシリカダル
100g上で、溶離剤としてヘキサン/酢酸エチル(4
11)、次にヘキサン/酢酸エチル(1+3)を用いて
クロマトグラフィーによって精製した。溶媒の蒸発によ
り、Nα−(1−アダマンチルスルホニル)−N6−フ
タロイル−L−リシル−L−プロリル−L−パリナール
ジメチルアセタール5.5.!i’(54係)ft得た
;lビf値(酢酸エチル)+0.57゜元素分析I C
,Hs、N、OlS (700,90)に対する 計算値+G:61.691+7.48s#ニア、99係
実測値1(、’+61.48+Hニア、351#17.
91%m<c>に用いたN −(1−アダマンチルスル
ホニル)−N −フタロイル−L−リジンは次の如くし
て製造した: (α) N −フタロイル−L−リジン27.0 Ii
′(0,098モル)fツメチルホルムアミド500y
ilに懸濁すせた。N−エチルモルホリン297d(0
,235モル)及びl−アダマンタン−スルフィニルク
ロライド32.2.9 (0,147モル)ヲ加え、こ
の混合物f室温で16時間攪拌した。溶媒−52− (c−蒸発によって除去し、残渣全酢酸エチル15%算
炭酸ナトリウム溶液に溶削−した。水層を酢酸エチルで
抽出し、次に濃塩酸でpHH2O敵性にした。油状生成
物を酢酸エチルで抽出し、その際に一部生成物が晶出し
た。固体外(即ち1つのノアステレオ異性体)全炉別し
、水及びジエチルエーテルで洗浄し、真空下で乾燥した
。酢酸エチル溶液を水及び均水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、そして蒸発乾固させた。ジエチルエー
テルと共KO℃で】6時間砕解して固体が得られ、この
ものを戸別し、ジエチルエーテルで洗浄し、真空下で乾
燥した。生じた固体を上記の如くして得られた固体と合
わせ、ノアステレオ異性体の混合物としてNα−(1−
アダマンチルスルフィニル)−N −フタロイル−L−
リジン27.2 #(61%)′fr得た。Rf値〔メ
タノール/りo。
゜ (6) N−ペンツルオキシカルがニルーL−パリナー
ルツメチルアセタール24.5.9 (’ 0.087
モル)をメタノール200ゴに溶解し、この溶液を5係
teラジウム/炭素0,5gの存在下において2時間氷
菓添加した。触媒を流過によって除去した後、溶媒を蒸
発によって除去し、残渣をジクロロメタン2501RI
に溶解した。この溶液を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥した。次に溶液を一20℃に冷却し、N−ペ
ンツルオキシカルボニル−L−プロリン21.81i(
o、os7モル)、続いてN、N’−ジシクロへキシル
カルがソイミド−49− 19.8g(0,096モル)を〃1jえた。この溶液
を一20℃で2時間攪拌し、4℃で64時間放tit
[yだ。分離した#、7V’−ジシクロへキシルウレア
を戸別し、ろ液を蒸発させた。残渣を酢酸エチルに採シ
入れ、この溶液を重炭酸す) IJウム溶液及び均水で
洗浄し、硫酸マグネシウム士で乾燥し、蒸発させて油を
得た。生成物をシリカケ゛ル250g上で、溶離剤とし
て酢酸エチル/ヘキサン(111)を用いてり四マドグ
ラフィーによって精製した。溶液の蒸発により、N−ペ
ンツルオキシカル、Ifニル−L−プロリル−L−パリ
ナールツメチルアセタール21.9.9(67%)を得
たHRf値(酢酸エチル!0.63゜ (c) N−ペンヅルオキシ力ルボニルーL−プロリル
−L−パリナールジメチルアセタール6.059(0,
016モル)fメタン−#60au[溶解し、この溶液
を5係パラジウム/炭g o、 2511 (D存在下
において4時間水素冷加した。触媒を瀘過によって除去
した後、浴媒介蒸発によって除去し、残渣から、トルエ
ン谷20rLlと共に2回蒸発させて、痕跡量のメタノ
ールを除去した。ジクロロメタン30ゴ中のこの残渣の
溶液を一20℃に冷却し、α N−(1−アダマンチルスルホニル)−N−フタロイル
−L−リジン6.9.9(0,0146モル)、次にN
、N’−ヅシクロへキシルカルがジイミド3.36&(
0,016モル)を加えた。この混合物を一20℃で2
時間攪拌し、4℃で16時間放置した。分離した#、N
’−ソシクロヘキシルウレアを戸別し、F液を重炭酸す
) IJウム溶液及び塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、蒸発させて油を得た。生成物をシリカダル
100g上で、溶離剤としてヘキサン/酢酸エチル(4
11)、次にヘキサン/酢酸エチル(1+3)を用いて
クロマトグラフィーによって精製した。溶媒の蒸発によ
り、Nα−(1−アダマンチルスルホニル)−N6−フ
タロイル−L−リシル−L−プロリル−L−パリナール
ジメチルアセタール5.5.!i’(54係)ft得た
;lビf値(酢酸エチル)+0.57゜元素分析I C
,Hs、N、OlS (700,90)に対する 計算値+G:61.691+7.48s#ニア、99係
実測値1(、’+61.48+Hニア、351#17.
91%m<c>に用いたN −(1−アダマンチルスル
ホニル)−N −フタロイル−L−リジンは次の如くし
て製造した: (α) N −フタロイル−L−リジン27.0 Ii
′(0,098モル)fツメチルホルムアミド500y
ilに懸濁すせた。N−エチルモルホリン297d(0
,235モル)及びl−アダマンタン−スルフィニルク
ロライド32.2.9 (0,147モル)ヲ加え、こ
の混合物f室温で16時間攪拌した。溶媒−52− (c−蒸発によって除去し、残渣全酢酸エチル15%算
炭酸ナトリウム溶液に溶削−した。水層を酢酸エチルで
抽出し、次に濃塩酸でpHH2O敵性にした。油状生成
物を酢酸エチルで抽出し、その際に一部生成物が晶出し
た。固体外(即ち1つのノアステレオ異性体)全炉別し
、水及びジエチルエーテルで洗浄し、真空下で乾燥した
。酢酸エチル溶液を水及び均水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、そして蒸発乾固させた。ジエチルエー
テルと共KO℃で】6時間砕解して固体が得られ、この
ものを戸別し、ジエチルエーテルで洗浄し、真空下で乾
燥した。生じた固体を上記の如くして得られた固体と合
わせ、ノアステレオ異性体の混合物としてNα−(1−
アダマンチルスルフィニル)−N −フタロイル−L−
リジン27.2 #(61%)′fr得た。Rf値〔メ
タノール/りo。
ホルム(1+9)]10.53及び0.27゜−53−
α
(b)氷酢酸20 Otnl中のN−(1−アダマンチ
ルスルフィニル)−N −7タロイルーL−I7ゾン2
7.2.9 (0,059モル)を65℃にて30チ(
wt/vow’)過酸化水素溶液27111で2時間処
理した。この溶液を室温に冷却し、水1.51に注ぎ、
生成物を酢酸エチル200 tnlで2回抽出した。
ルスルフィニル)−N −7タロイルーL−I7ゾン2
7.2.9 (0,059モル)を65℃にて30チ(
wt/vow’)過酸化水素溶液27111で2時間処
理した。この溶液を室温に冷却し、水1.51に注ぎ、
生成物を酢酸エチル200 tnlで2回抽出した。
有機溶液ケ水1001で3回及び塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、蒸発させて油を得た。最後の痕
跡匍の酢酸を、トルエン各501と共に2回蒸発させて
除去した。高真空下で乾燥し、α 白色泡状物としてN −CX−アダマンチルスルホニル
)−N −フタロイル−L−リジン21.7g(78%
)を得たgRf値〔メタノール/クロロホルム(1+1
9)]:0.57蟇〔α〕にニー14.8° (c=1
%、ツメチルホルムアミド中〕。
グネシウム上で乾燥し、蒸発させて油を得た。最後の痕
跡匍の酢酸を、トルエン各501と共に2回蒸発させて
除去した。高真空下で乾燥し、α 白色泡状物としてN −CX−アダマンチルスルホニル
)−N −フタロイル−L−リジン21.7g(78%
)を得たgRf値〔メタノール/クロロホルム(1+1
9)]:0.57蟇〔α〕にニー14.8° (c=1
%、ツメチルホルムアミド中〕。
元素分析rc、、HSO夙0.S (474,6)に対
する 54− 計算値rc: 60.74 rH+ 6.371Ng
5.901央測値:Cr2O,19+H16,29iN
客5.991#、O11,42%。
する 54− 計算値rc: 60.74 rH+ 6.371Ng
5.901央測値:Cr2O,19+H16,29iN
客5.991#、O11,42%。
無水?Cl61.05;H16,21;NI6.07%
実施例2 (4)Na−(1−アダマンチルエチル)−Nα−ペン
ヅルオキシカルメニルーN −テトラブトキシカルボニ
ル−L−リシル−L−プロリンイソブチルアミド2.4
、!il (0,0034モル)全室温にて酢酸エチ
ル中の4M塩化水索iom″′cO,5時間処理1−だ
。乾燥ジエチルエーテルを加え、得られた白色固体をジ
エチルエーテルで洗浄し、フラスコ中にて回転蒸発機で
乾燥した。ツメチルホルムアミド中の固体の浴液fN−
エチルモルホリ/でpH値8に特節し、コハクl!l1
II無水物0.689(0,0068モル)を加え、生
じた溶液のpH値をN−エチルモルホリンの滴下によっ
て8に2時−55= 間保持した。溶媒を蒸発によって除去し、残渣を酢酸エ
チル/水性塩酸(pH値3)に溶解した。
実施例2 (4)Na−(1−アダマンチルエチル)−Nα−ペン
ヅルオキシカルメニルーN −テトラブトキシカルボニ
ル−L−リシル−L−プロリンイソブチルアミド2.4
、!il (0,0034モル)全室温にて酢酸エチ
ル中の4M塩化水索iom″′cO,5時間処理1−だ
。乾燥ジエチルエーテルを加え、得られた白色固体をジ
エチルエーテルで洗浄し、フラスコ中にて回転蒸発機で
乾燥した。ツメチルホルムアミド中の固体の浴液fN−
エチルモルホリ/でpH値8に特節し、コハクl!l1
II無水物0.689(0,0068モル)を加え、生
じた溶液のpH値をN−エチルモルホリンの滴下によっ
て8に2時−55= 間保持した。溶媒を蒸発によって除去し、残渣を酢酸エ
チル/水性塩酸(pH値3)に溶解した。
有機j―を水で洗浄し、生成物f5%重炭醪ナトリウム
溶液各50罰で2回抽出し、これらの溶液を合液し、2
M塩酸でpH値3に調節した。生成物全酢酸エチル各5
011jで2回抽出し、これを合液し、水で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥した。
溶液各50罰で2回抽出し、これらの溶液を合液し、2
M塩酸でpH値3に調節した。生成物全酢酸エチル各5
011jで2回抽出し、これを合液し、水で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥した。
α
溶媒の蒸発により、泡状物としてN −(1−アα
ダマンチルエチル)−N −ペンヅルオキシ力ル?ニル
ーN−スクシニル−L−リシル−L−プロリンイソブチ
ルアミド2.o#(gs%)f得た。
ーN−スクシニル−L−リシル−L−プロリンイソブチ
ルアミド2.o#(gs%)f得た。
元素分析+ C,、H,、N40.1 (694,92
”)に対する計算値+C+67.41+R18,41;
7V!8.06係実測値IC+ 67.061 Hs
8.24 T N g 7−74 ’Aα (p)N−(1−アダマンチルエチル)−Nα−ペンツ
ルオキシカルボニル−N −スクシニル−L−リシル−
L−プロリンイソブチルアミド−56− 2、09(0,0029モル)をメタノール50vrl
に溶解し、この溶液を5チパラゾウム/炭素0.2gの
存在下において3時間水素添加した。触媒eF別し、ろ
液を蒸発させ、泡状物としてN(t−(1−アダマンチ
ルエチル3−#’−スクシニルーL−リシルーL−プロ
リンイソブチルアミド1.611(98%)を得た;[
α] ”D ;47.2 ’ (c =1、メタノール
中)。
”)に対する計算値+C+67.41+R18,41;
7V!8.06係実測値IC+ 67.061 Hs
8.24 T N g 7−74 ’Aα (p)N−(1−アダマンチルエチル)−Nα−ペンツ
ルオキシカルボニル−N −スクシニル−L−リシル−
L−プロリンイソブチルアミド−56− 2、09(0,0029モル)をメタノール50vrl
に溶解し、この溶液を5チパラゾウム/炭素0.2gの
存在下において3時間水素添加した。触媒eF別し、ろ
液を蒸発させ、泡状物としてN(t−(1−アダマンチ
ルエチル3−#’−スクシニルーL−リシルーL−プロ
リンイソブチルアミド1.611(98%)を得た;[
α] ”D ;47.2 ’ (c =1、メタノール
中)。
元素分析;C11Hエフ111401(560,78)
に対する計算値tc IO2,405lit 9.35
rN+ 9.99%実測値+Cl66.521B:9
.09i#+9.80%m(4)において出発物質とし
て用いたNa−(tα −アダマンチルエチル)−N −ベンジルオキシカルが
二に−N −tart、−ブトキシカルがニルーL−リ
シルーL−プロリンイソブチルアミドは次の如くして製
造した富 (α)N−ペンソルオキシ力ルゲニルーL−プ四 57
一 リン35.69 (0,143モル)をテトラヒドロフ
ラン200 rtrlに溶解し、この溶液を一20°C
に冷却シタ。N−エチルモルホリン18.11117(
0,143モル)及びイソプチルクロロホルメー)18
.6mJ(0,143モル)を加え、この混合物全一2
0℃で4分間攪拌した。イソブチルアミン14.2 m
l(0,143モル)を加え、この混合物fθ℃で2時
間及び室温で16時間攪拌した。治媒を蒸発によって除
去し、残fEを酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を
5係クエン酸浴液、水、5%重炭酸ナトリウム溶液及び
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸
発させた。残った油を石油エーテル(40〜60℃)と
共に砕解し、融点84〜85℃のN−ペンツルオキシカ
ルがニルーL−プロリルイソブチルアミド31.1 g
(72%)’(i=−得た;〔α〕弔=−53,2°(
C=1.メタノール中)。
に対する計算値tc IO2,405lit 9.35
rN+ 9.99%実測値+Cl66.521B:9
.09i#+9.80%m(4)において出発物質とし
て用いたNa−(tα −アダマンチルエチル)−N −ベンジルオキシカルが
二に−N −tart、−ブトキシカルがニルーL−リ
シルーL−プロリンイソブチルアミドは次の如くして製
造した富 (α)N−ペンソルオキシ力ルゲニルーL−プ四 57
一 リン35.69 (0,143モル)をテトラヒドロフ
ラン200 rtrlに溶解し、この溶液を一20°C
に冷却シタ。N−エチルモルホリン18.11117(
0,143モル)及びイソプチルクロロホルメー)18
.6mJ(0,143モル)を加え、この混合物全一2
0℃で4分間攪拌した。イソブチルアミン14.2 m
l(0,143モル)を加え、この混合物fθ℃で2時
間及び室温で16時間攪拌した。治媒を蒸発によって除
去し、残fEを酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を
5係クエン酸浴液、水、5%重炭酸ナトリウム溶液及び
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸
発させた。残った油を石油エーテル(40〜60℃)と
共に砕解し、融点84〜85℃のN−ペンツルオキシカ
ルがニルーL−プロリルイソブチルアミド31.1 g
(72%)’(i=−得た;〔α〕弔=−53,2°(
C=1.メタノール中)。
−58−
元素分析+C,,EuN、 O,(304,39)に対
する 計算値+C+67.08+H+7.95+#+9.20
係実測値1G+66.92iHズ7.92 rN +
9.07%(b) N−ペンツルオキシカルがニルーL
−プロリンイソブチルアミド31.1 g(0,102
モル)をツメチルホルムアミド300mに溶解し、この
溶液を5係ノぐラジウム/炭素の存在下に」、−いて1
6社間水素添加した。濾過によって触媒を除去した後、
炉液を0℃に冷却した。ツメチルホルムアミド2501
nlに溶解したNCt−ペンツルオキシα カルボニル−N −tart、−プトキシカルゴニルー
L−リソンN−ヒドロキシコハク酸イミドエステル49
.1 g(o、 t o 1モル)を加え、この混合物
を0℃で1時間及び室温で16時間攪拌した。
する 計算値+C+67.08+H+7.95+#+9.20
係実測値1G+66.92iHズ7.92 rN +
9.07%(b) N−ペンツルオキシカルがニルーL
−プロリンイソブチルアミド31.1 g(0,102
モル)をツメチルホルムアミド300mに溶解し、この
溶液を5係ノぐラジウム/炭素の存在下に」、−いて1
6社間水素添加した。濾過によって触媒を除去した後、
炉液を0℃に冷却した。ツメチルホルムアミド2501
nlに溶解したNCt−ペンツルオキシα カルボニル−N −tart、−プトキシカルゴニルー
L−リソンN−ヒドロキシコハク酸イミドエステル49
.1 g(o、 t o 1モル)を加え、この混合物
を0℃で1時間及び室温で16時間攪拌した。
溶媒を蒸発除去し、残液を酢酸エチル15qbクエン酸
溶液に溶解した。有機層を水、5%重炭肢ナ59− トリウム沼5液及び1遍水で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、そして蒸発させた。残渣をソエチルエーテ
ル/石油エーテルから結晶化させ、融点105〜107
℃のNα−ベンジルオキシカルボニル−N −tllr
t、−ブトキシカルがニルーL−リシルーL−プロリン
イソブチルアミド3649(57係)を得た。
溶液に溶解した。有機層を水、5%重炭肢ナ59− トリウム沼5液及び1遍水で洗浄し、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、そして蒸発させた。残渣をソエチルエーテ
ル/石油エーテルから結晶化させ、融点105〜107
℃のNα−ベンジルオキシカルボニル−N −tllr
t、−ブトキシカルがニルーL−リシルーL−プロリン
イソブチルアミド3649(57係)を得た。
α
(C) メタノールlQQ*/中のN −ペンツルオキ
シカルボニルーN−1gτt、−ブトキシカルがニルー
L−リシルーL−プロリンイソブチルアミド6.3.9
(0,012モル)の溶液を5%パラゾウム/炭素0.
6.9の存在下において3時間水素添加した。メタノー
ル5ゴ中のアダマンタンアセトアルデヒド2.2F(0
,012モル)の溶液fセプタム・キャブ(saptu
rn cap)を介して加え、水素添加を16時間続け
た。触媒を炉別し、P液を蒸発サセタ。ソエチルエーテ
ル7011j中の残渣の溶液60− を重炭酸カリウム2.511C0,025モル)を含む
水60IIIIVで処理した。ペンツルクロロホルメー
ト1.85mtC0,023モル)を加え、混合物を1
時間はげしく攪拌した。有機溶液を分離し、5係クエン
酸溶液、水、5係重炭酸すl−IJウム溶液及び塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させ、泡状
物を得た。シリカク゛ル15ofI上で、n−ヘキサン
/酢酸エチル(2tl)e用いてクロマトグラフィーに
かけ、泡状物としてN“−(l−アダマンチルエチル)
−N −ペンツルオキシカルボニル−N −1arら一
ブトキシカルがニルーL−リシルーL−プロリンイソブ
チルアミド4.4.9(53%)を得た;Rf値〔n−
ヘキサン/酢酸エチル(2+1)〕+0.49゜実施例
3 (4) N −(6,6−シタチルビシクロ[3,1゜
1]ヘプチルエチル)−N −ベンジルオキシカー 6
1− ルヴニルーN −tart、−ブトキシカル?ニルーL
−リシル−L−プロリンイソブチルアミド3.8、!i
’(0,0056モル)を酢酸x −y−/175mg
に溶解し、この溶液を室温にて酢酸エチル中の4 M塩
化水素酸10m1で50分間処理した。乾燥ジエチルエ
ーテルを加え、分離した固体分をヅエチルエーテルで洗
浄し、真空下で乾燥した。次にこの固体をツメチルホル
ムアミド25mgに溶解し、溶液を0℃に冷却し、N−
エチルモルホリンで中和した。ya−tert、−プト
ギシ力ルボニルーL−グルタミン酸α−tart、−ブ
チルγ−N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル2.2
g(0,0055モル)を加え、この混合物を室温で1
6時間放置した。溶媒を蒸発除去し、残渣を酢酸エチル
/水に溶解した。
シカルボニルーN−1gτt、−ブトキシカルがニルー
L−リシルーL−プロリンイソブチルアミド6.3.9
(0,012モル)の溶液を5%パラゾウム/炭素0.
6.9の存在下において3時間水素添加した。メタノー
ル5ゴ中のアダマンタンアセトアルデヒド2.2F(0
,012モル)の溶液fセプタム・キャブ(saptu
rn cap)を介して加え、水素添加を16時間続け
た。触媒を炉別し、P液を蒸発サセタ。ソエチルエーテ
ル7011j中の残渣の溶液60− を重炭酸カリウム2.511C0,025モル)を含む
水60IIIIVで処理した。ペンツルクロロホルメー
ト1.85mtC0,023モル)を加え、混合物を1
時間はげしく攪拌した。有機溶液を分離し、5係クエン
酸溶液、水、5係重炭酸すl−IJウム溶液及び塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させ、泡状
物を得た。シリカク゛ル15ofI上で、n−ヘキサン
/酢酸エチル(2tl)e用いてクロマトグラフィーに
かけ、泡状物としてN“−(l−アダマンチルエチル)
−N −ペンツルオキシカルボニル−N −1arら一
ブトキシカルがニルーL−リシルーL−プロリンイソブ
チルアミド4.4.9(53%)を得た;Rf値〔n−
ヘキサン/酢酸エチル(2+1)〕+0.49゜実施例
3 (4) N −(6,6−シタチルビシクロ[3,1゜
1]ヘプチルエチル)−N −ベンジルオキシカー 6
1− ルヴニルーN −tart、−ブトキシカル?ニルーL
−リシル−L−プロリンイソブチルアミド3.8、!i
’(0,0056モル)を酢酸x −y−/175mg
に溶解し、この溶液を室温にて酢酸エチル中の4 M塩
化水素酸10m1で50分間処理した。乾燥ジエチルエ
ーテルを加え、分離した固体分をヅエチルエーテルで洗
浄し、真空下で乾燥した。次にこの固体をツメチルホル
ムアミド25mgに溶解し、溶液を0℃に冷却し、N−
エチルモルホリンで中和した。ya−tert、−プト
ギシ力ルボニルーL−グルタミン酸α−tart、−ブ
チルγ−N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル2.2
g(0,0055モル)を加え、この混合物を室温で1
6時間放置した。溶媒を蒸発除去し、残渣を酢酸エチル
/水に溶解した。
有機鳩ケ5循クエン酸溶液、水、5係重炭酸ナトリウム
溶液及び塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
蒸発させ、泡初物島・得た。シリカケ′ル150!i上
で、溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフィ
ーにかけ、泡状物としてNCt−(6’、 6−ヅメチ
ルビシクロ[3,1,1]ヘプチルエチル)−N −ベ
ンジルオキシカルボニル−N −(N−tart、−ブ
トキシカルgニルーL−グルタミル−α−tert、−
ブチルエステル)−L−リシル−L−プロリンイソブチ
ルアミド2.75g(57%)を得た。
溶液及び塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
蒸発させ、泡初物島・得た。シリカケ′ル150!i上
で、溶離剤として酢酸エチルを用いてクロマトグラフィ
ーにかけ、泡状物としてNCt−(6’、 6−ヅメチ
ルビシクロ[3,1,1]ヘプチルエチル)−N −ベ
ンジルオキシカルボニル−N −(N−tart、−ブ
トキシカルgニルーL−グルタミル−α−tert、−
ブチルエステル)−L−リシル−L−プロリンイソブチ
ルアミド2.75g(57%)を得た。
元素分析” 4iH2yNs Oo (868,13)
に対する 計算値+ に’ : 66.41 i H18,941
N + 8.07%笑測値:C:66.61;Ii:B
、B5+N+816%■ N −(6,6−ヅメチルビ
シクロ(a、 1゜1〕ヘプチルエチル)−N −ペン
ツルオキシカルボニル−N −(N−tcrt、−プト
キシ力ルビ=ルーJ、−yルタミルーα−tert、−
ブチルエステル)−L−リシル−L−プロリンイソブチ
ルアミド1.0.1i’(0,0012モル)を酢酸I
I++7に溶解し、酢酸中の45%臭化水素氷菓を加え
、この混合物を室温で0.5賎間攪拌した。乾燥ヅエチ
ルエーテルを加え、分離した白色h1体をソエチルエー
テルで洗浄し、具伊下で乾燥し、融点198〜201℃
のN −(6,6−ヅメチルビシクロ[a、 1.1
]ヘプチルエチル)−N’−(γ−グルタミル)4−リ
シル−L−プロリンイソプチルアミドニ臭化水素酸塩0
.811(95%)を得た;〔α〕葺=−29.6°(
c−1、メタノール中)。
に対する 計算値+ に’ : 66.41 i H18,941
N + 8.07%笑測値:C:66.61;Ii:B
、B5+N+816%■ N −(6,6−ヅメチルビ
シクロ(a、 1゜1〕ヘプチルエチル)−N −ペン
ツルオキシカルボニル−N −(N−tcrt、−プト
キシ力ルビ=ルーJ、−yルタミルーα−tert、−
ブチルエステル)−L−リシル−L−プロリンイソブチ
ルアミド1.0.1i’(0,0012モル)を酢酸I
I++7に溶解し、酢酸中の45%臭化水素氷菓を加え
、この混合物を室温で0.5賎間攪拌した。乾燥ヅエチ
ルエーテルを加え、分離した白色h1体をソエチルエー
テルで洗浄し、具伊下で乾燥し、融点198〜201℃
のN −(6,6−ヅメチルビシクロ[a、 1.1
]ヘプチルエチル)−N’−(γ−グルタミル)4−リ
シル−L−プロリンイソプチルアミドニ臭化水素酸塩0
.811(95%)を得た;〔α〕葺=−29.6°(
c−1、メタノール中)。
元素分析r C,IE115N、0.−2HBrC73
9,65)に対する 計算値I に’ + 50.341H: 7.777
N + 9.47%実測値:C’+ 50.52 +B
I 7.59 ;A/:9.47係節(4)において出
発物質として用込たN −(6゜6−−/メチルビシク
ロ[3,1,1]ヘプチルエチル)α −N −ヘンシルオ*シカルx=ルーN’ −tart
。
9,65)に対する 計算値I に’ + 50.341H: 7.777
N + 9.47%実測値:C’+ 50.52 +B
I 7.59 ;A/:9.47係節(4)において出
発物質として用込たN −(6゜6−−/メチルビシク
ロ[3,1,1]ヘプチルエチル)α −N −ヘンシルオ*シカルx=ルーN’ −tart
。
−64−
一プトギシ力ルポニルーL−リシル−L−ゾロリンイソ
ブチルアミドは次の如くして製造することができた工 実施例3(c)に述べた方法と同様にして、Na−ベン
ジルオキシカルがニル−N” −tart、−ブトキシ
カルボニル−L−リシル−L−プロリンイソブチルアミ
ド及びソヒドロノ、e−ルから、収率α 39係で泡状物としてN −(6,6−ヅメチルビシク
ロ[3,1,1]ヘプチルエチル)−H(t−ペンツル
オキシカルボニルーN’−1art、−ブトキシカルボ
ニル−L−リシル−L−プロリンイソブチルアミドが得
られた;Rf値〔メタノール/りoo*ルム(1119
) ] I O,82゜元素分析+ C,、H6!N4
06(682,95’)に対する 計算値:C’+68.59+H+9.151N18.2
(1実測値lCF66.09+B:8.83+#+7.
98’J 65− (、+ 66.1 4 iH+ 8.8Or)J: 7
.86%(CHCl50.25モルを含む)。
ブチルアミドは次の如くして製造することができた工 実施例3(c)に述べた方法と同様にして、Na−ベン
ジルオキシカルがニル−N” −tart、−ブトキシ
カルボニル−L−リシル−L−プロリンイソブチルアミ
ド及びソヒドロノ、e−ルから、収率α 39係で泡状物としてN −(6,6−ヅメチルビシク
ロ[3,1,1]ヘプチルエチル)−H(t−ペンツル
オキシカルボニルーN’−1art、−ブトキシカルボ
ニル−L−リシル−L−プロリンイソブチルアミドが得
られた;Rf値〔メタノール/りoo*ルム(1119
) ] I O,82゜元素分析+ C,、H6!N4
06(682,95’)に対する 計算値:C’+68.59+H+9.151N18.2
(1実測値lCF66.09+B:8.83+#+7.
98’J 65− (、+ 66.1 4 iH+ 8.8Or)J: 7
.86%(CHCl50.25モルを含む)。
実施例4
Nα−(1−アダマンタンアセチル’) −Nl −ベ
ンジルオキシカルボニル−L−リシル−L−プロリンイ
ソブチルアミド0.9F (0,0015モル)を酢酸
3ゴに溶解し、45qb美化水素溶液3ml@加えた。
ンジルオキシカルボニル−L−リシル−L−プロリンイ
ソブチルアミド0.9F (0,0015モル)を酢酸
3ゴに溶解し、45qb美化水素溶液3ml@加えた。
1時間後、乾燥ジエチルエーテルを加え、分離した固体
を戸別し、ジエチルエーテルで洗浄し、そして乾燥した
。固体をジメチルホルムアミド°lO−に採り入れ、こ
の溶液をN−エチルモルホリン0.411117’(0
,0033モル)及びコハク酸無水物0.3g(0,0
03モル)で室温にて16時間処理した。溶媒を蒸発除
去し、残渣を酢酸エチル/#i塩酸(pHHa)に溶解
した。有様溶液を5%車炭酸ナトリウム溶液谷15mで
2回抽出した。pR値3の酸性にし、酢酸エチルで抽出
し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
蒸発させ、粗製の生成物を得た。シリカグル10.9上
で、溶離剤としてメタノール3%fr含す酢酸エチルを
用いてクロマトグラフィーにかけ、油としてNcl−C
x−アダマンタンアセチル)−Ha−スクシニル−L−
リシル−L−fロリンイソブチルアミド0.37.9(
43%)f得たJRf値〔メタノール/クロロホルム〔
3197>〕!0.4゜ 元素分析’ CmHuNa Os (573,76)に
対する 計算値IC+ 64.901B + 8.61 + N
+ 9.77係実測値IC+6Z531B+8.39i
#+9.19チC+62..44+ B +8.26+
#+9.33 %(CHCl30.22 モ/li7含
む)。
を戸別し、ジエチルエーテルで洗浄し、そして乾燥した
。固体をジメチルホルムアミド°lO−に採り入れ、こ
の溶液をN−エチルモルホリン0.411117’(0
,0033モル)及びコハク酸無水物0.3g(0,0
03モル)で室温にて16時間処理した。溶媒を蒸発除
去し、残渣を酢酸エチル/#i塩酸(pHHa)に溶解
した。有様溶液を5%車炭酸ナトリウム溶液谷15mで
2回抽出した。pR値3の酸性にし、酢酸エチルで抽出
し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
蒸発させ、粗製の生成物を得た。シリカグル10.9上
で、溶離剤としてメタノール3%fr含す酢酸エチルを
用いてクロマトグラフィーにかけ、油としてNcl−C
x−アダマンタンアセチル)−Ha−スクシニル−L−
リシル−L−fロリンイソブチルアミド0.37.9(
43%)f得たJRf値〔メタノール/クロロホルム〔
3197>〕!0.4゜ 元素分析’ CmHuNa Os (573,76)に
対する 計算値IC+ 64.901B + 8.61 + N
+ 9.77係実測値IC+6Z531B+8.39i
#+9.19チC+62..44+ B +8.26+
#+9.33 %(CHCl30.22 モ/li7含
む)。
上記節において出発物質として用いたN−(1−アダマ
ンタンアセチル’)−N’−ベンジルオキシカルi?ニ
ルーL−リシル−L−プロリンイソブチルアミドは次の
如くして製造した寡(α)N−ペンツルオキシカルがニ
ル−L−−j”ロリンイソブチルアミド6、1.9 (
0,02モル)を室温にて酢酸中の45係臭化水索15
1で1時間処理した。乾燥ジエチルエーテルを加え、生
じた油をデカンテーションによってジエチルエーテルで
洗浄し、そして回転蒸発機で乾燥した。残渣をテトラヒ
ドロフラン50社に溶解し、この溶液をN−エチルモル
ホリンで中和し、テトラヒドロフラフ100mJ中(D
Bα−tart、−ブト=IP −/ カA/ & ニ
ル−N −ペンソルオギシ力ルポニルーL−リジン7、
6.9 (0,02モル)を−20℃にてN−エチルモ
ルホリン2.54w+l(Q、02モル)及びイソプチ
ルクロロホルメー)2.62111J(0,02モル)
で処理し−C製造した混成無水物溶液に加えた;添加前
に後者の溶液を4分間攪拌した。
ンタンアセチル’)−N’−ベンジルオキシカルi?ニ
ルーL−リシル−L−プロリンイソブチルアミドは次の
如くして製造した寡(α)N−ペンツルオキシカルがニ
ル−L−−j”ロリンイソブチルアミド6、1.9 (
0,02モル)を室温にて酢酸中の45係臭化水索15
1で1時間処理した。乾燥ジエチルエーテルを加え、生
じた油をデカンテーションによってジエチルエーテルで
洗浄し、そして回転蒸発機で乾燥した。残渣をテトラヒ
ドロフラン50社に溶解し、この溶液をN−エチルモル
ホリンで中和し、テトラヒドロフラフ100mJ中(D
Bα−tart、−ブト=IP −/ カA/ & ニ
ル−N −ペンソルオギシ力ルポニルーL−リジン7、
6.9 (0,02モル)を−20℃にてN−エチルモ
ルホリン2.54w+l(Q、02モル)及びイソプチ
ルクロロホルメー)2.62111J(0,02モル)
で処理し−C製造した混成無水物溶液に加えた;添加前
に後者の溶液を4分間攪拌した。
68−
この混合物を0℃で2時間攪拌し、溶媒を蒸発除去し、
残液を酢酸エチル/水に溶解した。有機溶液f5%クエ
ン酸溶液、水、5%重炭酸ナトリウム溶液及び塩水で洗
浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒の蒸発
により、油としてI−tart、−ブトキシカルボニル
−N′−ペンヅルオキシ力ルボニルーL−リシル−L−
プロリンイソブチルアミド9.1g(85%)を得た;
Ef値[メタノール/クロロホルム(1s9)]:0.
75゜ (6) jV −tttデt、−ブトキシカルざニル−
N1ペンヅルオキシカルボニルーL−リシル−L−プロ
リンイソブチルアミドZ72II(α005モル)を室
温にて酢酸エチル中のz5M塩化水素15Wtで0.7
5時間処理した。溶媒を蒸発除去し、固体をジエチルエ
ーテルで洗浄した。この固体をジメチルホルムアミド1
5m+7−に採シ入れ、この溶液を−69− 0℃に冷却した。N−エチルモルホリン1.27 m1
(0,01モル)及び1−アダマンタンアセチルクロラ
イド1.3.9(0,006モル)分加え、この混合物
をネ温で3時用1攪拌した。溶媒を蒸発除去し、残渣を
酢酸エチル/水に俗解した。有怜溶液全5優クエン酸溶
液、水、5優重炭酸ナトリウム溶液及び塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた。シリ
カゲル60.9上で、溶離剤としてr卸酸エチルを用い
てクロマトグラフィーにかけ、油としてN“−(l−ア
ダマンタンアセチル)−N”−ベンツルオキシカルje
ニルーL−リシル−L−プロリンイソグチルアミド0.
99(29係)を得た。
残液を酢酸エチル/水に溶解した。有機溶液f5%クエ
ン酸溶液、水、5%重炭酸ナトリウム溶液及び塩水で洗
浄し、次に硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒の蒸発
により、油としてI−tart、−ブトキシカルボニル
−N′−ペンヅルオキシ力ルボニルーL−リシル−L−
プロリンイソブチルアミド9.1g(85%)を得た;
Ef値[メタノール/クロロホルム(1s9)]:0.
75゜ (6) jV −tttデt、−ブトキシカルざニル−
N1ペンヅルオキシカルボニルーL−リシル−L−プロ
リンイソブチルアミドZ72II(α005モル)を室
温にて酢酸エチル中のz5M塩化水素15Wtで0.7
5時間処理した。溶媒を蒸発除去し、固体をジエチルエ
ーテルで洗浄した。この固体をジメチルホルムアミド1
5m+7−に採シ入れ、この溶液を−69− 0℃に冷却した。N−エチルモルホリン1.27 m1
(0,01モル)及び1−アダマンタンアセチルクロラ
イド1.3.9(0,006モル)分加え、この混合物
をネ温で3時用1攪拌した。溶媒を蒸発除去し、残渣を
酢酸エチル/水に俗解した。有怜溶液全5優クエン酸溶
液、水、5優重炭酸ナトリウム溶液及び塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた。シリ
カゲル60.9上で、溶離剤としてr卸酸エチルを用い
てクロマトグラフィーにかけ、油としてN“−(l−ア
ダマンタンアセチル)−N”−ベンツルオキシカルje
ニルーL−リシル−L−プロリンイソグチルアミド0.
99(29係)を得た。
元素分析+ C311II、2N、 O,(608,8
31に対する 計算値I C+ 69.05 I Hi 8.61 i
A’ 19.20%実測値rCr68.94jH7B
、45+Ni9.14%実施例5 (イ) メタノール75成中のN“−(1−アダマンチ
ルスルホニル)−N’−フタロイル−L−IJシル−L
−プロリル−L−パリナールヅメチルアセタール14.
8.!i’(0,021モル)及び水75ゴ中の水酸化
ナトリウム0.94g(0,0235モル)の溶液ft
室温で0.5時間j畳拌した。メタノールを蒸発;グ去
し、この溶液を水で希釈し、酢酸エチル各50m1で2
回抽出した。水溶液を希趨酸でpH値2〜3の酸性にし
、油状生成物を酢酸エチル各15tnlで2回抽出した
。この溶液を水で洗浄し、倫酸マグネシウム上で乾燥し
、蒸発させて泡状物を侍た。この泡状物分りクロロメタ
ンに探り入れ、ジエチルエーテルで処理し、そして冷却
し、無定JM鉢体状N −(1−アダマンチルスルホニ
ル)−L−リシル −N’−C2−Nルーキシベンゾイル177でプロリル
−L−バリナールジメチルアセタール14.4g(95
係)が得られた。
31に対する 計算値I C+ 69.05 I Hi 8.61 i
A’ 19.20%実測値rCr68.94jH7B
、45+Ni9.14%実施例5 (イ) メタノール75成中のN“−(1−アダマンチ
ルスルホニル)−N’−フタロイル−L−IJシル−L
−プロリル−L−パリナールヅメチルアセタール14.
8.!i’(0,021モル)及び水75ゴ中の水酸化
ナトリウム0.94g(0,0235モル)の溶液ft
室温で0.5時間j畳拌した。メタノールを蒸発;グ去
し、この溶液を水で希釈し、酢酸エチル各50m1で2
回抽出した。水溶液を希趨酸でpH値2〜3の酸性にし
、油状生成物を酢酸エチル各15tnlで2回抽出した
。この溶液を水で洗浄し、倫酸マグネシウム上で乾燥し
、蒸発させて泡状物を侍た。この泡状物分りクロロメタ
ンに探り入れ、ジエチルエーテルで処理し、そして冷却
し、無定JM鉢体状N −(1−アダマンチルスルホニ
ル)−L−リシル −N’−C2−Nルーキシベンゾイル177でプロリル
−L−バリナールジメチルアセタール14.4g(95
係)が得られた。
(ロ)乾燥アセトン15mg中のN“−(1−アダマン
チルスルボニル)−A7ε−(2−カルボキシルベンゾ
イル)−L−リシル−L−プロリル−L−パリナールジ
メチルアセタール0.5 g(0,0007モル)をア
ムパーリスト15佃脂0.5.9で処理し、この混合物
を室温で16時間攪拌した。樹脂を戸別し、アセトンl
O−で抗浄し、合液し;&r液及び洗液を蒸発させた。
チルスルボニル)−A7ε−(2−カルボキシルベンゾ
イル)−L−リシル−L−プロリル−L−パリナールジ
メチルアセタール0.5 g(0,0007モル)をア
ムパーリスト15佃脂0.5.9で処理し、この混合物
を室温で16時間攪拌した。樹脂を戸別し、アセトンl
O−で抗浄し、合液し;&r液及び洗液を蒸発させた。
生じた油をシリカゲル25g上で溶離剤としてソクロ四
メタン/メタノール/酢酸(19019+2)を用いて
クロマトグラフィーにかけた。溶離剤を蒸発させ、次に
残渣をジエチルエーテルと共に砕解し、無定形の吸湿性
α 粉末状でN −(t−アメマンチルスルホニル)−N’
−(2−カルボキシベンゾイル)−4−リシル−L−
プロリルパリナール0.12.!i’(26%)を得た
。この生成物は2つのエピマーの混合物で−72− あった。
メタン/メタノール/酢酸(19019+2)を用いて
クロマトグラフィーにかけた。溶離剤を蒸発させ、次に
残渣をジエチルエーテルと共に砕解し、無定形の吸湿性
α 粉末状でN −(t−アメマンチルスルホニル)−N’
−(2−カルボキシベンゾイル)−4−リシル−L−
プロリルパリナール0.12.!i’(26%)を得た
。この生成物は2つのエピマーの混合物で−72− あった。
元素分析ICJt、、N、0.S (67z s 4
)に対する 計算値+C+ 60.69 +R+ 7.191Nt
8.33%実測値lCF60.35iHf7.37i#
18.03係(、+60.377H+7.211N:8
.2B係(R,Oo、2モルを含む)。
)に対する 計算値+C+ 60.69 +R+ 7.191Nt
8.33%実測値lCF60.35iHf7.37i#
18.03係(、+60.377H+7.211N:8
.2B係(R,Oo、2モルを含む)。
実施例6
(イ)Nα−(1−アダマンチルスルホニル)−N −
710イル−L−リシル−L−アラニル−L−パリナー
ルジメチルアセタール10.9 (0,0148モル)
を実施例1(イ)に述べた方法と同様にして、順次ヒド
ラジン水和物及びコハク酸無水*/)リエチルアミンで
処理した。生成物をシリカゲル15(l上で、溶離剤と
してクロロホルム/メタノール/酢酸エチル(120+
1513+2’)f用いてクロマトグラフィーによって
稍製しfc。溶−73− 離削の蒸発後、泡状物としてN −(1−アダマンチル
スルホニル)−N −スクシニル−Z、−IJシル−L
−アラニル−L−パリナールツメチルアセタール4.5
6.li+(48%)を得た。
710イル−L−リシル−L−アラニル−L−パリナー
ルジメチルアセタール10.9 (0,0148モル)
を実施例1(イ)に述べた方法と同様にして、順次ヒド
ラジン水和物及びコハク酸無水*/)リエチルアミンで
処理した。生成物をシリカゲル15(l上で、溶離剤と
してクロロホルム/メタノール/酢酸エチル(120+
1513+2’)f用いてクロマトグラフィーによって
稍製しfc。溶−73− 離削の蒸発後、泡状物としてN −(1−アダマンチル
スルホニル)−N −スクシニル−Z、−IJシル−L
−アラニル−L−パリナールツメチルアセタール4.5
6.li+(48%)を得た。
(ハ) ジメチルホルムアミド10m1及び乾燥アセト
ン50mA中のNa−(1−アダマンチルスルホニル)
−N −スクシニル−Z、−IJシル−L−7ラニルー
L−パリナールツメチルアセタール05y(o7sミリ
モル)を室温にてアムバーリスト15樹脂5gで28時
間処理した。この混合物を01過し、樹脂をジメチルポ
ルムアミドで洗浄し、7ハ液f蒸発させて油を得た。シ
リカダル80.liI上で、溶離剤としてクロロホルム
/メタノール/酢酸/水(120+1513+2)を用
いてクロマトグラフィーにかけ、次いで水性e酸から凍
結乾α 燥し、エピマーの混合物として# −(1−アダマンチ
ルスルホニル)−N −スクシニル−L−リシル−L−
アラニルバリナール0.3g(64%)?得た。
ン50mA中のNa−(1−アダマンチルスルホニル)
−N −スクシニル−Z、−IJシル−L−7ラニルー
L−パリナールツメチルアセタール05y(o7sミリ
モル)を室温にてアムバーリスト15樹脂5gで28時
間処理した。この混合物を01過し、樹脂をジメチルポ
ルムアミドで洗浄し、7ハ液f蒸発させて油を得た。シ
リカダル80.liI上で、溶離剤としてクロロホルム
/メタノール/酢酸/水(120+1513+2)を用
いてクロマトグラフィーにかけ、次いで水性e酸から凍
結乾α 燥し、エピマーの混合物として# −(1−アダマンチ
ルスルホニル)−N −スクシニル−L−リシル−L−
アラニルバリナール0.3g(64%)?得た。
元系分析+ C,、H46N40.S (59B、 7
6 )に対する 計算値+(ll’+56.17;R17,74i#19
.36%実測値+ C+ 54.26 I H17,7
4+ A’ + 9.02%C: 54.37 i H
: 7.85 ; N r 9.06係(fi、OL1
モルを含む)。
6 )に対する 計算値+(ll’+56.17;R17,74i#19
.36%実測値+ C+ 54.26 I H17,7
4+ A’ + 9.02%C: 54.37 i H
: 7.85 ; N r 9.06係(fi、OL1
モルを含む)。
α
出発W質として用いたN −(1−アダマンチルスルホ
ニル)−N −フタロイル−L−リシル−L−アラニル
−L−パリナールヅメチルアセタールは次の如くして製
造したj N−Zンソルオキシカルがニル−L−”75ニル−L−
パリナールツメチルアセタール〔実施例1(b)に述べ
た方法と同様にして製造したもの]7.0.9(0,0
2モル〕をメタノール701nI!に溶解し、この溶液
を5%・ξラジウム/炭g O,7、!i’の存在下に
おいで4時間水素添加した。触媒の沢別後、溶媒を蒸発
除去し、残渣から痕跡量のメタノールをトルエン各20
mlと共[2回蒸発させて除去した。
ニル)−N −フタロイル−L−リシル−L−アラニル
−L−パリナールヅメチルアセタールは次の如くして製
造したj N−Zンソルオキシカルがニル−L−”75ニル−L−
パリナールツメチルアセタール〔実施例1(b)に述べ
た方法と同様にして製造したもの]7.0.9(0,0
2モル〕をメタノール701nI!に溶解し、この溶液
を5%・ξラジウム/炭g O,7、!i’の存在下に
おいで4時間水素添加した。触媒の沢別後、溶媒を蒸発
除去し、残渣から痕跡量のメタノールをトルエン各20
mlと共[2回蒸発させて除去した。
721112749ml中のこの残渣のm液f−20℃
に冷却し、次にヅクロロメタン80m1中のN“−(1
−アダマンチルスルホニル)−N’−フタロイル−L−
リジン8.53I!(0,018モル)、続いて#、N
’−ヅシクロへキシルカルボジイミド4.45.9(0
,0216モル)を加えた。この混合物を一20℃で2
時開は拌し、4℃で16時間放置した。分離し7た#、
7V’−ソシクロヘキシルウレアを戸別し、fp液を水
酸化す) IJウム溶液及び塩水で洗浄し、乾燥し、そ
して蒸発させた。残渣をメタノールから再結晶させ、融
点214〜217℃のN −(1−アダマンチルスルホ
ニル)−N’−フタロイル−L−リシル−LTアラニル
−L−バリナールジメチルアセタール5.1.9(42
%)76− を得た。
に冷却し、次にヅクロロメタン80m1中のN“−(1
−アダマンチルスルホニル)−N’−フタロイル−L−
リジン8.53I!(0,018モル)、続いて#、N
’−ヅシクロへキシルカルボジイミド4.45.9(0
,0216モル)を加えた。この混合物を一20℃で2
時開は拌し、4℃で16時間放置した。分離し7た#、
7V’−ソシクロヘキシルウレアを戸別し、fp液を水
酸化す) IJウム溶液及び塩水で洗浄し、乾燥し、そ
して蒸発させた。残渣をメタノールから再結晶させ、融
点214〜217℃のN −(1−アダマンチルスルホ
ニル)−N’−フタロイル−L−リシル−LTアラニル
−L−バリナールジメチルアセタール5.1.9(42
%)76− を得た。
元系分析: C,HIloN、oO,S (674,8
6’lに対する 計算値+C+ 60.51 +#17.4’l f7V
+ 8.30%実測値: CI 60.52 r H:
7.40 I N+ 8.54 %実施例7 (至) ジメトキシエタン/ツメチルホルムアミド(1
11)40mJ中のモノベンゾルテレフタレー) 2.
2 g (0,0086モ# )f:0℃に冷却した。
6’lに対する 計算値+C+ 60.51 +#17.4’l f7V
+ 8.30%実測値: CI 60.52 r H:
7.40 I N+ 8.54 %実施例7 (至) ジメトキシエタン/ツメチルホルムアミド(1
11)40mJ中のモノベンゾルテレフタレー) 2.
2 g (0,0086モ# )f:0℃に冷却した。
N−ヒドロキシコハク酸イミド0.99 # (0,0
086モル)及びN、N’−ソシクロヘキシルカルがシ
イ2ド1.94 &、0.0094モル)を加え、この
混合物を0℃で3時間攪拌した。ペプチドアセタールの
酢酸塩〔実施例1〔A〕に述べた如く、Na−(1−ア
ダマンチルスルホニル)−N −7タロイルーL−リシ
ル−L−バリナールジメチルアセタール4.9(0,0
057モル)から製造したも77− の〕をジメトキシエタンに溶解し、0℃に冷却し、トリ
エチルアミン約1.0計で中和し、上記の如くして製造
した活性エステルUこ加えた。この混合物fO℃で1時
間攪拌し、室温で一夜放圃、した。浴液をb″i過し、
F液を蒸発させた。残流を酢酸エチルに採り入れ、水及
び重炭酸すトリウム浴液で洗浄し、・h’+i mマグ
ネシウム上で乾燥し、蒸発させて泡状物を得た。シリカ
ケ9ルア0y上で、溶離剤として酢酸エチルをハ」いて
クロマトグラフィーにかケ、泡状9勿としてN −(1
−アダマンチルスルホニル)−Ng −(4−ペンノル
オキシカルがニルベンゾイル)−L−リシル−L−fロ
リルーL−パリナールツメチルアセタール2.5.li
’(54%)合−得た。
086モル)及びN、N’−ソシクロヘキシルカルがシ
イ2ド1.94 &、0.0094モル)を加え、この
混合物を0℃で3時間攪拌した。ペプチドアセタールの
酢酸塩〔実施例1〔A〕に述べた如く、Na−(1−ア
ダマンチルスルホニル)−N −7タロイルーL−リシ
ル−L−バリナールジメチルアセタール4.9(0,0
057モル)から製造したも77− の〕をジメトキシエタンに溶解し、0℃に冷却し、トリ
エチルアミン約1.0計で中和し、上記の如くして製造
した活性エステルUこ加えた。この混合物fO℃で1時
間攪拌し、室温で一夜放圃、した。浴液をb″i過し、
F液を蒸発させた。残流を酢酸エチルに採り入れ、水及
び重炭酸すトリウム浴液で洗浄し、・h’+i mマグ
ネシウム上で乾燥し、蒸発させて泡状物を得た。シリカ
ケ9ルア0y上で、溶離剤として酢酸エチルをハ」いて
クロマトグラフィーにかケ、泡状9勿としてN −(1
−アダマンチルスルホニル)−Ng −(4−ペンノル
オキシカルがニルベンゾイル)−L−リシル−L−fロ
リルーL−パリナールツメチルアセタール2.5.li
’(54%)合−得た。
元糸分析r C、、HooN、0.S (809,04
)に対する 計算値:C;63.84iHニア、481+6.93%
実側値IC+63.98iHI7.39;N+6.91
係(/j) ジメチルホルムアミド15m1!中のN“
−(1−アダマンチルスルホニル)−N −(4−ペン
ヅルオキシ力ルポニルベンゾイル)−L−IJシル−L
−プロリル−L−パリナールツメチルアセタール1.3
g(1,6ミリモル)全5%パラジウム/炭素の存在
下において3時間水素添加した。
)に対する 計算値:C;63.84iHニア、481+6.93%
実側値IC+63.98iHI7.39;N+6.91
係(/j) ジメチルホルムアミド15m1!中のN“
−(1−アダマンチルスルホニル)−N −(4−ペン
ヅルオキシ力ルポニルベンゾイル)−L−IJシル−L
−プロリル−L−パリナールツメチルアセタール1.3
g(1,6ミリモル)全5%パラジウム/炭素の存在
下において3時間水素添加した。
触媒を炉別し、r液を蒸発させて油を得た。この油を重
炭酸ナトリウム溶液に採り入れ、酢酸エチルで曲出し、
水相を希fU酸でpli値2〜3の酸性にし、酢酸エチ
ルで抽出した。有磯第1」を水で洗浄して酸を除去し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させて泡状物を侍だ
。この泡状物會シリカケ9ル25.9上で、溶離剤とし
てソクロロメタン/メタノール/酢酸(x9o+9+2
)紫用いてクロマトグラフィーにかけた。溶gli剤f
蒸発させ、残渣ゲ7エチルエーテルと共に砕盾し、固体
とじてNa−(1−7タ?7チzL=、Z、7uホユル
)−N −(4−カルがキシベンゾイル)−L−リシル
−L=すフ;=t−プロリルーL−パリナール0.35
I(33係)を得た。
炭酸ナトリウム溶液に採り入れ、酢酸エチルで曲出し、
水相を希fU酸でpli値2〜3の酸性にし、酢酸エチ
ルで抽出した。有磯第1」を水で洗浄して酸を除去し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させて泡状物を侍だ
。この泡状物會シリカケ9ル25.9上で、溶離剤とし
てソクロロメタン/メタノール/酢酸(x9o+9+2
)紫用いてクロマトグラフィーにかけた。溶gli剤f
蒸発させ、残渣ゲ7エチルエーテルと共に砕盾し、固体
とじてNa−(1−7タ?7チzL=、Z、7uホユル
)−N −(4−カルがキシベンゾイル)−L−リシル
−L=すフ;=t−プロリルーL−パリナール0.35
I(33係)を得た。
元素分析: Cs4E48N40.S (612,84
)に対する 計算値1cI60.69 IH: 7.19 ;IV+
8.33%実測値+C+60.51 +H77,49
rN:8.60係実施例8 実施例7に述べた方法と同様にして、但しモノベンジル
テレフタレートの代すにモノペンジルアヅペートをl↑
1いて、エピマーの混合物としてN“(1−アダマンチ
ルスルホニル)−N”−7ジボイルーL−リシル−L−
−f’ロリルパIJ ナールが得られた。
)に対する 計算値1cI60.69 IH: 7.19 ;IV+
8.33%実測値+C+60.51 +H77,49
rN:8.60係実施例8 実施例7に述べた方法と同様にして、但しモノベンジル
テレフタレートの代すにモノペンジルアヅペートをl↑
1いて、エピマーの混合物としてN“(1−アダマンチ
ルスルホニル)−N”−7ジボイルーL−リシル−L−
−f’ロリルパIJ ナールが得られた。
元糸分析IC8□H,、N、O,S(652,85)に
対する 80− 計算[IC:58.87+H+8.03;#18.58
%笑測値:C+57.99:11ニア、95;N+8.
53+#、0+1.54% 無水+C+58.89;Bt7.89iA#+8.65
%実施例9 実施例7に述べた方法と同様にして、モノペンノルテレ
フタレート及びN −(1−アダマンチ形固体状でN
−(1−アダマンチルスルホニル)−N −(4−カル
ボキシベンゾイル)−4−リシル−L−アラニル−L−
パリナールが得られた。
対する 80− 計算[IC:58.87+H+8.03;#18.58
%笑測値:C+57.99:11ニア、95;N+8.
53+#、0+1.54% 無水+C+58.89;Bt7.89iA#+8.65
%実施例9 実施例7に述べた方法と同様にして、モノペンノルテレ
フタレート及びN −(1−アダマンチ形固体状でN
−(1−アダマンチルスルホニル)−N −(4−カル
ボキシベンゾイル)−4−リシル−L−アラニル−L−
パリナールが得られた。
元素分析i Ca、H,N40aS (646,81)
に対する 計磨、値+C+59.421H+7.1 ? + #
ls、66チ実6項リイ直 + C+ 5 9. 3
8 r fI + 7. 0 7 + # + 8.7
3 %実施例A −81− エアロゾル組成物は次の成分を含むことができる: 式lの化合物捷たはその塩 1〜5 エタノール 15〜35 噴射基剤、100q6にするために 十分な量噴射基剤
は例λはヅクロロソフルオロメタンまたは1,2−ジク
ロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン及びジク
ロロヅフルオロメタンの混合物であることができる。
に対する 計磨、値+C+59.421H+7.1 ? + #
ls、66チ実6項リイ直 + C+ 5 9. 3
8 r fI + 7. 0 7 + # + 8.7
3 %実施例A −81− エアロゾル組成物は次の成分を含むことができる: 式lの化合物捷たはその塩 1〜5 エタノール 15〜35 噴射基剤、100q6にするために 十分な量噴射基剤
は例λはヅクロロソフルオロメタンまたは1,2−ジク
ロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン及びジク
ロロヅフルオロメタンの混合物であることができる。
%許出願人 エフ・ホフマン・う・ロシュ・ラント・コ
ンパニー−アクチェングゼルシャフト82− 第1頁の続き 優先権主張 [相]1984年5月8日[相]イギリス
(@発明者 ノニル・アラン・ロバ イ」−ツ ウ・ GB)[株]8411635 トリス国ハートフォードシャー・ハーペンデン・エリス
イツクロード 19
ンパニー−アクチェングゼルシャフト82− 第1頁の続き 優先権主張 [相]1984年5月8日[相]イギリス
(@発明者 ノニル・アラン・ロバ イ」−ツ ウ・ GB)[株]8411635 トリス国ハートフォードシャー・ハーペンデン・エリス
イツクロード 19
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 %式%) 式中、Rは炭素原子6〜12個を含む環式炭化水素基を
表わし、R1は随時アミノ基または1個もしくはそれ以
上のヒドロキシ基で置換されていてもよい脂肪族または
芳香族ジヵルざン酸或いはウロン酸から誘導されたアシ
ル基を表わし・R2は水素原子またはホルミル基を表わ
し、R3は水素原子を表わしへそしてR4はメチル基を
表わすか1或いはR3及びR′は一緒になってトリメチ
レン基を表わし、Yはカルブニル、スルホニルまたはメ
チレン基を表わし、mは2〜6の整斂を表わし1nは0
〜1または2を表わし1そして(a)及び(t’)とし
て示した炭素原子における立体配置はLである1 の化合物及びその製薬学的に許容し得る塩。 2、 R1が随時アミノ基または1個もしくはそtl[
上のヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素原子6個
までを含む脂肪族ジカルがン酸、或いはウロン酸から誘
導されたアシル基を表わし Ha及びR4が一緒になっ
てトリメチレン基を表わし、そしてR1がホルミル基を
表わす際、この基が結合している炭素原子における立体
配置がLである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 五 Rが炭素原子6〜12個を含む単環式または架橋し
たシクロアルキル基を表わす特許請求の範囲第1または
2項記載の化合物。 4.R′が炭素原子6個までを含む未置換の飽和脂肪族
ジカルボン酸から誘導されたアシル基を表わす特許請求
の範囲第1〜3項のいずれかに記載の化合物。 5、 R1がスクシニルまたはアジポイル基を表わす特
許請求の範囲第4項記載の化合物。 (、R1が未置換のベンゼンジカルがン酸から誘導され
たアシル基を表わす特許請求の範囲第1または2項記載
の化合物。 lR’が4−カルボキシベンゾイル基を表わす特許請求
の範囲第6項記載の化合物。 8、R1がホルミル基を表わす特許請求の範囲第1〜7
項のいずれかに記載の化合物や9 Yがスルホニル基を
表わす特許請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の化
合物。 1α mが4を表わす特許請求の範囲第1〜9項のいず
れかに記載の化合物。 11、 nが0を表わす特許請求の範囲第1〜10項の
いずれかに記載の化合物。 12、N−(1−アダマンチルスルホニル)−N −ス
クシニル−L−リシル−L−7’ロリル−L−パリナー
ルである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 15、N −(1−アダマンチルスルホニル)−N′!
−(4−カルボキンベンゾイル)−L−リシル−L−7
’ロリルーL−パリナールテロ ル%許請求の範囲第1
項記載の化合物。 14、N”−(1−アダマンチルスルホニル)−N 6
−(4−カルボキシベンゾイル)−L−リシル−L−ア
ラニル−L−パリナールである特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 15、N−(1−アダマンチルエチル)−R6−スクジ
ニルーL−リシルーL−プロリンイソブチルアミド、 N”−(6,6−ジメfkビシpO〔,5゜1.1〕ヘ
プチルエチル> + N g −(γ−グルタミル)−
L−リシル−L−プロリンイソブチルアミド及びN”−
(1−アダマンタンアセチル)−R6−スクジニルーL
−リシルーL−グロリンイソプチルから選ばれる特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 14 N”−(1−アダマンチルスルホニル)−Hg−
スクシニル−I、 −IJシル−L−7ラニルパリナー
ル1 Na−(1−アダマンチルスルホニル)−N g−(2
−カルがキシベンゾイル) + L ++ リシル−プ
ロリルパリナール及び Na−(t−アダマンチルスルホニル)−a II−ア
ジポイル−L−リシル−L−プロリルパリナール から選ばれる特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5− 17、 一般式 %式%(2 式中、R,R”、 R4、’ff、m及びnは特許請求
の範囲第1項記載の意味を有し、(a)及び(t’)と
して示した炭素原子における立体配置は特許請求の範囲
第1項記載の通りであり−R6は%Yがカルボニルまた
はスルホニル基を表わす際には、水素原子を表わし、或
いはYがメチレン基を表わす際には1保護基を表わし〜
そしてR20は水素原子または保護されたホルミル基を
表わす、の化合物。 1a 一般式 N−0)1−00−N −0H−00JJH−CH,−
R20/ ””(a)(b) V 式中%R,Ha、R4、Y〜m及びnは特許請求の範囲
第1項記載の意味を有し、丘及びR20は特許請求の範
囲第10項記載の意味を有し1R6は保護されたアミノ
基を表わし、そして(a)及び(b)として示した炭素
原子における立体配置れ特許請求の範囲第1項記載の通
シである1の化合物。 19 製薬学的に活性な物質として使用するための特許
請求の範囲第1項記載の式■の化合物またはその製薬学
的に許容し得る塩。 2[L エラスターゼ様酵素の作用に伴う変性疾患の処
理或いはエラスターゼ様酵素が炎症のメゾイエイタとし
て作用する炎症症状の処置のための製薬学的活性物質と
して使用するための特許請求の範囲第1項記載の式■の
化合物またはその製薬的に許容し得る塩。 21、気卸または関節炎の処置のための製薬学的活性物
質として使用するための特許請求の範囲第1項記載の式
Iの化合物またはその製薬学的に許容し得る塩。 2、特許請求の範囲第1項記載の式■の化合物及びその
製薬学的に許容し得る塩を製造するにあたり、 a)一般式 式中へRSR&、R’、Y、m及びnは特許請求の範囲
第1項記載の意味を有し、(a)及び(b)として示し
た炭素原子における立体配置は特許請求の範囲第1項記
載の通りであり R1は、Yがカルボニルまたはスルホ
ニル基を表わす隙には、水素原子を表わし、或いはYが
メチレン基を表わす際には、保設基を表わしへぞしてR
2Oは水素原子または保護されたホルミル基を表わす−
の化合物を一般式 %式%[11 式中、R10は特許請求の範囲第1項記載のR1と同じ
意味を有するが〜但しその際存在しうるカル日?キシ〜
アミノまたはヒドロキシ基は保護さtまた形態である、 の酸の反応往訪導体と反応させ1そして必要に応じて、
反応生成物に存在する保瞳基を開裂させる 9− か)或いは (b) R”が2−カルボキシベンゾイル基を表わす式
■の化合物を製造するために、一般式/ RII(a)(b) IV 式中、R,R”、R’、Y、m及びnは特許請求の範囲
第1項記載の意味を有し R1及びRIGは上記の意味
を有し、そして(a)及び(′b)として示した炭素原
子における立体配置は特許請求の範囲第1項記載の通シ
である1 の化合物をアルカリ金属水酸化物で処理し)そし 10
− て必要に応じて、反応生成物に存在する保護基を開裂さ
せ、そして (0)いずれの場合にも必要に応じて1得られる式■の
化合物を製薬学的に許容し得る塩に転化することを特徴
とする特許請求の範囲第一1項記載の式Iの化合物及び
その製薬学的に許容し得る塩の製造方法。 2、特許請求の範囲第1項記載の弐■の化合物またはそ
の製薬学的に許容し得る塩及び適合し得る製薬学的担体
物最含有することを特徴とする薬剤。 24、エラスターゼ様酵素の作用に伴う変性疾患の処置
或いはエラスターゼ様酵素が炎症のメゾイエイタとして
作用する炎症症状の処置のための、特許請求の範囲第1
項記載の式■の化合物またはその製薬学的に許容し得る
塩及び適合し得る製薬学的担体物質を含有することを特
徴とする薬剤。 25、気腫まfcは関節炎の処置のための、特許請求の
範囲第1項記載の弐Iの化合物またはその製薬学的に許
容し得る塩及び適合し得る製薬学的担体物質を含有する
ことを%徴とする薬剤。 26、病気の抑制または予防における特許請求の範囲第
1項記載の式■の化合物′!、たはその製薬学的に許容
し得る塩の使用。 2z エラスターゼ様酵素の作用に伴う変性疾患の処置
或いはエラスターゼ様酵素が炎症のメゾイエイタとして
作用する炎症症状の処置における特許請求の範囲第1項
記載の式■の化合物またはその製薬学的に許容し得る塩
の使用。 2a 気腫または関節炎の処置における特許請求の範囲
第1項記載の弐Iの化合物またはその製薬学的に許容し
得る塩の使用。 29、特許請求の範囲第22項記載の方法或いは明らか
にその化学的に同等の方法で製造した特許請求の範囲第
1〜16項のいずれかに記載の化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8318855 | 1983-07-12 | ||
GB838318855A GB8318855D0 (en) | 1983-07-12 | 1983-07-12 | Peptide derivatives |
GB8411635 | 1984-05-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6038399A true JPS6038399A (ja) | 1985-02-27 |
Family
ID=10545614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59142490A Pending JPS6038399A (ja) | 1983-07-12 | 1984-07-11 | ペプチドアミド及びアルデヒド類 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6038399A (ja) |
GB (2) | GB8318855D0 (ja) |
ZA (1) | ZA845183B (ja) |
-
1983
- 1983-07-12 GB GB838318855A patent/GB8318855D0/en active Pending
-
1984
- 1984-05-08 GB GB848411635A patent/GB8411635D0/en active Pending
- 1984-07-05 ZA ZA845183A patent/ZA845183B/xx unknown
- 1984-07-11 JP JP59142490A patent/JPS6038399A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8411635D0 (en) | 1984-06-13 |
ZA845183B (en) | 1985-02-27 |
GB8318855D0 (en) | 1983-08-10 |
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