JPS6038391B2 - 5↓−フルオロウラシル誘導体の製法 - Google Patents
5↓−フルオロウラシル誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS6038391B2 JPS6038391B2 JP52145579A JP14557977A JPS6038391B2 JP S6038391 B2 JPS6038391 B2 JP S6038391B2 JP 52145579 A JP52145579 A JP 52145579A JP 14557977 A JP14557977 A JP 14557977A JP S6038391 B2 JPS6038391 B2 JP S6038391B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorouracil
- trimethylsilyloxybutyraldehyde
- production method
- acetal
- reaction
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- Expired
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Description
本発明はNI−(2−テトラヒドロフリル)−5−フル
オロウラシルの製法に関する。 N1一(2−テトラヒドロフリル)一5−フルオロウラ
シルは悪性固型ガンの治療薬として有用な医薬化合物で
ある。 従来、NI−(2ーテトラヒドロフリル)−5−フルオ
ロゥラシルの合成法としては、例えば5−フルオロウラ
シルまたはその活性体(2,4一ビストリメチルシリル
体、水銀塩、アルカリ金属塩等)に2−ハロゲノテトラ
ヒドロフラン、2−アルコキシテトラヒドロフランまた
は2−アシルオキシテトラヒドロフラン等のテトラヒド
ロフランの2位反応性誘導体を反応させる方法がよく知
られている(樽公昭49−10510号、袴関昭49一
127981号、同50−19757号、同50−50
斑4号、同50−64281号、同50一105673
号、同50一105674号、同50−151884号
、同51一8282号、同51一65774号、同51
−146482号)。 しかるに本発明方法は後記する如く上記従釆法とは反応
形式を全く異にする有利なNI−(2−テトラヒドロフ
リル)−5−フルオロゥラシルの製造法であって、かか
る方法についてはまだ知られていない。すなわち、本発
明によれば、N1一(2−テトラヒドロフリル)−5ー
フルオロウラシルは5−フルオロウラシルの2,4−ビ
ストリメチルシリル体と4ートリメチルシリルオキシブ
チルアルデヒドジァルキルァセタールとをルイス酸の存
在下に反応させることにより製することが出来る。 本発明のN1一(2−テトラヒドロフリル)−5−フル
オロウラシル生成の反応液髪様について詳*細に説明す
れば、下記反応式で示される如くである。すなわち5ー
フルオロウラシルの2,4−ビストリメチルシリル体〔
1〕と4ートリメチルシリルオキシブチルアルデヒドジ
アルキルアセタ−ル
オロウラシルの製法に関する。 N1一(2−テトラヒドロフリル)一5−フルオロウラ
シルは悪性固型ガンの治療薬として有用な医薬化合物で
ある。 従来、NI−(2ーテトラヒドロフリル)−5−フルオ
ロゥラシルの合成法としては、例えば5−フルオロウラ
シルまたはその活性体(2,4一ビストリメチルシリル
体、水銀塩、アルカリ金属塩等)に2−ハロゲノテトラ
ヒドロフラン、2−アルコキシテトラヒドロフランまた
は2−アシルオキシテトラヒドロフラン等のテトラヒド
ロフランの2位反応性誘導体を反応させる方法がよく知
られている(樽公昭49−10510号、袴関昭49一
127981号、同50−19757号、同50−50
斑4号、同50−64281号、同50一105673
号、同50一105674号、同50−151884号
、同51一8282号、同51一65774号、同51
−146482号)。 しかるに本発明方法は後記する如く上記従釆法とは反応
形式を全く異にする有利なNI−(2−テトラヒドロフ
リル)−5−フルオロゥラシルの製造法であって、かか
る方法についてはまだ知られていない。すなわち、本発
明によれば、N1一(2−テトラヒドロフリル)−5ー
フルオロウラシルは5−フルオロウラシルの2,4−ビ
ストリメチルシリル体と4ートリメチルシリルオキシブ
チルアルデヒドジァルキルァセタールとをルイス酸の存
在下に反応させることにより製することが出来る。 本発明のN1一(2−テトラヒドロフリル)−5−フル
オロウラシル生成の反応液髪様について詳*細に説明す
れば、下記反応式で示される如くである。すなわち5ー
フルオロウラシルの2,4−ビストリメチルシリル体〔
1〕と4ートリメチルシリルオキシブチルアルデヒドジ
アルキルアセタ−ル
〔0〕とがまず縮合してNI−(1
−アルコキシ−4ートリメチルシリルオキシブチル)−
4ートリメチルシリルオキシ−5ーフルオロー2(IH
)−ピリミジ/〔m〕が一たん生成し、ついでこの化合
物が閉環して目的とするNI−(2ーテトラヒドロフリ
ル)−5ーフルオ。ウラシル〔W〕が生成してくるもの
である。この中間体〔m〕そのものは単機することは困
難であるが、例えば後記参考例1で示される如くして脱
トリメチルシリル化すればNI−(1ーアルコキシー4
−ヒドロキシブチル)一5ーフルオロウラシルの形で容
易に単離することが出来る。(但し、上言己式中Rはア
ルキル基を表わす。 )本発明において、5−フルオロウラシルの2,4一ビ
ストリメチルシリル体〔1〕は5−フルオロウラシルと
へキサメチルジシラザンとを加熱下に反応させることに
より容易に合成される〔Chem.Phann.Bul
l.,11,1470(1963)〕。 また他方の4ートリメチルシリルオキシブチルアルデヒ
ドジアルキルアセタール
−アルコキシ−4ートリメチルシリルオキシブチル)−
4ートリメチルシリルオキシ−5ーフルオロー2(IH
)−ピリミジ/〔m〕が一たん生成し、ついでこの化合
物が閉環して目的とするNI−(2ーテトラヒドロフリ
ル)−5ーフルオ。ウラシル〔W〕が生成してくるもの
である。この中間体〔m〕そのものは単機することは困
難であるが、例えば後記参考例1で示される如くして脱
トリメチルシリル化すればNI−(1ーアルコキシー4
−ヒドロキシブチル)一5ーフルオロウラシルの形で容
易に単離することが出来る。(但し、上言己式中Rはア
ルキル基を表わす。 )本発明において、5−フルオロウラシルの2,4一ビ
ストリメチルシリル体〔1〕は5−フルオロウラシルと
へキサメチルジシラザンとを加熱下に反応させることに
より容易に合成される〔Chem.Phann.Bul
l.,11,1470(1963)〕。 また他方の4ートリメチルシリルオキシブチルアルデヒ
ドジアルキルアセタール
〔0〕としては、例えば4ート
リメチルシリルオキシブチルアルデヒドジメチルアセタ
ール、4−トリメチルシリルオキシブチルアルデヒドジ
エチルアセタール、4−トリメチルシリルオキシブチル
アルデヒドジプロピルアセタール等の4ートリメチルシ
リルオキシブチルアルデヒドジ低級アルキルアセタール
をあげることが出来、これらの化合物はいずれも新規化
合物であり、例えば後記参考例2で示される如くして容
易に合成されるものである。本発明の反応は適当な溶媒
中ルイス酸の存在下に実施するとよい。 存在させるルイス酸としては、例えばトリフッ化ホウ素
およびそのエーテルコンプレックス、四塩化錫、ジメト
キシ二塩化錫(Sに12(OCH3)2〕等を好適に用
いることが出釆、これらルイス酸の使用量は5ーフルオ
ロウラシルの2,4一ビストリメチルシリル体に対して
約0.01〜3モル、とりわけ0.1〜1.5モル程度
であるのが好ましい。反応溶媒としては例えばアセトニ
トリル、ジクロロメタン、ジクロロヱタン等を適宜使用
することが出来る。反応温度は概ね一50〜30qCの
範囲内にあればよく、存在させるルイス酸量等の反応条
件に応じて適宜選択すればよい。例えば1.5モル比の
四塩化錫を存在させる場合には−4000〜一1ooO
附近で反応を実施するのが好ましく、また例えば0.2
5モル比の四塩化錫を存在させる場合には−5〜25q
o附近で反応を実施するのが好ましい。かくして生成し
たNI−(2−テトラヒドロフリル)−5−フルオロウ
ラシルは、例えば反応液に重曹水を加えて反応を停止さ
せ、ついで適当な溶媒による抽出、再結晶する如き公知
精製操作に附すことにより容易に取得することが出来る
。 実施例 12,4−ビストリメチルシリル−5−フルオ
ロウラシル1.37夕と4ートリメチルシリルオキシプ
チルアルデヒドジメチルアセクール1.24夕を無水ア
セトニトリル15のとに溶解し、一4000で冷却かく
はんする。 この溶液に四塩化錫1.16の‘を含むジクロロェタン
3肌溶液を約10分間を要して滴下する。温度を−10
00まで徐々に上げる(この間1.5時間)。反応液に
重曹水を加えたのち不港物を口去し、アセトニトリルで
充分抽出する。口液を分液して有機溶媒層を分取し、乾
燥したのち減圧下に濃縮する。得られる残澄をエタノー
ルより再結晶することにより、NI−(2ーテトラヒド
ロフリル)−5−フルオロウラシル670のoを得る。
収率67%。mP.169〜17000 実施例 2 2,4ービストリメチルシリルー5ーフルオロウラシル
2.74夕と4−トリメチルシリルオキシプチルアルデ
ヒドジメチルアセタール2.48夕を無水アセトニトリ
ル30の‘に溶解し、一400Cに冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫1.74私を含むジク
ロロェタン5の‘溶液を約10分間要して滴下する。以
下実施例1と同様に処理することにより、NI−(2ー
テトラヒドロフリル)−5−フルオロワラシル1.52
2を得る。収率76%。mP.169〜17ぴ0実施例
3 2,4ービストリメチルシリルー5−フルオロウラシル
1.37夕とを4ートリメチルシリルオキシブチルアル
デヒドジメチルアセタール1.36夕を無水アセトニト
リル一驚水ジクロロメタン(1:1)28の【1こ溶解
し、一5℃に冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫0.144Mを含む無
水ジクロロメタン2私溶液を約10分間を要して滴下す
る。反応液を−5℃にて3時間かくはんしたのち、更に
室温で3時間かくはんしたのち、更に室温で3時間かく
はんする。反応3夜を実施例1と同様に処理することに
より、NI−(2ーテトラヒドロフリル)−5−フルオ
ロウラシル630の9を得る。収率63%。mP.16
9〜170q○ 実施例 4 2,4ービストリメチルシリルー5−フルオロウラシル
685雌と4−トリメチルシリルオキシブチルアルデヒ
ドジメチルアセタール618倣を熱水アセトニトリルー
無水ジクロロメクン(1:1)14の〃こ熔解し、一5
℃で冷却かくはんする。 これにジメトキシ二塩化錫31取りを一度に加え同温度
で2.即時間、更に室温で3時間かくはんする。反応液
を実施例1と同様に処理し、生成物を高速液体クロマト
グラフィーで分離定量すると、NI−(2−テトラヒド
。フリル)−5ーフルオロウラシルの生成率は57.5
%であった。実施例 5 2,4ービストリメチルシリルー5ーフルオロウラシル
聡5のoと4ートリメチルシリルオキシフチルアルデヒ
ドジメチルアセタール618m9を無水アセトニトリル
ー無水ジクロロメタン(1:1)14の‘に溶解し、一
5℃で冷却かくはんする。 この溶液に無水四塩化錫0.029の‘を含む無水ジク
ロロメタン溶液2のとを滴下する。以下実施例と同様に
処理して得られる生成物を高速液体クoマトグラフィー
で分離定量すると、NI−(2−テトラヒドロフリル)
−5ーフルオロウラシルの生成率は62.5%であった
。参考例 1 2,4ービストリメチルシリルー5ーフルオロウラシル
1.37夕と4−トリメチルシリルオキシブチルアルデ
ヒドジメチルアセタール1.36夕を無水アセトニトリ
ル一驚水ジクロロメタン(1:1)28の‘に溶解し、
一5℃に冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫0.144凧【を含む
無水ジクロロメタン2私溶液を約10分間を要して滴下
する。反応液を−5℃にて3時間かくはんしたのち、重
曹水を加えて反応を停止させる。以下実施例1と同様に
処理して得られる油分をシリカゲルクロマトにより精製
し、得られた粗結晶をインプロピルアルコールより再結
晶することにより、無色プリズム晶としてNI−(1ー
メトキシ−4ーヒドロキシブチル)−5−フルオロウラ
シル520奴cを得る。mP.121〜12守O NMR(inDMSO−も)6 :1.0〜2.10−(m,4H)、3.25(s,が
)3.10〜3.70(m,が)、4.45(br,I
H)5.30〜570(m,IH)、7.班(d,J=
?H乙 IH) 11.73(が,s,IH) 参考例 2 4ーヒドロキシブチルアルデヒドジメチルアセタール1
0夕を含むテトラヒドロフラン150泌溶液にトリエチ
ルアミン13.6の‘を加え、一30〜一10℃に冷却
する。 この溶液にかくはん下にトリメチルシリルクロリド8.
9夕を含むテトラヒドロフラン10の‘溶液を滴下する
。1時間かくはんしたのち窒素気流中不溶物を口去し、
口液を濃縮する。
リメチルシリルオキシブチルアルデヒドジメチルアセタ
ール、4−トリメチルシリルオキシブチルアルデヒドジ
エチルアセタール、4−トリメチルシリルオキシブチル
アルデヒドジプロピルアセタール等の4ートリメチルシ
リルオキシブチルアルデヒドジ低級アルキルアセタール
をあげることが出来、これらの化合物はいずれも新規化
合物であり、例えば後記参考例2で示される如くして容
易に合成されるものである。本発明の反応は適当な溶媒
中ルイス酸の存在下に実施するとよい。 存在させるルイス酸としては、例えばトリフッ化ホウ素
およびそのエーテルコンプレックス、四塩化錫、ジメト
キシ二塩化錫(Sに12(OCH3)2〕等を好適に用
いることが出釆、これらルイス酸の使用量は5ーフルオ
ロウラシルの2,4一ビストリメチルシリル体に対して
約0.01〜3モル、とりわけ0.1〜1.5モル程度
であるのが好ましい。反応溶媒としては例えばアセトニ
トリル、ジクロロメタン、ジクロロヱタン等を適宜使用
することが出来る。反応温度は概ね一50〜30qCの
範囲内にあればよく、存在させるルイス酸量等の反応条
件に応じて適宜選択すればよい。例えば1.5モル比の
四塩化錫を存在させる場合には−4000〜一1ooO
附近で反応を実施するのが好ましく、また例えば0.2
5モル比の四塩化錫を存在させる場合には−5〜25q
o附近で反応を実施するのが好ましい。かくして生成し
たNI−(2−テトラヒドロフリル)−5−フルオロウ
ラシルは、例えば反応液に重曹水を加えて反応を停止さ
せ、ついで適当な溶媒による抽出、再結晶する如き公知
精製操作に附すことにより容易に取得することが出来る
。 実施例 12,4−ビストリメチルシリル−5−フルオ
ロウラシル1.37夕と4ートリメチルシリルオキシプ
チルアルデヒドジメチルアセクール1.24夕を無水ア
セトニトリル15のとに溶解し、一4000で冷却かく
はんする。 この溶液に四塩化錫1.16の‘を含むジクロロェタン
3肌溶液を約10分間を要して滴下する。温度を−10
00まで徐々に上げる(この間1.5時間)。反応液に
重曹水を加えたのち不港物を口去し、アセトニトリルで
充分抽出する。口液を分液して有機溶媒層を分取し、乾
燥したのち減圧下に濃縮する。得られる残澄をエタノー
ルより再結晶することにより、NI−(2ーテトラヒド
ロフリル)−5−フルオロウラシル670のoを得る。
収率67%。mP.169〜17000 実施例 2 2,4ービストリメチルシリルー5ーフルオロウラシル
2.74夕と4−トリメチルシリルオキシプチルアルデ
ヒドジメチルアセタール2.48夕を無水アセトニトリ
ル30の‘に溶解し、一400Cに冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫1.74私を含むジク
ロロェタン5の‘溶液を約10分間要して滴下する。以
下実施例1と同様に処理することにより、NI−(2ー
テトラヒドロフリル)−5−フルオロワラシル1.52
2を得る。収率76%。mP.169〜17ぴ0実施例
3 2,4ービストリメチルシリルー5−フルオロウラシル
1.37夕とを4ートリメチルシリルオキシブチルアル
デヒドジメチルアセタール1.36夕を無水アセトニト
リル一驚水ジクロロメタン(1:1)28の【1こ溶解
し、一5℃に冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫0.144Mを含む無
水ジクロロメタン2私溶液を約10分間を要して滴下す
る。反応液を−5℃にて3時間かくはんしたのち、更に
室温で3時間かくはんしたのち、更に室温で3時間かく
はんする。反応3夜を実施例1と同様に処理することに
より、NI−(2ーテトラヒドロフリル)−5−フルオ
ロウラシル630の9を得る。収率63%。mP.16
9〜170q○ 実施例 4 2,4ービストリメチルシリルー5−フルオロウラシル
685雌と4−トリメチルシリルオキシブチルアルデヒ
ドジメチルアセタール618倣を熱水アセトニトリルー
無水ジクロロメクン(1:1)14の〃こ熔解し、一5
℃で冷却かくはんする。 これにジメトキシ二塩化錫31取りを一度に加え同温度
で2.即時間、更に室温で3時間かくはんする。反応液
を実施例1と同様に処理し、生成物を高速液体クロマト
グラフィーで分離定量すると、NI−(2−テトラヒド
。フリル)−5ーフルオロウラシルの生成率は57.5
%であった。実施例 5 2,4ービストリメチルシリルー5ーフルオロウラシル
聡5のoと4ートリメチルシリルオキシフチルアルデヒ
ドジメチルアセタール618m9を無水アセトニトリル
ー無水ジクロロメタン(1:1)14の‘に溶解し、一
5℃で冷却かくはんする。 この溶液に無水四塩化錫0.029の‘を含む無水ジク
ロロメタン溶液2のとを滴下する。以下実施例と同様に
処理して得られる生成物を高速液体クoマトグラフィー
で分離定量すると、NI−(2−テトラヒドロフリル)
−5ーフルオロウラシルの生成率は62.5%であった
。参考例 1 2,4ービストリメチルシリルー5ーフルオロウラシル
1.37夕と4−トリメチルシリルオキシブチルアルデ
ヒドジメチルアセタール1.36夕を無水アセトニトリ
ル一驚水ジクロロメタン(1:1)28の‘に溶解し、
一5℃に冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫0.144凧【を含む
無水ジクロロメタン2私溶液を約10分間を要して滴下
する。反応液を−5℃にて3時間かくはんしたのち、重
曹水を加えて反応を停止させる。以下実施例1と同様に
処理して得られる油分をシリカゲルクロマトにより精製
し、得られた粗結晶をインプロピルアルコールより再結
晶することにより、無色プリズム晶としてNI−(1ー
メトキシ−4ーヒドロキシブチル)−5−フルオロウラ
シル520奴cを得る。mP.121〜12守O NMR(inDMSO−も)6 :1.0〜2.10−(m,4H)、3.25(s,が
)3.10〜3.70(m,が)、4.45(br,I
H)5.30〜570(m,IH)、7.班(d,J=
?H乙 IH) 11.73(が,s,IH) 参考例 2 4ーヒドロキシブチルアルデヒドジメチルアセタール1
0夕を含むテトラヒドロフラン150泌溶液にトリエチ
ルアミン13.6の‘を加え、一30〜一10℃に冷却
する。 この溶液にかくはん下にトリメチルシリルクロリド8.
9夕を含むテトラヒドロフラン10の‘溶液を滴下する
。1時間かくはんしたのち窒素気流中不溶物を口去し、
口液を濃縮する。
Claims (1)
- 1 5−フルオロウラシルの2,4−ビストリメチルシ
リル体と4−トリメチルシリルオキシブチルアルデヒド
ジアルキルアセタールとをルイス酸の存在下に反応させ
ることを特徴とするN^1−(2−テトラヒドロフリル
)−5−フルオロウラシルの製法2 ルイス酸を5−フ
ルオロウラシルの2,4−ビストリメチルシリル体に対
して約0.1〜1.5モル存在させる特許請求の範囲第
1項記載の製法3 反応を約−50〜30℃で実施する
特許請求の範囲第2項記載の製法4 ルイス酸が四塩化
錫である特許請求の範囲第2項記載の製法5 4−トリ
メチルシリルオキシブチルアルデヒドジアルキルアセタ
ールが4−トリメチルシリルオキシブチルアルデヒドジ
低級アルキルアセタールである特許請求の範囲第2項記
載の製法6 4−トリメチルシリルオキシブチルアルデ
ヒドジ低級アルキルアセタールが4−トリメチルシリル
オキシブチルアルデヒドジメチルアセタールである特許
請求の範囲第5項記載の製法7 5−フルオロウラシル
の2,4−ビストリメチルシリル体と4−トリメチルシ
リルオキシブチルアルデヒドジメチルアセタールとを四
塩化錫の存在下に反応させてN^1−(2−テトラヒド
ロフリル)−5−フルオロウラシルを製造するに際し、
前記反応において中間体としてN^1−(1−メトキシ
−4−トリメチルシリルオキシブチル)−4−トリメチ
ルシリルオキシ−5−フルオロ−2(1H)−ピリミジ
ノンを経由する特許請求の範囲第6項記載の製法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52145579A JPS6038391B2 (ja) | 1977-12-02 | 1977-12-02 | 5↓−フルオロウラシル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52145579A JPS6038391B2 (ja) | 1977-12-02 | 1977-12-02 | 5↓−フルオロウラシル誘導体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5479287A JPS5479287A (en) | 1979-06-25 |
JPS6038391B2 true JPS6038391B2 (ja) | 1985-08-31 |
Family
ID=15388353
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52145579A Expired JPS6038391B2 (ja) | 1977-12-02 | 1977-12-02 | 5↓−フルオロウラシル誘導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6038391B2 (ja) |
-
1977
- 1977-12-02 JP JP52145579A patent/JPS6038391B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5479287A (en) | 1979-06-25 |
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