JPS603690B2 - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基体に情報トラックが設けられた情報記録媒体
の製造方法に関するものであって、特に、音声及び／又
はビデオの情報トラックをビット（凹部）又はブロック
（凸部）として有し、この記録された情報を光システム
によて書込み及び謎取るようにしたディスク記録盤に適
用するのに最適な方法を提供するものである。

従来此種のディスク記録盤からはメッキ等の方法によっ
てスタンパーが得られ、こスタンパーを順次転写して多
数のプレス成形されたビデオディスク等を製作するよう
にしている。

例えば袴関昭４９−９３００２獣こよれば、第ＩＡ図〜
第ＩＣ図に示す如く、まずガラス板１上の基層２、金属
薄膜３及びフオトレジスト層４を順次積層せしめ、次い
で光学装置からのレーザによってフオトレジスト層４を
間欠的に露光して関口５を同○円状に形成し、次いでこ
れら関口５を介して下部の金属薄膜３及び基層２を夫々
エッチング除去し、しかる後にフオトレジスト層４を除
去してマザー原盤６を得るようにしている。

このマザー原盤に記録された情報は次の議取り工程（モ
ニタリング）においてレーザ光にて読取られる。この場
合、基層２の側面がガラス板１に対して垂直になってい
るのが理想的である。しかしながら、この方法において
は、第ＩＢ図に示すエッチング工程時に第２図に拡大明
示する如く、エッチング液がフオトレジスト層４の底部
に浸透し、この結果基層２の側面２ａが丸く除去されて
しまって所定のパターンより広がり、ガラス板１に対し
て後斜した曲面状に形成されることになる。

従ってレーザ光を垂直上方から照射して謙取るに際して
反射光が入射光とは逆方向に戻らなくなり、解像度が非
常に悪くなる。またこの方法では情報の記録の際に、同
時にモニタリングすることが不可能である。また他の方
法として、第３図及び第３Ｂ図に示す如く、ガラス板１
１表面に夜着させた金属層１２をレーザ光により選択的
に蒸発除去せしめ（即ちカッティングし）、しかる後に
表面全体にフオトジスト層１４を塗布し、次いで裏面か
ら露光することにより金属層１２の存在しない部分のフ
オトレジスト層１４を除去し、これによって残存するフ
オトレジスト層１４と金属層１２との厚さの合計を議取
りビーム波長の１／４、例えば１２００〜１６００Ａ程
度にする。

しかしフオトレジスト層は元来均一に塗布することは困
難であるとされているので均一厚さのフオトレジスト層
１４が得られ難く、然もこのフオトレジスト層１４で厚
さをかせいでいるものの特に大面積の場合これを０．５
仏ｍ以下に塗布することは不可能であり、またピンホー
ルの発生も避けられない。

然も原盤として強度の弱いものしか得られない。本発明
は上述の如き欠陥を是正すべく発明されたものであって
、基体上に光反射層を形成し、次いで情報トラック相当
部分に沿って前記光反射層を選択的に加熱してこの光反
射層を部分的に除去し、次いでこの光反射層を含む前記
基体上にフオトレジスト又はビームレジスト層を形成し
、次いで前記光反射層上にのみ前記レジスト層が残るよ
うに前記レジスト層を部分的に除去し、次いで少なくと
もこの除去部分に金属等の物質を所定厚さに付着せしめ
、次いで前記光反射層上に残存している前記レジスト層
を除去するようにしたことを特徴とす情報記録媒体の製
造方法に係るものである。

この方法によって、極めて解像度の高い記録を行なうこ
とが出来ると共に、この記録と同時にモニタリングも可
能となり、然も情報トラック部分の膜厚を場所的に一様
なものとすることが出来る。なお上述の基体はガラス、
金属、高分子等の如く所望の精度に加工出来然も途中の
工程で腐食しないものからなっていてよく、また光反射
層はＺｎ等の金属をはじめ反射率の高い物質からなって
いる。

また上述のレジスト層としてはＫＰＲ、ＫＭＥＲ、ＫＴ
ＦＲ（イーストマン・コダック社製）等のネガタィプの
フオトレジスト、ＡＺ（アゾプレート・シツプレー社製
）、ＫＯＲ（イーストマン・コダック社製）、ＯＰＦＲ
（東京応化株式会社製）等のポジタィプのフオトレジス
ト、ＰＶＡ等の合成樹脂が挙げられる。また上述の金属
等の物質としては、レジスト層を溶解除去せしめる溶媒
に対して安定であることと、レジスト層を焼却除去する
温度で安定であることとの双方又はいずれか一方を満足
するものの、例えばＮｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、ＡＺ、Ｔｅ、Ｓ
ｎ、Ｂｉ等の金属が好ましく、Ｓｉ○、Ｓｉ０２、ＩＮ
０２、Ｃｄ○、ＺｒＱ、Ｃｅ０２、Ｔｉ０２等の酸化物
、ＺｎＳ、ＳｂＳ、ＳｂＳ３、Ｃ雄等の硫化物、ＣｄＳ
ｅ、ＣｄＴｅ、ｌｎ偽、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ等の金属間
化合物、気相成長可能な高分子物質等であればよい。次
に本発明をビデオディスク記録盤に適用した一実施例を
第４図〜第６図に付き述べる。

まず第４Ａ図に示す如く、透明なガラス板２１の表面に
反射率の高いＺｎ層２２を真空蒸着法によって厚さ３０
０Ａ程度に形成する。

次いで第６図に示す装置を用いてＡｒレーザー光を垂直
上方から照射し、これによってＺｎ層２２の所定部分を
記録する情報に応じて間欠的に加熱して除去（カッティ
ング）し、第４Ｂ図に示す如く幅１一程度の関口２３を
２一程度のピッチにて形成する。

次いで第４Ｃ図の如くにＺｎ層２２を含むガラス板２１
表面にＡＺ−１３５０からなるフオトレジスト層２４を
５０００Ａ程度の厚さに．一様に塗布する。

この塗布に際してはガラス板２１を回転させるようにし
てよい。しかる後にガラス板２１の裏面から紫外線２７
を照射すれば、Ｚｎ層２２がマスクとして作用し、この
Ｚｎ層の存在しない部分のフオトレジスト層のみが露光
される。従ってこれを現像処理すると、第４Ｄ図の如く
Ｚｎ層２２上にこれと同一パターンで閉口２５を有する
フオトレジスト層２４を残すことが出来る。次いでガラ
ス板２１に対し垂直上方から金属、例えばＮｉを真空黍
着せしめる。

この結果、第４Ｅ図に示す如く、フオトレジスト層２４
上面及び関口２５にＮｉ層２８を２０００Ａ程度の厚さ
に一様に付着させることが出釆る。この場合、第５図に
拡大図示するようにフオトレジスト層２４の側面はエッ
チング技術上の問題から幾分丸みを帯びていて、特にそ
の上部はガラス板２１に対して垂直になっていないのが
普通でであるが、関口２５内に付着したＮｉ層２８が存
在する部分はガラス板２１に対してほぼ垂直になってい
る。この場合、蒸着によりＮｉ層２８の厚さをコントロ
ールしてフオトレジスト層２４の厚さの１／２以下（本
実施例ではＺｎ層２２の厚み分だけ差引けばＮｉ層２８
の厚みはフオトレジスト層２４の厚みの約１／３である
）とすれば、関口２５内のＮｉ層２８の鷹縁をガラス板
２１に対してほぼ垂直のシャープなものとすることが出
釆る。次いでフオトレジスト層２４を溶解し得る溶媒、
例えばアセトン、ＡＺストリッパーに浸濃して超音波洗
浄するか、或いは焼却することによってフオトレジスト
層２４を溶解又は焼却除去する。

この際同時にフオトレジスト層２４上のＮｉ層２８も除
去されるから、第４Ｆ図に示す如くガラス板２１上には
関口２５内に存在していたＮｉ層２８のみをＺｎ層２２
間に残すことが出来る。このＮｉ層２８は閉口２５のサ
イズに対応しているから幅１仏程度で２仏程度のピッチ
で配置され、またその側面はガラス板２１に対してもほ
ぼ垂直でありかつその上面はガラス板２１表面と平行に
なっている。出来上ったマザー原盤２６の表面はＺｎ層
２２及びＮｉ層２８によって総て金属からなっていてＬ
Ｎｉ層２８が情報トラックを構成し、このＮｉ層に沿っ
て凹部（ビット）が形成される。

なおマザー原盤２６からはＮｉメッキによってこれと逆
パターンのスタンパーが得られ「このスタンパ−を順次
転写することにより大量のディスク記録盤を製造するこ
とが出来る。以上説明したように、本実施例によれば、
Ｚｎ層２２をカッティングするようにしているから情報
の記録と同時に後述するレーザー光によるモニタリング
を行うことが出来て議取り工程が簡単かつ正確となる。

またフオトレジスト層により厚さをかせぐのではなく、
情報トラックの膜厚をフオトレジスト層２４間でのＮｉ
層２８の蒸着により取っているため「Ｎｉ層２８の側面
をガラス板２１に対してほぼ垂直となし得て解像度の高
い例えば５００本以上／柳の記録を行なうことが可能と
なる。この場合従来のようにエッチングによて情報トラ
ックを形成することを要しないので記録時の制御が容易
にして正確な記録を行える。またＮｉ層２８を蒸着によ
り形成しているから、その厚さは場所的に均一なものと
なり、情報トラックの腰厚にバラッキが生じることがな
い。更にまたガラス板２１表面は総て金属で覆われるか
ら、次のスタンパー製作に際し電気メッキを直接行うこ
とが出来、然も原盤としての強度も大である。なお原盤
への情報の記録及びモニタリングの方法を第６図に付き
説明する。

第４Ａ図に示す状態のガラス板２１を電動機３０の回転
軸に連結して回転可能に配し、ガラス板２１のＺｎ層側
にはガラス板２１の径方向に閉口３１を有するダストカ
バー３２を近接配置する。この閉口３２内には移動台３
３に固定された空気ベアリングヘッド３４を配し、ガラ
ス板２１に近接する対物レンズ（図示せず）を空気ベア
リングによって位置保持する。Ｚｎ層２２のカッティン
グを行うには、〜レーザー３５からのレーザー光３６を
電気シャツ夕３７により変調してからプリズム３８、レ
ンズ３９、ダィクロィツクミラー４川こ夫々通じ、ミラ
ー４１によってヘッド３４の対物レンズに導びし、てガ
ラス板２１上の所定位置に導びく。

この際ガラス板２１を回転させかつ移動台３３を等速移
動させるようにすればＺｎ層２２のカッテイングを螺旋
状に行うことが出来る。またこれと同時にモニタリング
を行うには、Ｈｅ−Ｎｅレーザー４２からのレーザー光
４３をミラー４４にてレンズ４５に導き、これをミラー
４６，４０，４１にて夫々反射させて既にカッティング
されたＺｎ層２２上に導びく。この場合レーザー光４３
のＺｎ層２２上への照射点がレーザー光３６による照射
点からずらすようにすれば、カッティングされた表面か
らの反射光をトラツキングトランスデューサ４７で検出
することが出来る。なお各レーザー光の集点を調節する
にはしンズ３９，４５を移動させればよい。以上本発明
を一実施例に基いて説明したが、本発明の技術的思想に
基いて更に変形が可能であることが理解されよう。

例えばフオトレジスト層２４の露光をこの層側から行っ
てもよい。また螺旋状トラックに限らず同Ｄ円状にして
もよい。なお本発明はディスク記録盤に限定することな
く、例えば円筒状の記録体及び音声情報の記録体に適用
することも可能である。本発明は上述の如く、基体上に
形成した光反射層を選択的に加熱して部分的に除去し、
基体上に形成したレジスト層を前記光反射層上にこれと
同一パターンに残し、レジスト層間に金属等の物質を所
定厚さに付着せしめ、しかる後にレジスト層を除去する
ようにしているので、形成された情報トラックのビット
又はブロックを基体に対してほぼ垂直に形成することが
出来、解像度の極めて高し、記録を行うことが出来る。

また光反射層をカッティングするようにしているから、
上述の記録と同時に反射光を利用したモニクリングも行
うことが出来る。

更にまた、従釆法のようにフオトレジストによって情報
トラックの膜厚をコントロールするのではなく、金属等
の物質の付着によってそれを行っているから、原盤全域
に亘つて均一厚さの情報トラックを得ることが出来る。

図面の簡単な説明第１図〜第２図は従来法の一例を示す
ものであって、第ＩＡ図〜第ＩＣ図はディスク記録盤の
製造工程を示す断面図、第２図は第ＩＢ図においてフオ
トレジスト層をマスクとしてエッチングしたしきの状態
の拡大断面図である。

第３Ａ図及び第３Ｂ図は従来法の別の例を示すものであ
って、ディスク記録盤の製造工程を示す断面図である。
第４図〜第６図は本発明をディスク記録盤に適用した−
実施例を示すものであって、第４Ａ図〜第４Ｆ図はディ
スク記録盤の製造工程を示す断面図、第５図は第４Ｅ図
における拡大図「第６図は情報の記録及びモニタリング
に用いる装置の概略図である。なお図面に用いられてい
る符号において、２１はガラス板、２２はＺｎ層、２４
はフオトレジスト層、２６はマザー源盤、２８はＮｉ層
ト３４はヘッド、３５はＡｒレーザー、４２はＨｅ−Ｎ
ｅレーザー、４７はトランスデユーサである。

第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基体に情報トラツクが設けられた情報記録媒体の製
   造方法において、前記基体上に光反射層を形成し、次い
   で前記情報トラツク相当部分に沿って前記光反射層を選
   択的に加熱してこの光反射層を部分的に除去し、次いで
   この光反射層を含む前記基体上にフオトレジスト又はビ
   ームレジスト層を形成し、次いで前記光反射層上にのみ
   前記レジスト層が残るように前記レジスト層を部分的に
   除去し、次いで少なくともこの除去部分に金属等の物質
   を所定厚さに付着せしめ、次いで前記光反射層上に残存
   している前記レジスト層を除去するようにしたことを特
   徴とする情報記録媒体の製造方法。