JPS6036686A - 銅電解系統のプロセス制御法 - Google Patents
銅電解系統のプロセス制御法Info
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- JPS6036686A JPS6036686A JP58144580A JP14458083A JPS6036686A JP S6036686 A JPS6036686 A JP S6036686A JP 58144580 A JP58144580 A JP 58144580A JP 14458083 A JP14458083 A JP 14458083A JP S6036686 A JPS6036686 A JP S6036686A
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- concn
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明に銅電解系統のプロセス制御法に関する。
より詳しく述べれば、本発明に銅電解系統における工程
液の銅およびニッケル濃度ヶ測定しそして得られた濃度
情報ケ各種制御因子と連動させてプロセス制御を行う方
法の改良に関する。
液の銅およびニッケル濃度ヶ測定しそして得られた濃度
情報ケ各種制御因子と連動させてプロセス制御を行う方
法の改良に関する。
銅の電解製錬系統に、周知のとおり、主要工程として、
電解析出工程すなわち精製アノード紮析出槽で電解精製
してカソードに電気鋼を析出させる工程ケ含む。銅電解
系統にさらに浄液工程すなわち電解液の一部を循環する
ために造酸槽で電解液の硫酸銅濃度さらに汀硫酸ニッケ
ルおよびその他の不純物の濃度？低下させる工程、種板
槽でカソード種板を作成する工程およびその他いろいろ
な工程を含む。これらの諸工程の制御にあたってげ、い
ろいろな制御因子にどえば温度、液の組成および流量、
電圧、電流およびその他があるが、中でも電解系統全体
を循環して流れている液の組成および濃度の管理が極め
て重要である。
電解析出工程すなわち精製アノード紮析出槽で電解精製
してカソードに電気鋼を析出させる工程ケ含む。銅電解
系統にさらに浄液工程すなわち電解液の一部を循環する
ために造酸槽で電解液の硫酸銅濃度さらに汀硫酸ニッケ
ルおよびその他の不純物の濃度？低下させる工程、種板
槽でカソード種板を作成する工程およびその他いろいろ
な工程を含む。これらの諸工程の制御にあたってげ、い
ろいろな制御因子にどえば温度、液の組成および流量、
電圧、電流およびその他があるが、中でも電解系統全体
を循環して流れている液の組成および濃度の管理が極め
て重要である。
液の組成および濃度の管理に主に銅とニソケルケ対象と
するものであるが、これらの金属の他遊離酸、ヒ素、鉄
、ビスマスおよびその他の分析紮含む。従来この液の組
成および濃度管理にあたって汀、特定指定個所エリ工程
液を採取し、分析室へ運んでＪＩＳ法（でしたがい分析
ケ行ってい１でのが普通であつＩｒ。
するものであるが、これらの金属の他遊離酸、ヒ素、鉄
、ビスマスおよびその他の分析紮含む。従来この液の組
成および濃度管理にあたって汀、特定指定個所エリ工程
液を採取し、分析室へ運んでＪＩＳ法（でしたがい分析
ケ行ってい１でのが普通であつＩｒ。
通洛液中の成分は各種の滴定法や原子吸光法など（によ
り測定をれている。滴定法について汀、いろいろの自動
化さｔｌ、た装置が提案され、一部市販されているが、
一方においてに人手による工程が七の１１機械化されて
おり他方においてに滴定法本来の特徴に、Ｊ：り前処理
工程ケ含めＴ程数が多いｋめ、分析結果が出るのに力）
７ｉ：すな時間が力・力・るし、４に自動化された滴定
装置に高価である。さらに中和、酸化および還元などの
滴定反応に消費される試薬が必要Ｔ：ある。１女原子吸
光法も短時間で結果が得られず、〃・つ装置お工び収容
室の清浄および恒温化が必要となる不利がある。
り測定をれている。滴定法について汀、いろいろの自動
化さｔｌ、た装置が提案され、一部市販されているが、
一方においてに人手による工程が七の１１機械化されて
おり他方においてに滴定法本来の特徴に、Ｊ：り前処理
工程ケ含めＴ程数が多いｋめ、分析結果が出るのに力）
７ｉ：すな時間が力・力・るし、４に自動化された滴定
装置に高価である。さらに中和、酸化および還元などの
滴定反応に消費される試薬が必要Ｔ：ある。１女原子吸
光法も短時間で結果が得られず、〃・つ装置お工び収容
室の清浄および恒温化が必要となる不利がある。
通常の操業状態が持続している間はよいが、緊急事や比
較的急激な濃度変化ケともなう工程の操業においては、
適切な対応が遅れることがないよう（Ｌ、ブ「Ｊセス制
御の基礎になる濃度情報ケより短時間に〃・つ、［り現
場的に得ることができ、し〃・も全工程のいすね、の個
所にも適用できる濃度管理法の確立が要望される。
較的急激な濃度変化ケともなう工程の操業においては、
適切な対応が遅れることがないよう（Ｌ、ブ「Ｊセス制
御の基礎になる濃度情報ケより短時間に〃・つ、［り現
場的に得ることができ、し〃・も全工程のいすね、の個
所にも適用できる濃度管理法の確立が要望される。
前記の要望に応え、本発明は、銅電解系統の工程液中の
銅およびニッケル濃度を測定１．、−ＪＣして得らｔｌ
、た濃度情報ケ各種制御因子と連動させてプロセス制御
４行う銅電解系統のプロセス制御法において、選択され
た波長が異る少くとも２つの単色光の被検液Ｃで対する
透過率１には吸光度を６１１１定し、そしてそれらの測
定値刀・ら当該工程液中の銅およびニッケル濃度ケ求め
ることケ特徴どする銅電解系統のプロセス制御法ケ提供
する。本発明方法げ、銅電解系統のいずれの個所のＴ程
液にも適用でき、簡易力・つ迅速に信頼度の高い銅お３
［びニソクル濃度情報ケ得ることができ、制御の即応化
が汀〃・れるとともに以Ｆにおいて明ら刀）にする工う
なその他の付加的利益ケも享受する。
銅およびニッケル濃度を測定１．、−ＪＣして得らｔｌ
、た濃度情報ケ各種制御因子と連動させてプロセス制御
４行う銅電解系統のプロセス制御法において、選択され
た波長が異る少くとも２つの単色光の被検液Ｃで対する
透過率１には吸光度を６１１１定し、そしてそれらの測
定値刀・ら当該工程液中の銅およびニッケル濃度ケ求め
ることケ特徴どする銅電解系統のプロセス制御法ケ提供
する。本発明方法げ、銅電解系統のいずれの個所のＴ程
液にも適用でき、簡易力・つ迅速に信頼度の高い銅お３
［びニソクル濃度情報ケ得ることができ、制御の即応化
が汀〃・れるとともに以Ｆにおいて明ら刀）にする工う
なその他の付加的利益ケも享受する。
さて、成分濃度〔Ｃ〕の液層全透過する光の透過率ケＴ
とすると、）３ｅｅｒの法則Ｖｒ−より、］、Ｏｇ Ｔ
＝ Ｋ ［Ｃ：］ の関係が成り仏つ。式中Ｋに、光の波長および成分の種
類が辱えられれば、光の透過距離ＩＣ比例する係数であ
る。
とすると、）３ｅｅｒの法則Ｖｒ−より、］、Ｏｇ Ｔ
＝ Ｋ ［Ｃ：］ の関係が成り仏つ。式中Ｋに、光の波長および成分の種
類が辱えられれば、光の透過距離ＩＣ比例する係数であ
る。
２つの波長全添字ａ、ｂで、２の成分全添字１．２１丁
表４つで「と、 となり、また２成分が混在する場合全添字、＋２で表わ
すと が成り立つ。これら６つの式から４つの文字Ｔ１ａ、Ｔ
１、Ｔ２ａお工びＴ２ヶ消去すると、ｉ” （ｎ ラＩ
ｑ−，６゜式（３）Ｆｌｄｊ ７． Ｋ、ａ、 Ｋ、、
Ｋ２ａオｘ、 ヒ−−５−− に２汀、問題とする２つの成分の種類、測定のために選
択した２つの波長および光の透過距離すなわち測定用セ
ルの幾何学的形態によって定する定数である刀・ら、そ
れらケ予備実験によって予めめておけば、ＴＩ″＋２お
工びＴ５，２すなわち２成分が混在する被検液に対する
波長が異なる２つの単色光の透過率を、測定することに
より、式（３）刀・らそれらの成分の濃度〔Ｃ２〕およ
び〔Ｃ２〕ケ算出できることになる。もつとｔ式（３）
汀、Ｂｅθｒの法則が理想的に成立する場合のものであ
って、実際にに個々の場合で定する係数や定数が加わる
ことになろう。
表４つで「と、 となり、また２成分が混在する場合全添字、＋２で表わ
すと が成り立つ。これら６つの式から４つの文字Ｔ１ａ、Ｔ
１、Ｔ２ａお工びＴ２ヶ消去すると、ｉ” （ｎ ラＩ
ｑ−，６゜式（３）Ｆｌｄｊ ７． Ｋ、ａ、 Ｋ、、
Ｋ２ａオｘ、 ヒ−−５−− に２汀、問題とする２つの成分の種類、測定のために選
択した２つの波長および光の透過距離すなわち測定用セ
ルの幾何学的形態によって定する定数である刀・ら、そ
れらケ予備実験によって予めめておけば、ＴＩ″＋２お
工びＴ５，２すなわち２成分が混在する被検液に対する
波長が異なる２つの単色光の透過率を、測定することに
より、式（３）刀・らそれらの成分の濃度〔Ｃ２〕およ
び〔Ｃ２〕ケ算出できることになる。もつとｔ式（３）
汀、Ｂｅθｒの法則が理想的に成立する場合のものであ
って、実際にに個々の場合で定する係数や定数が加わる
ことになろう。
式（３）に示される測定原理を特定の２成分系の濃度測
定に適用するにあたって汀、先ず与えられた２成分系に
対（７て最も適切な２つの波長ケ選択し、次いで、２成
分および２波長が決寸れば定数に１″、Ｋｌｂ、に２″
お工びに２汀光の透過距離すなわち測定に用いる測定セ
ルの幾何学的形態によって定するから、予備実験にエリ
それらの定数ケ定めておくことが必要となる。
定に適用するにあたって汀、先ず与えられた２成分系に
対（７て最も適切な２つの波長ケ選択し、次いで、２成
分および２波長が決寸れば定数に１″、Ｋｌｂ、に２″
お工びに２汀光の透過距離すなわち測定に用いる測定セ
ルの幾何学的形態によって定するから、予備実験にエリ
それらの定数ケ定めておくことが必要となる。
第１図Ｕ２ｔの銅ケ含有する銅の硫酸酸性水溶−−−−
６＝ 液における光の透過率の波長依存性を示す波長−透過率
曲線であり、そして第２回灯５７／ｌのニッケルケ含有
するニッケルの硫酸酸性水溶液における光の透過率の波
長依存性ケ示す波長透過率曲線である。吸光度が大きい
（透過率が小さい）波長ケ用いた方が結果が鋭敏になり
測定に有利である力・ら、第１図および第２図に、Ｋね
、ば、銅決定の１でめ［１７１波長が８０［］ｎｍの光
をそしてニッケル決定の１てめに汀波長が３９５ ｎｍ
の光ケ用いるのが有利であることがわ乃・る。した−か
って、本発明の目的に対して汀これらの波長の光音選択
するのが有利である。
６＝ 液における光の透過率の波長依存性を示す波長−透過率
曲線であり、そして第２回灯５７／ｌのニッケルケ含有
するニッケルの硫酸酸性水溶液における光の透過率の波
長依存性ケ示す波長透過率曲線である。吸光度が大きい
（透過率が小さい）波長ケ用いた方が結果が鋭敏になり
測定に有利である力・ら、第１図および第２図に、Ｋね
、ば、銅決定の１でめ［１７１波長が８０［］ｎｍの光
をそしてニッケル決定の１てめに汀波長が３９５ ｎｍ
の光ケ用いるのが有利であることがわ乃・る。した−か
って、本発明の目的に対して汀これらの波長の光音選択
するのが有利である。
次に、分光光度泪および一定の測定セルを用いて、いろ
いろな既知濃度の銅の単独溶液およびいろいろな既知濃
度のニッケルの中独溶液に対する波長が８００ ｎｍお
よび３９５ｎｍの単色光の透過率を測定することにエリ
式（１）の係数にケ決定しｋところ、次のようになった
。
いろな既知濃度の銅の単独溶液およびいろいろな既知濃
度のニッケルの中独溶液に対する波長が８００ ｎｍお
よび３９５ｎｍの単色光の透過率を測定することにエリ
式（１）の係数にケ決定しｋところ、次のようになった
。
ＣｕとＮ］と／バ混在する系についてに、前記式（２）
に相当する下記式（２′） 刀・ら４つの文字Ｔ二ｏ、ｏ、Ｔご、ＴＮ’ｉ’および
、 ３０５ケ消去すると、前記式（３）が具体化さね、
左下記式（３′）が得られる。
に相当する下記式（２′） 刀・ら４つの文字Ｔ二ｏ、ｏ、Ｔご、ＴＮ’ｉ’および
、 ３０５ケ消去すると、前記式（３）が具体化さね、
左下記式（３′）が得られる。
かぐして、銅およびニッケルを含有する被検液に対し、
波長が８ｏｏ ｎｍである単色光の透過率Ｔ。ｕ＋ＮＩ
お工び波長が３９５ｎ’ｍである単色光の透過率Ｔ（３
＋；＋Ｎ Ｉを測定に工ってめれば、得らね７だ測定値
がら式（昭にしたがい当該被検液の銅濃度〔ｃｕ〕およ
びニッケル濃度ケ算出てきる。
波長が８ｏｏ ｎｍである単色光の透過率Ｔ。ｕ＋ＮＩ
お工び波長が３９５ｎ’ｍである単色光の透過率Ｔ（３
＋；＋Ｎ Ｉを測定に工ってめれば、得らね７だ測定値
がら式（昭にしたがい当該被検液の銅濃度〔ｃｕ〕およ
びニッケル濃度ケ算出てきる。
本発明方法の実施にあ１でって汀、プロセスヶ制御管理
すべき銅電解系統力・ら検査のため丁程液ケ採取する。
すべき銅電解系統力・ら検査のため丁程液ケ採取する。
全工程のいずＶ−の個所力・ら採取した工程液も、本発
明による検査に付することができる。
明による検査に付することができる。
採取（７女工程液汀、その１壕、寸たに必要があれは汐
」過お工び／またに希釈した後被検液とすることができ
る。すなわち、滴定法における工うな繁雑な前処理に不
要である。
」過お工び／またに希釈した後被検液とすることができ
る。すなわち、滴定法における工うな繁雑な前処理に不
要である。
次いで、被検液を吸光度測定機たとえば分光光度計の測
定用セルにいれ、選択された波長が異なる少くとも２つ
の単色光の透過重重たに吸光度を測定する。既述の如く
、波長が８００ ｎｍの単色光と波長がｉ５ ｎｍの単
色光とを選択するのが有利である。測定汀物理的測定で
あるので、特別な分析試薬を使用する必要がなく、また
被検液に測定後元に戻すこともできる。
定用セルにいれ、選択された波長が異なる少くとも２つ
の単色光の透過重重たに吸光度を測定する。既述の如く
、波長が８００ ｎｍの単色光と波長がｉ５ ｎｍの単
色光とを選択するのが有利である。測定汀物理的測定で
あるので、特別な分析試薬を使用する必要がなく、また
被検液に測定後元に戻すこともできる。
測定値からの濃度の算出に、２つの波長が異なる光ケ用
いた場合にに式（３）にエリ、特１／ｉ：８００ｎｍお
工び３９５ ｎｍの２つの波長全選択した場合にに式（
３′）に準する同様な式にエリ、行える。６つの波長が
異なる光ケ用いた場合に汀、被検液中の銅お、Ｌびニッ
ケル以外の第３の成分に％着目し、一 ９− ６つの成分について式（３）と同様な式ケ予め決定して
おいてその式に、ｒ、りそｔＬら６つの成分の濃度を計
算することもできるし、１ｋに余分データケ活用して最
小二乗法ケ行うことにより銅およびニッケルの濃度ケ求
めることもてきる。４つ以上の波長ケ選択して測定を行
うことに実際上必要でないが、そのような場合も原理的
に汀前記と同様にして測定データケ処理できる。計算汀
小型電子計算機にエリ行うのが便利であり、計算結果ケ
ブラウン管やメーターに表示したり、記録媒体に記録し
たり、さらにげ電気信号に刀・える機構？併設すること
ができる。
いた場合にに式（３）にエリ、特１／ｉ：８００ｎｍお
工び３９５ ｎｍの２つの波長全選択した場合にに式（
３′）に準する同様な式にエリ、行える。６つの波長が
異なる光ケ用いた場合に汀、被検液中の銅お、Ｌびニッ
ケル以外の第３の成分に％着目し、一 ９− ６つの成分について式（３）と同様な式ケ予め決定して
おいてその式に、ｒ、りそｔＬら６つの成分の濃度を計
算することもできるし、１ｋに余分データケ活用して最
小二乗法ケ行うことにより銅およびニッケルの濃度ケ求
めることもてきる。４つ以上の波長ケ選択して測定を行
うことに実際上必要でないが、そのような場合も原理的
に汀前記と同様にして測定データケ処理できる。計算汀
小型電子計算機にエリ行うのが便利であり、計算結果ケ
ブラウン管やメーターに表示したり、記録媒体に記録し
たり、さらにげ電気信号に刀・える機構？併設すること
ができる。
力・くして得られた濃度情報に、各種の制御因子たとえ
ば液の組成および濃度、流量、温度σらにぼ電圧および
電流全連動させて制御することに工り、操業の安定継続
を汀力・ることかできる。
ば液の組成および濃度、流量、温度σらにぼ電圧および
電流全連動させて制御することに工り、操業の安定継続
を汀力・ることかできる。
つぎに本発明に係るダイヤグラムケ第５図に示す。Ｉｎ
に電解系の中の制御すべき工程の１つで悉字ｎσ複数個
所あることケ示す。２にこの工程より所定量の液量全分
取する装置、３汀ｆ過部お＝ １０− 、［び希釈の装置ケ含む部分、４に２波長’ｂ （、（
ｆ’ｆｆそれ以−１−の波長の切換えによる吸光度１ｆ
ｒに透過率ケ測定する装置、５に測定結果から各成分濃
度全計算する部分で通潜汀小パシ電ｒ計算機を中心に構
成さ′ｔ１、る。６汀削算結果の表示もしくは記録する
部分で、ブラウン管、メーター類、印字機、磁気式記録
装置で構成される。７に４４１てぼ５からの電流寸７で
に電圧指示（で、［つて作動する善報器ならびに流量、
電流、電圧、温度などの制御器である。
に電解系の中の制御すべき工程の１つで悉字ｎσ複数個
所あることケ示す。２にこの工程より所定量の液量全分
取する装置、３汀ｆ過部お＝ １０− 、［び希釈の装置ケ含む部分、４に２波長’ｂ （、（
ｆ’ｆｆそれ以−１−の波長の切換えによる吸光度１ｆ
ｒに透過率ケ測定する装置、５に測定結果から各成分濃
度全計算する部分で通潜汀小パシ電ｒ計算機を中心に構
成さ′ｔ１、る。６汀削算結果の表示もしくは記録する
部分で、ブラウン管、メーター類、印字機、磁気式記録
装置で構成される。７に４４１てぼ５からの電流寸７で
に電圧指示（で、［つて作動する善報器ならびに流量、
電流、電圧、温度などの制御器である。
以下具体例に、Ｊ：す、本発明で採用した測定法が信頼
できるものであること全実証する。
できるものであること全実証する。
例１
銅電解系統の浄液処理工程〃・ら異なる時点において表
１に表示した液晶位のサンプル５つ全採取した。表１に
示す液晶位に、従来の滴定法による化学分析値である。
１に表示した液晶位のサンプル５つ全採取した。表１に
示す液晶位に、従来の滴定法による化学分析値である。
表 １
これらのす／プルの各々ケη］過することなく２倍に希
釈しｋものを被検液とし、分光光度計の測定セルにいれ
て波長が８［］Ｏｎｍの単色光および波長が３９５ ｎ
ｍの単色光の透過率を測定１７た。透過率測定値ケ式（
３勺に代入することにエリ被検液中の銅濃度およびニッ
ケル濃度ケ割算し１で。式（３′）における各係数に用
いた測定器機について予め定めておいたものである。得
られた結果を表２に示す。表２に汀削算値（被検液中の
銅およびニッケル濃度）ケ２倍した１１？′ｒ（す／プ
ル中の銅およびニッケル濃度）紮も示した。
釈しｋものを被検液とし、分光光度計の測定セルにいれ
て波長が８［］Ｏｎｍの単色光および波長が３９５ ｎ
ｍの単色光の透過率を測定１７た。透過率測定値ケ式（
３勺に代入することにエリ被検液中の銅濃度およびニッ
ケル濃度ケ割算し１で。式（３′）における各係数に用
いた測定器機について予め定めておいたものである。得
られた結果を表２に示す。表２に汀削算値（被検液中の
銅およびニッケル濃度）ケ２倍した１１？′ｒ（す／プ
ル中の銅およびニッケル濃度）紮も示した。
表 ２
サンプル中の銅およびニッケル濃度の従来の滴定法によ
る分析値と透過率力・ら算出した計算値との関係金第３
図に示す。＠６図によれば、透過率力・らの計算値が化
学分析値とよく一致すること、さらに透過率測定による
銅およびニッケル濃度の決定ぼ、表ＩＶＣ示す程度のヒ
素および鉄の存在により著しく妨害されることにないこ
とがわかる。
る分析値と透過率力・ら算出した計算値との関係金第３
図に示す。＠６図によれば、透過率力・らの計算値が化
学分析値とよく一致すること、さらに透過率測定による
銅およびニッケル濃度の決定ぼ、表ＩＶＣ示す程度のヒ
素および鉄の存在により著しく妨害されることにないこ
とがわかる。
例２
銅電解系統の電解析出工程から異なる時点において表３
に表示した液晶位のサンプル５つを採取した。表３に示
す液晶位に、従来の滴定法による化学分析値である。
に表示した液晶位のサンプル５つを採取した。表３に示
す液晶位に、従来の滴定法による化学分析値である。
１６−
表 ３
各ザンプル孕ｆ過することなく１５倍に希釈したもの全
被検液とした以外に、例１に記載したようにして透過率
の測定および被検液中の銅およびニッケル濃度の計算を
行った。結果全表４に示す。
被検液とした以外に、例１に記載したようにして透過率
の測定および被検液中の銅およびニッケル濃度の計算を
行った。結果全表４に示す。
表４にげ計算値全１５倍した値（サンプル中の銅および
ニッケル濃度を示す計算値）金も示した。
ニッケル濃度を示す計算値）金も示した。
１４−
表 ４
サンプル中の銅およびニッケル濃度の化学分析値と透過
率力・らの計算値との関係ケ第４図に示す。
率力・らの計算値との関係ケ第４図に示す。
第４図に、【れば、第６図に比べ希釈率が大きい１でめ
のパラツギ汀あるが、計算値汀実用」二元５＋ｌ精度で
化学分析値と一致することならびに混在する他成分によ
る妨害がほとんどないことがわかる。
のパラツギ汀あるが、計算値汀実用」二元５＋ｌ精度で
化学分析値と一致することならびに混在する他成分によ
る妨害がほとんどないことがわかる。
例６
周知のとおり銅電解系統ＶｒＣに、電解液中（Ｌ蓄積（
７女銅分ケ減らす脱銅電解処理がある。電解脱銅槽刀・
ら、脱銅電解開始後人５に示す時間が経過し１で後ザ／
プルケ採取１７、各サンプルにつき従来の滴定による化
学分析法および本発明が提案する物理的方法により銅お
よびニッケル濃度をめた。
７女銅分ケ減らす脱銅電解処理がある。電解脱銅槽刀・
ら、脱銅電解開始後人５に示す時間が経過し１で後ザ／
プルケ採取１７、各サンプルにつき従来の滴定による化
学分析法および本発明が提案する物理的方法により銅お
よびニッケル濃度をめた。
結果ケ表５に示す。
表５によれば、両者がよく対応することがわかる。
第１図に、銅溶液に対する光の波長と透過率との関係を
示す波長−透過率曲線であり、第２図汀、ニッケル溶液
に対する光の波長と透過率との関係を示す同様な曲線で
あり、第６図ぼ例１の事例における銅およびニッケル濃
度の化学分析値と透過率力・らの計算値との相関ケ示す
グラフであり、そして第４図汀例２の事例における第６
図と同様な相関ケ示すグラフであり、第５Ｎａ本発明法
の適用例ケ示すブロックダイヤグラフ、である。 出願人 同和鉱業株式会社 −１７、− 第５図 手続補正書（自発） 昭和５９年７月）７Ｌ１ 特許庁長官 志 賀 学殿 ■、事イメ１の表示 昭和５８年特許願第１４４５８０号 ２、発明の名称 銅電解系統のプロセス制御法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内−丁目８番２号名称 同和
鉱業株式会ン１ 代表者 西］■ 尭 ４、代理人 〒１６２ 住所 東京都新宿区市谷薬王寺町８３番地電話（０３）
２６７−８５３５ 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７、補正の内容 （１）、明細書５頁４行の「２の成分コを「２つの成分
」に訂正する。 （２）、明細書６頁最下行のｒ２７！」を”２ｇ／１２
」に訂正する。 （３）、明細書１０頁１８行のｒａｎは」を’Ｉ−ｎ
Ｉｔよ１にｓ１正する。 （４）、明細書１３頁の表２における数値を次のように
補正する。 イ）サンプル陽１のＮｉ（ｇ／６）の数値ｒ６．５０Ｊ
を’６．５１Ｊに訂正する。 口）ザンプル１１ｋ１５のＣｕ（ｇ／ｆｆ＞の数値［３
，９７Ｊをｒ３．９３Ｊに訂正する。
示す波長−透過率曲線であり、第２図汀、ニッケル溶液
に対する光の波長と透過率との関係を示す同様な曲線で
あり、第６図ぼ例１の事例における銅およびニッケル濃
度の化学分析値と透過率力・らの計算値との相関ケ示す
グラフであり、そして第４図汀例２の事例における第６
図と同様な相関ケ示すグラフであり、第５Ｎａ本発明法
の適用例ケ示すブロックダイヤグラフ、である。 出願人 同和鉱業株式会社 −１７、− 第５図 手続補正書（自発） 昭和５９年７月）７Ｌ１ 特許庁長官 志 賀 学殿 ■、事イメ１の表示 昭和５８年特許願第１４４５８０号 ２、発明の名称 銅電解系統のプロセス制御法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内−丁目８番２号名称 同和
鉱業株式会ン１ 代表者 西］■ 尭 ４、代理人 〒１６２ 住所 東京都新宿区市谷薬王寺町８３番地電話（０３）
２６７−８５３５ 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７、補正の内容 （１）、明細書５頁４行の「２の成分コを「２つの成分
」に訂正する。 （２）、明細書６頁最下行のｒ２７！」を”２ｇ／１２
」に訂正する。 （３）、明細書１０頁１８行のｒａｎは」を’Ｉ−ｎ
Ｉｔよ１にｓ１正する。 （４）、明細書１３頁の表２における数値を次のように
補正する。 イ）サンプル陽１のＮｉ（ｇ／６）の数値ｒ６．５０Ｊ
を’６．５１Ｊに訂正する。 口）ザンプル１１ｋ１５のＣｕ（ｇ／ｆｆ＞の数値［３
，９７Ｊをｒ３．９３Ｊに訂正する。
Claims (3)
- （１） 銅電解系統の工程液中の銅およびニッケル濃度
を測定１−七（〜で得られた濃度情報ケ各種制御因子と
連動させてプロセス制御を行う銅電解系統のプロセス制
御法において、選択された波長カ異’ｆｌる少ぐとも２
つの単色光の被検液に対する透過車重たは吸光度を測定
し、そしてそれらの測定値から当該工程液中の銅お工び
ニッケル濃度をめることを特徴とする銅電解工程のプロ
セス制御法。 - （２）被検液が工程液そのもの寸たけ当該工程液全ｒ過
お工び７寸たげ希釈］〜て得た液である特許請求の範囲
第１項記載の方法。 - （３）波長が８００ ｎｍの単色光と波長が３９５ ｎ
ｍの単色光とを選択する特許請求の範囲第１項寸だに第
２項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58144580A JPS6036686A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 銅電解系統のプロセス制御法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58144580A JPS6036686A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 銅電解系統のプロセス制御法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6036686A true JPS6036686A (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=15365444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58144580A Pending JPS6036686A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 銅電解系統のプロセス制御法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6036686A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63121003A (ja) * | 1986-11-10 | 1988-05-25 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 光フアイバ複合架空地線のパイプ除湿方法 |
| JP2016089259A (ja) * | 2014-11-11 | 2016-05-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 脱銅電解工程の給液装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52148418A (en) * | 1972-06-28 | 1977-12-09 | Du Pont | Hydrometallurgical process for recovering copper from concentrates of sulphide ores |
| JPS5751296A (en) * | 1980-07-15 | 1982-03-26 | Shipley Co | Apparatus for controlling concentration of plating liquid component |
| JPS5848700A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-22 | Nippon Steel Corp | 電解浴中の金属イオン濃度の制御方法 |
| JPS5882000A (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-17 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 銅−スズ合金めつき用めつき装置 |
-
1983
- 1983-08-08 JP JP58144580A patent/JPS6036686A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
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